JPH04157185A - 自動液管理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、半導体製造工程で用いられるウェハ用エツ
チング液の管理゛に好適な自動液管理装置に関する。

「従来の技術」 従来より、例えば半導体の製造工程等で用いられる剥離
液（処理液）は、種々な方法で分析、管理され、さらに
省人化および品質管理の向上を目的として、上記分析、
管理の自動化が行われてきた。

この種の自動液管理装置として例えば本発明者が先に提
案した装置（特願平２−３８７１３号）では、硫酸と過
酸化水素水とが混合された剥離液をポンプ等を用いたオ
ンラインでサンプリングし、その後、このサンプリング
した剥離液を吸光度計で測定してその劣化度を管理する
とともに、この剥離液を分析機器内の反応セル内に供給
し、この反応セル内において酸化還元電位電極による電
位差滴定分析を行ない、剥離液中の有効成分の濃度を検
出している。

そして、このような分析では、制御部内に設けられたコ
ンピュータにより、ポンプ、バルブなどの機器の動作を
制御するとともに、上記反応セル内に滴定した試薬の滴
下量に基づき、処理液中の硫酸濃度、過酸化水素濃度を
算出し、その算出結果をＣＲＴあるいはプリンタに出力
していた。

ところで、上記の自動液管理装置にあっては、主に硫酸
と過酸化水素水とが混合されてなる剥離液を分析の対象
としているため、他の処理液、例えばリン酸（８３Ｐ　
Ｏ４）−酢酸（ＣＨ，ＣＯＯＨ）−硝酸（ＨＮ　Ｏ３）
系のウェハ用エツチング液の分析（管理）には適用でき
ない。したがって、従来、半導体製造工程で用いられる
エツチング液の管理については、単に処理量や処理時間
によって経験的に行っているのが実状である。

「発明が解決しようとする課題」 しかしながら、このようにエツチング液の管理を経験的
に行っていたのでは、処理液の濃度、すなわちその活性
が不測に変化した場合にその変化に迅速に対応すること
ができず、そのためエツチングしたウェハのエツチング
レートを最終工程で検査することによって初めて処理液
の濃度変化が確認されることとなり、その間の品質管理
が十分行えないといった不都合がある。

この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、エツチング液の管理を行うことのでき
る自動液管理装置を提供することにある。

「課題を解決するための手段］ この発明の自動液管理装置では、処理液を供給する液供
給手段と、供給された処理液をサンプリングするサンプ
リング手段と、サンプリングされた処理液の流路を少な
くとも二方に切り換える流路切換手段と、上記流路のう
ち一方には滴定分析による濃度検知手段を、他方には光
吸収分析による濃度検知手段をそれぞれ設け、これら各
手段を制御する制御手段とを具備してなることを上記課
題の解決手段とした。

「作用」 この発明の自動液管理装置によれば、サンプリングされ
た処理液の流路を少なくとも二方に切り換える流路切換
手段と、上記流路のうちの−に設けられた滴定分析によ
る濃度検知手段と、上記流路のうちの他の−に設けられ
た光吸収分析による濃度検知手段とを具備したことによ
り、例えばリン酸−硝酸一昨酸系のウェハ用エツチング
液のように、その濃度が滴定分析によって容易に測定し
得るもの（酢酸）と、光吸収分析によって容易に測定し
得るもの（リン酸、硝酸）とからなる溶液に対しても、
個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定することが可能
になる。

「実施例」 この発明の一実施例を第１図（Ａ）、（Ｂ）および第２
図を参照して説明する。なお、この実施例は本発明を半
導体製造工程におけるウェハ用エツチング液の管理装置
に適用した場合の一実施例である。

