JPH0419822A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0419822A JPH0419822A JP12379990A JP12379990A JPH0419822A JP H0419822 A JPH0419822 A JP H0419822A JP 12379990 A JP12379990 A JP 12379990A JP 12379990 A JP12379990 A JP 12379990A JP H0419822 A JPH0419822 A JP H0419822A
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- plating
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- magnetic
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims abstract description 15
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［１要］
磁気記録媒体の製造方法に関し、
基板に対して均一な凹凸を形成することができる磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的とし、 非磁性基板上Ｎｉ−Ｐの無電解メッキを行ない、次に、
このメッキ上をテクスチャリングし、更に、Ｎｉ−Ｐの
無電解メッキを行ない、その後、磁性膜保護膜を形成す
る。
録媒体の製造方法を提供することを目的とし、 非磁性基板上Ｎｉ−Ｐの無電解メッキを行ない、次に、
このメッキ上をテクスチャリングし、更に、Ｎｉ−Ｐの
無電解メッキを行ない、その後、磁性膜保護膜を形成す
る。
［産業上の利用分野コ
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。
近年、磁気記憶媒体か用いられる磁気ディスク装置にお
いては、ｌ＼ソトの低浮上化やｃｓｓゾーンでのヘット
の吸着を防止することか要望されている。よって、磁気
記録媒体においては、表面粗さの管理か重要となってい
る。
いては、ｌ＼ソトの低浮上化やｃｓｓゾーンでのヘット
の吸着を防止することか要望されている。よって、磁気
記録媒体においては、表面粗さの管理か重要となってい
る。
［従来の技術］
次に図面を用いて従来例を説明する。第６図は従来の磁
気記録媒体の製造方法を説明するフロー図である。
気記録媒体の製造方法を説明するフロー図である。
図において、先ず、アルミ基板上に、Ｎｉ−Ｐの無電解
メッキを行なう（ステップ］）。
メッキを行なう（ステップ］）。
メッキ終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ２）。
次に、ポ１１ソンンク行ない、メッキ表面を美麗に仕上
げる（ステップ３）。
げる（ステップ３）。
ボリッンング終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ４
）。
）。
次に、テクスチャー処理と呼ばれるテープ研磨加工がな
される（ステップ５）。この加工は基板上の表面粗さを
調整するためになされる。
される（ステップ５）。この加工は基板上の表面粗さを
調整するためになされる。
テクスチャー終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ６
）。
）。
次に、スパッタリングにより基板上に磁性膜を形成する
（ステップ７）。
（ステップ７）。
続いて、スパッタリングにより磁性膜上にカボンの保護
膜を形成する（ステップ８）。
膜を形成する（ステップ８）。
そして、実際に設定した磁気ヘッドの浮上量よりも低く
浮上量を設定した磁気ヘッドを用いて、微小突起をとる
ヘットバニッシュがなされる（ステップ９）。
浮上量を設定した磁気ヘッドを用いて、微小突起をとる
ヘットバニッシュがなされる（ステップ９）。
最後に、摩擦を低減するために潤滑剤を塗布する（ステ
ップ］Ｃ］）。
ップ］Ｃ］）。
［発明か解決しようとする課題］
第７図は第６図においてステップ５のテクスチャーを行
なった後の基板の表面粗さの一例を示す図である。
なった後の基板の表面粗さの一例を示す図である。
図に示すように、中心線平均粗さの中心線ラインよりも
凹部の突出か多く、均一な凹凸をつけることが難しいと
いう問題点がある。
凹部の突出か多く、均一な凹凸をつけることが難しいと
いう問題点がある。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、その目的
は、基板に対して均一な凹凸を形成することができる磁
気記録媒体の製造方法を提供することにある。
は、基板に対して均一な凹凸を形成することができる磁
気記録媒体の製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
第１図は本発明の原理図である。図において、ステップ
１１は非磁性基板上にＮｉ−Ｐの無電解メッキを行なう
工程、ステップ１２はこのメッキ上をテクスチャリング
する工程、ステップ１３はＮｉ−Ｐの無電解メッキを行
なう工程、ステップ１４は磁性膜、保護膜を形成する工
程である。
１１は非磁性基板上にＮｉ−Ｐの無電解メッキを行なう
工程、ステップ１２はこのメッキ上をテクスチャリング
する工程、ステップ１３はＮｉ−Ｐの無電解メッキを行
なう工程、ステップ１４は磁性膜、保護膜を形成する工
程である。
［作用］
第１図に示す磁気記録媒体の製造方法において、先す、
非磁性基板上にＮｉ−Ｐの無電解メッキかなされ、次に
、このメッキ上にテクスチャリンクかなされる。次に、
Ｎｉ−Ｐの無電解メッキかなされ、最後に、磁性膜、保
護膜が形成される。
非磁性基板上にＮｉ−Ｐの無電解メッキかなされ、次に
、このメッキ上にテクスチャリンクかなされる。次に、
Ｎｉ−Ｐの無電解メッキかなされ、最後に、磁性膜、保
護膜が形成される。
［実施例］
次に、図面を用いて本発明の一実施例を説明する。第２
図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施例を説明
するフロー図、第３図は第２図のステップ２７において
３μｍのＮｉ−Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図、
第４図は第２図のステップ２７において５μｎのＮｉ−
Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図、第５図は第２図
のステップ２７において７μＭのＮｉ−Ｐメッキ後の表
面粗さの一例を示す図である。
図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施例を説明
するフロー図、第３図は第２図のステップ２７において
