JPH04157185A - 自動液管理装置 - Google Patents
自動液管理装置Info
- Publication number
- JPH04157185A JPH04157185A JP28161590A JP28161590A JPH04157185A JP H04157185 A JPH04157185 A JP H04157185A JP 28161590 A JP28161590 A JP 28161590A JP 28161590 A JP28161590 A JP 28161590A JP H04157185 A JPH04157185 A JP H04157185A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solenoid valve
- way solenoid
- flow path
- processing liquid
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 105
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000004448 titration Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 39
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 7
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 43
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 27
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 13
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 12
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- COQLPRJCUIATTQ-UHFFFAOYSA-N Uranyl acetate Chemical compound O.O.O=[U]=O.CC(O)=O.CC(O)=O COQLPRJCUIATTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- RRKTZKIUPZVBMF-IBTVXLQLSA-N brucine Chemical compound O([C@@H]1[C@H]([C@H]2C3)[C@@H]4N(C(C1)=O)C=1C=C(C(=CC=11)OC)OC)CC=C2CN2[C@@H]3[C@]41CC2 RRKTZKIUPZVBMF-IBTVXLQLSA-N 0.000 description 2
- RRKTZKIUPZVBMF-UHFFFAOYSA-N brucine Natural products C1=2C=C(OC)C(OC)=CC=2N(C(C2)=O)C3C(C4C5)C2OCC=C4CN2C5C31CC2 RRKTZKIUPZVBMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- VXAPDXVBDZRZKP-UHFFFAOYSA-N nitric acid phosphoric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O.OP(O)(O)=O VXAPDXVBDZRZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000011481 absorbance measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- USJAWXXGHOVHNK-UHFFFAOYSA-N nitric acid phosphoric acid Chemical compound [N+](=O)(O)[O-].P(=O)(O)(O)O.P(O)(O)(O)=O USJAWXXGHOVHNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は、半導体製造工程で用いられるウェハ用エツ
チング液の管理゛に好適な自動液管理装置に関する。
チング液の管理゛に好適な自動液管理装置に関する。
「従来の技術」
従来より、例えば半導体の製造工程等で用いられる剥離
液(処理液)は、種々な方法で分析、管理され、さらに
省人化および品質管理の向上を目的として、上記分析、
管理の自動化が行われてきた。
液(処理液)は、種々な方法で分析、管理され、さらに
省人化および品質管理の向上を目的として、上記分析、
管理の自動化が行われてきた。
この種の自動液管理装置として例えば本発明者が先に提
案した装置(特願平2−38713号)では、硫酸と過
酸化水素水とが混合された剥離液をポンプ等を用いたオ
ンラインでサンプリングし、その後、このサンプリング
した剥離液を吸光度計で測定してその劣化度を管理する
とともに、この剥離液を分析機器内の反応セル内に供給
し、この反応セル内において酸化還元電位電極による電
位差滴定分析を行ない、剥離液中の有効成分の濃度を検
出している。
案した装置(特願平2−38713号)では、硫酸と過
酸化水素水とが混合された剥離液をポンプ等を用いたオ
ンラインでサンプリングし、その後、このサンプリング
した剥離液を吸光度計で測定してその劣化度を管理する
とともに、この剥離液を分析機器内の反応セル内に供給
し、この反応セル内において酸化還元電位電極による電
位差滴定分析を行ない、剥離液中の有効成分の濃度を検
出している。
そして、このような分析では、制御部内に設けられたコ
ンピュータにより、ポンプ、バルブなどの機器の動作を
制御するとともに、上記反応セル内に滴定した試薬の滴
下量に基づき、処理液中の硫酸濃度、過酸化水素濃度を
算出し、その算出結果をCRTあるいはプリンタに出力
していた。
ンピュータにより、ポンプ、バルブなどの機器の動作を
制御するとともに、上記反応セル内に滴定した試薬の滴
下量に基づき、処理液中の硫酸濃度、過酸化水素濃度を
算出し、その算出結果をCRTあるいはプリンタに出力
していた。
ところで、上記の自動液管理装置にあっては、主に硫酸
と過酸化水素水とが混合されてなる剥離液を分析の対象
としているため、他の処理液、例えばリン酸(83P
O4)−酢酸(CH,COOH)−硝酸(HN O3)
系のウェハ用エツチング液の分析(管理)には適用でき
ない。したがって、従来、半導体製造工程で用いられる
エツチング液の管理については、単に処理量や処理時間