まず、第１図（Ａ）により自動液管理装置全体の概略構
成を説明すると、第１図（Ａ）において符号ｌは図示路
の処理槽より処理液が供給される処理液供給路である。

ここで、上記処理液としては、半導体用ウェハのエツチ
ング液として、リン酸−昨酸一硝酸系の溶液が用いられ
ている。

この処理液供給路１にはその経路中に冷却器２、ポンプ
３、六方電磁弁４が順次配設されている。

六方電磁弁４は、その一つの口４ａを上記処理液供給路
１の下流に接続したもので、第１図中実線で示す経路Ａ
と破線で示す経路Ｂとを自動的に切り換えるものであり
、通常は経路Ａを採るように設定されたしのである。ま
た、この六方電磁弁４の口４ｂと口４ｅとには、これら
を連結するサンプリング配管５が配設されており、また
口４Ｃには、サンプリング配管５内の試料（処理液）を
送り出すために、例えば純水を圧送するためのポンプ６
を経路中に配した圧送路７が接続されている。

ここで、サンプリング配管５は、その内部に貯留する処
理液の量が予め決められた量に設定されており、定量の
ため用いられるようになっている。

さらに、この六方電磁弁４の口４ｄには流路９か、また
口４ｆには二方電磁弁１０に連結する流路１１がそれぞ
れ接続されている。二方電磁弁１０には流路１２と流路
１３とが接続されており、流路Ｉ２には二方電磁弁１４
が、また流路１３には二方電磁弁１５がそれぞれ配設さ
れている。

二方電磁弁１４には、処理槽（図示路）につながる返送
路１６とドレン槽１７につながるドレン路１８とが接続
されており、このような構成のもとに六方電磁弁４から
導出される処理液は、六方電磁弁４が経路Ａを採り、か
つ二方電磁弁１ｏが流路１２側に通じた場合に、処理槽
に返送され、あるいはドレン槽１７に導かれるようにな
っている。

二方電磁弁１５には流路１９と流路２０とが接続されて
おり、これら流路１９．２０にはそれぞれ反応セル２１
．２２が配設されている。反応セル２１には試薬供給管
２３か、また反応セル２２には試薬供給管２４がそれぞ
れの一端を反応セル内部に臨ませて配設されている。こ
れら試薬供給管２３．２４は、それぞれその管路中にポ
ンプ２５．２６を配設したもので、その端部側に配設さ
れた試薬瓶２１．２８からポンプ２５．２６によって試
薬を上記反応セル２１あるいは反応セル２２内に一定量
供給するものである。なおこの例では、反応セル２１は
リン酸の分析用とされ、反応セル２２は硝酸の分析用と
されている。そして、これら反応セル２１．２２に対応
して、試薬瓶２７内には指示薬として例えば酢酸ウラニ
ル標準液が、また試薬瓶２８には指示薬として例えばブ
ルシン標準液がそれぞれ収容されている。

また、反応セル２１．２２にはその底部にそれぞれ導出
管２９．３０か設けられており、これら導出管２９゜３
０は二方電磁弁３１で合流して分析路３２に接続される
。分析路３２には、二方電磁弁３１側よりポンプ３３、
吸光度計３４か順次配設されており、さらにこの分析路
３２はその下流側が上記ドレン槽１７に導かれている。

また、六方電磁弁４の口４ｄに接続された流路９には反
応セル３５が配設されており、反応セル３５内にはＯＲ
Ｐ電極３６（酸化還元電位電極）が設けられている。０
ＲＰＩ極３６は、反応セル３５内にサンプリングされた
処理液の有効成分量を、滴定による電位変化から求める
滴定分析用のセンサである。

反応セル３５には、試薬供給管３７がその一端を反応セ
ル３５内部に臨ませて配設されている。この試薬供給管
３７は、その管路中に滴定ポンプ３８を配設したもので
、その端部側に配設された試薬瓶３９から上記滴定ポン
プ３８によって試薬を反応セル３５内に一定量供給する
ものである。なおこの例では、反応セル３５は酢酸の分
析用とされている。そして、この反応セル３５に対応し
て、試薬瓶３９内には滴定試薬として例えば水酸化ナト
リウム標準液が収容されている。

