JPH0393774A - ３又は５―フェニルピラゾール類又はその塩及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な３又ＩＩｉ５−７ェニルビラゾール類又
はその塩及び該化合物金有効成分とする除草剤に関する
ものである。

本発明の３−フェニルピラゾール類は、一般式（１） （式中、 Ｂｔは低級アルキル基を示し、 Ｒ２は ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・ホルミル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルキル
基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アシル基
、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級シアノア
ルキル基、 ・低Ｈヒドロキシアルキルｉ、 ・低級ホルミルオキシアルキル基、 ・低級アルコキシアルキル基、 ●低級アルキルチオアルキル基、 ・低級アルキルスルフィニルアルキル基、・低級アルキ
ルスルホニルアルキル基、●低級ヒドロキシカルポニル
アルキル基、ｅ低級アルコキシカルポニルアルキル基、
・低級ジアルコキシアルキル基、 ・置換基ヲ有しても良いフェノキシアルキル基、 ・シアノ基によって置換されても良いシクロアルキル基
、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルケニ
ル基、 ●ヒトロキシカルボニル基、 ・低級アルコキシカルポニル基、 ・アミノカルボニルアルキル基、 ・一Ｎ（１−Ｌ４）　Ｒ５　（式中、ｈ４及びＲ５は同
一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・・・ロゲン原子によクて置換されても良い低級アルキ
ル基、 ・・・ロゲン原子によって置換されても良い低級アシル
基、 ・低級アルケニル基、 ・低級アルキニル基、 ・低級アルコキシカルポニル基、 ・水素原子又は・・ロゲン原子によって置換されても良
い低級アルキル基から選択される同一又は異なっても良
い置換基を有するアミノカルポニル基、 低級アルキルスルホニル基又は ・低級アルキルアミノスルホニル基を示す。）、・一Ｃ
Ｈ＝Ｎ−０４６　（式中、Ｒ６は・水素原子、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルケニ
ル基、 ・・・ロゲン原子によって置換されても良い低級アルキ
ニル基、 ・置換基金有しても良いペンジル基を示す。）、．　−
Ｎ＝Ｃ（Ｒ？）　Ｒ８　（式中、Ｈ７及びＲ８は同一で
も異なっても良く、 ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・・・ロゲン原子によクて置換されても良い低級アルキ
ル基又は ・水素原子又は低級アルキル基から選択される同一又は
異なっても良い置換基を有するアミノ基を示す。）又は ・一〇〇−Ｎ（１’ｔ９）凡１Ｇ　（式中、Ｒ９及びＲ
ＩＯは同一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・ヒドロキシ基、 ・低級アルキル基、 ・・・ロゲン原子、低級アルコキシ基又は・・ロゲン原
子によって置換されても良いフェニル基を示す。） 全示し、 Ｒ，３は ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 シアノ基、 ・低級アルキル基又は、 ・低級アルコキシ力ルボニル基を示し、Ｘは同一又は異
なっても良い・飄ロゲン原子を示し、 ｔは０〜４の整数を示す。） で表され、本発明はその塩類をも包含する。

上記一般式（１）で表される化合物のうち除草活性等の
点で好１しい化合物としては次のものがあげられる。

■　｝ｉ，Ｉが低級アルキル基を示し、Ｒ２が ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・・・ロゲン原子によって置換されても良い低級アルキ
ル基、 ・低級シアノアルキル基、 ・低級アルコキシアルキル基を示し、 托３がハロゲン原子を示し、 Ｘが同一又は異なっても良い・・ロゲン原子を示し、 ｔが２の整数を示す一般式（１）で表わされる３−７エ
ニルビラゾール類又はその塩類。

■．下記の化合物から選択される前記■項記載の３−フ
ェニルピラゾール類又はその塩類。

＋１１３−（２．４−ジクロ口フェニル）−４，５−ジ
クロロ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール （２）５−シアノ−４−クロロ−３−（２．４−シクロ
ロフェニル）−１−メチル−１｝１−ピラゾール （３）　４−クロロ−３−（２．４−ジクロロフェニル
）−５−エチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール （４）４−クロロ−３−（２．４−ジクロロフェニル）
５−ｉ−プロピル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール （５）　Ｓ−ｔ−プチル−４−クロロ−５　−　（　２
．４−ジクロロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ
ール （６）４−クロロ−３−（２．４−ジクロロフェニル）
−５−ジクロロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール （７）４−クロロ−３−（２．４−ジクロロフェニル）
−５−（１−シアノ−１−メチルエチル）−１−メチル
−１Ｈ−ビラソ゛−ノレ（８）４−クロロ−５−（２．
４−・ジクロロフェニル）−１−メチル−５−メトキシ
メチル−１Ｈ−ピラゾール １た、本発明は、 一般式（■′） Ｒｌ （式中、 庇ｌは低級アルキル基を示し、 Ｒ２は ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・ホルミル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルキル
基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アシル基
、 ・・・ロゲン原子によクて置換されても良い低級シアノ
アルキル基、 ・低級ヒドロキシアルキル基、 ・低級ホル，ミオキシアルキル基、 ・低級アルコキシアルキル基、 ・低級アルキルチオアルキル基、 ・低級アルキルスルフィニルアルキル基、●低級アルキ
ルスルホニルアルキル基、●低級ヒドロキシカルポニル
アルキル基、●低級アルコキシカルポニルアルキル基、
・低級ジアルコキシアルキル基、 ゜置換基ヲ有しても良いフェノキシアルキル基、 ・シアノ基によって置換されても良いシクロアルキル基
、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルケニ
ル基、 ・ヒドロキシカルポニル基、 ・低級アルコキシカルポニル基、 ●アミノカルポニルアルキル基、 ・一Ｎ（Ｒ４）　ＲＳ　（式中、ｈ４及びＲ５は同一で
も異なっても良く、 ・水素原子、 ・・・ロゲン原子によって置換されても良い低級アルキ
ル基、 ・・・ロゲン原子によクて置換されても良い低級アシル
基、 ・低級アルケニル基、 ・低級アルキニル基、 ・低Ｒアルコキシカルボニル基、 ・水素原子又はハロゲン原子によって置換されても良い
低級アルキル基から選択される同一又は異なっても良い
置換基を有するアミノカルボニル基、 低級アルキルスルホニル基又は ・低級アルキルアミノスルホニル基金示す。）、・一Ｃ
｝ｉ＝Ｎ−０４６　（式中、比６は・水素原子、 ・・・ロゲン原子によって置換されても良い低級アルケ
ニル基、 ・・・ロゲン原子によクて置換されても良い低級アルキ
ニル基、 ・置換基金有しても良いペンジル基を示１）、−　−Ｎ
＝Ｃ（Ｒ７）　Ｒ’・（式中、Ｒ７及びＲ８は同一でも
異なっても良く、 ・水素原子、 ・・・ロゲン原子、 ・・・ロゲン原子によクて置換されても良い低級アルキ
ル基又は ・水素原子又ぼ低級アルキル基から選択される同一又は
異なっても良い置換基を有するアミノ基を示す。）又は ・−（，’０−Ｎ（Ｒ９）　ｄｌＧ　（式中、Ｒ９及び
ＲＩＧは同一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・ヒドロキシ基、 ・低級アルキル基、 ・・・ロゲン原子、低級アルコキシ基又はＩ・ロゲン原
子によクて置換されても良いフェニル基金示す。）を示
し、 ＦＬ３は ・水素原子、 ・・・ロゲン原子、 ・シアノ基、 ・低級アルキル基又は ・低級アルコキシ力ルポニル基を示し、Ｘは同一又は異
なっても良い・・ロゲン原子を示し、 ｔは０〜４の整数を示す。） で表される５−フエニルビラゾール類又はその塩類に関
するものである。

上記一般式（１′）で表される化合物のうち好１しい化
合物としては、 １｛，ｌが低級アルキル基金示し、 Ｒ２が ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルキル
基、 ・低級シアノアルキル基、 ・低級アルコキシアルキル基、 凡３がハロゲン原子を示し、 ｔが２の整数を示す５−フェニルピラゾール類又はその
塩類をあげることができる。

更に本発明は前記一般式（Ｉ）及び（１′）で表わされ
る３又は５−フェニルピラゾール類又はその塩類を有効
成分として含有する除草剤に関するものである。

不発明者等は新規な除草剤を創出すべく、鋭意研究を重
ねた結果、一般式（１）又は（■′）で表される３又は
５−フェニルビラゾール類又はその塩類が文献未記載の
新規化合物であシ、且つ低薬量で雑草に対して強い除草
効果を有することを見出し、本発明を完或させたもので
ある。

本発明の従来技術としては特開昭５０−１１７９３６号
、同５２−９１８６１号、同５４−７０２７０号、同５
５−９０６２号公報等に本発明と類似と思料される化合
物が除草剤として開示されているが、本発明の一般式（
１）又は（Ｉ′）で表される３又は５ーフェニルピラゾ
ール類又はその塩類は全く開示されて訃らず、しかもこ
れらの公報に開示の化合物に比して低薬量で優れた除草
効果を有するものである。

本発明の一般式（１′）で弄される５−フェニルピラゾ
ール誘導体又はその塩類は、本発明の一般式（Ｉ）で表
される３−７エニルピラゾール誘導体又はその塩類の構
造異性体である。

本発明の３−７エニルビラゾール類の構造異性体である
５−フエニルビラゾール類は５−フェニルピラゾール類
を製造する際に同時に生戊し、適当な分離方法、例えば
再結晶法、カラムクロマトグラ７イー等の方法によシ分
離することによシ製造することができる。

又、本発明の一般式（１）又は（１′）で表される３又
は５−７エニルピラゾール類の塩類としては、例えば塩
酸、硫酸等の鉱酸の塩の他、有機酸、例えばパラトルエ
ンスルホン酸等の塩を例示することができる。

本発明の一般式（１）で表される３−７エニルピラゾー
ル類の代表的な製造方法を、例えば図式的に示すと下記
のとうシ示すことができ，本発明の一般式（■′）で表
される５−７エニルピラゾール類も同時に分離すれば良
い。

ｉｌｌ．　Ａ法． （ＩＩＩ−１） （式中、Ｒｌ及びＸｔは前記に同じくし、：［｛，２−
１及びＲ３−１は低級アルコキシ力ルボニル基を示す。

） 即ち、一般式（ＩＩＩ−１）で表される化合物と一般式
（ｎ−１）で表される化合物を不活性溶媒及び塩基の存
在下に反応させることによシー股式（１−１）で表され
る３−フェニルピラゾール類を製造することができる。

本反応で使用できる不活性溶媒としては本反応の進行を
著しく阻害しないものであれば良く、例エばベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレ
ン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩
素化炭化水素類、メチルセロソルプ、ジエチルエーテル
等の鎖状エーテル類、ジオキサン、テトラノ・イドロフ
ラン等の環状エーテル類、アセトニトリル、ペンゾニト
リル等のニトリル類の他、スルホラン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン等を
例示することができるが、本発明はこれらの不活性溶媒
に限定されるものではない。

本発明で使用できる塩基としては、無機塩基又は有機塩
基を使用することができ、好Ｉしくはトリエチルアミン
、ピリジン等の有機三級アミン類の使用が良い。又これ
らの塩基を使用する場合、同時に使用する不活性溶媒で
希釈して使用しても良い。

本反応は等モル反応であるので、各反応剤金等モル使用
すれば良いが、一般式（Ｉｔ−１）で表される化合物を
過剰に使用しても良い。

本反応の反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点
域の範囲から選択され、好１しくは０℃乃至８０℃の範
囲から選択する゛のが良い。

本反応の反応時間は反応量、反応温度によシ一定しない
が数分乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法により、例え
ば溶媒抽出法等により単離し、必要に応じて再結晶法、
カラムクロマトグラフイー法等により精製することによ
り一般式（１−１）で表サれる３−フェニルピラゾール
類を製造することができる。

（ＩＩＩ−１） ａ・ｌ （１−２） （式中、Ｒ１、ＸＸ　ｔ及びＺは前記に同じくし、Ｒ２
−２は・・ロゲン原子、シアノ基、ホルミル基又は低級
アルコキシカルボニル基を示し、Ｒ”−”は水素原子、
ノ・ロゲン原子又は低級アルキル基を示す。） 即ち、一般式（１−　１　）で表される化合物と一般式
（Ｕ−２）で表される化合物を不活性溶媒及び塩基の存
在下に反応させることによシ一般式（１−２）で表され
る３−フエニルビラゾール類を製造することができる。