によって経験的に行っているのが実状である。
と過酸化水素水とが混合されてなる剥離液を分析の対象
としているため、他の処理液、例えばリン酸(83P
O4)−酢酸(CH,COOH)−硝酸(HN O3)
系のウェハ用エツチング液の分析(管理)には適用でき
ない。したがって、従来、半導体製造工程で用いられる
エツチング液の管理については、単に処理量や処理時間
によって経験的に行っているのが実状である。
「発明が解決しようとする課題」
しかしながら、このようにエツチング液の管理を経験的
に行っていたのでは、処理液の濃度、すなわちその活性
が不測に変化した場合にその変化に迅速に対応すること
ができず、そのためエツチングしたウェハのエツチング
レートを最終工程で検査することによって初めて処理液
の濃度変化が確認されることとなり、その間の品質管理
が十分行えないといった不都合がある。
に行っていたのでは、処理液の濃度、すなわちその活性
が不測に変化した場合にその変化に迅速に対応すること
ができず、そのためエツチングしたウェハのエツチング
レートを最終工程で検査することによって初めて処理液
の濃度変化が確認されることとなり、その間の品質管理
が十分行えないといった不都合がある。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、エツチング液の管理を行うことのでき
る自動液管理装置を提供することにある。
とするところは、エツチング液の管理を行うことのでき
る自動液管理装置を提供することにある。
「課題を解決するための手段]
この発明の自動液管理装置では、処理液を供給する液供
給手段と、供給された処理液をサンプリングするサンプ
リング手段と、サンプリングされた処理液の流路を少な
くとも二方に切り換える流路切換手段と、上記流路のう
ち一方には滴定分析による濃度検知手段を、他方には光
吸収分析による濃度検知手段をそれぞれ設け、これら各
手段を制御する制御手段とを具備してなることを上記課
題の解決手段とした。
給手段と、供給された処理液をサンプリングするサンプ
リング手段と、サンプリングされた処理液の流路を少な
くとも二方に切り換える流路切換手段と、上記流路のう
ち一方には滴定分析による濃度検知手段を、他方には光
吸収分析による濃度検知手段をそれぞれ設け、これら各
手段を制御する制御手段とを具備してなることを上記課
題の解決手段とした。
「作用」
この発明の自動液管理装置によれば、サンプリングされ
た処理液の流路を少なくとも二方に切り換える流路切換
手段と、上記流路のうちの−に設けられた滴定分析によ
る濃度検知手段と、上記流路のうちの他の−に設けられ
た光吸収分析による濃度検知手段とを具備したことによ
り、例えばリン酸−硝酸一昨酸系のウェハ用エツチング
液のように、その濃度が滴定分析によって容易に測定し
得るもの(酢酸)と、光吸収分析によって容易に測定し
得るもの(リン酸、硝酸)とからなる溶液に対しても、
個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定することが可能
になる。
た処理液の流路を少なくとも二方に切り換える流路切換
手段と、上記流路のうちの−に設けられた滴定分析によ
る濃度検知手段と、上記流路のうちの他の−に設けられ
た光吸収分析による濃度検知手段とを具備したことによ
り、例えばリン酸−硝酸一昨酸系のウェハ用エツチング
液のように、その濃度が滴定分析によって容易に測定し
得るもの(酢酸)と、光吸収分析によって容易に測定し
得るもの(リン酸、硝酸)とからなる溶液に対しても、
個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定することが可能
になる。
「実施例」
この発明の一実施例を第1図(A)、(B)および第2
図を参照して説明する。なお、この実施例は本発明を半
導体製造工程におけるウェハ用エツチング液の管理装置
に適用した場合の一実施例である。
図を参照して説明する。なお、この実施例は本発明を半
導体製造工程におけるウェハ用エツチング液の管理装置
に適用した場合の一実施例である。
まず、第1図(A)により自動液管理装置全体の概略構
成を説明すると、第1図(A)において符号lは図示路
の処理槽より処理液が供給される処理液供給路である。
成を説明すると、第1図(A)において符号lは図示路
の処理槽より処理液が供給される処理液供給路である。
ここで、上記処理液としては、半導体用ウェハのエツチ
ング液として、リン酸−昨酸一硝酸系の溶液が用いられ
ている。
ング液として、リン酸−昨酸一硝酸系の溶液が用いられ
ている。
この処理液供給路1にはその経路中に冷却器2、ポンプ
3、六方電磁弁4が順次配設されている。
3、六方電磁弁4が順次配設されている。
六方電磁弁4は、その一つの口4aを上記処理液供給路
1の下流に接続したもので、第1図中実線で示す経路A
と破線で示す経路Bとを自動的に切り換えるものであり
、通常は経路Aを採るように設定されたしのである。ま
た、この六方電磁弁4の口4bと口4eとには、これら
を連結するサンプリング配管5が配設されており、また
口4Cには、サンプリング配管5内の試料(処理液)を
送り出すために、例えば純水を圧送するためのポンプ6
を経路中に配した圧送路7が接続されている。
1の下流に接続したもので、第1図中実線で示す経路A
と破線で示す経路Bとを自動的に切り換えるものであり
、通常は経路Aを採るように設定されたしのである。ま
た、この六方電磁弁4の口4bと口4eとには、これら
を連結するサンプリング配管5が配設されており、また
口4Cには、サンプリング配管5内の試料(処理液)を
送り出すために、例えば純水を圧送するためのポンプ6
を経路中に配した圧送路7が接続されている。
ここで、サンプリング配管5は、その内部に貯留する処
理液の量が予め決められた量に設定されており、定量の
ため用いられるようになっている。
理液の量が予め決められた量に設定されており、定量の
ため用いられるようになっている。
さらに、この六方電磁弁4の口4dには流路9か、また
口4fには二方電磁弁10に連結する流路11がそれぞ
れ接続されている。二方電磁弁10には流路12と流路
13とが接続されており、流路I2には二方電磁弁14
が、また流路13には二方電磁弁15がそれぞれ配設さ
れている。
口4fには二方電磁弁10に連結する流路11がそれぞ
れ接続されている。二方電磁弁10には流路12と流路
13とが接続されており、流路I2には二方電磁弁14
が、また流路13には二方電磁弁15がそれぞれ配設さ
れている。
二方電磁弁14には、処理槽(図示路)につながる返送
路16とドレン槽17につながるドレン路18とが接続
されており、このような構成のもとに六方電磁弁4から
導出される処理液は、六方電磁弁4が経路Aを採り、か
