JPH0416519A - シリカ系ガラスの製造方法 - Google Patents
シリカ系ガラスの製造方法Info
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- JPH0416519A JPH0416519A JP12004490A JP12004490A JPH0416519A JP H0416519 A JPH0416519 A JP H0416519A JP 12004490 A JP12004490 A JP 12004490A JP 12004490 A JP12004490 A JP 12004490A JP H0416519 A JPH0416519 A JP H0416519A
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
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- C03B37/016—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by a liquid phase reaction process, e.g. through a gel phase
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- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光フアイバープリフォーム等に使用し得るF
がドープされた高純度シリカ系ガラスをゾル・ゲル法に
より簡便かつ安価に製作できる方法に関するものである
。
がドープされた高純度シリカ系ガラスをゾル・ゲル法に
より簡便かつ安価に製作できる方法に関するものである
。
石英系光ファイバーは、従来純シリカ系クラツド材とこ
れにGeをドープしたコア材の組合せが主流であったが
、最近の動向としてより高性能化のためFをドープした
クラツド材と純シリカ系ガラスのコア材からなるタイプ
のものが望まれている。
れにGeをドープしたコア材の組合せが主流であったが
、最近の動向としてより高性能化のためFをドープした
クラツド材と純シリカ系ガラスのコア材からなるタイプ
のものが望まれている。
このタイプの光ファイバーを従来からの気相法(VAD
法)により合成する場合、原料ガスとして用いるF含有
化合物は、概して蒸気圧が高いため、飛散の問題からF
の収率が低く、またその分布の制御という面でも難点を
有する。
法)により合成する場合、原料ガスとして用いるF含有
化合物は、概して蒸気圧が高いため、飛散の問題からF
の収率が低く、またその分布の制御という面でも難点を
有する。
これらの問題点を解決するためゾル・ゲル法でFを含有
する光フアイバープリフォームを合成する試みも多くな
されている。
する光フアイバープリフォームを合成する試みも多くな
されている。
例えば、F源としてトリエトキシフルオロシラン[Si
(0[:、H5) 、F )をシリコンエトキシドを
アンモニア水で加水分解したコロイド状のシリカゾルと
混合、反応せしめ、Fを含有する円筒状シリカゲルを作
成し、これを焼成して円筒ガラスとした後、高温で再加
熱して中空部表層からFを飛散させかつ中空部を潰すこ
とにより純シリカのコア部とシリカ−F組成のクラッド
部を有するプリフォームを合成−する方法が知られてい
る。
(0[:、H5) 、F )をシリコンエトキシドを
アンモニア水で加水分解したコロイド状のシリカゾルと
混合、反応せしめ、Fを含有する円筒状シリカゲルを作
成し、これを焼成して円筒ガラスとした後、高温で再加
熱して中空部表層からFを飛散させかつ中空部を潰すこ
とにより純シリカのコア部とシリカ−F組成のクラッド
部を有するプリフォームを合成−する方法が知られてい
る。
また、粉末シリカを水に分散させたコロイド溶液から円
筒状ゲルをつくりこれを乾燥した後、四フッ化珪素(S
iF4)雰囲気で焼成して得たF含有円筒状シリカガラ
スを光フアイバープリフォームのクラッド部とし、中空