また、反応セル３５の底部には排出路４０が接続されて
おり、この排出路４０は上記分析路３２の吸光度計３４
より下流側に合流したものとなっている。また、この排
出路４０の経路中には電磁弁４１とポンプ４２とが順次
配設されており、これによって反応セル３５内の滴定後
の試料はドレン槽１７へ強制的に排出されるようになっ
ている。

このような構成の自動液管理装置にあっては、通常は六
方電磁弁４を経路Ａにすることにより、処理液をサンプ
リング配管５および流路１１、二方電磁弁１０、流路１
２を経て処理槽（図示略）に戻し、あるいはドレン路１
８を通じてドレン槽１７に導く。

また、処理液中のリン酸および硝酸の濃度を測定する場
合には、経路Ａの状態のままで二方電磁弁１０を切り換
えて、サンプリング配管５内に残存する処理液をポンプ
３によって処理槽からの処理液を圧送することにより、
あるいは圧送路７より純水を送り出すことにより押し出
して流路１３に導く。そして、二方電磁弁１５を適宜切
り換えることによって反応セル２１．２２にそれぞれ一
定量の処理液を導く。ここで、反応セル２１においては
試薬瓶２７より一定量の指示薬が、また反応セル２２に
おいては試薬瓶２８より一定量の指示薬がそれぞれポン
プ２５．２６によって添加される。そして、添加された
指示薬は反応セル２１．２２内に設けられた図示略の攪
拌子によって攪拌されることにより、処理液と反応して
これと均一に混合される。さらに、指示薬が添加された
反応セル２１．２２内の処理液は、二方電磁弁３１によ
ってそれぞれ別に吸光度計３４に送出され、個々にその
吸光度が測定されることによって処理液中のリン酸およ
び硝酸の濃度がそれぞれ測定される。

また、処理液中の酢酸の濃度を測定する場合には、六方
電磁弁を経路Ｂに切り換えて、サンプリング配管５内に
残存する処理液を、圧送路７より純水を送り出すことに
よって押し出し、流路９を介して反応セル３５に導く。

そして、滴定ポンプ３８によって試薬瓶３９より標準試
薬を滴下注入し、ＯＲＰ電極３６によって処理液の濃度
を測定する。ここで、ＯＲＰ電極３６による濃度測定は
、滴定により酸化還元電位が急激に変化した点を終点と
し、この終点までの試薬の滴下量から処理液中の酢酸濃
度を算出することによって行う。さらに、このような測
定か終了した後、電磁弁４１を開きポンプ４２を駆動さ
せることにより、測定後の処理液をドレン槽１７に導出
する。

なお、この自動液管理装置においては、処理液供給路ｌ
およびポンプ３から液供給手段が構成され、六方電磁弁
４、サンプリング配管５、ポンプ６、圧送路７、流路９
、二方電磁弁１０、流路１３、二方電磁弁１５、流路１
９，２０からサンプリング手段が構成され、さらに六方
電磁弁４によって流路切、　　楔手段が構成されている
。また、反応セル３５、ＯＲＰ電極３６、流路３７、滴
定ポンプ３８、試薬瓶３９から滴定分析による濃度検知
手段が構成され、反応セル２１，２２、流路２３，２４
、ポンプ２５．２６、試薬瓶２７゜２８、吸光度計３４
から光吸収分析による濃度検知手段が構成されている。

また、第１図（Ｂ）において符号１００で示すものは制
御手段であって、この制御手段１００には、キーボード
等の人力手段１０１と、装置の運転状況、処理状況等を
ＣＲＴ表示する出力手段■０２（例えば、第１図（Ａ）
と同様の系統図が記され、各構成要素に対応する箇所に
ランプなどがある表示パネル）が設けられている。