つ二方電磁弁1oが流路12側に通じた場合に、処理槽
に返送され、あるいはドレン槽17に導かれるようにな
っている。
路16とドレン槽17につながるドレン路18とが接続
されており、このような構成のもとに六方電磁弁4から
導出される処理液は、六方電磁弁4が経路Aを採り、か
つ二方電磁弁1oが流路12側に通じた場合に、処理槽
に返送され、あるいはドレン槽17に導かれるようにな
っている。
二方電磁弁15には流路19と流路20とが接続されて
おり、これら流路19.20にはそれぞれ反応セル21
.22が配設されている。反応セル21には試薬供給管
23か、また反応セル22には試薬供給管24がそれぞ
れの一端を反応セル内部に臨ませて配設されている。こ
れら試薬供給管23.24は、それぞれその管路中にポ
ンプ25.26を配設したもので、その端部側に配設さ
れた試薬瓶21.28からポンプ25.26によって試
薬を上記反応セル21あるいは反応セル22内に一定量
供給するものである。なおこの例では、反応セル21は
リン酸の分析用とされ、反応セル22は硝酸の分析用と
されている。そして、これら反応セル21.22に対応
して、試薬瓶27内には指示薬として例えば酢酸ウラニ
ル標準液が、また試薬瓶28には指示薬として例えばブ
ルシン標準液がそれぞれ収容されている。
おり、これら流路19.20にはそれぞれ反応セル21
.22が配設されている。反応セル21には試薬供給管
23か、また反応セル22には試薬供給管24がそれぞ
れの一端を反応セル内部に臨ませて配設されている。こ
れら試薬供給管23.24は、それぞれその管路中にポ
ンプ25.26を配設したもので、その端部側に配設さ
れた試薬瓶21.28からポンプ25.26によって試
薬を上記反応セル21あるいは反応セル22内に一定量
供給するものである。なおこの例では、反応セル21は
リン酸の分析用とされ、反応セル22は硝酸の分析用と
されている。そして、これら反応セル21.22に対応
して、試薬瓶27内には指示薬として例えば酢酸ウラニ
ル標準液が、また試薬瓶28には指示薬として例えばブ
ルシン標準液がそれぞれ収容されている。
また、反応セル21.22にはその底部にそれぞれ導出
管29.30か設けられており、これら導出管29゜3
0は二方電磁弁31で合流して分析路32に接続される
。分析路32には、二方電磁弁31側よりポンプ33、
吸光度計34か順次配設されており、さらにこの分析路
32はその下流側が上記ドレン槽17に導かれている。
管29.30か設けられており、これら導出管29゜3
0は二方電磁弁31で合流して分析路32に接続される
。分析路32には、二方電磁弁31側よりポンプ33、
吸光度計34か順次配設されており、さらにこの分析路
32はその下流側が上記ドレン槽17に導かれている。
また、六方電磁弁4の口4dに接続された流路9には反
応セル35が配設されており、反応セル35内にはOR
P電極36(酸化還元電位電極)が設けられている。0
RPI極36は、反応セル35内にサンプリングされた
処理液の有効成分量を、滴定による電位変化から求める
滴定分析用のセンサである。
応セル35が配設されており、反応セル35内にはOR
P電極36(酸化還元電位電極)が設けられている。0
RPI極36は、反応セル35内にサンプリングされた
処理液の有効成分量を、滴定による電位変化から求める
滴定分析用のセンサである。
反応セル35には、試薬供給管37がその一端を反応セ
ル35内部に臨ませて配設されている。この試薬供給管
37は、その管路中に滴定ポンプ38を配設したもので
、その端部側に配設された試薬瓶39から上記滴定ポン
プ38によって試薬を反応セル35内に一定量供給する
ものである。なおこの例では、反応セル35は酢酸の分
析用とされている。そして、この反応セル35に対応し
て、試薬瓶39内には滴定試薬として例えば水酸化ナト
リウム標準液が収容されている。
ル35内部に臨ませて配設されている。この試薬供給管
37は、その管路中に滴定ポンプ38を配設したもので
、その端部側に配設された試薬瓶39から上記滴定ポン
プ38によって試薬を反応セル35内に一定量供給する
ものである。なおこの例では、反応セル35は酢酸の分
析用とされている。そして、この反応セル35に対応し
て、試薬瓶39内には滴定試薬として例えば水酸化ナト
リウム標準液が収容されている。
また、反応セル35の底部には排出路40が接続されて
おり、この排出路40は上記分析路32の吸光度計34
より下流側に合流したものとなっている。また、この排
出路40の経路中には電磁弁41とポンプ42とが順次
配設されており、これによって反応セル35内の滴定後
の試料はドレン槽17へ強制的に排出されるようになっ
ている。
おり、この排出路40は上記分析路32の吸光度計34
より下流側に合流したものとなっている。また、この排
出路40の経路中には電磁弁41とポンプ42とが順次
配設されており、これによって反応セル35内の滴定後
の試料はドレン槽17へ強制的に排出されるようになっ
ている。
このような構成の自動液管理装置にあっては、通常は六
方電磁弁4を経路Aにすることにより、処理液をサンプ
リング配管5および流路11、二方電磁弁10、流路1
2を経て処理槽(図示略)に戻し、あるいはドレン路1
8を通じてドレン槽17に導く。
方電磁弁4を経路Aにすることにより、処理液をサンプ
リング配管5および流路11、二方電磁弁10、流路1
2を経て処理槽(図示略)に戻し、あるいはドレン路1
8を通じてドレン槽17に導く。
また、処理液中のリン酸および硝酸の濃度を測定する場
合には、経路Aの状態のままで二方電磁弁10を切り換
えて、サンプリング配管5内に残存する処理液をポンプ
3によって処理槽からの処理液を圧送することにより、
あるいは圧送路7より純水を送り出すことにより押し出
して流路13に導く。そして、二方電磁弁15を適宜切
り換えることによって反応セル21.22にそれぞれ一
定量の処理液を導く。ここで、反応セル21においては
試薬瓶27より一定量の指示薬が、また反応セル22に
おいては試薬瓶28より一定量の指示薬がそれぞれポン
プ25.26によって添加される。そして、添加された
指示薬は反応セル21.22内に設けられた図示略の攪
拌子によって攪拌されることにより、処理液と反応して
これと均一に混合される。さらに、指示薬が添加された
反応セル21.22内の処理液は、二方電磁弁31によ
ってそれぞれ別に吸光度計34に送出され、個々にその
吸光度が測定されることによって処理液中のリン酸およ
び硝酸の濃度がそれぞれ測定される。
合には、経路Aの状態のままで二方電磁弁10を切り換
えて、サンプリング配管5内に残存する処理液をポンプ
3によって処理槽からの処理液を圧送することにより、
あるいは圧送路7より純水を送り出すことにより押し出