本反応はＡ法と同様に反応することによシー般式（１−
２）で表される３−フェニルピラゾール類を製造するこ
とができる。

（３）．Ｃ法． １ Ｒ′ （１−３） （式中、Ｒ’，　Ｘｔ及びＺは前記に同じ。）即ち、一
般式（１−　１　）で表される化合物と酢酸ビニルを不
活性溶媒及び塩基の存在下に反応させることによう一般
式（１−５）で表される５ー７ェニルピラゾール類を製
造することができる。

本反応はＡ法と同様に反応することによう一般式（１−
５）で表される化合物を製造することができる。

（ＩＩ［−　１） Ｚ （ＩＩ−３） （ＩＶ−　１　） （ＩＶ−２） 凡１ （１−４） （式中、Ｒ１、Ｘ，ｔ及びＺは前記に同じくし、Ｒ２−
’及びＲＩ′は低級アルキル基又は低級ノ・ロアルキル
基を示す。） 即ち、一般式Ｃｍ−１’）で表される化合物と一般式（
ＩＩ−３）で表される化合物を不活性溶媒及び塩基の存
在下に反応させ一般式（ＩＶ−１）で表される化合物と
し、該化合物（ＩＶ−１　）を単離し又は単離せずして
、加水分解反応に付すことによう一般式（ＩＶ−　２　
）で表される化合物とし、該化合物（ＩＶ−２）を単離
し又は単離することなく、脱炭酸反応することによう一
般式（１−４）で表される３−フェニルピラゾール類を
製造することができる。又一般式（１−４）で表される
３−フェニルピラゾール類を後記のＥ法一（２）と同様
にしてハロゲン化することによう一般式（１−４）で表
される３−７エニルビラゾール類の４位にハロゲン原子
を導入することができる。

（１１　　（１−１）→（ＩＶ−１　）本反応で使用で
きる不活性溶媒としては本反応の進行を著しく阻害しな
いものであれば良く、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、ジクロロメ
タン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素化炭化水素類
、酢酸エチルエステル等のエステル類、アセトニトリル
等のニトリル類、メチルセロソルプ、ジエチルエーテル
、シフロビルエーテル、メチルエチルエーテル等の鎖状
エーテル類、ジオキサン、テトラハイドロフラン等の環
状エーテル類の他、スルホラン、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン等を例示す
ることができるが、本発明はこれらの不活性溶媒に限定
されるものではない。

本発明で使用できる塩基としては、無機塩基又は有機塩
基を使用することができ、好筐しくはトリエチルアミン
、ピリジン等の有機三級アミン類の使用が良い。又これ
らの塩基を使用する場合、同時に使用する不活性溶媒で
希釈して使用しても良い。

本反応は等モル反応であるので、各反応剤を等モル使用
すれば良いが、一般式（［一３）で表される化合物を過
剰に使用しても良い。

本反応の反応温度は０℃乃至８０℃の範囲から選択され
、好筐し〈は１０℃乃至３０℃の範囲から選択するのが
良い。

本反応の反応時間は反応量、反応温度等によｂ一定しな
いが数分乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法によｂ１例え
ば溶媒抽出法等によシ単離し、必要に応じて再結晶法、
カラムクロマトグラフィー法等によう精製することによ
り一般式（ｆｌ／−　１　）で表される化合物を製造す
ることができる。

（２）　　（ＩＶ−１）→（ＩＶ−２）本反応で使用で
きる不活性溶媒としては本反応の進行を著しく阻害しな
いものであれば良く、例エばメタノール、エタノール、
プロパ／　−　ル、プタノール等のアルコール類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸
エチルエステル等のエステル類、アセトニトリル等のニ
トリル類、ジエチルエーテル、ジプロビルエーテル、メ
チルエチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオキサン、
テトラハイド口フラン等の環状エーテル類の他、スルホ
ラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
・ジメチルスルホン、水等を例示することができるが、
本発明はこれらの不活性溶媒に限定されるものではない
。

本発明で使用できる塩基としては、例えば、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基
の他有機塩基を使用することもでき、好筐しくは無機塩
基を使用するのが良い。

本反応は等モル反応であるので、各反応剤を等モル使用
すれば良いが、塩基を過剰に使用しても良い。

本反応の反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点
域の範囲から選択され、好まし〈は１０℃乃至３５℃の
範囲から選択するのが良い。

本反応の反応時間は反応量、反応温度等によシ一定しな
いが数分乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法によシ、例え
ば溶媒抽出法等によシ単離し、必要に応じて再結晶法、
カラムクロマトグラフィー法等によｂ精製することによ
シ一般式（ＩＶ−　２　’）で表される化合物を製造す
ることができる。

（３）　　（　ＩＶ　−　２　）→（１−４）本反応で
使用できる不活性溶媒としては本反応の進行を著しく阻
害しないものであれば良く、例えばＤ法一（２）と同様
の溶媒を使用することができる。

本反応は溶媒の存在下に加温することにより脱炭酸反応
することができ、反応温度は３５℃乃至使用する不活性
溶媒の沸点域の範囲から選択され、好筐しくは５０℃乃
至１５０℃の範囲から選択するのが良い。

本反応の反応時間は反応量、反応温度等によシ一定しな
いが数分乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法によｂ１例え
ば溶媒抽出法等によう単離し、必要に応じて再結晶法、
カラムクロマトグラフィー法等により精製することによ
り一般式（１−４）で表される５−フエニルビラゾール
類を製造することができる。又、一般式（．１−４）で
表される３−フェニルピラゾール誘導体は、一般式（１
１／−１）で表される化合物を一般式（ＩＶ−２）で表
される化合物へ変換する反応に於いて、反応温度を５０
℃以上の温度で行えば一般式（ＩＶ−２）で表される化
合物を単離せずして製造することができる。

（５）・Ｅ法・ （ＩＩ−　１　） Ｒ’ （ｆｌ／−３） （式中、Ｒ１、Ｘｔ及びＺは前記に同じくし、Ｒ２−４
はハロゲン原子によって置換されても良イ低級アルキル
基又は低級アルコキシカルポニル基を示し、ＦＬ８−８
は・・ロゲン原子を示す。）即ち、一般式（１−　１　
’）で表される化合物と一般式（ＩＩ−４）で表される
化合物を不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させ一般式
（ＩＶ−３）で表される化合物とし、該化合物（ＩＶ−
　３　’）を単離せずしてハロゲン化反応に付すことに
より一般式（１−５）で表される３−７エニルビラゾー
ル類を製造することができる。更に、一般式（１−５）
で表される３−７エニルピラゾール類を同様にして・・
ロゲン化することによＶ，　ｎ２−４がＩ・ロゲン原子
によって置換されたシアノアルキル基に相当する３−７
エニルビラゾール類を製造することもできる。

（１）　　＜ｍ−１）→（ＩＶ−３）．本反応はＤ法−
（リと同様に行うことによう一般式（ＩＶ−３）で表さ
れる化合物を製造することができる。

（２）　　（　ＩＶ　−　３’）→（１−５）．本反応
で使用できる不活性溶媒としては本反応の進行を著しく
阻害しないものであれば良く、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素等の塩素化炭化水素類、酢酸
エチルエステル等のエステル類、アセトニトリル等の二
トリル類、メチルセロソルプ、ジエチルエーテル、ジプ
ロピルエーテル、メチルエチルエーテル類の鎖状エーテ
ル類、ジオキサン、テトラ・・イドロ７ジン等の環状エ
ーテル類の他、ピリジン等を例示することができるが、
本発明はこれらの不活性溶媒に限定されるものではない
。

本発明で使用できるハロゲン化剤としては、例えば塩素
化では塩化チオニル、五塩化リン、三塩化リン、塩化ス
ル７リル、臭素等のハロゲン化剤を例示することができ
、好壕しくは塩化スルフリルが良い。

本反応のハロゲン化剤の使用量は等モル使用すれば良い
が、過剰に使用するのが好１しい。

本反応の反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点
域の範囲から選択され、好１しくは０℃乃至１５０℃の
範囲から選択するのが良い。

本反応の反応時間は反応量、反応温度等によｂ一定しな
いが数分乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法によｂ１例え
ば溶媒抽出法等によｂ単離し、必要に応じて再結晶法、
カラムクロマトグラフィー法等により精製することによ
ｂ一般式（１−５）で表される５−フェニルピラゾール
類を製造することができる。

（６）．Ｆ法． （１−　１　） Ｒ′ （■−４） Ｒ’ （■−５） Ｗ （１−６） （式中、Ｒ’、Ｒ”、Ｘｔ及びＺは前記に同じくし、Ｒ
２−５は低級アルキル基又は低級シクロアルキル基を示
し、及びＲ　は低級アルケニル基又は低級シクロアルケ
ニル基を示す。）即ち、一般式（１−１）で表される化
合物と一般式（ＩＩ−５）で表される化合物を不活性溶
媒及び塩基の存在下に反応させ一般式（ＩＶ−４）で表
される化合物とし、該化合物（１’／−１　）を単離せ
ずして水素添加反応に付すことによう一般式（ＩＶ−５
　）で表される化合物とし、該化合物（■−５）を単離
することなくハロゲン化反応することによシ一般式（１
−６）で表される３−フエニルビラゾール類を製造する
ことができる。

（リ　　（１−　１　）→（ＩＶ−４）．本反応はＤ法
一（１）と同様に行うことによシー般式（ＩＶ−　３　
）で表される化合物を製造することができる。

（２）　　（ＩＶ−４）→（ＩＶ−５）．本反応で使用
できる不活性溶媒としてはメタノール、エタノール、プ
ロパノール、ブタノール等のアルコール類、メチルセロ
ソルプ、ジエチルエーテル、ジプロビルエーテル、メチ
ルエチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオキサン、テ
トラハイドロフラン等の環状エーテル類、ギ酸、酢酸等
の有機酸類を例示することができる。

本接触水素添加法では常圧又は加圧下に反応することが
でき、水素添加触媒としてはラネーニッケル、パラジウ
ム炭素、酸化パラジウム、酸化白金、白金黒等を例示す
ることができる。

水素添加触媒の使用量はラネーニッケル等を使用する場
合は、一般式（ＩＶ−　４　）で表される化合物の重量
に対して５〜２０重量％、．白金、パラジウム等の貴金
属触媒を使用する場合は同様にＣＬＯ２〜５重量％の範
囲から選択して使用すれば良い。

本反応の反応温度は０℃乃至１５０℃の範囲から選択で
き、好寸し〈は１０℃乃至１００℃の範囲から選択する
のが良い。

反応時間は反応量、反応時間等によシ一定しないが数分
乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法によシ、例え
ば溶媒抽出等の方法によう単離し、必要に応じて再結晶
法、カラムクロマトグラフィー法等によシ精製し一般式
（ＩＶ−５）で表される化合物を製造することができる
。

（３）　　（　ＩＶ　−　５　’）→（１−６），本反
応はＥ法−（３）と同様にして一般式（１−５）で表サ
れる３−フエニルビラゾール類を製造することができる
。

（７）．　Ｇ法・ Ｈ／ （１−７） Ｗ （１−８） （式中、Ｒ１、Ｒ８−８、立及びＺは前記に同じくｕ、
Ｒ２−６はハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスル
ホニル基、ヒドロキシカルホニル基、アルコキシカルポ
ニル基、低級ジアルコキシカルポニル基又はフェノキシ
基を示し、ｍぱ１〜５の整数を示し、Ｍはアルカリ金属
原子を示す。） 即ち、一般式（１−７）で表される３−７エニルビラゾ
ール類と一般式（ＩＩ−６）で表される化合物を不活性
溶媒及び塩基の存在下に反応させることにより一般式（
１−８）で表される３−フェニルピラゾール類を製造す
ることができる。

本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しないものであれば良く、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノール等のアルコール類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセ
トン、メチルエチルケトン等の脂肪族ケトン類、アセト
ニトリル、ペンゾニトリル等のニトリル類、メチルセロ
ソルブ、ジエチルエーテル、ジプロビルエーテル等の鎖
状エーテル類、ジオキサン、テトラハイドロフラン等の
環状エーテル類、スルホラン、ジメチルスルホン、ジメ
チルスルホキシド等を例示することができる。本反応は
これらの不活性溶媒に限定されるものではなく、これら
の不活性溶媒は単独で使用しても良く、混合して使用す
ることもできる。