部に従来の気相法でコア材となるスートを堆積させるか
もしくは棒状コア材を挿入した後、これを加熱してコア
部のガラス化を行うと同時に中空部を潰すことによりプ
リフォームを合成する方法が知られている。
筒状ゲルをつくりこれを乾燥した後、四フッ化珪素(S
iF4)雰囲気で焼成して得たF含有円筒状シリカガラ
スを光フアイバープリフォームのクラッド部とし、中空
部に従来の気相法でコア材となるスートを堆積させるか
もしくは棒状コア材を挿入した後、これを加熱してコア
部のガラス化を行うと同時に中空部を潰すことによりプ
リフォームを合成する方法が知られている。
前述のゾル・ゲル法によるF含有光ファイバープリフォ
ーム合成は以下のような問題点を有する。
ーム合成は以下のような問題点を有する。
■ F源として高価なトリエトキシフルオロンラン(S
t (OCRl(S) 3F 〕、四フッ化珪素(Si
F4)を用いる必要がある。
t (OCRl(S) 3F 〕、四フッ化珪素(Si
F4)を用いる必要がある。
■ Fのドープ量に限界がある。即ち、トリエトキシフ
ルオロシラン〔5i(OC2H5) 、F )を用いた
場合、コロイダルシリカ表面部のみにFがドーピングさ
れるため、多量導入が困難であると同時に焼成時にFが
飛散しやすい。更に、Sl (O[:2H5) 3Fの
添加量が増すとゲル化が著しく促進されるため、反応制
御も困難となる。一方、四フッ化珪素(SiF、)等の
ガスとしてFを導入する場合、ゲル骨格中へのガスの拡
散はあまり期待できず、主として表面部のDH基とFの
交換反応によってのみFがドープされる形となる。、 ■ いずれもコロイダルシリカの表面部にFをドープす
る形になるため、Fの均一分散性に問題がある。
ルオロシラン〔5i(OC2H5) 、F )を用いた
場合、コロイダルシリカ表面部のみにFがドーピングさ
れるため、多量導入が困難であると同時に焼成時にFが
飛散しやすい。更に、Sl (O[:2H5) 3Fの
添加量が増すとゲル化が著しく促進されるため、反応制
御も困難となる。一方、四フッ化珪素(SiF、)等の
ガスとしてFを導入する場合、ゲル骨格中へのガスの拡
散はあまり期待できず、主として表面部のDH基とFの
交換反応によってのみFがドープされる形となる。、 ■ いずれもコロイダルシリカの表面部にFをドープす
る形になるため、Fの均一分散性に問題がある。
更にゾル・ゲル法によるシリカ系ガラス製造における共
通の課題として、ゲルの乾燥割れおよび多量の囲碁の残
存が挙げられる。
通の課題として、ゲルの乾燥割れおよび多量の囲碁の残
存が挙げられる。
本発明は、シリコンアルコキシドを含む混合物を加水分
解してゲルを作製し、これを乾燥、焼成してシリカ系ガ
ラスを製造する方法において、フッ化水素酸をHF/塩
基モル比で2〜5の比率で塩基と予混合してシリコンア
ルコキシドを含む混合物に添加した後、これを加水分解
、ゲル化せしめることを特徴とするシリカ系ガラスの製
造方法であり、これにより、上記問題点を解決すること
ができる。
解してゲルを作製し、これを乾燥、焼成してシリカ系ガ
ラスを製造する方法において、フッ化水素酸をHF/塩
基モル比で2〜5の比率で塩基と予混合してシリコンア
ルコキシドを含む混合物に添加した後、これを加水分解
、ゲル化せしめることを特徴とするシリカ系ガラスの製
造方法であり、これにより、上記問題点を解決すること
ができる。
即ち、本発明は、安価なフッ化水素酸をF源として用い
、これを塩基、好ましくは、アミン系強塩基、より好ま
しくはピペリジンと予め混合してシリコンアルコキシド
を含む混合物に加え、これを加水分解して得られたゲル
は比較的大きな気孔径と低比表面積を有するため、容易
に乾燥、焼成でき、Fが多量かつ均一にドープされたシ
リカ系ガラスを製造しうろことを見出したものである。
、これを塩基、好ましくは、アミン系強塩基、より好ま
しくはピペリジンと予め混合してシリコンアルコキシド
を含む混合物に加え、これを加水分解して得られたゲル
は比較的大きな気孔径と低比表面積を有するため、容易
に乾燥、焼成でき、Fが多量かつ均一にドープされたシ
