JPH04251438A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造工
程のうち、メッキ処理された基板表面に所定の表面粗さ
を備えた凹凸（以下、テクスチャーと言う。）を形成す
るためのテクスチャリング工程に関するものであり、特
に、そのテクスチャー上に被着される磁性層を高温でス
パッタ形成する場合に好適なテクスチャリング技術に関
するものである。
程のうち、メッキ処理された基板表面に所定の表面粗さ
を備えた凹凸（以下、テクスチャーと言う。）を形成す
るためのテクスチャリング工程に関するものであり、特
に、そのテクスチャー上に被着される磁性層を高温でス
パッタ形成する場合に好適なテクスチャリング技術に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気記録ディスクは、Ａｌ合金の
非磁性基板にＮｉ−Ｐの無電界メッキを施し、そのメッ
キ表面を鏡面研磨した後、磁性層等をスパッタリング法
によって被着して形成していた。しかし、磁気記録媒体
の高密度記録化の要請に応えて、磁気ヘッドの低浮上化
および磁気記録装置の小型化（低消費電力化）を図るた
めに、スティクションおよびフリクションの低減が望ま
れたことから、磁気記録ディスクに表面凹凸を形成する
必要がある。そこで、上記メッキ表面に凹凸を形成する
ためのテクスチャリング工程が導入された。
非磁性基板にＮｉ−Ｐの無電界メッキを施し、そのメッ
キ表面を鏡面研磨した後、磁性層等をスパッタリング法
によって被着して形成していた。しかし、磁気記録媒体
の高密度記録化の要請に応えて、磁気ヘッドの低浮上化
および磁気記録装置の小型化（低消費電力化）を図るた
めに、スティクションおよびフリクションの低減が望ま
れたことから、磁気記録ディスクに表面凹凸を形成する
必要がある。そこで、上記メッキ表面に凹凸を形成する
ためのテクスチャリング工程が導入された。
【０００３】このテクスチャリング工程は、所定の粒径
を持つ砥粒が固定されたテクスチャリングテープを回転
する基板表面に押圧し、研磨油の水溶液を研磨液として
用いてディスクの円周方向に向いた微細な溝、凹凸から
なるテクスチャーを形成するものであり、このテクスチ
ャーの上に磁性層、保護層等をスパッタリング法で被着
することによって、テクスチャーの凹凸を基に更に微細
な突起を多数形成して、磁気記録ディスクの表面におけ
る摩擦係数の適正化を図っていた。
を持つ砥粒が固定されたテクスチャリングテープを回転
する基板表面に押圧し、研磨油の水溶液を研磨液として
用いてディスクの円周方向に向いた微細な溝、凹凸から
なるテクスチャーを形成するものであり、このテクスチ
ャーの上に磁性層、保護層等をスパッタリング法で被着
することによって、テクスチャーの凹凸を基に更に微細
な突起を多数形成して、磁気記録ディスクの表面におけ
る摩擦係数の適正化を図っていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】現在、高記録密度化の
ために磁気記録ディスクの保磁力の増大が求められてお
り、これを達成するには、磁性層のスパッタリング温度
の高温化が要求される。しかし、高温スパッタ形成を行
うと、スパッタリング時に多数の微小突起を形成するこ
とが困難になるという問題点があり、この結果、磁気ヘ
ッドの滑走性能が悪化するという、二律背反的な状況が
存在していた。
ために磁気記録ディスクの保磁力の増大が求められてお
り、これを達成するには、磁性層のスパッタリング温度
の高温化が要求される。しかし、高温スパッタ形成を行
うと、スパッタリング時に多数の微小突起を形成するこ
とが困難になるという問題点があり、この結果、磁気ヘ
ッドの滑走性能が悪化するという、二律背反的な状況が
存在していた。
【０００５】そこで、本発明はその問題点を解決するた
めに、低粘性率の研磨液を使用することによって、微小