本反応は等モル反応であるので、等モル使用すれば良い
が、一般式（ＩＩ−６）で表される化合物を過剰に使用
しても良い。

本反応で使用できる塩基としては、無機塩基又は有機塩
基を使用することができ、無機塩基としては、例えばナ
トリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウム等の
アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩
若し〈はアルコラート等を、有機塩基としては、例えば
トリエチルアミン、ピリジン等を例示することができる
。塩基の使用量は一般式（１−７）で表される３−フェ
ニルビラゾール類に対して等モル乃至過剰モルの範囲か
ら選択して使用すれば良い。

反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択して使用すれば良く、好１しくは０℃乃至１５
０℃の範囲から選択して使用すれば良い。

反応時間は反応量、反応温度等によって一定しないが数
分乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法によう、例え
ば溶媒抽出等の方法によシ単離し、必要に応じて再結晶
法、カラムクロマトグラフィー法等によシ精製し、一般
式（Ｉ−８）で表される３一フエニルピラゾール類を製
造することができる。

（８）．Ｈ法・ Ｈ−１ Ｘｔ （１−１０） Ｒ１ （１−１１） （式中、Ｒｌ　、Ｒ”−”　　Ｒ＠、Ｘｔ及びＺぱ前記
に同じ＜　Ｌ、Ｒ”は水素原子又は低級アルキル基を示
す。） 即ち、一般式（１−９）で表される３−フェニルピラゾ
ール類を塩基の存在下、ジメチルスルホキサイド（ＤＭ
ＳＯ）によシ酸化反応を行い一般式（　１−１０　”）
で表される３−フエニノレピラゾール類とし、該３−７
ェニルビラゾール！（１−１０）を単離し、又は単離せ
ずして一般式（ｎｌ−２）で表される化合物と不活性溶
媒及び塩基の存在下に反応させることによシ一般式（Ｉ
−１１）で表される３−７エニルビラゾール類を製造す
ることができる。又、一般式（１−１０）で表される３
−フエニルビラゾール類において、Ｒ　が低級アルキル
基の場合、Ｅ法−（２）と同様に・・ロゲン化すること
にようピラゾールの５位が７１ロゲン原子によって置換
された低級アルキルカルポニル基に相当する３−７エニ
ルピラゾール類を製造することができる。

（１）　　（　Ｉ　−　９　）→（１−１０）．本反応
で使用するＤＭＳＯは反応剤としてのみならず不活性溶
媒としても使用する。したがって過剰に使用すれば良い
。

本反応で使用する塩基としては無機塩基を使用すること
ができ、好１しい無機塩基としては炭酸水素ナトリウム
を例示することができる。

反応温度は１０℃乃至１８０℃の範囲から選択して使用
すれば良く、好１しくは１５℃乃至１５０℃の範囲から
選択して使用すれば良い。

反応時間は反応量、反応温度等によって一定しないが数
分乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法によシ、例え
ば溶媒抽出等の方法によう単離し、必要に応じて再結晶
法、カラムクロマトグラフィー法等によう精製すること
によって一般式（１−１０）で表される３−フェニルピ
ラゾール類を製造することができる。

（２）　　（　１　−　１　０　）→（１−１１）　．
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著し〈阻害しないものであれば良＜、例，ｔばメタノ
ール、エタノール、プロパノール等ノアルコール類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢
酸エチルエステル等のエステル類、アセトニトリル、ペ
ンゾニトリル等のニトリル類、メチルセロンルフ、ジエ
チルエーテル、ジプロピルエーテル等の鎖状エーテル類
、ジオキサン、テトラノ・イドロフラン等の環状エーテ
ル類、スルホラン、ジメチルスルホン、ジメチルスルホ
キシド等を例示することができる。本反応はこれらの不
活性溶媒に限定されるものではなく、これらの不活性溶
媒は単独で使用しても良く、混合して使用することもで
きる。

本反応で使用できる塩基としては無機塩基を使用するこ
とができ、無機塩基としては、例えばナトリウム、カリ
ウム、マグネシウム又はカルシウム等のアルカリ金属又
はアルカリ士類金属の水酸化物、炭酸塩若しくはアルコ
ラート等を、有機塩基としては、例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン等を例示することができる。塩基の使用量
は一般式（　１−１０）で表される３−７エニルピラゾ
ール類に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して
使用すれば良い。

本反応は等モル反応であるので、等モル使用すれば良い
が、一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物を過剰に使
用しても良い。

反応温度は０℃乃至１５０℃の範囲から選択して使用す
れば良く、好１しくは１０℃乃至１００℃の範囲から選
択して使用すれば良い。

反応時間は反応量、反応温度等によって一定しないが数
分乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法によｂ１例え
ば溶媒抽出等の方法によシ単離レ必要に応じて再結晶法
、カラムクロマトグラフィー法等によう精製し一般式（
１−１１）で表される３−７エニルピラゾール類を製造
することができる。

凡１ （１−１１’） （式中、Ｒ’　，　Ｒ２−’，　Ｒ’″″３１　　Ｘ及
びｌは前記に同じ。）即ち、一般式（１−１０）で表さ
れる３−フェニルピラゾール類を不活性溶媒の存在下に
ＤＡＳＴ試薬と反応させ、一般式（１−１１’）で表さ
れる３−フエニルビラゾール類を製造することができる
。

本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しないものであれば良く、例えばＥ法−（
２）に例示の不活性溶媒を使用することができ、これら
の不活性溶媒は単独で若しくは混合して使用することも
できる。

本反応は等モル反応であるので、ＤＡＳＴ試薬を一般式
（Ｉ−１０）で表される３−フエニルビラゾールに対し
て等モル使用すれば良いが、過剰に使用することもでき
る。

反応温度ぱ０℃乃至１００℃の範囲から選択すれば良く
、好ましくは０℃乃至１００℃の範囲から選択すれば良
い。

反応時間は反応規模、反応温度によシ一定しないが、数
分乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、反応液から目的物を常法によシ、例えば溶
媒抽出等の操作を行い、必要によシ再結晶法、カラムク
ロマトグラフィー法等で精製を行うことによう一般式（
｝−１１’）で表される３−フェニルピラゾール誘導体
を製造することができる。

（９３．１法 （式中、Ｒｌ　、１３Ｍ及びＸ，Ａは前記に同じくし、
Ｒ？ｌは分枝した低級シアノアルキル基を示す。） 即ち、一般式（｝−１２　）で表される３−フエニルビ
ラゾール類を不活性溶媒及び塩基の存在下にアルキルハ
ライドと反応させることによシアルキル化を行い一般式
（１−１５）で表される３−フエニルヒラゾール類を製
造することができる。

本反応で使用できる不活性溶媒としてはＧ法と同様の不
活性溶媒を使用することができ、好１しくはジメチルス
ルホキサイド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミド等を使用するのが良い。

本発明で使用できる塩基としては水素化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基の他、カ
リウムｔ−プトキテイド等のアルコラート類を使用する
ことができる。

反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択すれば良く、好１しくぱ０℃乃至１５０℃の範
囲から選択すれば良い。

反応時間は反応量、反応温度等によシ一定しないが数分
乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、目的物金含む反応液を常法により、例えば
溶媒抽出等の方法によシ単離し、必要に応じて再結晶法
、カラムクロマトグラフィ一法によシ精製し目的とする
一般式（１−１１で表される３−フェニルピラゾール類
ヲ製造することができる。

叫・Ｊ法・ Ｒ′ （１−１４） Ｒ１ （１−１５） ＲＩ （１−１６） （式中、Ｒｌ　、Ｒ２−３　、ＢＳ”’３、Ｘ，Ａ及び
Ｚは前記に同じ。） 即ち、一般式（１−１４）で表される３−フェニルビラ
ゾール類を加水分解反応に付して一般式（Ｉ−１５）で
表される３−フェニルピラゾール類とし、該３−フェニ
ルピラゾールｆｉ（１−１５）を単離し又は単離せずし
て酸ハロゲン化し、一般式（Ｉ−１６）で表される３−
フェニルピラゾール類の酸ハライド類とし、該３−フェ
ニルビラゾール類の酸ハライド類（１−１６）を単離し
父は単離せずして、不活性溶媒及び塩基の存在下に低級
アルコール類と反応させることによＤ　−ｆｆ式（１−
１７）で表される３−フェニルピラゾール類を製造する
ことができる。

又、一般式（１−１０）で表される３−フエニルビラゾ
ール類を常法によって還元することにょシ、Ｚがヒドロ
キシ基に相当する３−フェニルビラゾール類′ｊｋ製造
することができる。

（１）　　（１−１４）→（１−１５）　，本反応は加
水分解反応であう、不活性溶媒としては塩酸、硫酸等の
鉱酸を使用し、該鉱酸は加水分解反応の反応剤として使
用することができる。

本反応温度は２０℃乃至２００℃の範囲から選択するこ
とができ、好筐しくは５０℃乃至１５０℃の範囲から選
択すれば良い。

反応時間は反応量、反応温度等によク一定しないが数分
乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、目的物を含む反応液を常法により、例えば
溶媒抽出等の方法により単離し、必要に応じて再結晶法
、カラムクロマトグラフィー法によシ精製して目的とす
る一般式（ｊ−１５）で表される３−フェニルピラゾー
ル類を製造することができる。

（２＋　　（１−１５）→（１−１６）　．本反応は酸
ハロゲン化反応で、本反応で使用できる不活性溶媒どし
ては塩化メチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等ノ芳香族炭化水素類、メチルセロソルブ
、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル等の鎖状エー
テル類、ジオキナン、テトラハイド０　７　５ン等の環
状エーテル類を使用するこトカできる。

酸ハロゲン化剤としては塩化チオニル、三塩化リン、五
塩化リン等を使用することができる。

酸ハロゲン化剤の使用量は一般式（［−１５）で表され
る３−フェニルピラゾール誘導体に対して等モル乃至過
剰ＶｃＩｊＩｆ用すれば良く、好ましくは過剰量使用す
るのが良い。

反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域から選
択でき、好ましくは３０℃乃至１５０℃の範囲から選択
すれば良い。

反応時間は反応量、反応温度等により一定しないが数分
乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、Ｊ法−（１）と同様にすることにより一般
式（１−１６）で表される３−フェニルピラゾール類ｔ
−製造することができる。

（３）　　（１−１６）→（１−１７）　，本反応はエ
ステル化反応で、本反応で使用できる不活性溶液として
ぱＪ法一（２）で使用できる不活性溶媒の他に、アセト
ニトリル、ペンゾニトリル等のニトリル類、メタノール
、エタノール、プロパノール等のアルコール類を使用す
ることができる。不活性溶媒としてアルコール類を使用
する場合、アルコール類はエステル化剤としての働きも
するものである。

本反応で使用できる塩基としては、無機塩基又は有機塩
基を使用することができ、好壕しくはビリジ／、４−ジ
メチルアミ／ビリジン、ジメチルアニリン、１，８−ジ
アザビシク口［　５，　４．０］−７−ウンデセン（Ｄ
ＢＵ）等の有機塩基の使用が好１しい。

反応剤のアルコール類及び塩基の使用量は等モル反応で
あるので等モル使用すれば良く、過剰に使用しても良い
。

反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域から選
択でき、好１しくは０℃乃至１５０℃の範囲から選択す
れば良い。

反応時間は反応量、反応温度等によシ一定しないが数分
乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、Ｊ法−（１）と同様にすることにより一般
式（｛−１７）で表される３−フェニルピラゾール類を
製造することができる。

αυ．Ｋ法． ｌ Ｒ１ ＣＩ−１８） Ｒ，Ｉ （１−１９） （１−２０） Ｒ，１ （Ｉ−２１） （式中、Ｒ’　％　Ｒ２−”　、Ｒ３−”　％　Ｒ’、
Ｒ’，Ｘ，＃及びＺは前記に同じ。） 即ち、一般式（Ｉ−１８）で表される３−フェニルピラ
ゾール類を不活性溶媒及び塩基の存在下に加水分解し、
一般式（１−１９）で表される５−フェニルピラゾール
類を製造し、該３−フェニルピラゾール類（１−１９）
ｔ−単離し又は単離せずして不活性溶媒の存在下に酸ハ
ロゲン化し、ー般式（１−２０）で表される３−フェニ
ルピラゾール類を製造し、次いで該一般式（１−２０）
で表される５−フェニルピラゾール類を一般式（Ｉｆ−
７）で表されるアミン類と不活性溶媒の存在下及び塩基
の存在下若しくは不存在下に反応させることによって一
般式（１−２１）で表される３−フェニルピラゾール類
を製造することができる。