リカ系ガラスを製造しうろことを見出したものである。
本発明に使用されるフッ化水素酸(フッ酸)とは、HF
の水溶液を意味し、HFの濃度としては、20〜70重
量%、好ましくは40〜50重量%の範囲であり、市販
の最も高濃度品である46〜50重量%のものを使用す
ることもできる。
の水溶液を意味し、HFの濃度としては、20〜70重
量%、好ましくは40〜50重量%の範囲であり、市販
の最も高濃度品である46〜50重量%のものを使用す
ることもできる。
本発明において、仮に塩基と予混合しないでフッ化水素
酸を単独で使用してシリコンエトキシドと混合すると局
部的なゲル化、沈澱が生じ、均質なゲルを作製すること
ができない。塩基とフッ化水素酸を予混合することによ
りフッ化水素酸の酸性度が緩和されて、均質な湿潤ゲル
が得られる。
酸を単独で使用してシリコンエトキシドと混合すると局
部的なゲル化、沈澱が生じ、均質なゲルを作製すること
ができない。塩基とフッ化水素酸を予混合することによ
りフッ化水素酸の酸性度が緩和されて、均質な湿潤ゲル
が得られる。
本発明においてフッ化水素酸と塩基と予混合における配
合割合のHF/塩基モル比のHFはフッ化水素酸に含有
されるHF分子を意味し、その値は、2〜5、好ましく
は、3〜4であり、同比が2より小さいと、即ち、塩基
量が多い場合は、ゲル化が速すぎてゲル合成の制御が困
難である。同比が5より大きく、HFが多過ぎる場合に
は酸性度が高い湿潤ゲルが生成し、乾燥時のゲルの収縮
、割れが問題となる。
合割合のHF/塩基モル比のHFはフッ化水素酸に含有
されるHF分子を意味し、その値は、2〜5、好ましく
は、3〜4であり、同比が2より小さいと、即ち、塩基
量が多い場合は、ゲル化が速すぎてゲル合成の制御が困
難である。同比が5より大きく、HFが多過ぎる場合に
は酸性度が高い湿潤ゲルが生成し、乾燥時のゲルの収縮
、割れが問題となる。
本発明に用いられる塩基としては、本発明の目的に反し
ない限り、特に使用できる化合物に制限はない。
ない限り、特に使用できる化合物に制限はない。
例えば、アンモニアを単独で用いるとアルコールに溶け
にくいフッ化アンモニウム塩が析出するため均質なゲル
合成が難しいので、このような塩基を単独で用いること
は本発明においては好ましくない。
にくいフッ化アンモニウム塩が析出するため均質なゲル
合成が難しいので、このような塩基を単独で用いること
は本発明においては好ましくない。
本発明に用いられる好ましい塩基としては、アミン系強
塩基、例えば、ピペリジン、ピロリジン、ピペラジン、
ピリジン、イソプロピルアミン、N−エチルーn−プロ
ピルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン
、ジエチルアミンが挙げられ、特に、ピペリジンが好ま
しい。
塩基、例えば、ピペリジン、ピロリジン、ピペラジン、
ピリジン、イソプロピルアミン、N−エチルーn−プロ
ピルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン
、ジエチルアミンが挙げられ、特に、ピペリジンが好ま
しい。
これらのアミン系強塩基は、ゲルの気孔径を大きくし、
乾燥時に割れにくいものとする効果も有する。
乾燥時に割れにくいものとする効果も有する。
これら塩基とフッ化水素酸との混合法は、特に制限はな
く、塩基は、そのままの形でも、水溶液もしくは有機溶
剤溶液、好ましくは、アルコール溶液の形で用いること
もできる。又、フッ化水素酸も同様に水、有機溶媒に希
釈して用いることもできる。
く、塩基は、そのままの形でも、水溶液もしくは有機溶
剤溶液、好ましくは、アルコール溶液の形で用いること
もできる。又、フッ化水素酸も同様に水、有機溶媒に希
釈して用いることもできる。
本発明において、予混合されたフッ化水素酸と塩基とが
添加されるシリコンアルコキシドを含む混合物は、シリ
コンアルコキシドのみ、または、シリコンアルコキシド
を主体に、シリコン以外の他の金属を含む側温加物から
構成される。
添加されるシリコンアルコキシドを含む混合物は、シリ
