JPH041944A - 光情報記録媒体 - Google Patents
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- JPH041944A JPH041944A JP2100234A JP10023490A JPH041944A JP H041944 A JPH041944 A JP H041944A JP 2100234 A JP2100234 A JP 2100234A JP 10023490 A JP10023490 A JP 10023490A JP H041944 A JPH041944 A JP H041944A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば光ディスクなどの光情報記録媒体に係
り、特にプリフォーマットパターン形成のだめの下地層
ならびに転写層の材質に関するものである。
り、特にプリフォーマットパターン形成のだめの下地層
ならびに転写層の材質に関するものである。
従来よりCA V (Constant、 Angul
ar Velocity)方式よりも記録密度が高い光
ディスクの記録方式として、M CA V (Modi
fied CA V )方式およびM CL V (
Modified Con5tar+t Line
ar Velocity)方式が提案されている。
ar Velocity)方式よりも記録密度が高い光
ディスクの記録方式として、M CA V (Modi
fied CA V )方式およびM CL V (
Modified Con5tar+t Line
ar Velocity)方式が提案されている。
これらの方式は、第6図に示すように、光ディスクの記
録エリアを光ディスクの径方向に沿って数段ないし数十
段のブロックla、lb、 ・・・に分割し、外周に行
くほどブロック内のセクタ数が増加するように各ブロッ
ク1a、1bタ °°。
録エリアを光ディスクの径方向に沿って数段ないし数十
段のブロックla、lb、 ・・・に分割し、外周に行
くほどブロック内のセクタ数が増加するように各ブロッ
ク1a、1bタ °°。
の周方向を複数のセクタ2a、2b、2c、 ・・・
に分割して成る。なお、図示は省略するが、各ブロック
la、lb、 ・・・の半径方向には、ピッチが1.
0〜1.6μm程度の微細なプリグループ(光スポット
を案内するための溝など)が渦巻状もしくは同心円状に
形成されている。
に分割して成る。なお、図示は省略するが、各ブロック
la、lb、 ・・・の半径方向には、ピッチが1.
0〜1.6μm程度の微細なプリグループ(光スポット
を案内するための溝など)が渦巻状もしくは同心円状に
形成されている。
前記プリグループの各セクタ2a、2b、2c。
・・・の先頭部分には、例えば当該セクタのアドレス等
を表示するためのプリピット列が形成される。これらの
プリピット列は、光ディスクを平面方向から見たとき、
各セクタ2a、2b、2c。
を表示するためのプリピット列が形成される。これらの
プリピット列は、光ディスクを平面方向から見たとき、
各セクタ2a、2b、2c。
・・・毎にひと塊となった線状のプリピット集合列3と
して観察される。
して観察される。
一方、この光ディスクの製造方法の1つとして。
前記したプリフォーマットパターン(プリグループおよ
びプリピット列)の反転パターンが形成されたスタンバ
の信号面に、例えばニトロセルロースなどの有機化合物
を−様に展伸する。そしてこの有機化合物からなる転写
層上に紫外線硬化性樹脂を置き、この紫外線硬化性樹脂
を例えばガラスなどの透明基板にて−様な厚さに展伸し
、前記の樹脂を硬化した後、スタンバと前記転写層との
界面を剥離して、前記反転パターンのレプリカを形成す
る。
びプリピット列)の反転パターンが形成されたスタンバ
の信号面に、例えばニトロセルロースなどの有機化合物
を−様に展伸する。そしてこの有機化合物からなる転写
層上に紫外線硬化性樹脂を置き、この紫外線硬化性樹脂
を例えばガラスなどの透明基板にて−様な厚さに展伸し
、前記の樹脂を硬化した後、スタンバと前記転写層との
界面を剥離して、前記反転パターンのレプリカを形成す
る。
しかる後、前記反転パターンの転写面に所望の記録層な
どを積層することによって光ディスクの単板をつくる。
