JPH04136942A - 光重合性組成物および光重合性エレメント - Google Patents

光重合性組成物および光重合性エレメント

Info

Publication number
JPH04136942A
JPH04136942A JP2260876A JP26087690A JPH04136942A JP H04136942 A JPH04136942 A JP H04136942A JP 2260876 A JP2260876 A JP 2260876A JP 26087690 A JP26087690 A JP 26087690A JP H04136942 A JPH04136942 A JP H04136942A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photopolymerizable composition
photopolymerizable
photoinitiator
weight
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2260876A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2505637B2 (ja
Inventor
Yoshitaka Minami
好隆 南
Hajime Kakumaru
肇 角丸
Naohiro Kubota
直宏 久保田
Nobuhide Tominaga
富永 信秀
Koji Ishizaki
石崎 幸二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Asahi Denka Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Asahi Denka Kogyo KK filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2260876A priority Critical patent/JP2505637B2/ja
Priority to EP91916752A priority patent/EP0503076B1/en
Priority to DE69128343T priority patent/DE69128343T2/de
Priority to US07/859,430 priority patent/US5334484A/en
Priority to PCT/JP1991/001293 priority patent/WO1992006412A1/ja
Publication of JPH04136942A publication Critical patent/JPH04136942A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2505637B2 publication Critical patent/JP2505637B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D219/00Heterocyclic compounds containing acridine or hydrogenated acridine ring systems
    • C07D219/02Heterocyclic compounds containing acridine or hydrogenated acridine ring systems with only hydrogen, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/117Free radical
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光重合性組成物および光重合性エレメントに
関し、さらに詳しくは、光感度の増大した新規な光重合
性組成物およびこれを用いた光重合性エレメントに関す
る。
[従来の技術及びその問題点] 光重合性組成物の重合速度を増大させること、即ち、光
重合性組成物の光感度を増大させることは活性光の露光
時間を短縮できるという点から有益であり、従来から種
々の方法が行なわれてきた。
例えば、光感度を増大させるために、エチレン性不飽和
基含有化合物を含んでいる光重合性組成物に光開始剤ま
たは増感剤を添加する方法が行なわれでいる。これらの
光開始剤または増感剤とし2(c)光開始剤の一般式(
I)においてRでは、2−エチルアントラキノン、2−
第三ブチルアントラキノン等の多核キノン類、ベンゾフ
ェノン4.4゛−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエチル等のベン
ゾイン誘導体等が用いられてきた。
しかしながら、これらの光開始剤または増感剤を使用し
て得られる従来の光重合性組成物の光感度は必ずしも十
分なものではなかった。
