JPH04320954A - 自動液管理装置 - Google Patents

自動液管理装置

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Publication number
JPH04320954A
JPH04320954A JP11554291A JP11554291A JPH04320954A JP H04320954 A JPH04320954 A JP H04320954A JP 11554291 A JP11554291 A JP 11554291A JP 11554291 A JP11554291 A JP 11554291A JP H04320954 A JPH04320954 A JP H04320954A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reagent
reaction cell
resist stripping
liquid
flow path
Prior art date
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Pending
Application number
JP11554291A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Takaiwa
聡 高岩
Terufumi Iwata
照史 岩田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP11554291A priority Critical patent/JPH04320954A/ja
Publication of JPH04320954A publication Critical patent/JPH04320954A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、処理液が劣化したか
否かを判定する自動液管理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、例えば半導体の製造工程等で
用いられるレジスト剥離液(処理液)は自動、手動を問
わず様々な方法で分析、管理されていた。具体的には、
レジスト剥離液を分析するに際しては、該レジスト剥離
液の有効成分である硫酸、過酸化水素を中和滴定、酸化
還元滴定したり、前記レジスト剥離液の吸光度及びその
変化を吸光度計により測定することで、レジスト剥離液
の劣化程度を測定していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
なレジスト剥離液の分析装置においては、該レジスト剥
離液の劣化判定に際して、硫酸と過酸化水素との両方の
濃度を、それぞれ滴定することで求めるようにしており
、これによって前記硫酸と過酸化水素とを滴定するため
の試薬供給系が少なくとも2系統必要であり、これに伴
って構成が複雑化するという不具合があった。すなわち
、前記硫酸あるいは過酸化水素を分析する試薬を貯留す
る貯留部と、該貯留部内の試薬を移送する滴定ポンプと
、該滴定ポンプにより前記試薬を反応セルに案内する流
路とからなる試薬供給系を、硫酸と、過酸化水素とにつ
いてそれぞれ1系統ずつ、合計で少なくとも2系統設け
る必要があり、これによって全体構成が複雑化するとい
う不具合があった。この発明は、上記の事情に鑑みてな
されたものであって、少なくとも2種類の試薬を択一的
に反応セルに供給するようにし、これによって試薬供給
系の構成を簡素化することができる自動液管理装置の提
供を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、処理液をサンプリングするサンプリ
ング手段と、サンプリングした処理液の有効成分の濃度
を滴定により求める滴定手段とを有し、前記滴定手段を
、前記サンプリングした処理液を貯留する反応セルと、
前記処理液中の有効成分を分析するための試薬を滴下す
ることにより供給する試薬供給系と、前記反応セル内の
電位を検出する電極とから構成し、前記試薬供給系を、
処理液内の第1の有効成分を分析する試薬が貯留された
第1の貯留部と、処理液内の第2の有効成分を分析する
試薬が貯留された第2の貯留部と、前記第1の貯留部に
通じる流路と前記2の貯留部に通じる流路とを反応セル
に通じる流路に選択的に接続する切換弁と、前記第1あ
るいは第2の貯留部内の試薬を前記流路を通じて反応セ
ルに移送し滴下させる滴定ポンプとから構成するように
している。
【0005】
【作用】本発明によれば、第1の貯留部に通じる流路と
2の貯留部に通じる流路とを、反応セルに通じる流路に
選択的に接続する切換弁を設けたので、該切換弁の切換