どを積層することによって光ディスクの単板をつくる。
さらに、このようにして得られた2枚の光ディスク草仮
を貼り合せたり、あるいは光デイスク単板の記録層上の
保護層を形成するなどして、所望の形態の光ディスクが
作製される。
を貼り合せたり、あるいは光デイスク単板の記録層上の
保護層を形成するなどして、所望の形態の光ディスクが
作製される。
第7図は、光デイスク単板の要部断面図である。
同図において4は透明基板、5は紫外線硬化性樹脂から
成る下地層、6はニトロセルロースなどの有機fヒ金物
から成る転写層、7は記録層、8はプリグループ、9は
プリピットを示している。
成る下地層、6はニトロセルロースなどの有機fヒ金物
から成る転写層、7は記録層、8はプリグループ、9は
プリピットを示している。
この図に示すように、プリピット9はプリグループ8よ
りも深く、かつその側面lOの傾斜が大きく形成される
。このため、前記記録層7をスパッタリングや真空蒸着
などの真空成膜技術によって形成した場合、蒸着物質の
回り込みが小さいため、プリピット9の側面10に形成
される記録層7の膜厚がきわめて薄くなりやすい。
りも深く、かつその側面lOの傾斜が大きく形成される
。このため、前記記録層7をスパッタリングや真空蒸着
などの真空成膜技術によって形成した場合、蒸着物質の
回り込みが小さいため、プリピット9の側面10に形成
される記録層7の膜厚がきわめて薄くなりやすい。
また、光ディスクに使用されている紫外線硬化性樹脂に
は、透明基板4との接着性を上げるためヒドロキシメチ
ルメタクリレートなどの水酸基を有する有機化合物が配
合されているから、下地層5の吸水率が比較的高い。
は、透明基板4との接着性を上げるためヒドロキシメチ
ルメタクリレートなどの水酸基を有する有機化合物が配
合されているから、下地層5の吸水率が比較的高い。
そのため、第7図に矢印で示すように、光ディスクの組
立て中に、空気中の水分がプリピット9の側面10から
転写層6を通って下地層5中に浸透する。
立て中に、空気中の水分がプリピット9の側面10から
転写層6を通って下地層5中に浸透する。
前述したように、MCAV方式およびM CL V方式
の光ディスクにおいては、外周に行くほどブロック内の
セクタ数が増加するように各ブロックla、lb、 ・
・・の周方向が分割されているので、はとんどのプリピ
ット集合列3の端部は、隣接するブロックのプリピット
集合列3と位置的にずれている(第6図参照)。このた
め、プリピット集合列3に局部的な吸水を生じ、顔部の
下地層5が部分的に膨潤する。
の光ディスクにおいては、外周に行くほどブロック内の
セクタ数が増加するように各ブロックla、lb、 ・
・・の周方向が分割されているので、はとんどのプリピ
ット集合列3の端部は、隣接するブロックのプリピット
集合列3と位置的にずれている(第6図参照)。このた
め、プリピット集合列3に局部的な吸水を生じ、顔部の
下地層5が部分的に膨潤する。
プリピット集合列3が形成されていない部分においては
、プリピット集合列3から離隔するほど下地層6の膨潤
が少ないから、前記の吸水現象を生じた場合、第8図に
示すように、プリピット集合列3の端部と隣接する部分
が傾斜し、第9図に示すように、プリグループ8が変形
する。
、プリピット集合列3から離隔するほど下地層6の膨潤
が少ないから、前記の吸水現象を生じた場合、第8図に
示すように、プリピット集合列3の端部と隣接する部分
が傾斜し、第9図に示すように、プリグループ8が変形
する。
その結果、ブロックとブロックの境界付近にある数百か
ら数千トラックにわたって光スポットの追従性が悪くな
り、トラッキングノイズが高くなったり、極端な場合に
は記録に使用できないデッドゾーンを生じるといった不
都合がある。特に、ブロック分割数が多い光ディスクで
は、このデッドゾーンが多くなり、場合によっては前記
CAV方式よりも記録容量が低下してしまうといった問
題がある。
ら数千トラックにわたって光スポットの追従性が悪くな
り、トラッキングノイズが高くなったり、極端な場合に
は記録に使用できないデッドゾーンを生じるといった不
都合がある。特に、ブロック分割数が多い光ディスクで
は、このデッドゾーンが多くなり、場合によっては前記
CAV方式よりも記録容量が低下してしまうといった問