また、特公昭53−27605号公報には、縮合ペンゾ
ール環を含有することのできるアクリジンまたはフェナ
ジン化合物が、特に酸素存在下において高感度でかつ貯
蔵安定性の優れた光開始剤として開示されており、特開
昭59−226002号公報には、9−フェニルアクリ
ジンとチオール基含有化合物の組合せが高感度な光開始
剤として開示されており、特開昭60−164739号
公報には、置換9−ベンゾイルアクリジンが高感度光開
始剤として開示されている。
しかしながら、これらの従来の化合物を用いても、いず
れも満足な光感度を有する光重合性組成物を与えるもの
ではなかった。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、前記従来の技術の欠点を除去し、光感
度の増大した新規な光重合性組成物およびこれを用いた
光重合性エレメントを提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは、1分子中に2個のアクリジル基を有する
特性のビスアクリジン化合物を光開始剤として、エチレ
ン性不飽和基を有する化合物を含む組成物に用いること
により前記の目的が達成できることを見出し、本発明に
到達した。
即ち、本発明は、 (a)少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化
合物を100重量部 (b)熱可塑性有機重合体を0〜400重量部及び (c)光開始剤を0.01〜20重量部の割合で含む光
重合性組成物において、該光開始剤として次の一般式(
I)で表されるアクリジン化合物を用いたことを特徴と
する光重合性組成物およびこの光重合性組成物層を支持
体上に形成してなる光重合性エレメントに関するもので
ある。
(式中、Rは炭素原子数2〜20のアルキレン基オキサ
ジアルキレン基またはチオジアルキレン基を示す) 以下、本発明について更に詳細に説明する。
本発明の光重合性組成物に用いられる、少なくとも1個
のエチレン性不飽和基を含有する化合物成分(a)とし
ては、例えば、多価アルコールにα、β−不飽和カルボ
ン酸を付加して得られる化合物、例えば、テトラエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート(メタクリレート
またはアクリレートを意味する)、ポリエチレングリコ
ールン(メタ)アクリレート、(エチレン基の数が2〜
14のもの)、トリメチロールプロパンジ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパンン(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、
(プロピレン基の数が2〜14のもの)、ジペンタエリ
スリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート等;グリシジル
基含有化合物にα、β−不飽和カルポン酸を付加して得
られる化合物、例えば、トリメチロールプロパントリグ
リシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェノールA
ジグリシジルエーテルジアクリレト等;多価カルボン酸
、例えば、無水フタル酸等と水酸基及びエチレン性不飽
和基を有する物質、例えば、β−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレト等とのエステル化物;アクリル酸または
メタクリル酸のアルキルエステル、例えば、(メタ)ア
クリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエ
ステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メタ)
アクリル酸2−エチルヘキシルエステル等があげられる
。さらに、本発明の光重合性組成物に用いられる成分(
a)としては、少なくとも一つのイソシアネート基を有
する化合物、例えば、!・ルエンジイソシアネート、ト
リメチルへキサメチレンジイソシアネート、ジフェニル
ジイソシアネート、シフェニルメタンシイソンアネート
、3.3′−ジメチル−4,4−ジフェニルジイソシア
ネート等と、少なくとも一つの水酸基及び少なくとも一
つのエチレン性不飽和基を有する化合物、例えば、β−
ヒドロキンエチル(メタ)アクリレート、ヒニルアルコ
ール、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、
ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等との
反応生成物があげられる。
臭気、安全性の点から成分(a)の沸点は、常圧で10
0°C以上であることが好ましい。
成分(a)の配合量は100重量部とされる。
熱可塑性有機重合体(成分(b))としては、例えば、
(メタ)アクリル酸アルキルエステルと(メタ)アクリ