して流路13に導く。そして、二方電磁弁15を適宜切
り換えることによって反応セル21.22にそれぞれ一
定量の処理液を導く。ここで、反応セル21においては
試薬瓶27より一定量の指示薬が、また反応セル22に
おいては試薬瓶28より一定量の指示薬がそれぞれポン
プ25.26によって添加される。そして、添加された
指示薬は反応セル21.22内に設けられた図示略の攪
拌子によって攪拌されることにより、処理液と反応して
これと均一に混合される。さらに、指示薬が添加された
反応セル21.22内の処理液は、二方電磁弁31によ
ってそれぞれ別に吸光度計34に送出され、個々にその
吸光度が測定されることによって処理液中のリン酸およ
び硝酸の濃度がそれぞれ測定される。
また、処理液中の酢酸の濃度を測定する場合には、六方
電磁弁を経路Bに切り換えて、サンプリング配管5内に
残存する処理液を、圧送路7より純水を送り出すことに
よって押し出し、流路9を介して反応セル35に導く。
電磁弁を経路Bに切り換えて、サンプリング配管5内に
残存する処理液を、圧送路7より純水を送り出すことに
よって押し出し、流路9を介して反応セル35に導く。
そして、滴定ポンプ38によって試薬瓶39より標準試
薬を滴下注入し、ORP電極36によって処理液の濃度
を測定する。ここで、ORP電極36による濃度測定は
、滴定により酸化還元電位が急激に変化した点を終点と
し、この終点までの試薬の滴下量から処理液中の酢酸濃
度を算出することによって行う。さらに、このような測
定か終了した後、電磁弁41を開きポンプ42を駆動さ
せることにより、測定後の処理液をドレン槽17に導出
する。
薬を滴下注入し、ORP電極36によって処理液の濃度
を測定する。ここで、ORP電極36による濃度測定は
、滴定により酸化還元電位が急激に変化した点を終点と
し、この終点までの試薬の滴下量から処理液中の酢酸濃
度を算出することによって行う。さらに、このような測
定か終了した後、電磁弁41を開きポンプ42を駆動さ
せることにより、測定後の処理液をドレン槽17に導出
する。
なお、この自動液管理装置においては、処理液供給路l
およびポンプ3から液供給手段が構成され、六方電磁弁
4、サンプリング配管5、ポンプ6、圧送路7、流路9
、二方電磁弁10、流路13、二方電磁弁15、流路1
9,20からサンプリング手段が構成され、さらに六方
電磁弁4によって流路切、 楔手段が構成されている
。また、反応セル35、ORP電極36、流路37、滴
定ポンプ38、試薬瓶39から滴定分析による濃度検知
手段が構成され、反応セル21,22、流路23,24
、ポンプ25.26、試薬瓶27゜28、吸光度計34
から光吸収分析による濃度検知手段が構成されている。
およびポンプ3から液供給手段が構成され、六方電磁弁
4、サンプリング配管5、ポンプ6、圧送路7、流路9
、二方電磁弁10、流路13、二方電磁弁15、流路1
9,20からサンプリング手段が構成され、さらに六方
電磁弁4によって流路切、 楔手段が構成されている
。また、反応セル35、ORP電極36、流路37、滴
定ポンプ38、試薬瓶39から滴定分析による濃度検知
手段が構成され、反応セル21,22、流路23,24
、ポンプ25.26、試薬瓶27゜28、吸光度計34
から光吸収分析による濃度検知手段が構成されている。
また、第1図(B)において符号100で示すものは制
御手段であって、この制御手段100には、キーボード
等の人力手段101と、装置の運転状況、処理状況等を
CRT表示する出力手段■02(例えば、第1図(A)
と同様の系統図が記され、各構成要素に対応する箇所に
ランプなどがある表示パネル)が設けられている。
御手段であって、この制御手段100には、キーボード
等の人力手段101と、装置の運転状況、処理状況等を
CRT表示する出力手段■02(例えば、第1図(A)
と同様の系統図が記され、各構成要素に対応する箇所に
ランプなどがある表示パネル)が設けられている。
上記制御手段100は、入力手段101の入力データに
基づき、以下の処理手段(P)を制御し、かつこの処理
手段(P)の制御結果に基づき、およびこの処理手段(
P)を制御することによって得られた検出手段(Q)の
検出データに基づき、上記表示パネル102に運転状況
および処理状況を表示させるようになっている。
基づき、以下の処理手段(P)を制御し、かつこの処理
手段(P)の制御結果に基づき、およびこの処理手段(
P)を制御することによって得られた検出手段(Q)の
検出データに基づき、上記表示パネル102に運転状況
および処理状況を表示させるようになっている。
なお、上記処理手段(P)としては、冷却器2、六方電
磁弁4、二方電磁弁10.15.3Lポンプ25.2B
、滴定ポンプ38、電磁弁42などがあり、また上記検
出手段(Q)としては吸光度計34、ORP電極36が
ある。
磁弁4、二方電磁弁10.15.3Lポンプ25.2B
、滴定ポンプ38、電磁弁42などがあり、また上記検
出手段(Q)としては吸光度計34、ORP電極36が
ある。
次に、制御手段lOOに記憶されている自動液管理装置
の制御内容について第2図を参照して説明する。
の制御内容について第2図を参照して説明する。
第2図はこの自動液管理装置のフローを説明するための
図で。なお、明細書中の「ステップA −nJは第2図
中のrSPA−nJに対応する。
図で。なお、明細書中の「ステップA −nJは第2図
中のrSPA−nJに対応する。
くステップA−1>
入力手段lotにより、処理液中の各成分の分析間隔や
、運転を自動で行うか手動で行うかなどを設定する。
、運転を自動で行うか手動で行うかなどを設定する。
くステップA−2〉
六方電磁弁4を第1図(A)中の実線で示す経路Aに設
定し、かつポンプ6を駆動させて、圧送路7から純水を
反応セル35内に供給し、その内部を洗浄する。
定し、かつポンプ6を駆動させて、圧送路7から純水を
反応セル35内に供給し、その内部を洗浄する。
また、六方電磁弁4を経路Bに切り換えて純水をサンプ
リング配管5内に充填した後、再度経路Aに切り換え、
さらに二方電磁弁lOを切り換えて流路13に通じるよ
うにすることにより、反応セル21.22も同様に洗浄
する。
リング配管5内に充填した後、再度経路Aに切り換え、
さらに二方電磁弁lOを切り換えて流路13に通じるよ
うにすることにより、反応セル21.22も同様に洗浄
する。
くステップA−3〉
電磁弁41を開状態に設定しかつポンプ42を駆動して
、上記反応セル35内の洗浄液を分析路32を介してド
レン槽17に排出する。また、二方電磁弁31を適宜切
り換え、かつポンプ33を駆動させることにより、反応
セル21.22内の洗浄液の排出も行う。
、上記反応セル35内の洗浄液を分析路32を介してド
レン槽17に排出する。また、二方電磁弁31を適宜切
り換え、かつポンプ33を駆動させることにより、反応