上記制御手段１００は、入力手段１０１の入力データに
基づき、以下の処理手段（Ｐ）を制御し、かつこの処理
手段（Ｐ）の制御結果に基づき、およびこの処理手段（
Ｐ）を制御することによって得られた検出手段（Ｑ）の
検出データに基づき、上記表示パネル１０２に運転状況
および処理状況を表示させるようになっている。

なお、上記処理手段（Ｐ）としては、冷却器２、六方電
磁弁４、二方電磁弁１０．１５．３Ｌポンプ２５．２Ｂ
、滴定ポンプ３８、電磁弁４２などがあり、また上記検
出手段（Ｑ）としては吸光度計３４、ＯＲＰ電極３６が
ある。

次に、制御手段ｌＯＯに記憶されている自動液管理装置
の制御内容について第２図を参照して説明する。

第２図はこの自動液管理装置のフローを説明するための
図で。なお、明細書中の「ステップＡ　−ｎＪは第２図
中のｒＳＰＡ−ｎＪに対応する。

くステップＡ−１＞ 入力手段ｌｏｔにより、処理液中の各成分の分析間隔や
、運転を自動で行うか手動で行うかなどを設定する。

くステップＡ−２〉 六方電磁弁４を第１図（Ａ）中の実線で示す経路Ａに設
定し、かつポンプ６を駆動させて、圧送路７から純水を
反応セル３５内に供給し、その内部を洗浄する。

また、六方電磁弁４を経路Ｂに切り換えて純水をサンプ
リング配管５内に充填した後、再度経路Ａに切り換え、
さらに二方電磁弁ｌＯを切り換えて流路１３に通じるよ
うにすることにより、反応セル２１．２２も同様に洗浄
する。

くステップＡ−３〉 電磁弁４１を開状態に設定しかつポンプ４２を駆動して
、上記反応セル３５内の洗浄液を分析路３２を介してド
レン槽１７に排出する。また、二方電磁弁３１を適宜切
り換え、かつポンプ３３を駆動させることにより、反応
セル２１．２２内の洗浄液の排出も行う。

くステップＡ−４〉 入力手段１０１により、処理液中の酢酸成分の分析を行
うか否かを設定し、ＹＥＳならステップＡ−５へ、ＮＯ
ならステップＡ−１０へ進む。

〈ステップＡ−５〉 六方電磁弁４を経路Ａの状態にし、サンプリング配管５
内に処理液を流通させた後六方電磁弁を経路Ｂに切り換
え、サンプリング配管５内に残存する処理液を、圧送路
７より純水を送り出すことによって押し出し、流路９を
介して反応セル３５７こ導く。

くステップＡ−６〉 滴定ポンプ３８によって試薬瓶３９より標準試薬を滴下
注入し、ＯＲＰ電極３６によって処理液の濃度を測定し
、その結果を上記表示パネル１０２により出力（表示）
する。

くステップＡ−７〉 電磁弁４１を開きポンプ４２を駆動させることにより、
測定後の処理液をドレン槽１７に排出する。

〈ステップＡ−８〉 ステップＡ−２と同様にして反応セル３５内を洗浄する
。

〈ステップＡ−９〉 ステップＡ−７と同様にして反応セル３５内の液を排出
する。

〈ステップＡ−１０＞ 六方電磁弁４を経路Ａの状態にし、サンプリング配管５
内に処理液を流通させ、さらにこのサンプリング配管５
内に満たされた所定量の処理液を流路１１、二方電磁弁
ｌＯを介して流路１３に導く。

くステップＡ−１１＞ ステップＡ−１０にて流路１３に導かれたサンプリング
試料（処理液）を、二方電磁弁１５を適宜切り換えるこ
とによって反応セル２１．２２にそれぞれ供給する。そ
して、ポンプ２５．２６をそれぞれ駆動させることによ
って試薬瓶２７．２８内の指示薬を所定量反応セル２１
．２２内に添加し、均一に混合する。さらに、二方電磁
弁３１を適宜切り換え、かつポンプ３３を駆動させるこ
とによって反応セル２１．２２内の処理液をそれぞれ別
個に吸光度計３４に導き、それぞれの吸光度を測定する
ことによってこれら吸光度からリン酸濃度および硝酸濃
度を算出し、処理液中のリン酸および硝酸の濃度を検出
してその結果を上記表示パネル１０２に出力（表示）す
る。