ル酸との共重合体、(メタ)アクリル酸アルキルエステ
ルと(メタ)アクリル酸とこれらと共重合しうるビニル
モノマーとの共重合体等が用いられる。(メタ)アクリ
ル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アク
リル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエス
テル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メタ)ア
クリル酸2−エチルへキシルエステル等があげられる。
また、(メタ)アクリル酸アルキルエステルまたは(メ
タ)アクリル酸と共重合しうるビニルモノマーとしては
、例えば、(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル
エステル、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、(メタ)アクリル酸グリシンルエステル、2,2.2
−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2.23
3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ア
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、
ビニルトルエン等があげられる。
また、熱可塑性有機重合体としては、上記化合物のホモ
ポリマーも用いることができ、さらに、コポリエステル
、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸およびセバシン
酸のポリエステル等、また、ブタジェンとアクリロニト
リルとの共重合体、セルロースアセテート、セルロース
アセテートブチレート、メチルセルロース、エチルセル
ロース等も用いることができる。
熱可塑性有機重合体の配合量は、0〜400重量部、好
ましくは20〜250重量部とされる。
熱可塑性有機重合体の使用によって、塗膜性や得られる
硬化物の膜強度を向上できる。この量が400重量部よ
り多い場合には、相対的に他成分が少なくなるため光感
度が低下する。また、この熱可塑性有機重合体の重量平
均分子蛍は、前記塗膜性や膜強度の点から、10000
〜1000000の範囲が好ましく、10000〜l 
50000の範囲がより好ましい。
本発明の光開始剤(成分(c))としては、前記の一般
式(I)で表されるアクリジン化合物が用いられる。前
記−数式(I)て表されるアクリジン化合物としては、
例えばl、2−ビス(9アクリジニル)エタン、1.3
−ビス(9−アクリジニル)プロパン、1,4−ビス(
9−アクリジニル)ブタン、■、6−ヒス(9−アクリ
ジニル)ヘキサン、1.7−ビス(9−アクリジニル)
へブタン、l、8−ビス(9−アクリンニル)オクタン
、■、9−ビス(9−アクリンニル)ノナン、1.10
−ビス(9−アクリジニル)デカン、1 11−ビス(
9−アクリジニル)ウンデカン、1 12−ビス(9−
アクリンニル)ドデカン、1.14−ヒス(9−アクリ
ジニル)テトラデカン、1.16−ビス(9−アクリジ
ニル)ヘキザデカン、1.18−ビス(9−アクリジニ
ル)オクタデカン、120−ヒス(9−アクリンニル)
エイコサン、1.3−ビス(9−アクリジニル)2−オ
キサプロパン、1,3−ヒス(9−アクリノニル)−2
−チアプロパン、1,5−ヒス(9アクリジニル)−3
−チアペンクン等があげられるが、これらの化合物の中
でも二個のアクリジニルを結合するアルキレン基(−数
式(1)におけるR)が炭素原子数6〜12である化合
物が光感度等の点から好ましい。
前記−数式(I)で表されるアクリジン化合物は、例え
ば、ジフェニルアミンと二価カルボン酸を金属塩化物の
存在下に反応させることによって容易に製造させること
ができる。
かくして得られる本発明の一般式(I)で表される化合
物は、単独でも効果の大きい光開始剤として使用できる
が、必要に応じて、従来公知の他の光開始剤と併用する
こともできる。
本発明の光開始剤(成分(c))は、成分(a)100
重量部に対してo、oi〜20重量部、好ましくは、0
.1〜10重量部使用される。
0.01重量部未満では充分な光感度が得られないため
、光重合の進行が不十分であり、また、20重量部を超
えると光重合組成物の保存安定性が低(、実用に供しえ
ない。
本発明における光開始剤(成分(c))は、二種以上組
み合わせて用いてもよく、また、その他の種々の有機ア
ミン化合物、有機硫黄化合物等と併用してもよい。
これらの有機アミン化合物としては、例えば、トリエタ
ノールアミン、トリイソプロパツールアミン、メチルジ
ェタノールアミン、オクチルジェタノールアミン、オク
タデシルジェタノールアミン、ジブチルエタノールアミ
ン、ジオクチルエタノールアミン、ジェタノールアニリ
ン、ジエチルアニン、メチルエタノールアミン、ブチル