セル21.22内の洗浄液の排出も行う。
くステップA−4〉
入力手段101により、処理液中の酢酸成分の分析を行
うか否かを設定し、YESならステップA−5へ、NO
ならステップA−10へ進む。
うか否かを設定し、YESならステップA−5へ、NO
ならステップA−10へ進む。
〈ステップA−5〉
六方電磁弁4を経路Aの状態にし、サンプリング配管5
内に処理液を流通させた後六方電磁弁を経路Bに切り換
え、サンプリング配管5内に残存する処理液を、圧送路
7より純水を送り出すことによって押し出し、流路9を
介して反応セル357こ導く。
内に処理液を流通させた後六方電磁弁を経路Bに切り換
え、サンプリング配管5内に残存する処理液を、圧送路
7より純水を送り出すことによって押し出し、流路9を
介して反応セル357こ導く。
くステップA−6〉
滴定ポンプ38によって試薬瓶39より標準試薬を滴下
注入し、ORP電極36によって処理液の濃度を測定し
、その結果を上記表示パネル102により出力(表示)
する。
注入し、ORP電極36によって処理液の濃度を測定し
、その結果を上記表示パネル102により出力(表示)
する。
くステップA−7〉
電磁弁41を開きポンプ42を駆動させることにより、
測定後の処理液をドレン槽17に排出する。
測定後の処理液をドレン槽17に排出する。
〈ステップA−8〉
ステップA−2と同様にして反応セル35内を洗浄する
。
。
〈ステップA−9〉
ステップA−7と同様にして反応セル35内の液を排出
する。
する。
〈ステップA−10>
六方電磁弁4を経路Aの状態にし、サンプリング配管5
内に処理液を流通させ、さらにこのサンプリング配管5
内に満たされた所定量の処理液を流路11、二方電磁弁
lOを介して流路13に導く。
内に処理液を流通させ、さらにこのサンプリング配管5
内に満たされた所定量の処理液を流路11、二方電磁弁
lOを介して流路13に導く。
くステップA−11>
ステップA−10にて流路13に導かれたサンプリング
試料(処理液)を、二方電磁弁15を適宜切り換えるこ
とによって反応セル21.22にそれぞれ供給する。そ
して、ポンプ25.26をそれぞれ駆動させることによ
って試薬瓶27.28内の指示薬を所定量反応セル21
.22内に添加し、均一に混合する。さらに、二方電磁
弁31を適宜切り換え、かつポンプ33を駆動させるこ
とによって反応セル21.22内の処理液をそれぞれ別
個に吸光度計34に導き、それぞれの吸光度を測定する
ことによってこれら吸光度からリン酸濃度および硝酸濃
度を算出し、処理液中のリン酸および硝酸の濃度を検出
してその結果を上記表示パネル102に出力(表示)す
る。
試料(処理液)を、二方電磁弁15を適宜切り換えるこ
とによって反応セル21.22にそれぞれ供給する。そ
して、ポンプ25.26をそれぞれ駆動させることによ
って試薬瓶27.28内の指示薬を所定量反応セル21
.22内に添加し、均一に混合する。さらに、二方電磁
弁31を適宜切り換え、かつポンプ33を駆動させるこ
とによって反応セル21.22内の処理液をそれぞれ別
個に吸光度計34に導き、それぞれの吸光度を測定する
ことによってこれら吸光度からリン酸濃度および硝酸濃
度を算出し、処理液中のリン酸および硝酸の濃度を検出
してその結果を上記表示パネル102に出力(表示)す
る。
〈ステップA−12>
ポンプ33を駆動させ、吸光度計34内の測定後の処理
液をドレン槽17に排出する。
液をドレン槽17に排出する。
〈ステップA −13>
ステップA−2と同様にして反応セル21.22内を洗
浄する。
浄する。
〈ステップA −14>
二方電磁弁31を適宜切り換え、かつポンプ33を駆動
させることによって反応セル21.22内の液をドレン
槽17に排出する。
させることによって反応セル21.22内の液をドレン
槽17に排出する。
〈ステップA−15>
分析を停止するか否かを判断し、YESの場合には装置
を停止し、NOの場合にはステップA−16に進む。
を停止し、NOの場合にはステップA−16に進む。
くステップA −16>
分析を連続で行うか否かを判断し、YESの場合にはス
テップA−2に戻って運転を繰り返し、NOの場合には
一定時間待機した後、ステップA−2に戻って運転を繰
り返す。
テップA−2に戻って運転を繰り返し、NOの場合には
一定時間待機した後、ステップA−2に戻って運転を繰
り返す。
このような自動液管理装置にあっては、六方電磁弁4の
経路A、Bを適宜切り換えることにより、ORP電極3
6による滴定分析と吸光度計34による光吸収分析とを
行えることができるので、リン酸−硝酸一昨酸系のウェ
ハ用エツチング液のように、その濃度が滴定分析によっ
て容易に測定し得るもの(酢酸)と、光吸収分析によっ
て容易に測定し得るもの(リン酸、硝酸)とからなる溶
液に対し、個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定する
ことができる。また、反応セル21.22を設けたこと
により、処理液と指示薬とを十分均一に反応混合させる
ことかでき、よって安定した吸光度測定を行うことがで
きることから、処理液管理の信頼性を高めることができ
る。
経路A、Bを適宜切り換えることにより、ORP電極3
6による滴定分析と吸光度計34による光吸収分析とを
行えることができるので、リン酸−硝酸一昨酸系のウェ
ハ用エツチング液のように、その濃度が滴定分析によっ
て容易に測定し得るもの(酢酸)と、光吸収分析によっ
て容易に測定し得るもの(リン酸、硝酸)とからなる溶
液に対し、個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定する
ことができる。また、反応セル21.22を設けたこと
により、処理液と指示薬とを十分均一に反応混合させる
ことかでき、よって安定した吸光度測定を行うことがで
きることから、処理液管理の信頼性を高めることができ
る。
次に、第3図および第4図を参照して本発明の自動液管
理装置における他の実施例を説明する。
理装置における他の実施例を説明する。
なお、この実施例において第1図(A)に示した先の実
施例と同一の構成要素には、同一の符号を付してその説
明を省略する。
施例と同一の構成要素には、同一の符号を付してその説
明を省略する。
この実施例が先の実施例と異なるところは、二方電磁弁
10に設けられた流路13より下流側の構成である。こ
の実施例において流路13の下流側には二方電磁弁50
が配設されており、この二方電磁弁50には試薬供給管
51と流路52とが接続されている。
10に設けられた流路13より下流側の構成である。こ
の実施例において流路13の下流側には二方電磁弁50
が配設されており、この二方電磁弁50には試薬供給管
51と流路52とが接続されている。