動作によって、第1の貯留部に貯留されている、処理液
内の第1の有効成分(過酸化水素)を分析する試薬(過
マンガン酸カリウム)と、第2の貯留部に貯留されてい
る、処理液内の第2の有効成分(硫酸)を分析する試薬
(水酸化ナトリウム)とを択一的に反応セルに供給する
ことができ、これによって、2系統の試薬供給系を必要
としていた従来の自動液管理装置と比較して構成が簡素
化される。
【0006】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1及び図2に基
づいて説明する。この発明の一実施例を図1の全体概略
構成図及び図2のフローチャートを参照して説明する。 まず、図1において符号1で示すものはレジスト剥離液
(処理液)が供給される処理液供給経路である。なお、
前記レジスト剥離液には、半導体用シリコンウエハ上の
レジスト(ノボラック樹脂等)を剥離して溶解する過酸
化水素(第1の有効成分)、硫酸(第2の有効成分)等
の成分が含有されている。前記処理液供給経路1の途中
にはレジスト剥離液の流通方向Xに沿って、レジスト剥
離液を冷却する冷却器2、未溶解物等の不純物を除去す
るフィルタ3、フォトセル4、六方電磁弁5が順次設け
られている。前記フォトセル4は、前記経路1によって
送られてきたレジスト剥離液をセル(図示略)内に導き
、該レジスト剥離液に一定波長の光線を照射することに
より、当該レジスト剥離液の吸光度を測定するものであ
る。そして、このフォトセル4により検出された吸光度
の変化に基づき処理液の劣化度が測定される。
【0007】また、前記六方電磁弁5は、(一)通常は
実線で示すように配置されており、前記レジスト剥離液
をループ10及び経路6・7を通じて処理槽(図示略)
に、経路6・8を通じてドレンタンク9にそれぞれ案内
する、(二)レジスト剥離液中の硫酸、過酸化水素濃度
を測定する際に、点線で示す位置に切り換え、前記実線
の位置に配置されている間にループ10に一時貯留され
たレジスト剥離液を、純水供給系11(後述する)を通
じて送られた純水により押し出し、反応セル(後述する
)に案内する。なお、前記ループ10は、その内部に貯
留されるレジスト剥離液の量が予め設定されている、つ
まり定量のために用いるものである。また、前記経路6
〜8の分岐部に設けられたものは、特に汚れたレジスト
剥離液や、純水に混合されたレジスト剥離液をドレンタ
ンク9に案内するための三方電磁弁12、前記経路6の
途中に設けられたものはポンプ13、前記経路8の途中
に設けられたものは、レジスト剥離液のPHを測定する
PH電極14である。
【0008】また、前記純水供給系11は、純水の供給
経路15に沿って設けられた二方電磁弁16、中間トラ
ップ17、ポンプ18と、分岐した経路19に設けられ
て、該純水の供給圧力を一定値以下に保持するリリーフ
弁20とにより構成されるものである。なお、このリリ
ーフ弁20により排出された純水は、前記ドレンタンク
9に案内される。一方、前記ループ10に一時貯留され
た後、純水により押し出されたレジスト剥離液は、経路
21を通じて滴定手段50に案内される。この滴定手段
50は、前記ループ10によりサンプリングしたレジス
ト剥離液を貯留する反応セル22と、前記反応セル22
に対して、レジスト剥離液中の過酸化水素あるいは硫酸
を分析するための試薬を滴下により供給する試薬供給系
23と、前記反応セル22内において、前記過酸化水素
あるいは硫酸と試薬との反応度を測定する電極24とか
ら構成されたものである。なお、前記電極24は、反応
セル22内の電位(酸化還元電位等)を測定する機能を
有するものであり、その測定データ(イ)は図示しない
データ処理装置に供給されるようになっている。
【0009】また、前記試薬供給系23は、レジスト剥
離液中の過酸化水素(第1の有効成分)を酸化させる過
マンガン酸カリウム溶液(試薬)が貯留されたフラスコ
25(第1の貯留部)と、レジスト剥離液中の硫酸(第
2の有効成分)を中和させる水酸化ナトリウム(試薬)
が貯留されたフラスコ26(第2の貯留部)と、フラス
コ25に通じる流路27とフラスコ26に通じる流路2
8とを、反応セル22に通じる流路29に選択的に接続
する三方電磁弁(切換弁)30と、前記流路29の途中
に設けられて、前記フラスコ25あるいは26内の試薬
を反応セル22に移送する滴定ポンプ31とから構成さ
れたものであって、前記滴定ポンプ31においては、反
応セル22に対する試薬の滴下量が測定データ(ロ)と
して、図示しないデータ処理装置に供給されるようにな
っている。そして、上記のように構成された滴定手段5
0からは、前記電極24において測定された電位を示す
測定データ(イ)と、前記定量ポンプ27の図示しない