エタノールアミン、テトラヒドロキシエチルエチレンジ
アミン、テトラヒドロキシエチルへキサメチレンジアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルア
ミノプロピルアミン、ジメチルアニリン、4−ジメチル
アミノトルエン、4−ジエチルアミノトルエン、4−ジ
メチルアミノシアノベンゼン、4−ジエチルアミノシア
ノベンゼン、4−ジメチルアミノブロモベンゼン、4−
ジエチルアミノブロモベンゼン、4−ジメチルアミノニ
トロベンゼン、4−ジメチルアミノニトロベンゼン、4
−ジメチル安息香酸アルキルエステル、4ジエチルアミ
ノ安息香酸アルキルエステル、4−ジメチルアミノピリ
ジン、4−ジエチルアミノピリジン、4−ピロリジノピ
リジン、フェニルグリシン、ジエチルアニリン、ジエ了
ルアミン、ジオクチルアミン、テトラメチルエチレンジ
アミン、ミヒラーケトン、アントラニル酸等があげられ
る。
有機硫黄化合物としては、2−メルカプトイミダゾール
、2−メルカプトオキサゾール、2−メルカプトチアゾ
ール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカ
プトベンズオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾ
ール、6−クロロ2−メルカプトベンズイミダゾール、
5−メチルメルカプト−1−フェニルテトラゾール、6
−メドキシー2−メルカプトベンズイミダゾール、2−
メルカプトナフトイミダゾール、2−メルカプトナフト
オキサゾール、3−メルカプト−1,2゜4−トリアゾ
ール等があげられる。本発明の光重合性組成物には、例
えば、p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロ
ガロールナフチルアミン、フェノチアジン、t−ブチル
カテコール等の熱重合抑制剤を含有させることができる
また、本発明の光重合性組成物には、染料、顔料等の着
色剤を含有させてもよい。着色剤とじては、例えば、ツ
クシン、オーラミン塩基、クリスタルバイオレット、ビ
クトリアピアブルー、マラカイトグリーン、メチルオレ
ンジ、アシッドバイオレットRRH等が用いられる。
さらに、本発明の光重合性組成物には、可塑剤、接着促
進剤、タルク等の公知の添加物を添加してもよく、また
、露光部が変色するように四臭化炭素等のハロゲン化合
物とロイコ染料との組合せを添加してもよい。
本発明の光重合性組成物は、前記各成分を、例えば、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム
、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアルコール
、アンモニア水、水等に溶解、混合あるいは分散するこ
とによって、溶液状または水溶液状光重合性組成物とし
て、あるいは、このような溶剤あるいは分散溶媒を用い
ずに前記成分(a)であるエチレン性不飽和基を含有す
る化合物に他の成分を溶解した、無溶剤の溶液状光重合
性組成物として用いることができる。
これらは、ロールコータ−、カーテンコークスプレー塗
装、スクリーン印刷等の各種の印刷、浸漬、電着等公知
の手段で、直接、銅板、アルミニウム板、セラミック板
、プラスチック板等の基材に施しても良いし、また、−
旦ポリエステル等のフィルム等の支持体に塗布し、溶剤
あるいは分散溶媒を含む場合にはそれらを乾燥して除去
し、光重合性組成物層を支持体上に形成しさらに必要に
応じて該層上にポリエチレン等のポリオレフィンフィル
ムを保護フィルムとして積層した光重合性エレメントと
した後基材に施しても良く、その方法については特に制
限はない。
本発明の光重合性組成物は、光硬化性塗料、光硬化性イ
ンク、感光性印刷版、フォトレジスト、ドライフィルム
、電着フォトレジスト等の種々の用途に使用することが
でき、その用途については特に制限はない。例えば、印
刷配線板フォトレジストとして使用する場合は、前記溶
液状光重合性組成物を銅板等の基材に塗布し、液剤を含
む場合には乾燥した後、活性光に露光し、光硬化させて
用いることができる。また、前記溶液状光重合性組成物
をポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、溶
剤を含む場合には乾燥した後、基材上に積層し、光硬化
させて用いることができる。
光硬化させる際に用いられる活性光の光源としては、波
長300〜450nmの光を発光するものが用いられ、
例えば、水銀蒸気アーク、カーホンアク、キセノンアー
ク等が用いられる。
[実施例] 以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものでは
ない。
以下に、本発明で用いられる前記−数式(1)で表され
るアクリジン化合物の合成例を示す。
合成例1 17−ビス(9−アクリンニル)へブタンの製造 温度計、気密かきまぜ機、分水器及び冷却器を備えた5