試薬供給管51には、その管路中にポンプ53が配設さ
れ、さらにその端部側には試薬瓶27が配設されている
。
れ、さらにその端部側には試薬瓶27が配設されている
。
一方、流路52には二方電磁弁54,55.56および
吸光度計34が順次配設されている。二方電磁弁54と
二方電磁弁56との間にはバイパス57が配設され、ま
た二方電磁弁55には試薬供給管58が配設されている
。試薬供給管58には、その管路中にポンプ59が配設
され、さらにその端部側には試薬瓶28が配設されてい
る。そして、上記流路52は、その下流側がトレン槽1
7に導かれ、これにより吸光度計34によって測定され
た試料はドレン槽17に排出されるようになっている。
吸光度計34が順次配設されている。二方電磁弁54と
二方電磁弁56との間にはバイパス57が配設され、ま
た二方電磁弁55には試薬供給管58が配設されている
。試薬供給管58には、その管路中にポンプ59が配設
され、さらにその端部側には試薬瓶28が配設されてい
る。そして、上記流路52は、その下流側がトレン槽1
7に導かれ、これにより吸光度計34によって測定され
た試料はドレン槽17に排出されるようになっている。
なお、上記試薬瓶27内には、先の例と同様に指示薬と
して例えば酢酸ウラニル標準液が収容されており、また
試薬瓶28には例えばブルシン標準液が収容されている
。
して例えば酢酸ウラニル標準液が収容されており、また
試薬瓶28には例えばブルシン標準液が収容されている
。
このような自動液管理装置によって、処理液中のリン酸
および硝酸の濃度を測定する場合には、先の実施例のも
のと同様に六方電磁弁を経路Aの状態にし、かつ二方電
磁弁10を切り換えて処理液を流路13に導く。そして
、処理液中のリン酸濃度を測定する場合には、二方電磁
弁50を適宜切り換えかつポンプ53を駆動させて、流
路】3中のサンプリングした処理液中に試薬瓶27中の
指示薬を添加する。さらに、二方電磁弁54.56を切
り換えて流路52とバイパス57とを連通せしめ、これ
により指示薬を添加した処理液をバイパス57を介して
吸光度計34に導き、ここでその吸光度を測定する。ま
た、処理液中の硝酸濃度を測定する場合には、二方電磁
弁50を適宜切り換えて試薬供給管51と流路13.5
2とを遮断し、かつ二方電磁弁54.56を切り換えて
流路52とバイパス57とを遮断する。さらに、二方電
磁弁55を適宜切り換えて試薬供給路58と流路52と
を連通せしめ、かつポンプ59を駆動させて、流路52
中のサンプリングした処理液中に試薬瓶28中の指示薬
を添加する。そして、これにより指示薬を添加した処理
液を流路52によって吸光度計34に導き、ここでその
吸光度を測定する。
および硝酸の濃度を測定する場合には、先の実施例のも
のと同様に六方電磁弁を経路Aの状態にし、かつ二方電
磁弁10を切り換えて処理液を流路13に導く。そして
、処理液中のリン酸濃度を測定する場合には、二方電磁
弁50を適宜切り換えかつポンプ53を駆動させて、流
路】3中のサンプリングした処理液中に試薬瓶27中の
指示薬を添加する。さらに、二方電磁弁54.56を切
り換えて流路52とバイパス57とを連通せしめ、これ
により指示薬を添加した処理液をバイパス57を介して
吸光度計34に導き、ここでその吸光度を測定する。ま
た、処理液中の硝酸濃度を測定する場合には、二方電磁
弁50を適宜切り換えて試薬供給管51と流路13.5
2とを遮断し、かつ二方電磁弁54.56を切り換えて
流路52とバイパス57とを遮断する。さらに、二方電
磁弁55を適宜切り換えて試薬供給路58と流路52と
を連通せしめ、かつポンプ59を駆動させて、流路52
中のサンプリングした処理液中に試薬瓶28中の指示薬
を添加する。そして、これにより指示薬を添加した処理
液を流路52によって吸光度計34に導き、ここでその
吸光度を測定する。
なお、この自動液管理装置においては、光吸収分析によ
る濃度検知手段か、二方電磁弁50,54,55゜56
、流路52、バイパス57、ポンプ53,59、試薬瓶
27゜28、吸光度計34から構成されている。
る濃度検知手段か、二方電磁弁50,54,55゜56
、流路52、バイパス57、ポンプ53,59、試薬瓶
27゜28、吸光度計34から構成されている。
また、この液自動管理装置にあっても、その制御手段1
00、入力手段101、出力手段(表示パネル)102
は、第1図(B)に示した構成と同一の構成となってい
る。
00、入力手段101、出力手段(表示パネル)102
は、第1図(B)に示した構成と同一の構成となってい
る。
次に、この自動液管理装置の制御内容について第4図を
参照して説明する。
参照して説明する。
第4図はこの自動液管理装置のフローを説明するための
図である。なお、明細書中の[ステップB−njは第4
図中のrSPB−nJに対応する。
図である。なお、明細書中の[ステップB−njは第4
図中のrSPB−nJに対応する。
〈ステップB−1>
第2図に示したステップA−1と同様に、入力手段10
1によって処理液中の各成分の分析間隔や、運転を自動
で行うか手動で行うかなどを設定する。
1によって処理液中の各成分の分析間隔や、運転を自動
で行うか手動で行うかなどを設定する。
くステップB−2〉
入力手段101により、処理液中の酢酸成分を分析する
か否かを設定し、YESならステップB−2へ、NOな
らステップB−12へ進む。
か否かを設定し、YESならステップB−2へ、NOな
らステップB−12へ進む。
くステップB−3〉〜くステップB−4〉第2図に示し
たステップA−2およびステップA−3と同様の運転を
行う。
たステップA−2およびステップA−3と同様の運転を
行う。
くステップB−5〉〜くステップB−9〉第2図に示し
たステップA−5〜ステップA−9と同様の運転を行う
。
たステップA−5〜ステップA−9と同様の運転を行う
。
くステップ840>
分析を停止するか否かを判断し、YESの場合には装置
を停止し、NOの場合にはステップB−11に進む。
を停止し、NOの場合にはステップB−11に進む。
くステップB −11>
入力手段101によって予め入力された待機時間(滴定
間隔:a)が経過した後、ステップB−2に戻って運転
を繰り返す。
間隔:a)が経過した後、ステップB−2に戻って運転
を繰り返す。
〈ステップB −12>
六方電磁弁を経路Aの状態にし、かつ二方電磁弁10を
切り換えて処理液を流路13に導く。
切り換えて処理液を流路13に導く。
くステップB −13>
予めステップB−1にて、まず処理液中のリン酸濃度を
測定するように設定した場合、二方電磁弁50を適宜切
り換えかつポンプ53を駆動させて、流路13中のサン
プリングした処理液中に試薬瓶27中の指示薬を所定量
添加する。
測定するように設定した場合、二方電磁弁50を適宜切