題がある。
なお、これに関連する公知技術としては、例えば特開昭
62−144938号公報および特開昭63−2101
18号公報に記載されている発明がある。
62−144938号公報および特開昭63−2101
18号公報に記載されている発明がある。
また、前記したように、この光ディスクは、スタンパと
スタンパ上に展伸された転写層6との界面を剥離するこ
とによってプリフォーマットパターンが転写されるが、
スタンパとして金属製のものを用い、転写層材料として
ニトロセルロースなどの化合物を用い、下地層を構成す
る紫外線硬化性樹脂として転写層材料との相溶性が高い
材料を用いると、転写層の溶解により転写面の表面状態
が変ヂヒし、記録層での反射率に不均一を生じろ。
スタンパ上に展伸された転写層6との界面を剥離するこ
とによってプリフォーマットパターンが転写されるが、
スタンパとして金属製のものを用い、転写層材料として
ニトロセルロースなどの化合物を用い、下地層を構成す
る紫外線硬化性樹脂として転写層材料との相溶性が高い
材料を用いると、転写層の溶解により転写面の表面状態
が変ヂヒし、記録層での反射率に不均一を生じろ。
逆に、転写層材料との相溶性が低い紫外線硬化性樹脂を
用いると、下地層と転写層との接着力が低下し、転写さ
れたプリフォーマットパターンが変形したり、最悪の場
合には下地層5と転写層6が界面から剥離するといった
不都合を生じやすい。
用いると、下地層と転写層との接着力が低下し、転写さ
れたプリフォーマットパターンが変形したり、最悪の場
合には下地層5と転写層6が界面から剥離するといった
不都合を生じやすい。
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解決し、
下地層と転写層との接着強度が高く、両界面から剥離し
たりすることがなく、ピット長精度の良い、信頼性の高
い光情報記録媒体を提供する二とにある。
下地層と転写層との接着強度が高く、両界面から剥離し
たりすることがなく、ピット長精度の良い、信頼性の高
い光情報記録媒体を提供する二とにある。
本発明は、前記の目的を達成するため、少なくとも透明
基板と、その透明基板上に形成されたプリフォーマット
パターン形成下地層と、プリフォーマットパターンの転
写層と、その転写層上に形成された記録層とを備え、前
記下地層が紫外線硬化性樹脂から成り、前記転写層が有
機化合物から成る光情報記録媒体を対象とするものであ
。。
基板と、その透明基板上に形成されたプリフォーマット
パターン形成下地層と、プリフォーマットパターンの転
写層と、その転写層上に形成された記録層とを備え、前
記下地層が紫外線硬化性樹脂から成り、前記転写層が有
機化合物から成る光情報記録媒体を対象とするものであ
。。
そして本発明は、前記転写層を形成する有機化合物がニ
トロセルロースで、前記下地層がニトロセルロースとの
接着性の良い、例えばテトラヒドロフリフルアクリレー
トなどの紫外線硬化性樹脂を用いたことを特徴とするも
のである。
トロセルロースで、前記下地層がニトロセルロースとの
接着性の良い、例えばテトラヒドロフリフルアクリレー
トなどの紫外線硬化性樹脂を用いたことを特徴とするも
のである。
本発明は前述のように、紫外線硬化性樹脂として例えば
テトラヒドロフリフルアクリレートの如きニトロセルロ
ース製転写層との接着性に優れた紫外線硬化樹脂を使用
したため、光情報記録媒体の製造時に下地層と転写層と
が剥離したりすることがなく、そのためにプリフォーマ
ットパターンの変形や基板の損傷を防止することができ
、信頼性の高い光情報記録媒体の提供が可能となる。
テトラヒドロフリフルアクリレートの如きニトロセルロ
ース製転写層との接着性に優れた紫外線硬化樹脂を使用
したため、光情報記録媒体の製造時に下地層と転写層と
が剥離したりすることがなく、そのためにプリフォーマ
ットパターンの変形や基板の損傷を防止することができ
、信頼性の高い光情報記録媒体の提供が可能となる。
第1図は、本発明の一実施例に係る光情報記録媒体を模
式的に示す断面図である。同図において4は透明基板、
5は下地層、6は転写層、7は記録層、8はプリグルー
プ、9はプリピット、11はシランカップリング剤層を
示している。
式的に示す断面図である。同図において4は透明基板、
5は下地層、6は転写層、7は記録層、8はプリグルー