00m1容量の三つロフラスコに、アゼライン酸18.
8g (0,1モル)、無水塩化亜鉛102g(0,7
5モル)及びジフェニルアミン33.8gをとり、22
0〜2300Cで20時間撹拌した。
100°Cまで冷却し、熱水200mffをゆっくりと
加えた。さらに、同温度で30%硫酸+50mnを加え
、撹拌しながら冷却すると、黒褐色粒状の反応混合物が
析出した。これをろ過して集め、トルエン200m1に
分散させ、28%アンモニア水200mnを加えた。
トルエン層をとり、温水で充分に洗浄した後、減圧下に
トルエン100mnを留去し、冷却することにより生成
物が析出するので、これをろ過して集め、融点153〜
157°Cの白色粉末の生成物12g(収率27%)を
得た。
核磁気共鳴分析の結果は以下の通りてあり、目的物であ
ることを確認した。
I HN M R(60M l(z 、 D CON 
(cD3 )2 )CH2−: 1.5−2.7ppm
 (br l0H)芳香核隣接−CH2−: 3.8−
4.2ppm (t  4H)芳香核       +
 6.8−8.8ppm (m  16H)アセライン
酸を他の二価カルホン酸に変える他は上記合成例と同様
の操作により、以下の化合物を合成した。
実施例1 メチルメタクリレート/メタクリル酸/2−エチルへキ
シルメタクリレ−1・(重量比60/20/20)共重
合体(重量平均分子量8万)52g、テトラエチレング
リコールジアクリレート10g、ポリ (P4−5)オ
キシエチレン化ビスフェノールへのジメタクリレート(
新中村化学工業(株)製、BPE−10)30g1マラ
カイトグリーン0.2g、ハイドロキノン0.1g、ロ
イコクリスタルバイオレッl−1,0g。
四臭化炭素0.5g、 トリエン10g1メチルセロソ
ルブ130g、メチルアルコール5gおよびクロロホル
ム10gを配合し、不揮発分93.3gを含む溶液24
8゜8gを得た。
この溶液に、表−1に記載した光開始剤を溶解させて、
光重合性組成物の溶液を得た。
次いで、この光重合性組成物の溶液を25μm厚のポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、1
00°Cの熱風式対流乾燥機で5分間乾燥し光重合性エ
レメントを得た。光重合性組成物層の乾燥後の膜厚は、
25μmであった。
一方、厚さ35μmの銅箔を両面に積層したガラスエポ
キシ材である銅張積層板(日立化成工業(株)製、MC
L −E −61)の銅表面を#800のサンドペーパ
ーで研磨し、水洗後空気流で乾燥した。
得られた銅張積層板を60℃に加温し、その銅面上に上
記の光重合性エレメントを、120°Cに加熱しながら
ラミネートした。
かくして得られた基板に、ネガフィルムを使用して、3
KW高圧水銀灯(オーク製作所(株)製、フェニックス
−5000)で40mJ/cm’で露光を行なりた。こ
の際、光感度を評価できるように、光透過量が階段的に
少なくなるように造られたネガフィルム(光学密度0.
05を1段目とし、1段毎に光学密度が0.15ずつ増
加するステップタブレット)を用いた。
露光後ポリエチレンテレフタレートフィルムを除去し、
2%炭酸ナトリウム水溶液番30°Cで50秒間スプレ
ーして未露光部を除去した。
銅張積層板上に形成された光硬化膜のステップタブレッ
トの段数を測定することにより光重合性組成物の光感度
を評価し、その結果を表−1に示した。このステップタ
ブレットの段数が高い程光感度が高いことを示す。
表−1 表−1続き *1:溶液248.8gに対するグラム数*2:成分(
b) 100重量部に対する重量部数実施例2 メチルメタクリレート/メタクリル酸/エチルアクリレ
ート(重量比50/20/30)共重合体(重量平均分
子量L=8万)43g、l−リメチルへキサメチレンジ
イソシアネート/114−シクロヘキサンジメタツール
/2−ヒドロキシエチルアクリレート(16:5:8当
量比)の反応物57g1光開始剤0.7g、 p−メト
キシフェノールO,1g、ビクトリアピュアブルー0.
05g、 5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−
2−チオール0.3g、二酸化アンチモン2.0g、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル30gおよびメ
チルエチルケトン70gを配合し実施例1と同様の操作
により、厚さ75μmの感光層を有する光重合性エレメ
ントを作成した。
次いで、市販の真空ラミネータにより、ポリエチレンテ
レフタレートフィルムを剥がしながら銅表面に積層し、
250mJ/crn2で露光を行ない、200秒間現像
し、得られた光硬化膜のステップタブレットの段数を測
定した。
また、比較のため、本発明の光開始剤に代えてベンゾフ
ェノン5g1ミヒラーズケトン02gを加えた以外は上
記と同様にして光硬化膜を形成し、ステップタブレット
の段数を測定した。
その結果を表−2に示す。
また、本発明の光開始剤を用いて形成された光硬化膜を