り換えかつポンプ53を駆動させて、流路13中のサン
プリングした処理液中に試薬瓶27中の指示薬を所定量
添加する。
〈ステップB−14>
二方電磁弁54.56を切り換えて流路52とバイパス
57とを連通せしめ、これにより指示薬を添加した処理
液をバイパス57を介して吸光度計34に導き、ここで
その吸光度を測定する。
57とを連通せしめ、これにより指示薬を添加した処理
液をバイパス57を介して吸光度計34に導き、ここで
その吸光度を測定する。
〈ステップB −15>
ステップB−12と同様の運転により、処理液を流路1
3に導く。
3に導く。
〈ステップB−16〉
二方電磁弁50を適宜切り換えて試薬供給管51と流路
13,52とを遮断し、かつ二方電磁弁54.56を切
り換えて流路52とバイパス57とを遮断する。さらに
、二方電磁弁55を適宜切り換えて試薬供給路58と流
路52とを連通せしめ、かつポンプ59を駆動させて、
流路52中のサンプリングした処理液中に試薬瓶28中
の指示薬を添加する。
13,52とを遮断し、かつ二方電磁弁54.56を切
り換えて流路52とバイパス57とを遮断する。さらに
、二方電磁弁55を適宜切り換えて試薬供給路58と流
路52とを連通せしめ、かつポンプ59を駆動させて、
流路52中のサンプリングした処理液中に試薬瓶28中
の指示薬を添加する。
くステップB −17>
処理液を流路52によって吸光度計34に導き、ここで
その吸光度を測定する。
その吸光度を測定する。
くステップB−18>
分析を停止するか否かを判断し、YESの場合には装置
を停止し、NOの場合にはステップB−19に進む。
を停止し、NOの場合にはステップB−19に進む。
くステップB−19>
入力手段101によって予め入力された吸光度分析の分
析間隔(b)だけ待機し、その後、ステップB−12に
戻って運転を繰り返しす。
析間隔(b)だけ待機し、その後、ステップB−12に
戻って運転を繰り返しす。
このような自動液管理装置にあっては、先の実施例と同
様に、ORP電極36による滴定分析と吸光度計34に
よる光吸収分析とを行えることができるので、リン酸−
硝酸一昨酸系のウェハ用エツチング液に対しても、その
個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定することができ
る。また、先の実施例と異なり、吸光度測定側に反応セ
ルを設けていないので、装置を小型化することができる
とともに安価なものにすることができる。
様に、ORP電極36による滴定分析と吸光度計34に
よる光吸収分析とを行えることができるので、リン酸−
硝酸一昨酸系のウェハ用エツチング液に対しても、その
個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定することができ
る。また、先の実施例と異なり、吸光度測定側に反応セ
ルを設けていないので、装置を小型化することができる
とともに安価なものにすることができる。
なお、上記実施例では対象の処理液をリン酸−硝酸一昨
酸系のエツチング液としたが、本発明の自動液管理装置
はこれに限定されることなく、他の系の処理液(エツチ
ング液)にも適用可能であるのはもちろんである。
酸系のエツチング液としたが、本発明の自動液管理装置
はこれに限定されることなく、他の系の処理液(エツチ
ング液)にも適用可能であるのはもちろんである。
「発明の効果」
以上説明したようにこの発明の自動液管理装置は、サン
プリングされた処理液の流路を少なくとも二方に切り換
える流路切換手段と、上記流路のうちの−に設けられた
滴定分析による濃度検知手段と、上記流路のうちの他の
−に設けられた光吸収分析による濃度検知手段とを具備
したことにより、例えばリン酸−硝酸一昨酸系のウェハ
用エツチング液のように、その濃度が滴定分析によって
容易に測定し得るもの(酢酸)と、光吸収分析によって
容易に測定し得るもの(リン酸、硝酸)とからなる溶液
に対しても、個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定す
ることができるようにしたものである。したがって、従
来経験的にしか管理できず、これにより不測の活性(濃
度)変化に対応できないでいたエツチング液の管理につ
いても、自動的にかつ迅速に対応することができ、よっ
て半導体製造工程の省力化を促進するとともに、品質管
理の信頼性を高めて製品の不良発生を防止することがで
きる。
プリングされた処理液の流路を少なくとも二方に切り換
える流路切換手段と、上記流路のうちの−に設けられた
滴定分析による濃度検知手段と、上記流路のうちの他の
−に設けられた光吸収分析による濃度検知手段とを具備
したことにより、例えばリン酸−硝酸一昨酸系のウェハ
用エツチング液のように、その濃度が滴定分析によって
容易に測定し得るもの(酢酸)と、光吸収分析によって
容易に測定し得るもの(リン酸、硝酸)とからなる溶液
に対しても、個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定す
ることができるようにしたものである。したがって、従
来経験的にしか管理できず、これにより不測の活性(濃
度)変化に対応できないでいたエツチング液の管理につ
いても、自動的にかつ迅速に対応することができ、よっ
て半導体製造工程の省力化を促進するとともに、品質管
理の信頼性を高めて製品の不良発生を防止することがで
きる。
第1図(A)ないし第2図は本発明の自動液管理装置の
一実施例を示す図であって、第1図(A)は全体概略構
成図、第1図(B)は制御装置を示す図、第2図は本装
置のメインフローを示すフローチャート、第3図および
第4図は本発明の自動液管理装置の他の実施例を示す図
であって、第3図は全体概略構成図、第4図は本装置の
メインフローを示すフローチャートである。 l・・・・・・処理液供給路、3・・・・・・ポンプ、
4・・・・・・六方電磁弁、5・・・・・・サンプリン
グ配管、6・・・・・・ポンプ、7・・・・・・圧送路
、9・・・・・流路、10・・・・・・二方電磁弁、1
3・・曲・流路、15・・・・・二方電磁弁、19.2
0・・目・・流路、21.22・・・・・・反応セル、
23.24・・目・流路、25.26・・・・・・ポン
プ、27.28・・・・・・試薬瓶、34・・・・・・
吸光度計、35・・・・・・反応セル、50.54,5
5.56・・・・・・二方電磁弁、52・・・・・・流
路、57・・・・・・バイパス、53.59・旧・・ポ
ンプ、102・・・・・・制御手段。
一実施例を示す図であって、第1図(A)は全体概略構
成図、第1図(B)は制御装置を示す図、第2図は本装
置のメインフローを示すフローチャート、第3図および
第4図は本発明の自動液管理装置の他の実施例を示す図
であって、第3図は全体概略構成図、第4図は本装置の