更に一般式（１−２１）で表される５−フェニルピラゾ
ール類Ｒ４及びＲ５が水素原子の場合、五酸化リンによ
シ一般式（１−２１）で表される３−フェニルビラゾー
ル類を製造することができる。

＋１）　　（１−１８）→（１−１９）．本反応は加水
分解反応であシ、Ｂ法−（２）と同様に反応させること
によシ一般式（Ｉ−１９）で表される３−フェニルピラ
ゾール類ｔ−製造することができる。

（２３　　（　１　−　１　９　）→（Ｉ＝−２０　）
．本反応は酸ハロゲン化反応であり、Ｊ　去−　（２）
と同様に反応させることによう一般式（１−２０）で表
される３−フェニルビラゾール類を製造することができ
る。

（３）　　（１−２０）→（１−２１）．本反応はＪ法
一（３）と同様に反応させることにヨシ一般式（　ｉ−
２　１　）で表される３−フェニルピラゾール類を製造
することができる。

父、塩基を使用しない場合、一般式（ＩＩ−７）で表さ
れるアミン類を過剰に使用すれば良い。

（４）’（１−２１）→（１−２２）．本反応で使用で
きる不活性溶媒としては塩化メチレン、ジクロロメタン
、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
、アセトニトリル、ペンゾニトリル等のニトリル類を使
用することができる。

五酸化リンの使用量は、一般式（１−２　１　）で表さ
れる３−フエニルビラゾール類に対して約１７３モル乃
至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良く、好まし
くは過剰量使用するのが良い。

反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域から選
択でき、好１しくは０℃乃至１５０℃の範囲から選択す
れば良い。

反応時間は反応量、反応温度等によシ一定レないが数分
乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、Ｊ法−（１）と同様にすることによシ一般
式（１−２２）で表される３−フェニルピラゾール類を
製造することができる。

Ｑ６．Ｌ法． Ｒ１ （　１’−　２　４　） Ｒｌ （［−２３）　　ノ・ロゲン化　　　　　　　　　（１
−２５）＋　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
＋（式中、Ｒ’　，　Ｒ？３、Ｒ３−３、Ｘ及びｌは前
記に同じ。） 即ち、一般式（［［［−３）で表される化合物と一般式
（　ｎ−８　）で表されるヒドラジン類とを不活性溶媒
の存在下に反応させ一般式（１−２３）で表される５−
フエニルビラゾール類及び一般式（Ｉ′−２４）で表さ
れる５−フエニルヒラソール類とし、該一般式（１−２
３）で表される３−フエニルビラゾール類及び一般式（
■’−２４）で表される５−フェニルビラゾール類をそ
れぞれ単離し父単離せずして不活性溶媒の存在下にハロ
ゲン化剤によってハロゲン化し、一般式（１−２５）で
表される３−フェニルピラゾール類及び一般式（１’−
２６）で表される５−フェニルピラゾール類体とし、そ
れぞれを単雌することにより一般式（１−２５）で表さ
れる３−フェニルピラゾール類及び一般式（１’−２６
）で表される５−フエニルビラゾール類を製造すること
ができる。

（１）　　（１−３）→（１−２５　）　＋　（　１’
−２４　）　．本反応で使用できる不活性溶媒としては
、例エばメタノール、エタノール、プロパノール等のア
ルコール類、塩化メチレン、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ヘンゼン
トルエン、キシレン等ノ芳香族炭化水素類、メチルセロ
ソルブ、ジェチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオキ
テン、テトラハイドロフラン等の環状エーテル類、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水等を例示
することができる。これらの不活性溶媒は単独で使用し
ても曳く、混合して使用しても良い。

本反応で使用丁る一般式（Ｉｔ−８）で表されるヒドラ
ジン類は各種塩の形で使用しても良く、適当な濃度の水
溶液の形で使用しても良い。

本反応は等モル反応であるので等モル使用すれば良いが
、一般式（Ｉｔ−８）で表されるヒドラジンａｔ−過剰
に使用することもできる。

反応温度は０℃乃至１吏用する不活性溶媒の沸点域の範
囲から選択すれば良く、好ましくは１０℃乃至１５０℃
の範囲から選択することができる。

反応時間は反応量、反応温度等によシ一定しないが数分
乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、目的物を含む反応液から常法により、例え
ば溶媒抽出等の操作金行い、再結晶法、カラムクロマト
グラフィー等の方法によシ一般式（Ｉ−２３）で表され
る３−フエニルビラゾ一ル類及び一般式（１’−２４）
で表される５−フエニルビラゾール類を分Ｂ精製すれば
良い。

又一般式（１−２３）で表される６−フェニルピラゾー
ル類及び一般式（１’−２４）で表される５−フェニル
ピラゾール類を混合物のまま次の反応に供しても良い。

（２）　　（１−２３）＋（１’−２４）→（１−２５
）＋ＣＩ’−２６）−本反応は一般式（１−２３）で表
される３−フェニルピラゾール類及び一般式（｛’−２
４）で表される５−フェニルビラゾール類の単離した化
合物をそれぞれ反応しても良く、混合物として反応七行
い、適当な方法によシそれぞれ単離しても良く、反応は
Ｅ法−（２）と同様に行うことによク一般式（ｉ−２５
）で表される３−フェニルピラゾール類及び一股式（ｉ
’−２６）で表される５−フエニルビラゾール類を製造
することができる。

（１．　Ｍ法． （ＩＩＩ−４） （Ｉ−２７） Ｒｌ （１−３０） Ｒｌ （１−２８） Ｒ１ （Ｉ−３１） （１−２９） （Ｉ−５２） （式中、Ｒｌ％Ｒ３−３Ｒ４、Ｒ５、Ｘ％ｌ及びＺは前
記に同じ。） 即ち、一般式（Ｉ［Ｉ−４）で表される化合物と一般式
（ＩＩ−８）で表されるヒドラジン類を不活性溶媒の存
在下に反応させ、一般式（Ｉ−２７）で表サれる３−フ
ェニルピラゾール類を製造し、得られた３−フェニルピ
ラゾール類（Ｉ−２７）を不活性溶媒及び塩基の存在下
にアセテル化反応を行い一般式（Ｉ−２８）で表される
３−フェニルピラゾール類を製造し、次いで得られた３
−フェニルピラゾール類（Ｉ−２８）を不活性溶媒の存
在下にハロゲン化剤にようハロゲン化し、般式（１−２
９）で表される３−フェニルピラゾール類を製造する。

次いで得られた５−フェニルピラゾール類（１−２９）
を不活性溶媒及び脱アセチル化剤の存在下に脱アセチル
化させ、一般式（１−３０）で表される５−７ェニルビ
ラゾール類を製造し、得られた一般式（１−３０）で表
される３−フェニルピラゾール類を不活性溶媒及び塩基
の存在下に一般式（ＩＩ−９）で表されるノ・ライド類
と反応させて一般式（１−３１）で表される５一フエニ
ルピラゾール類を製造する。更に得られた５−フェニル
ピラゾール類（１−３１）を不枯性溶媒及び塩基の存在
下に一般式（ＩＩ−１０）　　で表されるハライド類と
反応させて一般式（１−３２）で表される３−フェニル
ピラゾール類を製造することができる。

（１）　　（　ＩＩＩ−　４　）→（Ｉ−２７）．本反
応はＬ法−（１）と同様に反応を行うことによう一般式
（Ｉ−２７）で表される６−フェニルピラゾール類を製
造することができる。

（２１　　（　１　−　２　７　）→（１−２８）本反
応で使用できる不活性溶媒としては、例エハ塩化メチレ
ン、ジクロ口メタン、クロロホルム、四塩化炭素等のノ
・ロゲン化炭化水・素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ペンゾニト
リル等の二トリル類、メチルセロンルプ、ジエチルエー
テル等の鎖状エーテル類、ジオキサン、テトラハイドロ
フラン等の環状エーテル類等の不活性溶媒を使用するこ
とができる。

本反応で使用できるアセテル化剤としては、例えば塩化
アセチル、一無水酢酸等を使用することができ、無水酢
酸をアセチル化剤として使用する場合は塩基の不存在下
でも反応させることができる。

本発明で使用できる塩基としては無機塩基又は有機塩基
を使用することができ、例えば無機塩基としてはナトリ
ウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム等のアルカ
リ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等る例
示することができ、有機塩基としてはトリエチルアミン
等の有機塩基を例示することができる。

本反応は等モル反応であるのでアセチル化剤及び塩基を
一般式（１−２７）で表される３−フェニルピラゾール
類に対してそれぞれ等モル使用すれば良く、過剰に使用
しても良い。

反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択され、好瞥し〈は０℃乃至１５０℃の範囲で行
われる。

反応時間は反応量、反応温度等によシ一定しないが数分
乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、反応液を常法によシ、例えば溶媒抽出法等
によシ目的物を単離し、必要により再結晶法、カラＡク
ロマトグラフィー法等の方法によシ精製することによっ
て一般式（１−２７）で表される３−フェニルピラゾー
ル類を製造することができる。

（３）　　（１−２８）−（１−２９）．本ハロゲン化
反応ＦｉＥ法−（２》と同様に反応を行うことにより一
般式（Ｉ−２９）で表される３一フェニルピラゾール類
を製造することができる。

（４１　　（　１　−　２　９　）→（１−３０）．本
脱アセチル化反応は酸性又は塩基性条件下に行うことが
でき、酸性条件下では鉱酸を不活性溶媒及び反応剤とし
て使用することができ、塩基性条件下では不活性溶媒と
してメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコ
ール類、ジオキサン、テトラハイドロフラン等の環状エ
ーテル類を使用することができる。

本反応で使用できる脱アセチル化剤としては酸又は塩基
を使用することができ、酸としては、例えば塩酸、硫酸
等の鉱酸、塩基としては、例えば水酸化ナ｝　ＩＪウム
、水酸化カリウム等の無機塩基を使用することができる
。

酸又は塩基の使用量は一般式（Ｉ−２９）で表される３
−フエニルビラゾール類に対して等モル乃至過剰に使用
することができ、好普し〈ぱ過剰量使用するのが良い。

反応温度Ｆｉａ℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範
囲から選択され、好筐し〈は０℃乃至１５０℃の範囲で
行われる。

反応時間は反応量、反応温度等によシ一定しないが数分
乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、反応液を常法により、例えば溶媒抽出法等
により目的物を単離し、必要によシ再結晶法、カラムク
ロマトグラフィー法等の方法によシ精製することによっ
て一般式（Ｉ−５０）で表される３−フェニルピラゾー
ル類を製造することができる。

（５）　　　（　Ｉ　−　３　０　）→（Ｉ−５１）．
（６１　　　（Ｉ−３１）→（１−３２）．（５）及び
（６）の反応ＦｉＧ法と同様ＶＣカとなうことによｂ一
般式（［３１）及び一般式（Ｉ−３２）で表される３−
７ェニルビラゾール類を製造することができる。

Ｑ４）　　Ｎ法． （１−３０） （１−３４） （式中・Ｒ１・Ｒ３−３Ｒ７、Ｒ’，Ｘ及びｌは前記に
同じ。） 即ち、一般式（１−３０）で表される３−７ェニルピ２
ゾール類と一般式（Ｉｆ−１１）で表される化合物を不
活性溶媒及び触媒の存在下に反応させ、一般式（１−３
４）で表される３−フェニルピラゾール類を製造するこ
とができる。

本反応はＬ法一（１）と同様に反応を行うことによう一
般式（１−２７）で表される５−フェニルピラゾール類
を製造することができる。

本反応で使用できる不活性溶媒としては、例，ｔば塩化
メチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等ノ芳香族炭化水素類、アセトニトリル、ベンゾニ
トリル等の二トリル類、メチルセロソルプ、ジエチルエ
ーテル等の鎖状エーテル類、ジオキサン、テトラハイド
ロフラン等の環状エーテル類等の不活性溶媒を使用する
ことができる。