〈ステップＡ−１２＞ ポンプ３３を駆動させ、吸光度計３４内の測定後の処理
液をドレン槽１７に排出する。

〈ステップＡ　−１３＞ ステップＡ−２と同様にして反応セル２１．２２内を洗
浄する。

〈ステップＡ　−１４＞ 二方電磁弁３１を適宜切り換え、かつポンプ３３を駆動
させることによって反応セル２１．２２内の液をドレン
槽１７に排出する。

〈ステップＡ−１５＞ 分析を停止するか否かを判断し、ＹＥＳの場合には装置
を停止し、ＮＯの場合にはステップＡ−１６に進む。

くステップＡ　−１６＞ 分析を連続で行うか否かを判断し、ＹＥＳの場合にはス
テップＡ−２に戻って運転を繰り返し、ＮＯの場合には
一定時間待機した後、ステップＡ−２に戻って運転を繰
り返す。

このような自動液管理装置にあっては、六方電磁弁４の
経路Ａ、Ｂを適宜切り換えることにより、ＯＲＰ電極３
６による滴定分析と吸光度計３４による光吸収分析とを
行えることができるので、リン酸−硝酸一昨酸系のウェ
ハ用エツチング液のように、その濃度が滴定分析によっ
て容易に測定し得るもの（酢酸）と、光吸収分析によっ
て容易に測定し得るもの（リン酸、硝酸）とからなる溶
液に対し、個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定する
ことができる。また、反応セル２１．２２を設けたこと
により、処理液と指示薬とを十分均一に反応混合させる
ことかでき、よって安定した吸光度測定を行うことがで
きることから、処理液管理の信頼性を高めることができ
る。

次に、第３図および第４図を参照して本発明の自動液管
理装置における他の実施例を説明する。

なお、この実施例において第１図（Ａ）に示した先の実
施例と同一の構成要素には、同一の符号を付してその説
明を省略する。

この実施例が先の実施例と異なるところは、二方電磁弁
１０に設けられた流路１３より下流側の構成である。こ
の実施例において流路１３の下流側には二方電磁弁５０
が配設されており、この二方電磁弁５０には試薬供給管
５１と流路５２とが接続されている。

試薬供給管５１には、その管路中にポンプ５３が配設さ
れ、さらにその端部側には試薬瓶２７が配設されている
。

一方、流路５２には二方電磁弁５４，５５．５６および
吸光度計３４が順次配設されている。二方電磁弁５４と
二方電磁弁５６との間にはバイパス５７が配設され、ま
た二方電磁弁５５には試薬供給管５８が配設されている
。試薬供給管５８には、その管路中にポンプ５９が配設
され、さらにその端部側には試薬瓶２８が配設されてい
る。そして、上記流路５２は、その下流側がトレン槽１
７に導かれ、これにより吸光度計３４によって測定され
た試料はドレン槽１７に排出されるようになっている。