流量計において測定された滴下量を示す測定データ(ロ
)とが、データ処理装置(図示略)に送られ、このデー
タ処理装置において、レジスト剥離液中の過酸化水素の
濃度あるいは硫酸の濃度が計算される。すなわち、前記
データ処理装置では、電位が飛躍した点を反応の終点と
して(測定データ(イ)に基づく)、この反応の終点に
おける試薬の滴下量(測定データ(ロ)に基づく)から
、前記レジスト剥離液の過酸化水素の濃度あるいは硫酸
の濃度が算出されるようになっている。
【0010】一方、反応セル22の下部には、測定が終
了する毎に該反応セル22内のレジスト剥離液を排出す
るための経路40が設けられ、これら経路40の途中に
は、フィルタ41、反応セル22からの溶液の排出動作
を行うための電磁弁42、排液ポンプ43が順次設けら
れている。そして、前記経路40を通じて排出された溶
液は、前述したドレンタンク9内に送られるようになっ
ている。なお、上記構成において、図1に符号100で
示す範囲の構成をサンプリング手段とし、符号50で示
す範囲の構成要素を滴定手段とし、符号60で示す範囲
の構成要素を排出手段とする。
【0011】次に、図1に示す自動液管理装置の滴定手
段50の制御内容について、図2のフローチャートを参
照してステップ毎に説明する。なお、この制御内容は図
示しない制御装置に記憶され、また、該制御装置により
実行されるものである。 《ステップ1》六方電磁弁5を実線で示す位置から点線
で示す位置に切り換えて、ループ10において定量され
たレジスト剥離液を純水供給系11を通じて送られた純
水により押し出し、反応セル22に案内する。 《ステップ2》レジスト剥離液中の過酸化水素濃度を分
析する設定がなされているか否かを判断し、YESの場
合にステップ3に進み、また、NOの場合にステップ5
Aに進む。 《ステップ3》〜《ステップ4》電磁弁30を操作して
流路27と流路29とを接続し、これによってフラスコ
25内の過マンガン酸カリウム溶液を反応セル22内に
供給する。
【0012】《ステップ5A》レジスト剥離液の有効成
分である硫酸の濃度分析する設定がなされている場合に
、次のステップ5Bに進む。なお、レジスト剥離液中の
過酸化水素の濃度分析をした後で、硫酸の濃度分析を行
う場合には、反応セル22にレジスト剥離液を導入する
前の段階で以下のステップを経ることが好ましい(レジ
スト剥離液中の硫酸の濃度分析をした後で、過酸化水素
の濃度分析を行う場合においても、以下のステップを経
ることが好ましい)。すなわち、電磁弁42を開状態と
し、かつ電磁弁30により流路28と流路29とを接続
した状態で、滴定ポンプ31及び排液ポンプ43を一定
時間運転し、経路29内を、前記フラスコ26内に貯留
されている硫酸濃度分析用の試薬である水酸化ナトリウ
ムに置換する。この後、電磁弁42を閉じ、かつ滴定ポ
ンプ31及び排液ポンプ43を停止した状態で、反応セ
ル22内にレジスト剥離液を導入して、以下に示す滴定
を行うと良い。 《ステップ5B》〜《ステップ5C》電磁弁30により
流路28と流路29とが接続されている状態で、滴定ポ
ンプ31によりフラスコ26内の水酸化ナトリウム溶液
を反応セル22に供給する。 《ステップ7》データ処理装置に対して、電極24にお
いて測定された電位を示す測定データ(イ)と、前記定
量ポンプ27において測定された滴下量を示す測定デー
タ(ロ)とを供給する。
【0013】《ステップ8》 データ処理装置に対して、測定データ(イ)・(ロ)に
基づき、レジスト剥離液中の過酸化水素の濃度あるいは
硫酸の濃度を計算させる。すなわち、前記データ処理装
置では、電位が飛躍した点を反応の終点として(測定デ
ータ(イ)に基づく)、この反応の終点における試薬の
滴下量(測定データ(ロ)に基づく)から、前記レジス
ト剥離液の過酸化水素の濃度あるいは硫酸の濃度を算出
する。 《ステップ9》滴定ポンプ31を停止させて、電磁弁4
2を開状態にし、更に排液ポンプ43を動作させて、前
記反応セル22内のレジスト剥離液を排出する。この後
、前記反応セル22内を、経路34により供給した純水
により洗浄し、電磁弁42を閉状態にする。 《ステップ10》再度、レジスト剥離液の有効成分の濃
度分析を続けるか否かを判断し、NOの場合に次の元の
ステップ1に進み、また、YESの場合にこのフローチ
ャートを上記フローチャートのステップ2において、過
酸化水素濃度を検出するか、硫酸濃度を検出するかの設
定は操作者が逐次行うようにするか、例えば交互に自動
的に行うように設定しても良い。
【0014】以上説明したように本実施例に示す自動液
管理装置によれば、フラスコ25に通じる流路27とフ
ラスコ26に通じる流路28とを、反応セル22に通じ
る流路29に選択的に接続する三方電磁弁30を設けた
ので、該三方電磁弁30の切換動作によって、フラスコ