コンアルコキシドのみ、または、シリコンアルコキシド
を主体に、シリコン以外の他の金属を含む側温加物から
構成される。
本発明において、シリコンアルコキシドとしては、式s
r (OR) 4 (Rは、メチノペエチル、プロピ
ル、ブチル等を表す)で表される化合物、およびこれら
の部分加水分解生成多量体が挙げられる。
r (OR) 4 (Rは、メチノペエチル、プロピ
ル、ブチル等を表す)で表される化合物、およびこれら
の部分加水分解生成多量体が挙げられる。
本発明においては、前言己シリコンアルコキシド単量体
のみを使用することも可能であるが、気孔径の大きなゲ
ルの形成、乾燥割れの抑制、高純度ガラス化の観点から
、使用するシリコンアルコキシドのうちの30モル%以
上、より好ましくは、50モル%以上が平均重合度3以
上の多量体から構成されていることが好ましい(ここで
言うシリコンアルコキシドとは、前記シリコンアルコキ
シド単量体に換算した場合を意味し、多量体とは前記部
分加水分解生成多量体を意味する)。
のみを使用することも可能であるが、気孔径の大きなゲ
ルの形成、乾燥割れの抑制、高純度ガラス化の観点から
、使用するシリコンアルコキシドのうちの30モル%以
上、より好ましくは、50モル%以上が平均重合度3以
上の多量体から構成されていることが好ましい(ここで
言うシリコンアルコキシドとは、前記シリコンアルコキ
シド単量体に換算した場合を意味し、多量体とは前記部
分加水分解生成多量体を意味する)。
本発明に使用される該側温加物としては、他の元素のア
ルコキシド、例示すれば、トリエトキシボラン[B (
OC2H5) 3]等のアルコキシド、金属塩、金属単
体、例えば、Na、 Mg、 Ba、 Sr等のアルカ
リ、アルカリ土類金属等、その他、ホウ酸(83803
)等のB含有化合物を挙げることができる。
ルコキシド、例示すれば、トリエトキシボラン[B (
OC2H5) 3]等のアルコキシド、金属塩、金属単
体、例えば、Na、 Mg、 Ba、 Sr等のアルカ
リ、アルカリ土類金属等、その他、ホウ酸(83803
)等のB含有化合物を挙げることができる。
本発明においてゲル形成のための加水分解に用いられる
水の量は、シリコンアルコキシド等の加水分解可能な化
合物の種類によって異なるが、通常、それら化合物の加
水分解可能な基に対して0゜2〜5倍モル、好ましくは
、0.5〜1.5倍モルの範囲である。この場合の水の
量は、フッ化水素酸等の水の量も含めたものである。
水の量は、シリコンアルコキシド等の加水分解可能な化
合物の種類によって異なるが、通常、それら化合物の加
水分解可能な基に対して0゜2〜5倍モル、好ましくは
、0.5〜1.5倍モルの範囲である。この場合の水の
量は、フッ化水素酸等の水の量も含めたものである。
本発明において形成されたゲルの乾燥法にも特に制限は
なく、従来公知の方法が適用できる。
なく、従来公知の方法が適用できる。
具体的には、常温常圧乾燥、超臨界乾燥等が例示される
。
。
該超臨界乾燥には以下の2種が挙げられる。
■ ゲル溶媒(例えば、アルコール)そのものの超臨界
乾燥条件下で乾燥 エタノールの場合;243℃以上、64気圧以上 メタノールの場合;240℃以上、81気圧以上 ■ CO2−ゲル溶媒混合系の超臨界乾燥条件下で乾燥 CO2−エタノール混合系の場合;31℃以上、180
気圧以上 〔作用〕 本発明は、安価なフッ化水素酸をF源として用い、これ
を塩基、好ましくは、アミン系強塩基、より好ましくは
ピペリジンと所定量予め混合してシリコンアルコキシド
を含む混合物に加え、これを加水分解して得られたゲル
は、フッ化水素酸とアミン系強塩基の組合せに起因する
、Fの存在により強固なシリカ骨格構造が形成され、か
つ強塩基の存在によりゲルの収縮、緻密化が抑制される
ため比較的大きな気孔径と低比表面積を有するので、乾
燥割れを防止しかつ容易に乾燥、焼成でき、しかもFが
多量かつ均一にドープされた高純度のシリカ系ガラスを
製造できる。
乾燥条件下で乾燥 エタノールの場合;243℃以上、64気圧以上 メタノールの場合;240℃以上、81気圧以上 ■ CO2−ゲル溶媒混合系の超臨界乾燥条件下で乾燥 CO2−エタノール混合系の場合;31℃以上、180