突起を多数備えたテクスチャーを形成し、高温スパッタ
条件で磁性層等を形成した場合でもディスク表面の摩擦
特性の良好な磁気記録媒体を実現することを目的とする
。
めに、低粘性率の研磨液を使用することによって、微小
突起を多数備えたテクスチャーを形成し、高温スパッタ
条件で磁性層等を形成した場合でもディスク表面の摩擦
特性の良好な磁気記録媒体を実現することを目的とする
。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明が講じた手段は、研磨テープを基板表面上に
対し接触移動させて研磨する際の研磨液として、純水ま
たは高親水性研磨油の水溶液を用いるものである。ここ
で、これらの研磨液を用いて形成する表面粗さをＲａ
が４０〜８０Å、ｔｐ（１０％−１％）が８０〜１５０
Åの範囲内とすることが望ましい。
めに本発明が講じた手段は、研磨テープを基板表面上に
対し接触移動させて研磨する際の研磨液として、純水ま
たは高親水性研磨油の水溶液を用いるものである。ここ
で、これらの研磨液を用いて形成する表面粗さをＲａ
が４０〜８０Å、ｔｐ（１０％−１％）が８０〜１５０
Åの範囲内とすることが望ましい。
【０００７】
【作用】かかる手段によれば、研磨液として純水または
高親水性研磨油の水溶液を用いることによって、従来の
親油性研磨油の水溶液を用いた場合に比して研磨時にお
ける研磨テープと基板表面間の摩擦力が増大し、研磨テ
ープに固着された砥粒の切削作用が増大し、より直接的
に基板表面形状に反映されるので、基板表面に形成され
る微小凹凸が増えるとともに表面上にバリ状の突起が多
数形成される。
高親水性研磨油の水溶液を用いることによって、従来の
親油性研磨油の水溶液を用いた場合に比して研磨時にお
ける研磨テープと基板表面間の摩擦力が増大し、研磨テ
ープに固着された砥粒の切削作用が増大し、より直接的
に基板表面形状に反映されるので、基板表面に形成され
る微小凹凸が増えるとともに表面上にバリ状の突起が多
数形成される。
【０００８】
【実施例】次に、本発明の実施例を説明する。３．５イ
ンチのＡｌ基板の表面にＮｉ−Ｐの無電界メッキを施し
、このＡｌ基板の両面をポリシングし、鏡面状態とした
。この鏡面はＲａ が２５Åの表面粗さであり、この時
のメッキ層の厚さは１２μｍであった。このＡｌ基板に
対して行ったテクスチャリング工程は、回転状態のＡｌ
基板の両面にゴムローラでガイドされたテクスチャーテ
ープを押圧させ、基板回転方向の多数の溝からなる凹凸
を形成する初段と、その後、より砥粒径の小さいテクス
チャーテープを用いて初段において形成された凹凸の突
出部分を除去する後段との２段階で実施された。ここで
、研磨液としては純水を使用し、これをテクスチャーテ
ープと基板表面との接触部に供給して、研磨が純水中で
施されるようにしている。この時の初段および後段にお
ける研磨条件を表１に示す。
ンチのＡｌ基板の表面にＮｉ−Ｐの無電界メッキを施し
、このＡｌ基板の両面をポリシングし、鏡面状態とした
。この鏡面はＲａ が２５Åの表面粗さであり、この時
のメッキ層の厚さは１２μｍであった。このＡｌ基板に
対して行ったテクスチャリング工程は、回転状態のＡｌ
基板の両面にゴムローラでガイドされたテクスチャーテ
ープを押圧させ、基板回転方向の多数の溝からなる凹凸
を形成する初段と、その後、より砥粒径の小さいテクス
チャーテープを用いて初段において形成された凹凸の突
出部分を除去する後段との２段階で実施された。ここで
、研磨液としては純水を使用し、これをテクスチャーテ
ープと基板表面との接触部に供給して、研磨が純水中で
施されるようにしている。この時の初段および後段にお
ける研磨条件を表１に示す。
【０００９】
【表１】
【００１０】ここで、テープ送り速度とは、基板表面が
常時新たな研磨面で研磨されるようにするためにテクス
チャーテープをその延長方向に移動させる際におけるそ
の送られる研磨テープの移動速度を示したものである。