メインフローを示すフローチャートである。 l・・・・・・処理液供給路、3・・・・・・ポンプ、
4・・・・・・六方電磁弁、5・・・・・・サンプリン
グ配管、6・・・・・・ポンプ、7・・・・・・圧送路
、9・・・・・流路、10・・・・・・二方電磁弁、1
3・・曲・流路、15・・・・・二方電磁弁、19.2
0・・目・・流路、21.22・・・・・・反応セル、
23.24・・目・流路、25.26・・・・・・ポン
プ、27.28・・・・・・試薬瓶、34・・・・・・
吸光度計、35・・・・・・反応セル、50.54,5
5.56・・・・・・二方電磁弁、52・・・・・・流
路、57・・・・・・バイパス、53.59・旧・・ポ
ンプ、102・・・・・・制御手段。
Claims (1)
- 処理液を供給する液供給手段と、供給された処理液を
サンプリングするサンプリング手段と、サンプリングさ
れた処理液の流路を少なくとも二方に切り換える流路切
換手段と、上記流路のうち一方には滴定分析による濃度
検知手段を、他方には光吸収分析による濃度検知手段を
それぞれ設け、これら各手段を制御する制御手段とを具
備してなることを特徴とする自動液管理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28161590A JPH04157185A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 自動液管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28161590A JPH04157185A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 自動液管理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04157185A true JPH04157185A (ja) | 1992-05-29 |
Family
ID=17641603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28161590A Pending JPH04157185A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 自動液管理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04157185A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0665763A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-03-08 | Tsurumi Soda Co Ltd | エッチング廃液処理装置 |
JP2003049285A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | エッチング方法およびエッチング液の定量分析方法ならびにエッチング液からリン酸を回収する方法 |
-
1990
- 1990-10-19 JP JP28161590A patent/JPH04157185A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0665763A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-03-08 | Tsurumi Soda Co Ltd | エッチング廃液処理装置 |
JP2003049285A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-21 | Mitsubishi Chemicals Corp | エッチング方法およびエッチング液の定量分析方法ならびにエッチング液からリン酸を回収する方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5204264A (en) | Method for validation of calibration standards in an automatic chemical analyzer | |
US9518900B2 (en) | Sample preparation system for an analytical system for determining a measured variable of a liquid sample | |
JP4775937B2 (ja) | 近赤外線分光器を利用したリソグラフィ工程用組成物の実時間制御システム及びその制御方法 | |
US20060104827A1 (en) | Method and apparatus for pumping and diluting a sample | |
EP0214846B1 (en) | Sample monitoring instrument for on-line application | |
CN208366698U (zh) | 一种用于核取样***的样品稀释装置 | |
JPH04157185A (ja) | 自動液管理装置 | |
JP2001264283A (ja) | 電解質測定装置および測定方法 | |
KR20010072569A (ko) | 자동화 화학공정 제어 시스템 | |
JP3422092B2 (ja) | 液体試料連続測定装置及び測定方法 | |
JP2001296305A (ja) | 試料溶液の自動分析装置および自動分析方法 | |
JP2865771B2 (ja) | 自動液管理装置 | |
JP3610111B2 (ja) | 電解質溶液分析装置および電解質溶液分析方法 | |
JP3036817B2 (ja) | 自動液管理装置 | |
JPS63132170A (ja) | 分析装置等における管路の共洗い方法 | |
JP2001124757A (ja) | 3態窒素分析システムにおけるシステムの自己診断方法 | |
CN221377853U (zh) | 一种滴定在线分析仪 | |
JPH04320960A (ja) | 自動液管理装置 | |
JPS58162852A (ja) | 自動滴定分析装置 | |
JPH03215735A (ja) | 自動液管理装置 | |
JPH06109686A (ja) | 電解質分析装置 | |
JPH03214617A (ja) | 自動液管理装置 | |
CN117491557A (zh) | 一种水质碱度在线测量装置及方法 | |
CN117288884A (zh) | 一种自动分析仪滴定流路及滴定分析方法 | |
JPH04320954A (ja) | 自動液管理装置 |