気圧以上 〔作用〕 本発明は、安価なフッ化水素酸をF源として用い、これ
を塩基、好ましくは、アミン系強塩基、より好ましくは
ピペリジンと所定量予め混合してシリコンアルコキシド
を含む混合物に加え、これを加水分解して得られたゲル
は、フッ化水素酸とアミン系強塩基の組合せに起因する
、Fの存在により強固なシリカ骨格構造が形成され、か
つ強塩基の存在によりゲルの収縮、緻密化が抑制される
ため比較的大きな気孔径と低比表面積を有するので、乾
燥割れを防止しかつ容易に乾燥、焼成でき、しかもFが
多量かつ均一にドープされた高純度のシリカ系ガラスを
製造できる。
以下、本発明の具体的実施例を説明するが、本発明はこ
れにより限定されるものでない。
れにより限定されるものでない。
(実施例1)
47重量%のHFを含有するフッ化水素酸2゜3g(H
Fで0.053モル)とピペリジン1g(0,012モ
ル)をエタノール19g1水6gの混合液に添加し、水
冷下で攪拌、混合して均一な溶液とした。これにシリコ
ンエトキシドの平均5量体オリゴマー(S 102換算
SlO□含有量40%)を21g添加し、常温下で攪拌
、混合した後、内径36111111のポリプロピレン
製の円筒容器に鋳込み、自然放置によりゲル化させた。
Fで0.053モル)とピペリジン1g(0,012モ
ル)をエタノール19g1水6gの混合液に添加し、水
冷下で攪拌、混合して均一な溶液とした。これにシリコ
ンエトキシドの平均5量体オリゴマー(S 102換算
SlO□含有量40%)を21g添加し、常温下で攪拌
、混合した後、内径36111111のポリプロピレン
製の円筒容器に鋳込み、自然放置によりゲル化させた。
この湿潤ゲルを常温および加熱下で徐々に乾燥して25
闘φ×36mmhの一体化した乾燥ゲルを得た。この乾
燥ゲルは108rn”/gと極めて低い比表面積を有し
ていた。
闘φ×36mmhの一体化した乾燥ゲルを得た。この乾
燥ゲルは108rn”/gと極めて低い比表面積を有し
ていた。
これを800℃まで酸素雰囲気中で加熱し、残存有機物
を十分燃焼除去した後、ヘリウム雰囲気中で1250℃
まで加熱することにより14mmφ×22mmhの緻密
な透明ガラス体を得た。化学分析の結果、このガラスは
Fを2重量%含有するシリカ−F系ガラスであった。
を十分燃焼除去した後、ヘリウム雰囲気中で1250℃
まで加熱することにより14mmφ×22mmhの緻密
な透明ガラス体を得た。化学分析の結果、このガラスは
Fを2重量%含有するシリカ−F系ガラスであった。
(実施例2)
47重量%のHFを含有するフッ化水素酸23g (H
Fで0.53モル)とピペリジン12g(0,14モル
)をエタノール190g、水60gの混合液に添加し、
水冷下で攪拌、混合して均一な溶液とした。これにシリ
コンエトキシドの平均3.5量体オリゴマー(Sin□
換算SiO□含有量38%)を220g添加し、常温下
で攪拌、混合した後、中央に直径10mmのテフロンロ
ッドを垂直に固定した内径5Qrnmのポリプロピレン
製の円筒容器に鋳込み、自然放置によりゲル化させ、こ
のテフロンロッドを引き抜いて中央に直径IQmmの穴
を有する5量mmφX 200mmhの円柱状ゲルを得
た。その直後にシリコンエトキシドの平均3.5量体オ
リゴマー(S10□換算5102含有量38.5%)1
8gとエタノール18gを混合し、これにpH11,7
に調整したピペリジン水溶液5.4gを加えて作製した
ゾルを前述の穴に注ぎ、常温放置によりゲル化させて中
心部がシリカ単味ゲル、外側がF含有シリカゲルで構成
される大型複合ゲルを得た。このゲルを常温および60
℃加温下で数日間熟成すると共にゲル内溶媒をエタノー
ルで置換した後、CO2超臨界抽出装置によりC02−
エタノール混合系での超臨界条件(80℃、160kg
/ crl )でゲル内溶媒を抽出除去して収縮のな
い5量mmφX 200mmhの乾燥ゲル体を得た。こ
の乾燥ゲルを800℃まで酸素雰囲気中で1300℃ま