25に貯留されている過酸化水素を分析する試薬(過マ
ンガン酸カリウム)と、フラスコ26に貯留されている
硫酸を分析する試薬(水酸化ナトリウム)とを択一的に
反応セル22に供給することができ、これによって、2
系統の試薬供給系を必要としていた従来の自動液管理装
置と比較して構成が簡素化される効果が得られる。
【0015】なお、本来、過酸化水素と、試薬である過
マンガン酸カリウムとを反応させる場合に、硫酸(過マ
ンガン酸カリウムは酸性下と中性下とでは反応性が異な
るために、必ず酸性状態で滴定する必要がある)を加え
る必要があるが、本実施例に示す自動液管理装置によれ
ば、硫酸ー過酸化水素系のレジスト剥離液を分析するこ
とを前提としているために、過酸化水素の滴定に際して
特に硫酸を添加する工程を省略することができるもので
ある。更に、硫酸が予め含まれていないレジスト剥離液
中の過酸化水素を定量する場合には、試薬である過マン
ガン酸カリウムを純水で溶解するのではなく、硫酸水溶
液で溶解するようにすれば良い。これにより、サンプリ
ングした溶液(処理液)に、硫酸が含有されていない場
合(例えば過酸化水素だけの水溶液)も、定量分析でき
るようになる。また、前記酸化剤としては、過マンガン
酸カリウムに限定されず重クロム酸カリウム等を使用し
ても良い。また、硫酸を中和する中和剤として水酸化ナ
トリウムを使用したが、これに限定されず水酸化カリウ
ム等を使用しても良い。なお、本実施例では、試薬の切
換に電磁弁30を用い、かつ一つの滴定ポンプ21によ
り二つの試薬を選択的に供給するようにしたが、2つの
ポンプにより別々に試薬を供給しても良い。
【0016】
【発明の効果】以上の説明から明かなように、本発明に
よれば、第1の貯留部に通じる流路と2の貯留部に通じ
る流路とを、反応セルに通じる流路に選択的に接続する
切換弁を設けたので、該切換弁の切換動作によって、第
1の貯留部に貯留されている、処理液内の第1の有効成
分(過酸化水素)を分析する試薬(過マンガン酸カリウ
ム)と、第2の貯留部に貯留されている、処理液内の第
2の有効成分(硫酸)を分析する試薬(水酸化ナトリウ
ム)とを択一的に反応セルに供給することができ、これ
によって、2系統の試薬供給系を必要としていた従来の
自動液管理装置と比較して構成が簡素化される効果が得
られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】自動液管理装置の全体概略構成図。
【図2】自動液管理装置の制御装置の制御内容を示すフ
ローチャート。
【符号の説明】
22  反応セル 23  試薬供給系 24  電極 25  フラスコ(第1の貯留部) 26  フラスコ(第2の貯留部) 27  流路 28  流路 29  流路 30  三方電磁弁(切換弁) 31  滴定ポンプ 50  滴定手段 100  サンプリング手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  処理液をサンプリングするサンプリン
    グ手段と、サンプリングした処理液の有効成分の濃度を
    滴定により求める滴定手段とを有し、前記滴定手段は、
    前記サンプリングした処理液を貯留する反応セルと、前
    記処理液中の有効成分を分析するための試薬を滴下する
    ことにより供給する試薬供給系と、前記反応セル内の電
    位を検出する電極とから構成され、前記試薬供給系は、
    処理液内の第1の有効成分を分析する試薬が貯留された
    第1の貯留部と、処理液内の第2の有効成分を分析する
    試薬が貯留された第2の貯留部と、前記第1の貯留部に
    通じる流路と前記2の貯留部に通じる流路とを反応セル
    に通じる流路に選択的に接続する切換弁と、前記第1あ
    るいは第2の貯留部内の試薬を前記流路を通じて反応セ
    ルに移送し滴下させる滴定ポンプとから構成されている
    ことを特徴とする自動液管理装置。
JP11554291A 1991-04-19 1991-04-19 自動液管理装置 Pending JPH04320954A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11298046A (ja) * 1998-03-18 1999-10-29 Trw Inc 微小光学半導体レンズの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11298046A (ja) * 1998-03-18 1999-10-29 Trw Inc 微小光学半導体レンズの製造方法

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19991109