なお、上記試薬瓶２７内には、先の例と同様に指示薬と
して例えば酢酸ウラニル標準液が収容されており、また
試薬瓶２８には例えばブルシン標準液が収容されている
。

このような自動液管理装置によって、処理液中のリン酸
および硝酸の濃度を測定する場合には、先の実施例のも
のと同様に六方電磁弁を経路Ａの状態にし、かつ二方電
磁弁１０を切り換えて処理液を流路１３に導く。そして
、処理液中のリン酸濃度を測定する場合には、二方電磁
弁５０を適宜切り換えかつポンプ５３を駆動させて、流
路】３中のサンプリングした処理液中に試薬瓶２７中の
指示薬を添加する。さらに、二方電磁弁５４．５６を切
り換えて流路５２とバイパス５７とを連通せしめ、これ
により指示薬を添加した処理液をバイパス５７を介して
吸光度計３４に導き、ここでその吸光度を測定する。ま
た、処理液中の硝酸濃度を測定する場合には、二方電磁
弁５０を適宜切り換えて試薬供給管５１と流路１３．５
２とを遮断し、かつ二方電磁弁５４．５６を切り換えて
流路５２とバイパス５７とを遮断する。さらに、二方電
磁弁５５を適宜切り換えて試薬供給路５８と流路５２と
を連通せしめ、かつポンプ５９を駆動させて、流路５２
中のサンプリングした処理液中に試薬瓶２８中の指示薬
を添加する。そして、これにより指示薬を添加した処理
液を流路５２によって吸光度計３４に導き、ここでその
吸光度を測定する。

なお、この自動液管理装置においては、光吸収分析によ
る濃度検知手段か、二方電磁弁５０，５４，５５゜５６
、流路５２、バイパス５７、ポンプ５３，５９、試薬瓶
２７゜２８、吸光度計３４から構成されている。

また、この液自動管理装置にあっても、その制御手段１
００、入力手段１０１、出力手段（表示パネル）１０２
は、第１図（Ｂ）に示した構成と同一の構成となってい
る。

次に、この自動液管理装置の制御内容について第４図を
参照して説明する。

第４図はこの自動液管理装置のフローを説明するための
図である。なお、明細書中の［ステップＢ−ｎｊは第４
図中のｒＳＰＢ−ｎＪに対応する。

〈ステップＢ−１＞ 第２図に示したステップＡ−１と同様に、入力手段１０
１によって処理液中の各成分の分析間隔や、運転を自動
で行うか手動で行うかなどを設定する。

くステップＢ−２〉 入力手段１０１により、処理液中の酢酸成分を分析する
か否かを設定し、ＹＥＳならステップＢ−２へ、ＮＯな
らステップＢ−１２へ進む。

くステップＢ−３〉〜くステップＢ−４〉第２図に示し
たステップＡ−２およびステップＡ−３と同様の運転を
行う。

くステップＢ−５〉〜くステップＢ−９〉第２図に示し
たステップＡ−５〜ステップＡ−９と同様の運転を行う
。

くステップ８４０＞ 分析を停止するか否かを判断し、ＹＥＳの場合には装置
を停止し、ＮＯの場合にはステップＢ−１１に進む。

くステップＢ　−１１＞ 入力手段１０１によって予め入力された待機時間（滴定
間隔：ａ）が経過した後、ステップＢ−２に戻って運転
を繰り返す。

〈ステップＢ　−１２＞ 六方電磁弁を経路Ａの状態にし、かつ二方電磁弁１０を
切り換えて処理液を流路１３に導く。

くステップＢ　−１３＞ 予めステップＢ−１にて、まず処理液中のリン酸濃度を
測定するように設定した場合、二方電磁弁５０を適宜切
り換えかつポンプ５３を駆動させて、流路１３中のサン
プリングした処理液中に試薬瓶２７中の指示薬を所定量
添加する。

〈ステップＢ−１４＞ 二方電磁弁５４．５６を切り換えて流路５２とバイパス
５７とを連通せしめ、これにより指示薬を添加した処理
液をバイパス５７を介して吸光度計３４に導き、ここで
その吸光度を測定する。

〈ステップＢ　−１５＞ ステップＢ−１２と同様の運転により、処理液を流路１
３に導く。

〈ステップＢ−１６〉 二方電磁弁５０を適宜切り換えて試薬供給管５１と流路
１３，５２とを遮断し、かつ二方電磁弁５４．５６を切
り換えて流路５２とバイパス５７とを遮断する。さらに
、二方電磁弁５５を適宜切り換えて試薬供給路５８と流
路５２とを連通せしめ、かつポンプ５９を駆動させて、
流路５２中のサンプリングした処理液中に試薬瓶２８中
の指示薬を添加する。