で加熱することにより、中央部が純シリカ、外側がF含
有シリカガラスから成り、光フアイバープリフォーム等
に適用可能な中央部が高屈折率ガラス(シリカ単味)、
外側が低屈折率ガラス(F含有シリカガラス)から成る
構造の25mmφX85mmhの透明ガラスロッドを得
た。
Fで0.53モル)とピペリジン12g(0,14モル
)をエタノール190g、水60gの混合液に添加し、
水冷下で攪拌、混合して均一な溶液とした。これにシリ
コンエトキシドの平均3.5量体オリゴマー(Sin□
換算SiO□含有量38%)を220g添加し、常温下
で攪拌、混合した後、中央に直径10mmのテフロンロ
ッドを垂直に固定した内径5Qrnmのポリプロピレン
製の円筒容器に鋳込み、自然放置によりゲル化させ、こ
のテフロンロッドを引き抜いて中央に直径IQmmの穴
を有する5量mmφX 200mmhの円柱状ゲルを得
た。その直後にシリコンエトキシドの平均3.5量体オ
リゴマー(S10□換算5102含有量38.5%)1
8gとエタノール18gを混合し、これにpH11,7
に調整したピペリジン水溶液5.4gを加えて作製した
ゾルを前述の穴に注ぎ、常温放置によりゲル化させて中
心部がシリカ単味ゲル、外側がF含有シリカゲルで構成
される大型複合ゲルを得た。このゲルを常温および60
℃加温下で数日間熟成すると共にゲル内溶媒をエタノー
ルで置換した後、CO2超臨界抽出装置によりC02−
エタノール混合系での超臨界条件(80℃、160kg
/ crl )でゲル内溶媒を抽出除去して収縮のな
い5量mmφX 200mmhの乾燥ゲル体を得た。こ
の乾燥ゲルを800℃まで酸素雰囲気中で1300℃ま
で加熱することにより、中央部が純シリカ、外側がF含
有シリカガラスから成り、光フアイバープリフォーム等
に適用可能な中央部が高屈折率ガラス(シリカ単味)、
外側が低屈折率ガラス(F含有シリカガラス)から成る
構造の25mmφX85mmhの透明ガラスロッドを得
た。
本発明は、F源としてフッ化水素酸を使用するので高価
なトリエトキシフルオロシランC3i([]C2H3)
、F 〕、四フッ化珪素(SIF4)等を用いる必要が
ないので、低コストが可能で、且つ塩基と予混合した混
合物を使用することにより、Fのドープ量を増大すると
共に均一に分散せしめ、かつゲル乾燥時に割れを防止し
、焼成することにより高純度のシリカ系ガラスを製造す
ることができる。
なトリエトキシフルオロシランC3i([]C2H3)
、F 〕、四フッ化珪素(SIF4)等を用いる必要が
ないので、低コストが可能で、且つ塩基と予混合した混
合物を使用することにより、Fのドープ量を増大すると
共に均一に分散せしめ、かつゲル乾燥時に割れを防止し
、焼成することにより高純度のシリカ系ガラスを製造す
ることができる。
(はρ)J名ノ
Claims (3)
- (1)シリコンアルコキシドを含む混合物を加水分解し
てゲルを作製し、これを乾燥、焼成してシリカ系ガラス
を製造する方法において、フッ化水素酸をHF/塩基モ
ル比で2〜5の比率で塩基と予混合してシリコンアルコ
キシドを含む混合物に添加した後、これを加水分解、ゲ
ル化せしめることを特徴とするシリカ系ガラスの製造方
法。 - (2)フッ化水素酸と混合する塩基がピペリジン、ピロ
リジン、ピペラジン、ピリジン、イソプロピルアミン、
N−エチル−n−プロピルアミン、n−プロピルアミン
、イソプロピルアミン、ジエチルアミンからなる群から
選択されるアミン系強塩基であることを特徴とする請求
項1記載のシリカ系ガラスの製造方法。 - (3)使用するシリコンアルコキシドのうちの30モル
%以上が平均重合度3以上の多量体から成ることを特徴
とする請求項1または2記載のシリカ系ガラスの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12004490A JPH0686299B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12004490A JPH0686299B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0416519A true JPH0416519A (ja) | 1992-01-21 |