有する積層板を、2606Cの溶融半田に10秒間浸漬
したが、光硬化膜の銅とのはがれ等は発生せず、優れた
ソルダーマスクの性能を示した。
表−2 *3成分(b) 100重量部に対する重量部数実施例
3 オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂236gと
アクリル酸18gの反応物とイソンアナートエチルメタ
クリレート5]gを反応させ、これを2−エトキシエチ
ルアセテートに溶解し、固形分68重量%の溶液を得た
この2−エトキシエチルアセテート溶液103.8g(
固形分70.6g)、シリカ35.6g、タルク71g
1三酸化アンチモン2.0g、光開始剤1g1エトキシ
エチルアセテート16.7g及びフタロシアニングリン
(東洋インク(株)製TY −50323) 3.7g
を混合し、実施例1と同様にして銅張積層板上に塗布、
乾燥し、乾燥膜厚20μmの光重合性組成物層を形成し
た。
次いで、600mJ / am2で露光し、30秒間現
像することによって得られた光硬化膜のステップタブレ
ットの段数を測定した。
また、比較のため、本発明の光開始剤に代えて9−フェ
ノルアクリジン1gまたは2−エチルアントラキノン5
gを加えた以外は上記と同様にして光硬化膜を形成し、
ステップタブレットの段数を測定した。
その結果を表−3に示す。
また、本発明の光開始剤を用いて形成させてた光硬化膜
を有する積層板を、260°Cの溶融半田に30秒間浸
漬したが、光硬化膜の銅とのはがれ等は発生せず、優れ
たソルダーマスクの性能を示した。
表−3 *4成分(b) 100重量部に対する重量部数名実施
例の結果から明らかなように、本発明のビスアクリジン
化合物を含有する光重合性組成物は、9−フェニルアク
リジン、ベンゾフェノンとミヒラーケトンとの組合せあ
るいは2−エチルアントラキノン等の従来公知の光開始
剤を含有する光重合性組成物と比較して、光感度が極め
て高く、また、ソルダーマスクとしての特性も良好なこ
とが明らかである。
[発明の効果] 本発明の光重合性組成物及びこれを用いた光重合性エレ
メントは、光感度が極めて高く、フォトレジストに用い
たときは解像度、ライン形状も優れ、現像液汚染、めっ
き浴汚染も少ない。
これらを光硬化した、光硬化膜は耐はんだ性、耐めっき
性、密着性、テンディング性等の機械特性が非常に優れ
たものである。
また、本発明の光重合性組成物は、コールドフローが小
さいため、これを用いた感光性エレメントでロール状と
したものは、端部からのしみ出しが少な(保存安定性に
優れる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有す
    る化合物を100重量部 (b)熱可塑性有機重合体を0〜400重量部及び (c)光開始剤を0.01〜20重量部の割合で含む光
    重合性組成物において、該(c)光開始剤として次の一
    般式( I )で表されるアクリジン化合物を用いたこと
    を特徴とする光重合性組成物。 (式中、Rは炭素原子数2〜20のアルキレン基、オキ
    サジアルキレン基またはチオジアルキレン基▲数式、化
    学式、表等があります▼( I ) を示す) 2、(c)光開始剤の一般式( I )においてRが炭素
    原子数6〜12のアルキレン基である請求項1記載の光
    重合性組成物。 3、請求項1記載の光重合性組成物層を支持体上に形成
    してなる光重合性エレメント。
JP2260876A 1990-09-28 1990-09-28 光重合性組成物および光重合性エレメント Expired - Lifetime JP2505637B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2260876A JP2505637B2 (ja) 1990-09-28 1990-09-28 光重合性組成物および光重合性エレメント
EP91916752A EP0503076B1 (en) 1990-09-28 1991-09-27 Photopolymerizable composition and photopolymerizable element
DE69128343T DE69128343T2 (de) 1990-09-28 1991-09-27 Photopolymerisierbare zusammensetzung und photopolymerisierbares element
US07/859,430 US5334484A (en) 1990-09-28 1991-09-27 Photopolymerizable composition and photopolymerizable element
PCT/JP1991/001293 WO1992006412A1 (fr) 1990-09-28 1991-09-27 Composition photopolymerisable et element photopolymerisable