常時新たな研磨面で研磨されるようにするためにテクス
チャーテープをその延長方向に移動させる際におけるそ
の送られる研磨テープの移動速度を示したものである。
【００１１】上記の２段階からなるテクスチャリング工
程を終了した後、表面粗さ計（小坂研究所製サーフコー
ダー）によってそのＡｌ基板の半径方向の表面状態を調
べた。この結果、表面粗さの指標として、Ｒａ は６０
Å、ｔｐ（１０％−１％）が１２０Åの値が得られた。 この後、Ａｌ基板をアルコール洗浄し、その表面上に厚
さ１０００ÅのＣｒ層（下地層）、厚さ５００ÅのＣｏ
合金層（磁性層）、および厚さ２００Åのアモルファス
カーボン層（表面保護層）を順次スパッタリング法によ
って堆積した。なお、この時のスパッタリング条件は、
装置内ガス圧１０ｍｔｏｒｒ、基板加熱温度２６０℃に
設定している。この磁気記録ディスクの表面粗さは、Ｒ
ａ ６０Å、ｔｐ（１０％−１％）１３０Åであった。 この後、フロロカーボン系の液体潤滑剤をディピング法
によって２０Åの厚さとなるように塗布した。
程を終了した後、表面粗さ計（小坂研究所製サーフコー
ダー）によってそのＡｌ基板の半径方向の表面状態を調
べた。この結果、表面粗さの指標として、Ｒａ は６０
Å、ｔｐ（１０％−１％）が１２０Åの値が得られた。 この後、Ａｌ基板をアルコール洗浄し、その表面上に厚
さ１０００ÅのＣｒ層（下地層）、厚さ５００ÅのＣｏ
合金層（磁性層）、および厚さ２００Åのアモルファス
カーボン層（表面保護層）を順次スパッタリング法によ
って堆積した。なお、この時のスパッタリング条件は、
装置内ガス圧１０ｍｔｏｒｒ、基板加熱温度２６０℃に
設定している。この磁気記録ディスクの表面粗さは、Ｒ
ａ ６０Å、ｔｐ（１０％−１％）１３０Åであった。 この後、フロロカーボン系の液体潤滑剤をディピング法
によって２０Åの厚さとなるように塗布した。
【００１２】上記の製造工程では、高保磁力を得るため
に、スパッタリングの基板加熱温度を比較的高く設定し
ており、この結果、テクスチャー自体の表面粗さと、ス
パッタ後の磁気記録ディスクの表面粗さの差は殆どない
。これに対し、スパッタリング時の基板加熱温度が上記
設定値以下の場合には、テクスチャーの表面粗さに対し
てスパッタ後の表面粗さが大きく変化し、例えば、テク
スチャーのｔｐ（１０％−１％）が８０Å程度であって
も、スパッタ後のｔｐ（１０％−１％）は１００〜３０
０Åと大きくなる。このように、高温スパッタによる磁
気記録ディスク形成の場合には、スパッタによる微小突
起の生成は殆ど期待できないので、上記のように予めテ
クスチャーの表面粗さをスパッタ後の表面粗さとして要
求される値に形成しておく必要がある。そこで、高温ス
パッタ条件での磁気記録ディスクの製造時には、テクス
チャーの表面粗さをＲａ が４０〜８０Å、ｔｐ（１０
％−１％）が８０〜１５０Åの範囲内に設定することが
望ましい。
に、スパッタリングの基板加熱温度を比較的高く設定し
ており、この結果、テクスチャー自体の表面粗さと、ス
パッタ後の磁気記録ディスクの表面粗さの差は殆どない
。これに対し、スパッタリング時の基板加熱温度が上記
設定値以下の場合には、テクスチャーの表面粗さに対し
てスパッタ後の表面粗さが大きく変化し、例えば、テク
スチャーのｔｐ（１０％−１％）が８０Å程度であって
も、スパッタ後のｔｐ（１０％−１％）は１００〜３０
０Åと大きくなる。このように、高温スパッタによる磁
気記録ディスク形成の場合には、スパッタによる微小突
起の生成は殆ど期待できないので、上記のように予めテ
クスチャーの表面粗さをスパッタ後の表面粗さとして要
求される値に形成しておく必要がある。そこで、高温ス
パッタ条件での磁気記録ディスクの製造時には、テクス
チャーの表面粗さをＲａ が４０〜８０Å、ｔｐ（１０
％−１％）が８０〜１５０Åの範囲内に設定することが
望ましい。
【００１３】次に、研磨液の相違によって得られる効果