JPH0686299B2 JPH0686299B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=14776510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12004490A Expired - Lifetime JPH0686299B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | シリカ系ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0686299B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100383590B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2003-05-14 | 삼성전자주식회사 | 압출을 이용한 플루오린이 도핑된 실리카 글래스 제조 방법 |
JP2012056787A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Murata Mfg Co Ltd | 乾燥ゲルの製造方法とシリカガラスの製造方法 |
KR20130111233A (ko) | 2010-05-28 | 2013-10-10 | 닛폰 스이산 가부시키가이샤 | 리파아제에 의한 고도 불포화 지방산 함유 유지의 제조 방법 |
US9029584B2 (en) | 2011-03-03 | 2015-05-12 | Nippon Suisan Kaisha, Ltd. | Method for producing oil containing highly unsaturated fatty acid using lipase |
-
1990
- 1990-05-11 JP JP12004490A patent/JPH0686299B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100383590B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2003-05-14 | 삼성전자주식회사 | 압출을 이용한 플루오린이 도핑된 실리카 글래스 제조 방법 |
KR20130111233A (ko) | 2010-05-28 | 2013-10-10 | 닛폰 스이산 가부시키가이샤 | 리파아제에 의한 고도 불포화 지방산 함유 유지의 제조 방법 |
US10138502B2 (en) | 2010-05-28 | 2018-11-27 | Nippon Suisan Kaisha, Ltd. | Method for producing oil containing polyunsaturated fatty acid using lipase |
JP2012056787A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Murata Mfg Co Ltd | 乾燥ゲルの製造方法とシリカガラスの製造方法 |
US9029584B2 (en) | 2011-03-03 | 2015-05-12 | Nippon Suisan Kaisha, Ltd. | Method for producing oil containing highly unsaturated fatty acid using lipase |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0686299B2 (ja) | 1994-11-02 |
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