プ、9はプリピット、11はシランカップリング剤層を
示している。
透明基板4は1例えばガラスなどの硬質透明は料をもっ
て表裏面が平行でかつ平滑な平板状に形成されている。
て表裏面が平行でかつ平滑な平板状に形成されている。
外形については、例えばディスク状あるいはカード状な
ど任意の形状に形成することができ、また寸法について
も任意に設計することができる。
ど任意の形状に形成することができ、また寸法について
も任意に設計することができる。
シランカップリング剤層11は、γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシランを透明基板4に焼き付けるこ
とによって形成される。
ロピルトリメトキシシランを透明基板4に焼き付けるこ
とによって形成される。
下地層5を形成する光硬化性樹脂としては、親油性の基
を含み、後に詳述する転写層材料に対する浸透性を有し
、・かつこの転写層材料を溶解しないものが用いられる
。この種の紫外線硬化性樹脂としては、樹脂基材中に環
状エーテル化合物を含むものを挙げることができる。
を含み、後に詳述する転写層材料に対する浸透性を有し
、・かつこの転写層材料を溶解しないものが用いられる
。この種の紫外線硬化性樹脂としては、樹脂基材中に環
状エーテル化合物を含むものを挙げることができる。
なお、環状エーテル化合物としては、テトラヒドロフル
フリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリ
レート、およびこれらの変成体など、任意の環状エーテ
ル化合物を用いることができる。
フリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリ
レート、およびこれらの変成体など、任意の環状エーテ
ル化合物を用いることができる。
また、樹脂基材に対する環状エーテル化合物の含率は、
樹脂の撥水性および転写層材料に対する浸透性、それに
転写層材料に不溶解性を考慮して適宜調整することがで
きるが、5〜60重1%の範囲に調整したものが特に好
適である。
樹脂の撥水性および転写層材料に対する浸透性、それに
転写層材料に不溶解性を考慮して適宜調整することがで
きるが、5〜60重1%の範囲に調整したものが特に好
適である。
転写層6は、記録層7の記録感度を向上するためなどに
付されるものであって、諸種の有機化合物の中でも特に
スタンパへの塗布性が良好であること、および記録感度
を向上する効果が高いことなどから、ニトロセルロース
が使用される。このニトロセルロースのうちでも特に窒
素分が11.9〜12.2(%)、平均置換度が2,1
〜2.3.粘度が850〜1000(秒)のものが好適
である。
付されるものであって、諸種の有機化合物の中でも特に
スタンパへの塗布性が良好であること、および記録感度
を向上する効果が高いことなどから、ニトロセルロース
が使用される。このニトロセルロースのうちでも特に窒
素分が11.9〜12.2(%)、平均置換度が2,1
〜2.3.粘度が850〜1000(秒)のものが好適
である。
プリグループ8は、ディスク状の透明幕板4については
当該透明基板4の回転中心を中心とする渦巻状または同
心円状に形成され、カード状の透明基板4し二ついては
平行線状に形成することができる。
当該透明基板4の回転中心を中心とする渦巻状または同
心円状に形成され、カード状の透明基板4し二ついては
平行線状に形成することができる。
プリピット9は、前記プリグループ8上に重ねて形成す
ることもできるし、相隣接するプリグループ8の間に形
成することもできる。
ることもできるし、相隣接するプリグループ8の間に形
成することもできる。
記録層7としては、穴あけ形(例えば、低融点合金系や
有機色素系)、光磁気形(例えば、遷移金属と希土類金
属を主成分とする非晶質合金または結晶質合金)、それ
に相変化形(例えば、非晶質−結晶質の相変化を利用し
たもの)など、公知に属する任意のものを用いることが
できる。
有機色素系)、光磁気形(例えば、遷移金属と希土類金
属を主成分とする非晶質合金または結晶質合金)、それ
に相変化形(例えば、非晶質−結晶質の相変化を利用し
たもの)など、公知に属する任意のものを用いることが
できる。
以下1本発明に係る光情報記録媒体の宴造方法の一例を