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2260876A JP2505637B2 (ja) 1990-09-28 1990-09-28 光重合性組成物および光重合性エレメント

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04136942A true JPH04136942A (ja) 1992-05-11
JP2505637B2 JP2505637B2 (ja) 1996-06-12

Family

ID=17353982

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2260876A Expired - Lifetime JP2505637B2 (ja) 1990-09-28 1990-09-28 光重合性組成物および光重合性エレメント

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5334484A (ja)
EP (1) EP0503076B1 (ja)
JP (1) JP2505637B2 (ja)
DE (1) DE69128343T2 (ja)
WO (1) WO1992006412A1 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08157744A (ja) * 1994-12-12 1996-06-18 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2002148797A (ja) * 2001-10-19 2002-05-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物層の硬化方法
JP2002182385A (ja) * 2001-10-19 2002-06-26 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物層の硬化方法
JP2002182387A (ja) * 2001-10-19 2002-06-26 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2002303971A (ja) * 2001-04-05 2002-10-18 Asahi Kasei Corp ドライフィルムレジスト
JP2003091067A (ja) * 2002-06-17 2003-03-28 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2008287227A (ja) * 2007-04-17 2008-11-27 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物及び積層体
WO2009147913A1 (ja) * 2008-06-02 2009-12-10 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法
WO2011013664A1 (ja) * 2009-07-29 2011-02-03 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体及びレジストパターン形成方法
JP2013117581A (ja) * 2011-12-01 2013-06-13 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7147983B1 (en) * 1996-10-07 2006-12-12 Shipley Company, L.L.C. Dyed photoresists and methods and articles of manufacture comprising same
MY152732A (en) * 2008-04-28 2014-11-28 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern and method for manufacturing printed wiring board
KR101514900B1 (ko) * 2009-03-13 2015-04-23 히타치가세이가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법
CN103076719B (zh) * 2011-10-26 2019-08-09 日立化成株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷配线板的制造方法
JP6064480B2 (ja) * 2011-10-26 2017-01-25 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02226148A (ja) * 1988-12-22 1990-09-07 Hoechst Ag 光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料
JPH02289602A (ja) * 1989-04-28 1990-11-29 Hitachi Chem Co Ltd 光重合性組成物