本反応で使用できる触媒としては、例えばパラトルエン
スルホン酸、炭酸カリウム等を使用することができる。

本反応は等モル反応であるので一般式（ｎ−１１）で表
される化合物に対して等モル使用すれば良く、過剰に使
用しても良い。

反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択され、好壕しくは０℃乃至１５０℃の範囲で行
われる。

反応時間は反応量、反応温度等により一定しないが数分
乃至４８時間の範囲から選択すれば良い。

反応終了後、反応液を常法によυ、例えば溶媒抽出法等
によう目的物を単離し、必要により再結晶法、カラムク
ロマトグラ７イー法等の方法によう精製することによっ
て一般式（Ｉ−２７）で表される５−フェニルピラゾー
ル類を製造することができる。

又、本発明の一般式（１）又は（１′）で表される３又
は５−フェニルピラゾール類の塩類は、一般式（１）又
Ｆｉ（１’）で表される５又は５−７エニルピラゾール
類を適当な鉱酸、例えば塩酸、硫酸等の鉱酸や有機酸、
例えばバラトルエンスルホン酸等の有機酸等で処理する
ことにより製造することができる。

以下に一般式（Ｉ）及び一般式（■′）で表される３又
は５−フェニルピラゾール類又はその塩類の代表的な化
合物を第１表及び第２表に例示するが本発明はこれらの
化合物に限定されるものではない。

中 蛋 中 田 中 田 田 ロ ロ ー − ー 鴎 勾　　　　　勾　１　〜　１　〜　勺　　〜　　　　　
〜　〜　勺（＋）　　丑　ＩＪＵＵＱＱＱＵ　　田　０
　０　０Ｏ ←） ０ 口 （ニ） ０ Ｏ Ｏ Ｑ Ｑ ０ ０ −） ０ ａ Σ Σ Σ Σ Σ Σ Σ Σ Σ Σ Σ Σ Σ 士 Σ Σ エ 丑 丑 丑 ２ ｋ 塁 窯 × 塁 ｆ そ そ 塁 豊 そ 口 鴇　　１ ０　　０ 第１表及び第２表中にかける、油状物のＮＭＲ値を第３
表に示す。

（Ｍ−１） （ｍＶ−１） 本発明で使用する一般式（ＩＩＩ−１），（ＩＩＩ−３
）及び（Ｉ［ｌ−４）で表される化合物は下記に示す公
知の製法によυ製造することができる。

一般式＜ｍ−１＞。

Ｚ （１−１） （式中、Ｒｌ，Ｘ．　ｌ及び２は前記に同じ。）即ち、
一般式（■−１）で表される化合物と一般式（Ｖ−１）
で表されるヒドラジン誘導体を反応させ一般式（ＩＶ−
１）で表される化合物とし、該化合物（ＩＶ−１）をハ
ロゲン化することによシ一般式（ＩＩ−１）で表される
化合物を製造することができる。

・一般式＜ｍ−ｓ＞。

塩基 （■−２） （Ｉ［［−１１１） （式中、Ｒ２−３、Ｘ，　Ｉｌ及びＺ　ｎ　前記１ｃ　
同Ｌ−。）即ち、一般式（■−２）で表される化合物と
一般式（Ｖ−２）で表される化合物を塩基の存在下に反
応させることにより一般式（ｌＩ［−５）で表される化
合物を製造することができる。

・一般式（Ｉｌ［−４　）。

実施例１．５−（２．４−ジクロロフェニル）−１−メ
チル−１Ｈ−ピラゾールの製造（化合Ｂｒ （式中、Ｘ，ｌ及び２は前記に同じ。）即ち、一般式（
Ｍ−２）で表される化合物とアセトニトリルを塩基の存
在下に反応させることによう一般式（ＩＩ−４）で表さ
れる化合物を製造することができる。

又、一般式（ＩＩ［一２）で表される化合物は工業製品
として容易に入手することができる。

曳下に本発明の代表的な実施例を例示するが、本発明は
これらに限定されるものではない。

１−〔１−プロモー（２．４−ジクロ口ペンジリデン）
〕−２−メチルヒドラジン２．０ｇ（　７．　１ミリモ
ル）、ベンゼン２　ｄ及び酢酸ビニル１ｏ一の混合液中
にトリエチルアミン５　ｎｌを徐々に滴下した。滴下後
、室温で２時間反応を行った。

反応終了後、反応液からベンゼン不溶物を濾別し、濾液
を！Ｉ縮し、残渣をシリカゲルヵラムクロマトグラフィ
ーにて精製し目的物を油秋物としてα６７ｇ得た。

物性　ｎ］）１．６１０６（２６．０℃）　　収率　４
２多実施例２．４−クロロ−５−（　２．　４−ジクロ
ロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製造（
化合物胤２） Ｂｒ ７イーにて精製し目的物を油秋物として１．　１　０　
ｇ得た。

物性　ｎＤ　１．５９６４（２３．６℃）　収率５９％
実施例３．５−シアノ−３　−　（　２．　４−ジクロ
ロフェニル）−１−，ｌチル−ＩＨ−ピ？ゾールの製造
（化合物Ｎａ７） Ｂｒ Ｉ ＣＨｉ １−〔１−プロモー（２．４−ジクロロベンジリデン）
　〕−２−メチルヒドラジン２．０ｇ（　７．　１ミリ
モル）、ペンゼ７　３　０　ｍｌ及び１．２−ジクロロ
エチレン４　ａｔの混合液中にトリエチルアミン４　ｒ
ｘｌを徐々に滴下した。滴下後、室温で５０分間反応を
行った。反応終了後、反応液からベンゼン不溶物を濾別
し、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラＩ ＣＨ３ １−〔１−プロモー（２．４−ジクロロペンジリデン）
　〕−２−メチルヒドラジン２．　０　ｇ　（　７．　
１ミリモル）、ベンセン３ｏｎｔ及び２−クロロアクリ
ロニトリル５！／の混合液中にトリエチルアミン２　ｍ
ｌを徐々に滴下した。滴下後、室温で３０分間反応を行
った。反応終了後、反応液からベンゼン不溶物を濾別し
、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製し目的物を結晶として１．３０ｇ得た。

物性　Ｂｐ．　　１３０．５℃　収率　７５％実施例４
．４−クロロ−５−シアノ−３−２．　４−　シクロ口
フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製造（化
合物Ｎａ８）渣をシリカゲル力ラムクロマトグラ７イー
にて精製し目的物を結晶として０２８ｇ得た。

物性　ｍ，ｐ．１　０　５．６℃　収率　４７多実施例
５．５−アセテル−４−クロロ−３一（２．４−シクロ
ロフェニル）−１−メチル−ＩＨ−ピラゾールの製造（
化合物旭１２）５−７ミ，／／Ｊルポニル−４−クロロ
−３−（２．４−シクロロフェニル）　−１　−メチル
−１Ｈ−ピラゾール０．６３ｇ（２．１ミリモル）をジ
クロロエタン３０−に溶解し、五酸化リン１ｇを加え、
還流下に５時間反応を行った。

反応終了後、反応液を水中に注ぎ、ジクロ口エタン層を
分液し、水洗乾燥後、濃縮し、残４−クロロ−５−（１
−クロロエチル）−Ｓ−（Ｚａ−ジクロロフェニル）−
１−メチル−１Ｈ−ピラゾール１．０ｇ（５１ミリモル
）をジメチルスルホキシド５０ｄｊに溶解し、炭酸水素
ナトリウムを大過剰量及び沃化ナトリウムを触媒量加え
、８０℃の反応温度で４時間反応を行った。反応終了後
、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで目的物を抽出し、
抽出液を水洗乾燥後、濃縮し、残渣をシリカゲル力ラム
クロマトグラフィーにて精製し目的物を結晶として０．
　６　７　ｇ得た。

物性　ｍ．ｐ．１０９．１℃　収率　７１％実施例６．
　　Ｎ−［４−クロロ−３　−　（　２．　４　−シク
ロロフェニル）−１−メチル−１’Ｈ−ピラゾールー５
−イル〕一Ｎ−メチルクロロアセトアミドの製造（化合
物ＮｃＬ１３）ＣＨｓ １Ｈ−ピラゾールＱ．２９ｇ（１ミリモル）を加え、更
に水冷下にジメチルホルムアミド１　０　ｒｔｌを徐々
に滴下し、更にクロロアセテルクロライドｎ１７ｇ（１
．５ミリモル）を滴下した。滴下後、室温で１時間反応
を行った。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ、目的物
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗乾燥後、濃縮し、
残渣シリカゲル力ラムクロマトグラフイーにて精製し目
的物を結晶として０．２９ｙ得た。

物性　ｍ．ｐ．　１１７．９℃　収率　７９多実施例７
．５−ｊ−ブテル−５−（　２．　４−ジクロ口フェニ
ル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール（化合物Ｎα２１
）及び３−ｊ−プテル−５　−　（　２．　４−ジクロ
ロフエニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製造。

（化合物Ｎｈ６５８％の水素化ナトリウムα０６ｇ（１
．５ミリモル）をテトラハイド口フラン１０ａ＋ｊｌＣ
！濁し、ＷＪ．　懸濁Ｉｔ　Ｋ　４−クｏ　ｏ　−　５
　−　（　２．　４　−　シクロロフェニル）−１−メ
チル−５−メチルアミノ−２．４−ジクロロ安息香酸エ
テル５．０ｇ（２２．８ミリモル）をテトラハイド口フ
ラン７０ｍｌに溶解し、水素化ナトリウム２．１５ｇ（
５７．０ミリモル、６五６多油性）を加え、次いでピナ
コロン１４ｇ（３４ミリモル）を水冷下に滴下した。滴
下後４０〜５０℃の反応温度で反応を行った。反応終了
後、反応液を希塩酸で中和し、目的物をエーテルで抽出
した。抽出液を水洗乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、得
られた残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィーにて
精製しｔ−プチル−（２．４−ジクロロペンゾイル）メ
チルケトン３．１７ｇ（収率５１％）を得た。

得られたｔ−プチル−（２４−ジクロロペンゾイル）メ
チルケトン１．Ｏｇをエタノール３０−に溶解し、５５
％メチルヒドラジン水溶液１．４０ｇ（１α７ミリモル
）を加え、４０〜５０．℃の反応温度で反応を行った。

反応終了後、反応液を水中に注ぎ、エーテルで目的物を
抽出し、抽出液を水洗乾燥後、濃縮することによシ５−
ｔ−プチル−３　−　（　２．　４−ジクロロフェニル
）　−　１−メｆル−１Ｈ−ピラゾール及び３−ｊ−プ
チル−５　−　（　２．　４−ジクロロフェニル）−１
−メチル−１Ｈ−ピラゾールの混合物０．８８ｇ（収率
８５％）を得た。

得られた混合物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー
にて精製し目的物をそれぞれ単離した。

３−フェニル体　物性　油状物 収率　２５％ ５−フェニル体　物性ｎＤ　１．５５９５（１６．７℃
）収率　５・０多 実施例ａ　　Ｓ−ｔ−プチル−４−クロロ−５一（　２
．　４　−　シクロロフェニル）−　１−７１チル−１
Ｈ−ピラゾール（化合物ｌＩＩＩＩＬ２２）及ひ３一ｔ
−プチル−４−クロロ−５　−　（　２．　４−ジクロ
ロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール（化合物
点１１６）の製造 ＣＨ３ ＣＨｓ Ｉ ＣＨ３ ＣＨ３ ５−ｔ−プチル−３　−　（　２．４−ジクロロフェニ
ル）−１−メチル−ＩＨ−ピ７ゾール及びＳ−ｔ−プテ
ル−５　−　（　２．　４−ジクロロフェニル）−１−
メチル−１Ｈ−ピラゾールの混合物０．６０ｇ（２．１
２ミリモル）をクロロホルム２０ｍＪに溶解し、水冷下
に過剰量の塩化スルフリルを滴下した。滴下後、室温下
で３０分間反応を行った。反応終了後、反応液を氷水中
に注ぎ、クロロホルム層を分取し、水洗乾燥後濃縮し、
５−ｔ−プチル−４−クロロ−３　−　（　２．　４−
ジクロロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール及
びＳ−ｔ−プテル−４−クロロ−５　−　（　２．　４
−ジクロロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール
の混合物を得た。得られた混合物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにて精製し、３−７エニル体（１１　
３ｇを油状物及び５−フェニル体０．４３ｇを結晶とし
て得た。

