JPH0384501A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH0384501A JPH0384501A JP1220317A JP22031789A JPH0384501A JP H0384501 A JPH0384501 A JP H0384501A JP 1220317 A JP1220317 A JP 1220317A JP 22031789 A JP22031789 A JP 22031789A JP H0384501 A JPH0384501 A JP H0384501A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 10
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 abstract 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000029305 taxis Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＯＡ機器や光通信、光情報処理、カメラなど
の光学機器等の分野において用いられる合成樹脂製光学
部品に対して施される反射防止膜に関する。
の光学機器等の分野において用いられる合成樹脂製光学
部品に対して施される反射防止膜に関する。
従来から、ビデオカメラやビデオプロジェクタなどの電
子映像機器、コンパクトディスク、レーザプリンタや光
デイスク装置などのレーザ応用機器、光情報処理機器等
に用いられるレンズ、プリズムなどの光学部品には、有
害な表面反射を低減させるために反射防止層を設けるこ
とが行われている。
子映像機器、コンパクトディスク、レーザプリンタや光
デイスク装置などのレーザ応用機器、光情報処理機器等
に用いられるレンズ、プリズムなどの光学部品には、有
害な表面反射を低減させるために反射防止層を設けるこ
とが行われている。
近年、生産性を高め、低コスト化および軽量コンパクト
化を計るために、光学部品を透明な合成樹脂材料、たと
えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、Ａｓ樹脂そ
の他の材料を用いて製造することが多くなっている。こ
のような合成樹脂製光学部品に対する反射防止処理とし
ては、その表面に単層または多層からなる反射防止膜を
たとえば真空蒸着法などにより形成する方法があり、ま
た、有機シラン系またはアクリル系の塗料などをデイツ
プコートあるいはスピンコードして硬化することにより
アンダーコート被膜を形成し、さらに真空蒸着法などに
より反射防止膜を設ける方法なども知られている。
化を計るために、光学部品を透明な合成樹脂材料、たと
えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、Ａｓ樹脂そ
の他の材料を用いて製造することが多くなっている。こ
のような合成樹脂製光学部品に対する反射防止処理とし
ては、その表面に単層または多層からなる反射防止膜を
たとえば真空蒸着法などにより形成する方法があり、ま
た、有機シラン系またはアクリル系の塗料などをデイツ
プコートあるいはスピンコードして硬化することにより
アンダーコート被膜を形成し、さらに真空蒸着法などに
より反射防止膜を設ける方法なども知られている。
上記のような真空蒸着法などによる反射防止処理では、
ＭｇＦ、等の単層膜の場合には反射率が１．５％以上で
あるうえ密着性や耐久性も良くなく、反射防止膜として
の性能が充分でない。また多層膜構成の場合には、２層
構成のものは比較的に低コストで形成することができ、
中心波長域での反射率を０．５％以下にすることが可能
であるものの、他の波長域では０．５％以下とすること
は困難であり、光学部品の反射防止膜として満足できる
ものではなかった。
ＭｇＦ、等の単層膜の場合には反射率が１．５％以上で
あるうえ密着性や耐久性も良くなく、反射防止膜として
の性能が充分でない。また多層膜構成の場合には、２層
構成のものは比較的に低コストで形成することができ、
中心波長域での反射率を０．５％以下にすることが可能