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5327605A (en) * 1976-08-26 1978-03-15 Sumitomo Metal Ind Silicaaalumina refractory materials
JPS59226002A (ja) * 1983-06-06 1984-12-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPS60164739A (ja) * 1984-02-07 1985-08-27 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JPH07103165B2 (ja) * 1987-04-14 1995-11-08 日立化成工業株式会社 光重合性組成物
DE3878349T2 (de) * 1987-03-17 1993-05-27 Asahi Denka Kogyo Kk Substituierte acridin-derivate und deren verwendung.
JP2570758B2 (ja) * 1987-08-19 1997-01-16 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物
EP0360443A1 (en) * 1988-09-03 1990-03-28 Hitachi Chemical Co., Ltd. Acridine compound and photopolymerizable composition using the same
JP2513498B2 (ja) * 1988-09-03 1996-07-03 旭電化工業株式会社 アクリジン化合物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02226148A (ja) * 1988-12-22 1990-09-07 Hoechst Ag 光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料
JPH02289602A (ja) * 1989-04-28 1990-11-29 Hitachi Chem Co Ltd 光重合性組成物

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08157744A (ja) * 1994-12-12 1996-06-18 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2002303971A (ja) * 2001-04-05 2002-10-18 Asahi Kasei Corp ドライフィルムレジスト
JP2002148797A (ja) * 2001-10-19 2002-05-22 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物層の硬化方法
JP2002182385A (ja) * 2001-10-19 2002-06-26 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物層の硬化方法
JP2002182387A (ja) * 2001-10-19 2002-06-26 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2003091067A (ja) * 2002-06-17 2003-03-28 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2008287227A (ja) * 2007-04-17 2008-11-27 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂組成物及び積層体
WO2009147913A1 (ja) * 2008-06-02 2009-12-10 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法
US8460853B2 (en) 2008-06-02 2013-06-11 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive element, resist pattern manufacturing method, and printed circuit board manufacturing method
WO2011013664A1 (ja) * 2009-07-29 2011-02-03 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体及びレジストパターン形成方法
JP5260745B2 (ja) * 2009-07-29 2013-08-14 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体及びレジストパターン形成方法
KR101505716B1 (ko) * 2009-07-29 2015-03-24 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 감광성 수지 적층체 및 레지스트 패턴 형성 방법
JP2013117581A (ja) * 2011-12-01 2013-06-13 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
DE69128343D1 (de) 1998-01-15
WO1992006412A1 (fr) 1992-04-16
DE69128343T2 (de) 1998-03-26
US5334484A (en) 1994-08-02
EP0503076B1 (en) 1997-12-03
JP2505637B2 (ja) 1996-06-12
EP0503076A1 (en) 1992-09-16
EP0503076A4 (en) 1993-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5051299B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法
JPH04136942A (ja) 光重合性組成物および光重合性エレメント
JP2011020998A (ja) 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法
JP2010215575A (ja) 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法
CH692422A5 (de) Alpha-Aminoacetophenon-Photostarter.
KR102669269B1 (ko) 화합물, 잠재성 염기 발생제, 상기 화합물을 함유하는 감광성 수지 조성물, 및 경화물
JP5344034B2 (ja) 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2001515500A (ja) α−アミノアルケン類に基づく光励起性の窒素含有塩基類
JP3673321B2 (ja) アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物
KR101040475B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 인쇄 배선판의 제조 방법
JP2002523393A (ja) 光活性化が可能な窒素含有塩基
WO2020241529A1 (ja) カルバモイルオキシム化合物並びに該化合物を含有する重合開始剤及び重合性組成物
JPH06236031A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP3111708B2 (ja) 光重合性組成物及び光重合性エレメント
US5089377A (en) Photopolymerizable composition and processes using acridine photoinitiators
JPH06295061A (ja) 光重合性組成物
JPH05249658A (ja) 感光性印刷版
JP2570758B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JPS61283645A (ja) 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物
US6093518A (en) Visible laser-curable composition
JP2693605B2 (ja) 光重合性組成物および光重合性エレメント
JPH07319159A (ja) 光重合性組成物
JP2693568B2 (ja) 光重合性組成物
JP2846132B2 (ja) 光開始剤および光重合性組成物
JPH11256088A (ja) アルカリ可溶型レジストインク用樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090402

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100402

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110402

Year of fee payment: 15

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110402

Year of fee payment: 15