第2図(a)〜(f)に基づいて説明する。
第2図(a)〜(f)に基づいて説明する。
まず、第2図(a)に示すように、プリグループ8の反
転パターン(深さ0.09 μm、幅0.40μm)お
よびプリピット9の反転パターン(深さ0.16μm、
幅0.60μm)が形成された外径が300mmのニッ
ケル製スタンパ12を用意する。
転パターン(深さ0.09 μm、幅0.40μm)お
よびプリピット9の反転パターン(深さ0.16μm、
幅0.60μm)が形成された外径が300mmのニッ
ケル製スタンパ12を用意する。
次に、同図に示すように、スタンパ12の信号面にニト
ロセルロース膜13を3〜5μmの厚さにスピンコード
した後、乾燥操作を加え、このニトロセルロース膜13
の上面であってスタンパ12の内周部に紫外線硬化性樹
脂14を輪状に塗布する。
ロセルロース膜13を3〜5μmの厚さにスピンコード
した後、乾燥操作を加え、このニトロセルロース膜13
の上面であってスタンパ12の内周部に紫外線硬化性樹
脂14を輪状に塗布する。
次に、第2図(b)、(c)に示すように、シランカッ
プリング剤(γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン)11を110℃で30分間焼付けた外径が30
0mm、厚さが1.2mmのガラス円板から成る透明基
板4を前記紫外線硬化性樹脂14に押し付け、下地層5
の厚さが80μmになるように展伸する。このとき、紫
外線硬化性樹脂14がニトロセルロース膜13中に浸透
し、転写層6が形成される。
プリング剤(γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン)11を110℃で30分間焼付けた外径が30
0mm、厚さが1.2mmのガラス円板から成る透明基
板4を前記紫外線硬化性樹脂14に押し付け、下地層5
の厚さが80μmになるように展伸する。このとき、紫
外線硬化性樹脂14がニトロセルロース膜13中に浸透
し、転写層6が形成される。
そして、第2図(d)に示すように、透明基板4側から
波長320〜400nmにおける光強度が150mW/
emsのエネルギー線を高圧水銀灯15を用いて30秒
間照射し、前記紫外線硬化性樹脂を硬化する。
波長320〜400nmにおける光強度が150mW/
emsのエネルギー線を高圧水銀灯15を用いて30秒
間照射し、前記紫外線硬化性樹脂を硬化する。
次に、第2図(e)に示すように、スタンパ12と転写
層6との界面を剥離し、プリフォーマットパターン付き
の透明基板(レプリカ)を得る。
層6との界面を剥離し、プリフォーマットパターン付き
の透明基板(レプリカ)を得る。
最後に、第2図(f)に示すように、転写層6上にテル
ル−セレン−鉛系の記録層7を30nmの厚さに真空蒸
着して、所望の光ディスク単@16を得る。
ル−セレン−鉛系の記録層7を30nmの厚さに真空蒸
着して、所望の光ディスク単@16を得る。
第3図ないし第5図は、前記の光デイスク単板16を用
いて構成される光デイスク製品の断面図である。
いて構成される光デイスク製品の断面図である。
第3図の光ディスクは、2枚の光デイスク単板16の記
録層7側を互いに内側にし、内周スペーサ21ならびに
外周スペーサ22を介して貼り合せた両面記録式のエア
サンドイッチ構造になっている。
録層7側を互いに内側にし、内周スペーサ21ならびに
外周スペーサ22を介して貼り合せた両面記録式のエア
サンドイッチ構造になっている。
第4図の光ディスクは、2枚の光デイスク単板16の記
録層7を接着剤23にて直接貼り合せた両面記録式の密
着貼り合せ構造になっている。この場合、上記記録層に
は記録膜外表面を被覆保護する保護膜を含む。
録層7を接着剤23にて直接貼り合せた両面記録式の密
着貼り合せ構造になっている。この場合、上記記録層に
は記録膜外表面を被覆保護する保護膜を含む。
第5図の光ディスクは、光デイスク単板16の記録層7
上に、耐湿性の保護M24が塗布形成された単板構造に
なっている。
上に、耐湿性の保護M24が塗布形成された単板構造に
なっている。
その他、光デイスク単板16と信号の記録tこ関与しな
い保護板とを貼り合せることによって0片面記録式の光
ディスクを構成することも可能である。また、エアサン