５　−　７　エニル体　物性　ｎＤ　１．５７９７（２
３．３℃）収率　２０多 ５−フｘ　二ｋ体　物性　ｎＤ　１．５７０２（１６．
８℃）収率　６５％ 実Ｍｆｌ．　　４−クロロ−５−（１−クロロエテル）
　−　５−（　２．　４−ジクロロフェニル）−１−メ
テル−１Ｈ−ピラゾールの製造（化合物Ｎａ２６） ５−（２．４−ジクロロフェニル）−１−メチル−１Ｈ
−ピラゾールの製造（化合物血３０）５−（１−クロロ
ビニル）−４−クロロ−３−（　２．　４−ジクロロフ
ェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール１．　５　０
　ｇ　（　４．　０ミリモル）をテトラハイドロンラン
ＢＯｄに溶解し、５多パラジウム炭素を触媒量添加し、
接触還元反応を行った。反応終了後、反応液から触媒を
濾去し、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル力ラムクロマ
トグラ７イーにて精製し目的物を結晶として０．　８　
０　ｇ得た。

物性　ｍ．ｐ．　　７７．５℃　　収率　６２％実施例
１０．　５−プロモメチル−４−クロロ−Ｉ Ｃ市 １−〔１−ブロモー（乙４−ジクロロベンシジリデン）
〕−２−メチルヒドラジン２．０ｇ　（　７．　１ミリ
モル）をベンゼン５０−に懸濁させ、臭化アリル１．７
　２ｇ　（　１　４．２ミリモル）を加え、室温で攪拌
下にベンゼン１０ｍｌに溶解したトリエチルアミン５　
ｍｌを徐々に滴下した。

滴下終了後、室温下に２時間反応を行った。

反応終了後、反応液からベンゼン不溶物を濾別し、得ら
れた濾液を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーで精
製し、５−プロモメチル−５−（２．４−ジクロロフェ
ニル）−１−メテル−Δ２−ビラゾリンを１．７１ｇ（
収率７５％）を得た。得られた５−プロモメチル−５−
（２．４−シクロロフェニル）−１−／テル−Δ２−ピ
ラゾリン０．８０ｇ（２．４８ミリモル）をクロロホル
ム５０ｄに溶解し、該溶液に塩化スルフリル２　ｍｌを
水冷下に滴下した。滴下後、室温下に３０分間反応を行
った。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ、クロロホル
ム層を分取し、水洗乾燥後、濃縮することによシ目的物
を結晶としてα８７ｇ得た。

物性　ｍ，ｐ．９五１℃　　収率　９９多実施例１　１
．　５−シクロヘキシル−４−クロロ−５−（２．４−
ジクロロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの
製造（化合物丸５３）１　１　−　１ ？−〔１−プロモー（２．４−ジクロロベンジリデン）
〕−２−メチルヒドラジン５．０ｇ（１７７ミリモル）
、ｎ−ヘキサン６０ｘ／及びビニルシクロヘキセンＡｕ
ｇ（３５．２■リモル）の混合液を０℃以下に冷却し、
該混合液中にｎ−ヘキサン１０ｌＬｌで希釈したトリエ
チルアミン５　ｍｌを徐々に滴下した。滴下後、室温で
５０分間反応し、一夜放置した。

反応終了後、反応液からｎ−ヘキサン不溶物を濾別し、
濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにてｌｆ’ＲＨし５−（３−シクロヘキセニル）　
−　３　−　（　２．　４−ジクロロフェニル）　−　
１　−メチル−Δ２　−　ヒラ７リンを結晶として１．
　６　４　ｇ　（収率５０％）得た。

１　１　−２ 触媒を濾去し、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーにて精製し５−シクロヘキシル−５
　−　（　２．　４−ジクロロフェニル）−１−メチル
−Δ２−ピラゾリンを結晶として（収率７９％）１．０
７ｇ得た。

１　１　−５ ＣＨ３ ＣＨ３ 得ラれタ５　−　（　５−シクロヘキセニル）−５　−
　（　２．　４−ジクロロフェニル）−１−メチル−△
２−ピラゾリン１．３５ｇ（４．３７ミリモル）をテト
ラハイドロンラン中に溶解し、５多パラジウム炭素を触
媒量添加し、常圧下に接触還元反応を行った。反応終了
後、反応液から得ラれた５−シクロへキシル−３　−　
（　２．　４−シクロロフェニル）−１−メチル−Δ２
一ビラゾリン１７７ｇ（２．４８ミリモル）をクロロホ
ルム５　０　ｍｌに溶解し、水冷下に塩化スルフリル２
　ｍｌを滴下した。滴下後、室温下で３０分間反応を行
った。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ、クロロホル
ム層を分取し、水洗乾燥後、濃縮し残渣をシリカゲル力
ラムクロマトグラフィーにて精製し目的物を結晶として
ａ４０ｇ得た。

物性　ｍ．ｐ．１０４．８℃　収率４０多実施例１２．
５−（１−クロロビニル）−４−クロロ−５−（２．４
−シクロ口フェエル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール
の製造（化合物Ｎａ　５　７　） ＤＢＵ０．２５ｇ．（１．６ミリモル）を加え４０〜５
０℃の反応温度で３時間反応を行った。反応終了後、反
応液を水中に注ぎ、目的物を酢酸エチルで抽出し、抽出
液を水洗乾燥後、濃縮し結晶として１．　３　０　ｇ得
た。

物性　ｍ−ｐ−　１０１．１℃　　収率　９４％実施例
１五　４−クロロ−３−（２．４−ジクロロフェニル）
−１−メチル−ＩＨ−ピラゾ−ル−５−カルポン酸の製
造（化合物Ｎａ６０）４−クロロ−３−（　２．　４−
ジクロロフエニル）　−　５　−　（　１．　２−ジク
ロロエチル）−１−メテル−１Ｈ−ピラゾール０．５０
ｇ（１．４ミリモル）をテトラノ・イドロフラン３０ｍ
／Ｋ溶解し、４−クロロ−５−（２．４−’；クロロフ
エニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールー５−カルポ
ン酸メチル１．０ｇ（１５ミリモル）をエタノール２　
０　ｄに溶解し、該溶液に２０多水酸化カリウム水溶液
を３倍モル加え，．４０〜５０℃の反応温度で５時間反
応を行った。反応終了後、反応溶媒を減圧下に留去し，
残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、水層を分液した
。更に分液した酢酸エチル層を水洗した水層と先に分腋
した水層を合わせ酸性とし、次いで該水層に酢酸エチル
を加え目的物を抽出した。抽出液を水洗乾燥後、濃縮し
結晶として０．　９　０　ｇ得た。

物性　ｍ，ｐ，　　１　８　０．０℃　　収率　９５％
実施例１４．　　３−（２．４−ジクロロフェニル）−
１−メチル−１Ｈ−ピラゾールー４，５−ジカルボン酸
メチルの製造（化合物血６２）冫ジカルボン酸ジメチル
１　ａｇの混合液中ニトリエチルアミン２−を徐々に滴
下した。滴下後、室温で１時間反応を行った。反応終了
後、反応液からベンゼン不溶物を濾別し、濾液を濃縮し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製
し目的物を油秋物として１．　６　８　ｇ得た。

物性　ｎＤ　１．５６５６（２２．６亡）　　　収率　
６９％実施例１５．　４−クロロ−５　（　２．　４−
ジクロ口フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−
５−カルポン酸エチルの製造。（化合物賜６３） ＣＨｓ １−〔１−プロモー（２．４−ジクロ口ペンジリデン）
）−２−メテルヒドラジン２．０ｇ（　７．　１ミリモ
ル）、ベンゼン２　ｄ　Ｅｔび，７−セテレ３　−　（
　２．　４−ジクロロフェニル）−５−エトキシカルポ
ニル−１−メチル−Δ２−ピラゾリン１２．０ｇ（４０
ξリモル）ヲクロロホルム１００ｍｌに溶解し、水冷下
に塩化スルフリル２０ｇを滴下した。滴下後、還流下に
反応を行った。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ。

クロロホルム層を分取し、５多炭酸水素ナトリウム水溶
液、次いで水『洗浄−し、二乾燥後濃縮し残渣をシリカ
ゲル力ラムクロマトグラフィーにて精製し目的物を結晶
として９４７ｇ得た。

物性　１７１．ｐ．１　０　＆３℃　収率　７１％実施
例１＆　　４−クロロ−３　−　（　２．　４−ジクロ
ロフェニル）−１−メテル−５−メｆルアミノ−１Ｈ−
ピ２ゾールの製造（化合物陽６６）？３。８多の水素化
ナトリウム０．４２ｇ（１１ミリモル）をテトラハイド
ロフラン１０．／に懸濁し、該懸濁液に５−アミノー４
−クロロ−５−（２．４−ジクロロフェニル）−１−メ
チル−１Ｈ−ピラゾール２．７７ｇ（１０ミリモル）を
加え、更に氷令下にジメチルボルムア■ド２−を徐々に
滴下した。滴下後、室温で５０分間反応を行った。反応
終了後、常法に従って処理し、シリカゲルヵラムクロマ
トグラフィーにて精製し目的物を結晶として１．　９　
５　ｇ得た。

物性　７１．ｐ．　　２１５．１℃　収率６６％実ｔｌ
Ａ例１１　ｓ−（２．４−ジクロロフェニル）−５−ジ
メチルアミノー１−メチル−１｝｛−ピラゾールの製造
（化合物鬼７０） １ ＣＨｓ ５−アミノー５　−　（　２．　４−ジクロ口フェニル
）−１−メチル−ＩＨ−ピラゾール２４．２１ｇ（α１
モル）をジメチルスルホキシド５０ｄに溶解し、水酸化
カリウム粉末２ａＯｇを氷冷下に少量づつ加えた。その
後更に沃化メチル７６．４ｇ（α５モル）を滴下した。

滴下後７０℃の反応温度で５時間反応を行った。反応終
了後、常法に従って処理し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製し目的物を結晶として１　９．　６
　７　ｇ得た。

物性　ｍ．ｐ．　　６９．６℃　収率　７３％実施例１
１１Ｌ　　Ｎ−１：４−クｏ　ｏ−５　−　（　２．　
４　−シクロロフェニル）−１−メチル−１｝｛−ピラ
ゾール−５−イル〕アセトアミドの製造（化合物風７５
） Ｎ−Ｃ３−（２．４−ジメチルフェニル）−１−メチル
−１Ｈ−ピラゾールー５−イル〕アセトアミド２４．９
ｇ（８８ミリモル）を四塩化炭素１００ｍ／に懸濁し、
水冷下に塩化スルフリル１１．８８ｇ　（　８　８ミリ
モル）を滴下した。滴下後、室温下で１時間反応を行っ
た。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ、四塩化炭素層
を分取し、水洗乾燥後、濃縮し残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し目的物を結晶として２６
．５ｇ得た。

物性　ｍ．ｐ．２２Ｑ．８℃　収率　９４％実施例１９
　５−７ミノ力ルボニル−４−クロロ−３　−　（　２
．　４−ジクロロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラ
ゾールの製造（化合物磁１ ＣＨｓ ？−クロロ−５　−　（　２．　４−ジクロ口フエニル
）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−カルポン酸ａ
　Ｏ　ｇ　（　２６．２■リモル）ヲベンゼン１００−
に溶解し、過剰量の塩化チオニルを加え、還流下ＶＣ５
時間反応を行った。反応終了後、溶媒を減圧下に留去す
ることによ９４？クロロー５　−　（　２．　４−ジク
ロロフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−
カルポン酸クロライド＆０６ｇ（収率９５％）を得た。

得られた４−クロロ−３　−　（　２．　４−ジクロ口
フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールー５−カル
ポン酸クロライド１．６ｇＣ　（　４．　７■リモル）
をベンゼン１０ｊ＋／に溶解し、該溶液を過剰量の濃ア
ンモニア水中に徐々に滴下した。滴下終了後、室温下に
５０分間反応を行った。反応終了後、反応液を氷水中に
注ぎ、酢酸エチルで目的物を抽出し、抽出液を水洗乾燥
後、濃縮し目的物を結晶として０．８８ｇ得た。