を説明するために、以下の３種類の研磨液を用いたテク
スチャー形成を実施した。 ■ 純水 ■ ヴァニソールＮｏ．５５Ｇの純水希釈液（２ｖｏ
１％） ■ ジョンソン６０２の純水希釈液（２ｖｏ１％）こ
こで、■および■は本発明の範囲に該当する純水および
親水性研磨油の水溶液であり、■の研磨液は、従来から
用いられていた親油性研磨油の水溶液である。
を説明するために、以下の３種類の研磨液を用いたテク
スチャー形成を実施した。 ■ 純水 ■ ヴァニソールＮｏ．５５Ｇの純水希釈液（２ｖｏ
１％） ■ ジョンソン６０２の純水希釈液（２ｖｏ１％）こ
こで、■および■は本発明の範囲に該当する純水および
親水性研磨油の水溶液であり、■の研磨液は、従来から
用いられていた親油性研磨油の水溶液である。
【００１４】これらの研磨液を用いてそれぞれテクスチ
ャーを形成した基板表面を表面粗さ計によってディスク
半径方向に走査し、図１に示す表面プロフィールを得た
。この場合、テクスチャリング工程では、初段で砥粒径
２μｍ、後段で砥粒径１μｍのテクスチャーテープを用
いており、各研磨液を用いて形成したテクスチャーの表
面粗さをすべてＲａ ４５Å、ｔｐ（１０％−１％）１
２０Åとなるように、その他の研磨条件については適宜
変更調整して実施している。
ャーを形成した基板表面を表面粗さ計によってディスク
半径方向に走査し、図１に示す表面プロフィールを得た
。この場合、テクスチャリング工程では、初段で砥粒径
２μｍ、後段で砥粒径１μｍのテクスチャーテープを用
いており、各研磨液を用いて形成したテクスチャーの表
面粗さをすべてＲａ ４５Å、ｔｐ（１０％−１％）１
２０Åとなるように、その他の研磨条件については適宜
変更調整して実施している。
【００１５】また、ディスク表面を清浄化した後、液体
潤滑剤を塗布し、薄膜磁気ヘッドを６ｇｆの荷重を加え
た状態で磁気記録ディスク上にセットし、ディスク回転
数を１００ｒｐｍとしてドラッグテストを行い、その結
果として得られた摩擦係数の値を図２に示す。ここに、
このドラッグテストで６０分経過後の摩擦係数の値は、
ＣＳＳテスト（磁気ヘッドの接触状態から浮上、滑走、
停止後再接触を繰り返し行うもの。）の約１万回経過時
にほぼ相当するものであり、■の研磨液を使用した磁気
ディスクでは０．３３７、■の研磨液では０．３５８で
あるのに対し、従来の■の研磨液では０．５以上に増大
していた。
潤滑剤を塗布し、薄膜磁気ヘッドを６ｇｆの荷重を加え
た状態で磁気記録ディスク上にセットし、ディスク回転
数を１００ｒｐｍとしてドラッグテストを行い、その結
果として得られた摩擦係数の値を図２に示す。ここに、
このドラッグテストで６０分経過後の摩擦係数の値は、
ＣＳＳテスト（磁気ヘッドの接触状態から浮上、滑走、
停止後再接触を繰り返し行うもの。）の約１万回経過時
にほぼ相当するものであり、■の研磨液を使用した磁気
ディスクでは０．３３７、■の研磨液では０．３５８で
あるのに対し、従来の■の研磨液では０．５以上に増大
していた。
【００１６】この実施例によれば、研磨液■を用いた場
合、図１に示すようにディスク表面上の微小突起の数が
充分でなく、その後の高温スパッタ形成の影響もあって
、図２に示すように、摩擦係数が当初は０．３以下と小
さいものの時間経過とともに大きく増大する。これに対
して研磨液■または■を用いた場合は、表面粗さの指標
がほぼ同値となるように形成したにも拘わらず、図１に
示すように、基板表面上に既に微小突起が多数形成され
ており、図２に示すディスク形成後のドラッグテストに
おいても摩擦係数の増加は殆どなく、摩擦特性は良好で
あった。
合、図１に示すようにディスク表面上の微小突起の数が
充分でなく、その後の高温スパッタ形成の影響もあって
、図２に示すように、摩擦係数が当初は０．３以下と小
さいものの時間経過とともに大きく増大する。これに対
して研磨液■または■を用いた場合は、表面粗さの指標