ドインチ構造の光ディスクにおいては、光ディスクの組
立が完了した状態で。
い保護板とを貼り合せることによって0片面記録式の光
ディスクを構成することも可能である。また、エアサン
ドインチ構造の光ディスクにおいては、光ディスクの組
立が完了した状態で。
2枚の光デイスク単板16の間に形成される空気層が大
気と遮断された密封型に形成することもできるし、その
空気層が大気と流通可能な通気型に形成することもでき
る。
気と遮断された密封型に形成することもできるし、その
空気層が大気と流通可能な通気型に形成することもでき
る。
次に本発明に係る光情報記録媒体の具体例を掲げ、従来
例に係る光情報記録媒体と比較する。
例に係る光情報記録媒体と比較する。
(具体例)
紫外線硬化性樹脂として、下記組成のものを使用した。
0ポリブタジエン系メタクリレート
(日本曹達社製 商品名T E −2000) 40重
量部02−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル
)−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサンジアク
リレート (日本曹達社製 商品名R604)’ 30重量部O
テトラヒドロフルフリルメタクリレート(共栄社油脂嬰
商品名THF) 30重1部01−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー社製 商
品名イルガキュア/84.)2重量部 を混合する。この紫外線硬化性樹脂のを使用し、常法に
従ってレプリカを作成して、Teを300オングストロ
一ム蒸着して光ディスクを製作した。
量部02−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル
)−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサンジアク
リレート (日本曹達社製 商品名R604)’ 30重量部O
テトラヒドロフルフリルメタクリレート(共栄社油脂嬰
商品名THF) 30重1部01−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー社製 商
品名イルガキュア/84.)2重量部 を混合する。この紫外線硬化性樹脂のを使用し、常法に
従ってレプリカを作成して、Teを300オングストロ
一ム蒸着して光ディスクを製作した。
また、前記紫外線硬化性樹脂を厚さ1mmのニトロセル
ロース2枚の間に50μm厚で塗布し。
ロース2枚の間に50μm厚で塗布し。
紫外線を照射して硬化後、剥離試験を行ったところ、ニ
トロセルロースの凝集、破壊を起し、ニトロセルロース
と紫外線硬化樹脂とが極めて強く接着していることが確
認された。
トロセルロースの凝集、破壊を起し、ニトロセルロース
と紫外線硬化樹脂とが極めて強く接着していることが確
認された。
(比較例)
前記具体例において、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レートに代りにステアリルメタクリレート(共栄社油脂
製 商品名S)を使用して、同様にして紫外線硬化性樹
脂を調合した。この紫外線硬化性樹脂を用いて光ディス
クの製作と剥離試験を?1つだ、この剥離試験の結果、
紫外線硬化物とニトロセルロースとの界面で剥離を生じ
、接着性か不七分であった。
レートに代りにステアリルメタクリレート(共栄社油脂
製 商品名S)を使用して、同様にして紫外線硬化性樹
脂を調合した。この紫外線硬化性樹脂を用いて光ディス
クの製作と剥離試験を?1つだ、この剥離試験の結果、
紫外線硬化物とニトロセルロースとの界面で剥離を生じ
、接着性か不七分であった。
前記各光ディスクを使用して、下記の性能評価を行った
。
。
(性能評価−1)
スタンパ上に形成された長さ1μm、幅0.6μmの記
録ピット100,000個について光デイスク駆動装置
でその長さを測定し、その最大値と最小値との差(プリ
ピット長変動)を求めた。
録ピット100,000個について光デイスク駆動装置
でその長さを測定し、その最大値と最小値との差(プリ
ピット長変動)を求めた。
(性能評価−2)
光ディスクの表面に、長さ1μmの記録ピットをtoo
、ooo個光ディスク駆動装置により書き込み、その後