物性　ｍ．ｐ．　　１９９．０℃　収率　６２多実施例
２α　５−クロロ−３−（４−クロロ−２−フルオロフ
ェニル）−１−メチル −ＩＨ−ピラゾールの製造（化合物Ａ １０８） て精製し、目的物を結晶として１ａ．７６ｙ祷た。

物性：　ｍ．ｐ．　４９．６℃　　収率：５４．４％実
施例２１．３−（４−クロロ−２−フルオロフェニル）
−４．５−ジクロロ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの
製造（化合 物屓１０９） １−〔１−プロモー（４−クロロ−２−フルオロベンジ
リデン））−２−メチルヒドラジン３４．Ｏｒ　（　０
．１２８モル）、ベンゼン１５０ｍＡ！及び塩化ビニリ
デン６２．Ｏ　ｆ　（　０．６４モル）の混合液中に、
トリエチルアミン６４．０９（α６４モル）ヲベンゼン
５０ｍＪで希釈して滴下した。反応温度は２０℃以下な
るように滴下速度を調節して全量を滴下後、室温下に２
時間反応させた。反応終了後、反応混合液からベンゼン
不溶物を濾別し、濾液を濃縮し、残渣をカラムクロマト
グラフィーにＣＨｓ　　　　　　　　　　　　　　Ｃ　
Ｈ３５−クロロ−３−（４−クロロ−２−フルオｏ７エ
ニｎ，　）　−　１−メチル−ＩＨ−ｋ：ラ１−ル９．
４６ｆ　（　３＆６ミ’３％”）ｔ−四塩化炭ｆｉ　１
００ｍＡ中に溶解させ、水冷後、塩化スルフリルを滴下
した。滴下終了後、室温下に２時間反応させた後、反応
混合液を氷水中に注ぎ、クロロホルムで抽出した。クロ
ロホルム層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次
洗浄後、乾燥、濃縮し、残渣をエタノールより再結晶さ
せて目的物１０．３２を得た。

物性：　ｍ．ｐ−　９９．７℃　　　収率：９５，３％
実施例２２．　４−クロロ−５−（２．４−ジクロ口フ
ェニル）−５−ジフルオロメチル ー１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製 造（化合物轟１１２） 物性二ｍ．９．５ａ７℃　　収率：４６．０％実ｍ例２
１　　３−（２．４−ジクロロフェニル）−１−メチル
−５−トリフルオロメチ ル−ＩＨ−ピラゾール及び５−（２．４−シクロ口フェ
ニル）−１−メチル− ３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ビラ ゾールの製造（化合物Ａ１１３，１１７）ＣＨ３　　　
　　　　　　　　　　　　ＣＨｓ４−クロロ−ｓ　−　
（２．４−シクロロフエニノレ）−５−ホルミル−１−
メチル−ＩＨ−ピラゾール０．６Ｃｌ（２．１ミリモル
）を無水ジクロロメタン２０ｍｌ中に加え、室温下にジ
エチルアミノサルファートリフルオライドａ７０ｆ（４
．４ミ１Ｊモル）を加え、一夜放置した。反応終了後、
反応混合液を水中に注ぎ、ジクロロメタン層を分離し、
水洗、乾燥、濃縮後、残渣をカラムクロマトグラフイー
にて精製し、目的物を０．３（ｌ得た。

メタノール９０ｍｌを水冷後、金属ナトリウム２．６　
９　（　Ｑｙｌ１１グラム原子）を加え、均一な溶液と
した後、トリフルオロ酢酸メチル１乙６２（　（１１０
６モル）をメタノール１０ｘ／で希釈して滴下した。滴
下後、２時間還流下に反応させた後、反応混合液を減圧
下Ｋ″＃縮後、水を加えてエーテル抽出を行なった。水
層を分取し、希塩酸で中和した後、水層を濃縮し、エー
テル抽出を行なった。エーテル層を乾燥、濃縮して（２
．４−ジクロロベンゾイル）メチルトリフルオロメチル
ケトン７．Ｏｆを得た。

物性：　ＮＭＲデータ（ＣＤＣｔ３）　　　収率二２五
１％６．５３（ｉ｝ｉ，５）、７．２０〜７．５３（２
／Ｈ）７．５３〜７．７６（ＩＨ）、１ｘａ１（１Ｈ，
ｂｒ）（エノール型） 得られた（２，４−ジクロロベンゾイル）メチルトルフ
ルオロメチルケトン６．２６　９　（　２１．９モル）
をエタノール５０Ｒ６中に溶解させ、３５優メチルヒド
ラジン水溶液を滴下した。滴下後、還流下に４時間反応
させた後、反応混合液を減圧下に濃縮し、残渣に水を加
え、ジクロロメタンで抽出した．有機層を乾燥、濃縮し
、残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し、５−（
２．，４ーシクロロ７エニル）−１−メチル−５−トリ
フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールａａａｔヲ油秋物及
び５−（２．４−ジクｏ　ｏ　７　ｘ　二／Ｉ／　）　
−　１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラ
ゾール４，１５ｆを結晶として得た。

５−７１ニル体　　物性　ｎＤ　　１．５３８９（２１
４℃）収率　６．４係 ５−フェニル体　　物性　ｍ．ｐ．　　８６．５℃収率
　６４．４％ 実施例２４．　４−クロロ−３−（２．４−ジクロロフ
ェニル）−１−メチル−５−トリ フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの 製造（化合物Ａ１１４） ＣＩ１３ＣＨ， ３−（２．４−ジクロロフェニル）−１−メチル−５−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールａ２ｆ（α６８
ミリモル）をアセトニトリル１０ｍＪＫ加え、氷冷後、
塩素ガスを通気した。

反応が完結したことを確認後、反応混合液を水中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム
水溶液、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、水洗
、乾燥、濃縮した。

残渣をカラムクロマトグラフイーにて精製し、４−クロ
ロ−３−（２．４−ジクロロフエニル）−１−メチル−
５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール０．１８Ｓ
’を得た。

物性：　ｍ．ｐ．７９．５℃　　収率：８α９％本発明
の一般式（１）又は（Ｉ′）で表される３又は５−フエ
ニルビラゾール類又はその塩類は、例えばノピエ（タイ
ヌビエの俗称、イネ科１年生草、水田の代表的強害草）
、タマガヤツリ（カヤツリグサ科１年生草、水田の害草
）、マツパイ（カヤツリグサ科多年生草、湿地、水路、
水田に発生、水田の代表的強害草）、ウリカワ（オモダ
カ科、湿地、溝、水田に発生する多年生害草）、ホタル
イ（カヤツリグサ科多年生草、湿地、溝、水田に発生）
、工冫ノくク（イネ科越年生草、平地、荒地、畑地に発
生）、ヨモギ（キク科多年生草、山野、畑地に発生）、
メヒシバ（イネ科１年生草、畑、樹園地の代表的強害草
）、ギシギシ（タデ科多年生草、畑地、道端に発生）、
コゴメカヤツリ（カヤツリグサ科１年生草、畑地、道端
に発生）、アオユピ（ヒエ科１年生草、空地、畑地、道
端に発生）等の水田、畑、樹園地、湿地等に発生する１
年生草及び多年生草を防除する作用を有する。

本発明の一般式（１１又は（ｌ′）で表される３又は５
−７ェニルビラゾール類又はその塩類は出芽前及び出芽
後にある雑草に対して優れた防除効果を示すことから、
有用植物の植え付け予定地に予め処理するとか、有用植
物の植え付け後（有用植物が樹園地の如く既に定植され
ている場合を含む）、雑草の発生始期壕でに処理するこ
とにより一層本発明除草剤の有する特徴ある生理活性を
効果的に発現させることができるものである。しかし、
本発明除草剤はこのような態様に於いてのみ使用されね
ば々らないというものではな〈、例えば本発明除草剤は
水田用除草剤として使用することができるばかシでな〈
、一般雑草の除草剤として使用することもでき、例えば
刈シ取シ跡、休耕田、畦畔、農道、水路、牧草造成地、
墓地、公園、道路、運動場、建物の周辺空き地、開墾地
、線路、森林等の一般雑草の駆除のために使用すること
もできる。この場合、雑草の発生始期までに処理するの
が、経済的にも最も効果的であるが、必ずしもこれに限
定されず、生育期にある雑草をも防除することも可能で
ある。

本発明の一般式（１）又は（■′）で表される３又は５
−７ェニルビラゾール類又はその塩基を除草剤とする場
合、農薬製剤上の常法に従って、使用上の都合の良い形
状に製剤して使用するのが一般的である。

即ち、本発明の一般式（１１又ぱ（１′）で表される３
又は５−フェニルビラゾール類又はその塩類を有効成分
とする除草剤は、これを適当な不活性な担体に、必要に
応じて補助剤と一緒に、適当な割合に配合して溶解、分
散、懸濁、混合、含湿、吸着若しくは付着させ、適宜の
剤型、例えば懸濁剤、乳剤、水溶剤、液剤、水利剤、粉
剤、粒剤、微粒剤等の剤型に製剤して使用すれば良い。

本発明で使用できる不活性担体としては固体、液体のい
ずれであっても良く、固体の担体になυうる材料として
は、例えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鋸粉、タ
バコ茎粉、クルミ穀粉、ふす１、繊維素粉末、植物エキ
ス抽出後の残渣、粉砕合或樹脂等の合或重合体、粘土類
（例えば、カオリン、ベントナイト、酸性白土等）、タ
ルク類（例えば、タルク、ビロフィライト等）、シリカ
類（例えば、珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン〔
含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で
、製品によυ珪酸カルシウムを主成分として含むものも
ある。〕）、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼或珪藻土、
レンガ粉砕物、フライアッシェ、砂、炭酸カルシウム、
燐酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安
、尿素等の化学肥料、堆肥等を挙げることができる。こ
れらは単独で若しくは２橿以上の混合物の形で使用され
る。

販体の担体となシうる材料としては、それ自体溶媒能を
有するものの他、溶媒能を有さすとも補助剤の助けによ
う有効成分化合物を分散させ得ることとなるものから選
択され、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、
エタノール、インプロパノール、ブタノール、エチレン
グリコール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエ
チルケトン、メチルインプチルケトン、ジイソフ゛チル
ケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えばエ
チルエーテル、ジブロビルエーテル、ジオキサン、セロ
ンルフ、テトラハイドロフラン等）、脂肪族炭化水素類
（例えばガソリン、鉱油等）、芳香族炭化水素類（例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン、ンルベントナフサ、
アルキルナフタレン等）、ノ翫ロゲン科炭化水素類（例
えば−ジクロロエタン、塩Ｘ化ベンゼン、クロロホルム
、四塩化炭素等）、エステル類（例えば酢酸エチル、ジ
イソプロビルフタレート、ジブチルフタレート、ジオク
チルフタレート等）、アミド類（例えばジメテルホルム
アミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等）、ニトリル類（例えばアセトニトリル等）を例示す
ることができ、これらは単独で若しくは２種以上の混合
物の形で使用される。

補助剤として使用されるものとしては次のものを挙げる
ことができ、これらの補助剤は目的に応じて使用され、
ある場合には２ａＩ以上の補助剤を併用し、ある場合に
は全く補助剤を使用しない場合もある。

有効成分化合物の溶解、分散、可溶化又は／及び湿潤の
目的のために界面活性剤が使用され、例えばポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪族酸
エステル、ホリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエ
チレンンルビタンモノオレエート、アルキルアリールス
ルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンス
ルホン酸塩、高級アルコ一ル硫酸エステル等を挙げるこ
とができる。

有効成分化合物の分散安定性、粘着及び／又は結合の目
的のため、例えば次に挙げるものを使用することができ
、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、アルギン酸、メチ
ルセルロース、カルポキシメチルセルロース、アラビア
ゴム、ポリビニルアルコール、松根油、楯油、べ冫トナ
イト、リグニンスルホン酸塩等を挙げることができる。

固体表品の流動性改良の目的のために次に挙げるものを
使用することもでき、例えばワックス、ステアリン酸塩
、燐酸アルキルエステル等を挙げることができる。

懸濁性製品の解こう剤として例えばナフタリンスルホン
酸縮合物、縮合燐酸塩等を使用することもできる。

消泡剤として、例えばシリコン油等を添加することもで
きる， 有効成分の配合割合は必要に応じて加減し得る。例えば
粉剤或いは粒剤とする場合はα２〜２０鳴（重量）、乳
剤或いは水利剤とする場合は０．１〜５０係（重量）が
適当である。