がほぼ同値となるように形成したにも拘わらず、図１に
示すように、基板表面上に既に微小突起が多数形成され
ており、図２に示すディスク形成後のドラッグテストに
おいても摩擦係数の増加は殆どなく、摩擦特性は良好で
あった。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、テクス
チャー形成時における研磨液として純水または親水性の
高い研磨油の水溶液を用いたことに特徴を有するので、
従来よりも微小突起を多数備えたテクスチャー形状を形
成され、その後に高温スパッタを行った場合でも磁気記
録媒体の摩擦特性を悪化が防止されることとなり、記録
媒体の磁気特性とヘッドの滑走性能との両立を図ること
ができる。
チャー形成時における研磨液として純水または親水性の
高い研磨油の水溶液を用いたことに特徴を有するので、
従来よりも微小突起を多数備えたテクスチャー形状を形
成され、その後に高温スパッタを行った場合でも磁気記
録媒体の摩擦特性を悪化が防止されることとなり、記録
媒体の磁気特性とヘッドの滑走性能との両立を図ること
ができる。
【図１】本発明に係る実施例によって形成されたテクス
チャーの表面プロフィールを従来例と比較して示すグラ
フ図である。
チャーの表面プロフィールを従来例と比較して示すグラ
フ図である。
【図２】本発明に係る実施例に基づいて形成された磁気
記録ディスクのドラックテストの結果を従来方法によっ
て形成された磁気記録ディスクと比較して示すグラフ図
である。
記録ディスクのドラックテストの結果を従来方法によっ
て形成された磁気記録ディスクと比較して示すグラフ図
である。
Claims (3)
- 【請求項１】メッキ処理された基板表面上にテクスチャ
ーを形成すべきテクスチャリング工程を有する磁気記録
媒体の製造方法において、前記テクスチャリング工程は
、研磨テープを前記基板表面上に対し接触移動させて研
磨するものであり、その際の研磨液として純水を用いる
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】メッキ処理された基板表面上にテクスチャ
ーを形成すべきテクスチャリング工程を有する磁気記録
媒体の製造方法において、前記テクスチャリング工程は
、研磨テープを前記基板表面上に対し接触移動させて研
磨するものであり、その際の研磨液として高親水性研磨
油の水溶液を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 - 【請求項３】請求項１または請求項２に記載の磁気媒体
の製造方法において、Ｒａ が４０〜８０Å、ｔｐ（１
０％−１％）が８０〜１５０Åの範囲内にある表面粗さ
を備えた前記テクスチャーを形成することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29591A JPH04251438A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29591A JPH04251438A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04251438A true JPH04251438A (ja) | 1992-09-07 |
Family
ID=11469913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29591A Pending JPH04251438A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04251438A (ja) |
-
1991
- 1991-01-08 JP JP29591A patent/JPH04251438A/ja active Pending
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