、書き込んだ記録ピット長さを光デイスク駆動装置で読
取って、最大値と最小値との差(記録ピット長変動)を
求めた。
、ooo個光ディスク駆動装置により書き込み、その後
、書き込んだ記録ピット長さを光デイスク駆動装置で読
取って、最大値と最小値との差(記録ピット長変動)を
求めた。
これら性能評価の結果を次の表にまとめて示す。
単位=μm
[発明の効果コ
本発明は前述のような構成になっているため、下地層と
転写層との接着性が高められ、そのために下地層と転写
層とが剥離したりすることがなく、プリピット、記録ピ
ットのピット長精度が向上し、信頼性の高い光情報記録
媒体を提供することができる。
転写層との接着性が高められ、そのために下地層と転写
層とが剥離したりすることがなく、プリピット、記録ピ
ットのピット長精度が向上し、信頼性の高い光情報記録
媒体を提供することができる。
第1図ないし第5図は本発明の詳細な説明するための図
であって、 第1図は、光情報記録媒体の概略構成を示す要部断面図
、 第2図(a)〜(f)は、光デイスク単板の製造方法を
示す工程説明図。 第3図、第4図ならびに第5図は、記録単板から作裏さ
九る各種の光ディスクを示す断面図である。 第6図ないし第9図は従来技術を説明するための図であ
って、 第6図は、光情報記録媒体の要部平面図、第7図は、光
情報記録媒体の要部断面図、第8図および第9図は、従
来技術の欠点を説明する要部断面図および要部平面図で
ある。 ja、lb、 ・・・・・・・・・ブロック。 2a、2b、2c、 ・・・・旧・・セクタ、3・・
・・・・プリピット集合列、4・・・・・・透明基板、
5・・・・・・下地層、6・・・・・・転写層、7・・
・・・・記録層、8・・・・・・プリグループ、9・・
・・・・プリピット。 12・・・・・・スタンパ、16・・・・・・光デイス
ク単板。 図面の浄] 第1図 第211 透明基板 下沁層 車云写層 記録層 プリグループ プリピット シランカップリング11眉 第311 第4m 図面の4言 第7図 第8図 第6図 第9図 手続補装置 (方式) (1)第1図、第7図ならびに第8図を添付した別紙補
正図面のように補正します。 平成 2年 8月
であって、 第1図は、光情報記録媒体の概略構成を示す要部断面図
、 第2図(a)〜(f)は、光デイスク単板の製造方法を
示す工程説明図。 第3図、第4図ならびに第5図は、記録単板から作裏さ
九る各種の光ディスクを示す断面図である。 第6図ないし第9図は従来技術を説明するための図であ
って、 第6図は、光情報記録媒体の要部平面図、第7図は、光
情報記録媒体の要部断面図、第8図および第9図は、従
来技術の欠点を説明する要部断面図および要部平面図で
ある。 ja、lb、 ・・・・・・・・・ブロック。 2a、2b、2c、 ・・・・旧・・セクタ、3・・
・・・・プリピット集合列、4・・・・・・透明基板、
5・・・・・・下地層、6・・・・・・転写層、7・・
・・・・記録層、8・・・・・・プリグループ、9・・
・・・・プリピット。 12・・・・・・スタンパ、16・・・・・・光デイス
ク単板。 図面の浄] 第1図 第211 透明基板 下沁層 車云写層 記録層 プリグループ プリピット シランカップリング11眉 第311 第4m 図面の4言 第7図 第8図 第6図 第9図 手続補装置 (方式) (1)第1図、第7図ならびに第8図を添付した別紙補
正図面のように補正します。 平成 2年 8月
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)少なくとも透明基板と、その透明基板上に形成さ
れたプリフオーマツトパターン形成下地層と、プリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た記録層とを備え、前記下地層が紫外線硬化性樹脂から
成り、前記転写層が有機化合物から成る光情報記録媒体
において、前記転写層を形成する有機化合物がニトロセ
ルロースで、前記下地層がニトロセルロースとの接着性
の良い紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする光情報
記録媒体。 (2)請求項(1)記載において、前記下地層が環状エ
ーテル化合物を含む紫外線硬化性樹脂であることを特徴