本発明の一般式（！）又は（Ｉ′）で表される３又は５
−フェニルビラゾール類又はその塩類を有効成分とする
除草剤は各種雑草を枯殺し若しくは生育を抑制するため
に、そのｉｔ又は水等で適宜希釈し若しくは懸濁させた
形で殺草若しくは生育抑制に有効な量を、当該雑草に又
は当該雑草の発生若し〈は生育が好筐し〈ない場所に於
いて茎葉又は土壌に適用して使用する。

本発明の一般式（１）又は（ｉ′）で表される３又は５
−フェニルビラゾール類又はその塩類を有効成分とする
除草剤の使用量は種々の因子、例えば目的、対象雑草、
雑草又は作物の発生／生育状況、雑草の発生傾向、天候
、環境条件、剤型、施用方法、施用場所、施用時期等に
よって変動するが、有効成分として１ヘクタール当たり
１ｆ〜１０ｋｆの範囲から目的に応じて適宜選択すれば
良い。

本発明の一般式（１）又は（Ｉ′）で表される３又は５
−７ェニルビラゾール類又はその塩類を有効成分とする
除草剤を更に防除対象草種、防除適期等の拡大のため、
或いは薬量の低減をはかるため他の除草剤と混合するこ
とも可能である。

以下に代表的な試験例及び処方例を示すが本発明はこれ
らに限定されるものではない。尚、処方例中、部とある
は重量部を示す。

試験例１．　出芽後の水田雑草に対する除草効果。

１万分の１アールポットに土壌をつめ、水田状態にして
、水田雑草であるノピエ、ホタルイの種子、ミズガヤツ
リ及びウリカワの塊茎を１葉期になるように調整した。

これに有効成分（第１表及び第２表記載の化合物）を１
ヘクタール当たり５ｋｇとなるように処理した。処理２
１日後に無処理と比較してそれぞれ除草効果を調査し、
下記の基準で判定した。

除草効果の判定基準。

５・・・９５係以上殺草。

４・・・７０４以上９５％未満殺草。

３・・・５０係以上７０係未満殺草。

２・・・３０係以上５０％未満殺草。

１・・・１０係以上３０嘩未満殺阜。

０・・・１０係未満殺草。

薬害の判定基準。

Ｈ・・・薬害大（枯死を含む）。

Ｍ・・・薬雪中。

Ｌ・・・薬害小。

Ｎ・・・薬害無。

結果を第４表に示す。

尚、対照化合物Ａは特開昭５２−９１８Ｓ１号公報第５
頁に記載の３−フェニル−５−メチルチオビラゾールを
、Ｂは同公報第４頁に開示の例１に記載の化合物を、Ｃ
は特開昭５４−７０２７０号公報に記載の化合物Ａ８を
、そしてＤは特開昭５５−９０６２号公報第９頁に開示
の化合物黒１５９の化合物を対照化合物として使用した
。

化合物Ａ　　　　　　化合物Ｂ 化合物Ｃ 化合物Ｄ 試験例２４ 出芽前の畑地雑草に対する除草効果。

ヤエムグラ コムギ ダイズ 除草効果及びダイズ、 試験例１に準じた。

結果を第６表に示す． 第　　６ ２葉期 ２葉期 １葉期 コムギの薬害の判定は 表 試験例五　出芽後の畑地雑草に対する除草効果。

１０ｏ＋＋Ｘ２０Ｘ深さ５６ｎのポリエチレン製バット
に、下記に示す有害雑草及びコムギ、ダイズの種子を播
種覆土し、各々下記の葉期になるまで生育させ、有効或
分（第１表及び第２表記載の化合物）をヘクタール当た
り５　ｋ９となるように葉剤を処理した。処理２１日後
に無処理と比較して、除草効果及びダイズ又はコムギに
対する薬害の程度を調査した。

供試雑草種及びその葉期並びにダイズ又はコムギ葉期。

ノビエ　　　　　　　　　　　　２葉期イチビ　　　　
　　　　　　　　２葉期ヨウシュチ日ウセンアサガオ　
　１葉期オナモミ　　　　　　　　　　　　１葉期オオ
イヌノフグリ　　　　　　　１葉期処方例五 化合物雇１ ５０部 キシレン ４０部 処方例１． 化合物轟１ ５０部

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、 Ｒ＾１は低級アルキル基を示し、 Ｒ＾２は ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・ホルミル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い 低級アルキル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い 低級アシル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い 低級シアノアルキル基、 ・低級ヒドロキシアルキル基、 ・低級ホルミルオキシアルキル基、 ・低級アルコキシアルキル基、 ・低級アルキルチオアルキル基、 ・低級アルキルスルフィニルアルキル基、 ・低級アルキルスルホニルアルキル基、 ・低級ヒドロキシカルボニルアルキル基、 ・低級アルコキシカルボニルアルキル基、 ・低級ジアルコキシアルキル基、 ・置換基を有しても良いフェノキシアルキ ル基、 ・シアノ基によって置換されても良いシク ロアルキル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い 低級アルケニル基、 ・ヒドロキシカルボニル基 ・低級アルコキシカルボニル基、 ・アミノカルボニルアルキル基、 ・−Ｎ（Ｒ＾４）Ｒ＾５（式中、Ｒ＾４及びＲ＾５は同
   一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アルキル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アシル基、 ・低級アルケニル基、 ・低級アルキニル基、 ・低級アルコキシカルボニル基、 ・水素原子又はハロゲン原子によって置 換されても良い低級アルキル基から選 択される同一又は異なっても良い置換 基を有するアミノカルボニル基、 ・低級アルキルスルホニル基又は ・低級アルキルアミノスルホニル基を示 す。）、 ・−ＣＮ＝Ｎ−Ｏ−Ｒ＾６（式中、Ｒ＾６は・水素原子
   、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アルケニル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アルキニル基、 ・置換基を有しても良いベンジル基を示 す。）、 ・−Ｎ＝Ｃ（Ｒ＾７）Ｒ＾８（式中、Ｒ＾７及びＲ＾８
   は同一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アルキル基又は ・水素原子又は低級アルキル基から選択 される同一又は異なっても良い置換基 を有するアミノ基を示す。）又は ・−ＣＯ−Ｎ（Ｒ＾９）Ｒ＾１＾０（式中、Ｒ＾９及び
   Ｒ＾１＾０は同一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・ヒドロキシ基、 ・低級アルキル基、 ・ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は ハロゲン原子によって置換されても良 いフェニル基を示す。）を示し、 Ｒ＾３は ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・低級アルキル基又は、 ・低級アルコキシカルボニル基を示し、 Ｘは同一又は異なっても良いハロゲン原子 を示し、 ｌは０〜４の整数を示す。） で表される３−フェニルピラゾール類又はその塩類。
2. （２）Ｒ＾１が低級アルキル基を示し、 Ｒ＾２が ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルキル
   基、 ・低級シアノアルキル基、 ・低級アルコキシアルキル基を示し、 Ｒ＾３がハロゲン原子を示し、 Ｘが同一又は異なっても良いハロゲン原子を示し、 ｌが２の整数を示す請求項第１項記載の３−フェニルピ
   ラゾール類又はその塩類。
3. （３）下記の化合物から選択される請求項第２項記載の
   ３−フェニルピラゾール類又はその塩類。 １）３−（２，４−ジクロロフェニル）−４，５−ジク
   ロロ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール。 ２）５−シアノ−４−クロロ−３−（２，４−ジクロロ
   フェニル）−１−メチル−１Ｈ −ピラゾール。 ３）４−クロロ−３−（２，４−ジクロロフェニル）−
   ５−エチル−１−メチル−１Ｈ −ピラゾール。 ４）４−クロロ−３−（２，４−ジクロロフェニル）５
   −ｉ−プロピル−１−メチル− １Ｈ−ピラゾール。 ５）５−ｔ−ブチル−４−クロロ−３−（２，４−ジク
   ロロフェニル）−１−メチル− １Ｈ−ピラゾール。 ６）４−クロロ−３−（２，４−ジクロロフェニル）−
   ５−ジクロロメチル−１−メチ ル−１Ｈ−ピラゾール。 ７）４−クロロ−３−（２，４−ジクロロフェニル）−
   ５−（１−シアノ−１−メチル エチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール。 ８）４−クロロ−３−（２，４−ジクロロフェニル）−
   １−メチル−５−メトキシメチ ル−Ｈ−ピラゾール。
4. （４）一般式（ I ′） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） （式中、 Ｒ＾１は低級アルキル基を示し、 Ｒ＾２は ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・ホルミル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い 低級アルキル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い 低級アシル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い 低級シアノアルキル基、 ・低級ヒドロキシアルキル基、 ・低級ホルミルオキシアルキル基、 ・低級アルコキシアルキル基、 ・低級アルキルチオアルキル基、 ・低級アルキルスルフィニルアルキル基、 ・低級アルキルスルホニルアルキル基、 ・低級ヒドロキシカルボニルアルキル基、 ・低級アルコキシカルボニルアルキル基、 ・低級ジアルコキシアルキル基、 ・置換基を有しても良いフェノキシアルキ ル基、 ・シアノ基によって置換されても良いシク ロアルキル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い 低級アルケニル基、 ・ヒドロキシカルボニル基、 ・低級アルコキシカルボニル基、 ・アミノカルボニルアルキル基、 ・−Ｎ（Ｒ＾４）Ｒ＾５（式中、Ｒ＾４及びＲ＾５は同
   一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アルキル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アシル基、 ・低級アルケニル基、 ・低級アルキニル基、 ・低級アルコキシカルボニル基、 ・水素原子又はハロゲン原子によって置 換されても良い低級アルキル基から選 択される同一又は異なっても良い置換 基を有するアミノカルボニル基、 ・低級アルキルスルホニル基又は ・低級アルキルアミノスルホニル基を示 す。）、 ・−ＣＨ＝Ｎ−Ｏ−Ｒ＾６（式中、Ｒ＾６は・水素原子
   、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アルケニル基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アルキニル基、 ・置換基を有しても良いベンジル基を示 す。）、 ・−Ｎ＝Ｃ（Ｒ＾７）Ｒ＾８（式中、Ｒ＾７及びＲ＾８
   は同一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・ハロゲン原子によって置換されても良 い低級アルキル基又は ・水素原子又は低級アルキル基から選択 される同一又は異なっても良い置換基 を有するアミノ基を示す。）又は ・−ＣＯ−Ｎ（Ｒ＾９）Ｒ＾１＾０（式中、Ｒ＾９及び
   Ｒ＾１＾０は同一でも異なっても良く、 ・水素原子、 ・ヒドロキシ基、 ・低級アルキル基、 ・ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は ハロゲン原子によって置換されても良 いフェニル基を示す。）を示し、 Ｒ＾３は ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・低級アルキル基又は ・低級アルコキシカルボニル基を示し、 Ｘは同一又は異なっても良いハロゲン原子 を示し、 ｌは０〜４の整数を示す。） で表される５−フェニルピラゾール類又はその塩類。
5. （５）Ｒ＾１が低級アルキル基を示し、 Ｒ＾２が ・水素原子、 ・ハロゲン原子、 ・シアノ基、 ・ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルキル
   基、 ・低級シアノアルキル基、 ・低級アルコキシアルキル基を示し、 Ｒ＾３がハロゲン原子を示し、 ｌが２の整数を示す特許請求の範囲第４項記載の５−フ
   ェニルピラゾール類又はその塩類。
6. （６）請求項第１項記載の３−フェニルピラゾール類又
   はその塩類を有効成分として含有することを特徴とする
   除草剤。
7. （７）請求項第２項記載の３−フェニルピラゾール類又
   はその塩類を有効成分として含有することを特徴とする
   除草剤。
8. （８）請求項第３項記載の３−フェニルピラゾール類又
   はその塩類を有効成分として含有することを特徴とする
   除草剤。
9. （９）請求項第４項記載の５−フェニルピラゾール類又
   はその塩類を有効成分として含有することを特徴とする
   除草剤。
10. （１０）請求項第５項記載の５−フェニルピラゾール類
    又はその塩類を有効成分として含有することを特徴とす
    る除草剤。