くステップＢ　−１７＞ 処理液を流路５２によって吸光度計３４に導き、ここで
その吸光度を測定する。

くステップＢ−１８＞ 分析を停止するか否かを判断し、ＹＥＳの場合には装置
を停止し、ＮＯの場合にはステップＢ−１９に進む。

くステップＢ−１９＞ 入力手段１０１によって予め入力された吸光度分析の分
析間隔（ｂ）だけ待機し、その後、ステップＢ−１２に
戻って運転を繰り返しす。

このような自動液管理装置にあっては、先の実施例と同
様に、ＯＲＰ電極３６による滴定分析と吸光度計３４に
よる光吸収分析とを行えることができるので、リン酸−
硝酸一昨酸系のウェハ用エツチング液に対しても、その
個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定することができ
る。また、先の実施例と異なり、吸光度測定側に反応セ
ルを設けていないので、装置を小型化することができる
とともに安価なものにすることができる。

なお、上記実施例では対象の処理液をリン酸−硝酸一昨
酸系のエツチング液としたが、本発明の自動液管理装置
はこれに限定されることなく、他の系の処理液（エツチ
ング液）にも適用可能であるのはもちろんである。

「発明の効果」 以上説明したようにこの発明の自動液管理装置は、サン
プリングされた処理液の流路を少なくとも二方に切り換
える流路切換手段と、上記流路のうちの−に設けられた
滴定分析による濃度検知手段と、上記流路のうちの他の
−に設けられた光吸収分析による濃度検知手段とを具備
したことにより、例えばリン酸−硝酸一昨酸系のウェハ
用エツチング液のように、その濃度が滴定分析によって
容易に測定し得るもの（酢酸）と、光吸収分析によって
容易に測定し得るもの（リン酸、硝酸）とからなる溶液
に対しても、個々の成分の濃度を簡便かつ迅速に測定す
ることができるようにしたものである。したがって、従
来経験的にしか管理できず、これにより不測の活性（濃
度）変化に対応できないでいたエツチング液の管理につ
いても、自動的にかつ迅速に対応することができ、よっ
て半導体製造工程の省力化を促進するとともに、品質管
理の信頼性を高めて製品の不良発生を防止することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）ないし第２図は本発明の自動液管理装置の
一実施例を示す図であって、第１図（Ａ）は全体概略構
成図、第１図（Ｂ）は制御装置を示す図、第２図は本装
置のメインフローを示すフローチャート、第３図および
第４図は本発明の自動液管理装置の他の実施例を示す図
であって、第３図は全体概略構成図、第４図は本装置の
メインフローを示すフローチャートである。 ｌ・・・・・・処理液供給路、３・・・・・・ポンプ、
４・・・・・・六方電磁弁、５・・・・・・サンプリン
グ配管、６・・・・・・ポンプ、７・・・・・・圧送路
、９・・・・・流路、１０・・・・・・二方電磁弁、１
３・・曲・流路、１５・・・・・二方電磁弁、１９．２
０・・目・・流路、２１．２２・・・・・・反応セル、
２３．２４・・目・流路、２５．２６・・・・・・ポン
プ、２７．２８・・・・・・試薬瓶、３４・・・・・・
吸光度計、３５・・・・・・反応セル、５０．５４，５
５．５６・・・・・・二方電磁弁、５２・・・・・・流
路、５７・・・・・・バイパス、５３．５９・旧・・ポ
ンプ、１０２・・・・・・制御手段。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　処理液を供給する液供給手段と、供給された処理液を
   サンプリングするサンプリング手段と、サンプリングさ
   れた処理液の流路を少なくとも二方に切り換える流路切
   換手段と、上記流路のうち一方には滴定分析による濃度
   検知手段を、他方には光吸収分析による濃度検知手段を
   それぞれ設け、これら各手段を制御する制御手段とを具
   備してなることを特徴とする自動液管理装置。