３μｍのＮｉ−Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図、
第４図は第２図のステップ２７において５μｎのＮｉ−
Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図、第５図は第２図
のステップ２７において７μＭのＮｉ−Ｐメッキ後の表
面粗さの一例を示す図である。
先ず、第２図を用いて本実施例の製造フローを説明する
。図において、先す、アルミ基板に対して研磨を行う（
ステップ２コ）。
。図において、先す、アルミ基板に対して研磨を行う（
ステップ２コ）。
研磨終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ２２）。
次に、ポリッシツク行ない、メッキ表面を美麗こ仕上げ
る（ステップ２３）。
る（ステップ２３）。
ポリッンング終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ２
４）。
４）。
次に、テクスチャーを行う（ステップ２５）。
テクスチャー終了後、洗浄・乾燥を行う（ステップ２６
）。
）。
次に、更に、’？ｉ−Ｐの無電解メッキを行なう（ステ
ップ２７）。
ップ２７）。
メッキ終了後、洗浄・乾燥を行なう（ステップ２８）。
次に、スパッタリンクにより基板上に磁性膜を形成する
（ステップ２９）。
（ステップ２９）。
続いて、スパッタリンクにより磁性膜上にカボンの保護
膜を形成する（ステップ３〔））。
膜を形成する（ステップ３〔））。
そして、実際に設定した磁気ヘットの？ｆ上量よりも低
く浮上量を設定した磁気ヘッドを用いて、微小突起をと
るヘットバニッシュがなされる（ステップ３］）。
く浮上量を設定した磁気ヘッドを用いて、微小突起をと
るヘットバニッシュがなされる（ステップ３］）。
最後に、摩擦を低減するために潤滑剤を塗布する（ステ
ップ３２）。
ップ３２）。
上記製造方法によれば、ステップ２１でのＮｉ−Ｐメッ
キ後の表面粗さは、従来例での第７図で説明したように
、中心線平均粗さのラインよりも凹部の突出が多くなっ
ているか、ステップ２７で再びＮｉ−Ｐメッキを行なう
と、凸部に比べて凹部のほうに余分にメッキが付く。
キ後の表面粗さは、従来例での第７図で説明したように
、中心線平均粗さのラインよりも凹部の突出が多くなっ
ているか、ステップ２７で再びＮｉ−Ｐメッキを行なう
と、凸部に比べて凹部のほうに余分にメッキが付く。
よって、第３図乃至第５図に示すように、従来に比べて
、アルミ基板に対して均一な凹凸を形成することかでき
る。
、アルミ基板に対して均一な凹凸を形成することかでき
る。
［発明の効果］
以上説明したように本発明によれば、非磁性基板上Ｎｉ
−Ｐの無電解メッキを行ない、次に、このメッキ上をテ
クスチャリングし、更に、Ｎｉ−Ｐの無電解メッキを行
ない、その後、磁性膜１保護膜を形成するようにしたこ
とにより、基板に対して均一な凹凸を形成することかで
きる磁気記録媒体の製造方法を実現できる。
−Ｐの無電解メッキを行ない、次に、このメッキ上をテ
クスチャリングし、更に、Ｎｉ−Ｐの無電解メッキを行
ない、その後、磁性膜１保護膜を形成するようにしたこ
とにより、基板に対して均一な凹凸を形成することかで
きる磁気記録媒体の製造方法を実現できる。
第１図は本発明の原理図、
第２図は本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施例を
説明するフロー図、 第３図は第２図のステップ２７において３μＭのＮｉ−
Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図、第４図は第２図
のステップ２７において５μｍのＮｉ−Ｐメッキ後の表
面粗さの一例を示す図、第５図は第２図のステップ２７
において７μｒのＮｉ−Ｐメッキ後の表面粗さの一例を
示す間第６図は従来の磁気記録媒体の製造方法を説明す
るフロー図、 第７図は第６図においてステップ５のテクスチャーを行
なった後の基板の表面粗さの一例を示す図である。
説明するフロー図、 第３図は第２図のステップ２７において３μＭのＮｉ−
Ｐメッキ後の表面粗さの一例を示す図、第４図は第２図
のステップ２７において５μｍのＮｉ−Ｐメッキ後の表
面粗さの一例を示す図、第５図は第２図のステップ２７
において７μｒのＮｉ−Ｐメッキ後の表面粗さの一例を
示す間第６図は従来の磁気記録媒体の製造方法を説明す
るフロー図、 第７図は第６図においてステップ５のテクスチャーを行
なった後の基板の表面粗さの一例を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 非磁性基板上にＮｉ−Ｐの無電解メッキを行ない（ステ
ップ１１）、 次に、このメッキ上をテクスチャリングし（ステップ１
２）、 更に、Ｎｉ−Ｐの無電解メッキを行ない（ステップ１３
）、 その後、磁性膜、保護膜を形成する（ステップ１４）こ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12379990A JPH0419822A (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12379990A JPH0419822A (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0419822A true JPH0419822A (ja) | 1992-01-23 |
Family
ID=14869606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12379990A Pending JPH0419822A (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0419822A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006049698A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Denso Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
-
1990
- 1990-05-14 JP JP12379990A patent/JPH0419822A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006049698A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Denso Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
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