とする光情報記録媒体。 (3)請求項(2)記載において、前記環状エーテル化
合物が、テトラヒドロフルフリルアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルメタクリレート、グリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレートおよびこれらの変成体
から選択された少なくとも1種類の環状エーテル化合物
であることを特徴とする光情報記録媒体。 (4)請求項(2)または請求項(3)記載において、
前記紫外線硬化性樹脂中に含まれる環状エーテル化合物
の含有率が5〜60重量%の範囲に規制されていること
を特徴とする光情報記録媒体。 (5)請求項(1)記載において、前記ニトロセルロー
スとして窒素含有率が11.9〜12.2%で、平均置
換度が2.1〜2.3であるニトロセルロースを用いた
ことを特徴とする光情報記録媒体。 (6)請求項(1)記載において、前記下地層がテトラ
ヒドロフルフリルメタクリレートとポリブタジエン系メ
タクリレートとを含有していることを特徴とする光情報
記録媒体。(7)請求項(1)または請求項(6)記載
において、前記下地層がテトラヒドロフルフリルメタク
リレートと2−(2−ヒドロキシ−1、1−ジメチルエ
チル)−5−ヒドロキシメチル−5、−エチル−1、3
−ジオキサンジアクリレートとを含有していることを特
徴とする光情報記録媒体。 (8)請求項(1)、請求項(6)または請求項(7)
記載において、前記下地層がテトラヒドロフルフリルメ
タクリレートと1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトンとを含有していることを特徴とする光情報記録媒
体。 (9)請求項(1)記載において、前記下地層がテトラ
ヒドロフルフリルメタクリレートと、ポリブタジエン系
メタクリレートと、2−(2−ヒドロキシ−1、1−ジ
メチルエチル)−5−ヒドロキシメチル−5−エチル−
1、3−ジオキサンジアクリレートと、1−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトンとを含有していることを
特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2100234A JPH041944A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2100234A JPH041944A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH041944A true JPH041944A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=14268580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2100234A Pending JPH041944A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH041944A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5492095A (en) * | 1993-08-26 | 1996-02-20 | Nippondenso Co., Ltd. | Throttle valve control for internal combustion engine |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP2100234A patent/JPH041944A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5492095A (en) * | 1993-08-26 | 1996-02-20 | Nippondenso Co., Ltd. | Throttle valve control for internal combustion engine |
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