であるものの、他の波長域では０．５％以下とすること
は困難であり、光学部品の反射防止膜として満足できる
ものではなかった。
一方、合成樹脂製光学部品の表面にアンダーコート処理
する方法は、光学部品の表面形状によっては均一塗布が
困難であってコスト高となり、精密光学部品には適しな
いという問題がある。
する方法は、光学部品の表面形状によっては均一塗布が
困難であってコスト高となり、精密光学部品には適しな
いという問題がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、広い
波長域にわたって反射防止効果が優れるとともに充分な
耐久性を有する、合成樹脂製光学部品の反射防止膜を提
供することを目的とする。
波長域にわたって反射防止効果が優れるとともに充分な
耐久性を有する、合成樹脂製光学部品の反射防止膜を提
供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段］
かかる本発明の目的は、Ｓｆ３Ｎ４とＳｉＯ□との複合
材料からなる第１層と、屈折率が２．０〜２．２の範囲
内にある誘電体材料からなる第２層と、Ｓｉｎｇからな
る第３層とを基板表面側から順次積層してなることを特
徴とする合成樹脂製光学部品の反射防止膜によって達成
することができる。
材料からなる第１層と、屈折率が２．０〜２．２の範囲
内にある誘電体材料からなる第２層と、Ｓｉｎｇからな
る第３層とを基板表面側から順次積層してなることを特
徴とする合成樹脂製光学部品の反射防止膜によって達成
することができる。
本発明の反射防止膜を合成樹脂製光学部品の表面上に形
成するには、まず第１層として、たとえば真空蒸着法や
イオンブレーティング法などを用いて５ｉＪａとＳｉｎ
、との複合材料からなる層を形成するが、この複合材料
は５ｉＪ４と５ｉｆｔとを同時に堆積することによって
得られた単純な混合物であってよい、つぎに第２層とし
て、前記と同様な方法でＴｉ０ｚ、ＣｅＯ，、Ｔａ、Ｏ
，、Ｚｒ０ｚ−ＴｉＯｚなどの屈折率が２．０−２．２
の範囲内にある誘電体材料からなる層を、前記の第１層
の上に形成する。この第２層は単一材料のみならず２種
以上からなる混合材料で形成されていてもよい、そして
最後に、前記と同様な方法でＳｔｏｗからなる第３層を
、前記の第２Ｎの上に積層して形成する。
成するには、まず第１層として、たとえば真空蒸着法や
イオンブレーティング法などを用いて５ｉＪａとＳｉｎ
、との複合材料からなる層を形成するが、この複合材料
は５ｉＪ４と５ｉｆｔとを同時に堆積することによって
得られた単純な混合物であってよい、つぎに第２層とし
て、前記と同様な方法でＴｉ０ｚ、ＣｅＯ，、Ｔａ、Ｏ
，、Ｚｒ０ｚ−ＴｉＯｚなどの屈折率が２．０−２．２
の範囲内にある誘電体材料からなる層を、前記の第１層
の上に形成する。この第２層は単一材料のみならず２種
以上からなる混合材料で形成されていてもよい、そして
最後に、前記と同様な方法でＳｔｏｗからなる第３層を
、前記の第２Ｎの上に積層して形成する。
上記のようにして形成された本発明の反射防止膜は、優
れた光学特性と耐久性とを有するものである。
れた光学特性と耐久性とを有するものである。
［実施例１］
特殊な脂環基を有するアクリル樹脂（日立化成０Ｚ−１
０００．屈折率：１．４９）で成形した板状の光学部品
を精密洗浄したのちに充分乾燥し、真空蒸着装置内に取
り付けたうえ約７０°Ｃに加熱し、５ｔ３Ｎ、とＳｉｎ
、とを７５ ： ２５の割合で混合して得たターゲット
を用い、真空度ｌＸｌ０−’）−ルの条件下で電子ビー
ム加熱によって、厚さが１９５ｎａ＋となるよう蒸着し
て第１層を形成した。この蒸着層は屈折率が１．８であ
った。
０００．屈折率：１．４９）で成形した板状の光学部品
を精密洗浄したのちに充分乾燥し、真空蒸着装置内に取
り付けたうえ約７０°Ｃに加熱し、５ｔ３Ｎ、とＳｉｎ
、とを７５ ： ２５の割合で混合して得たターゲット
を用い、真空度ｌＸｌ０−’）−ルの条件下で電子ビー
ム加熱によって、厚さが１９５ｎａ＋となるよう蒸着し
て第１層を形成した。この蒸着層は屈折率が１．８であ
った。
次に、Ｃｅ０ｔ （屈折率：２．１）のターゲットを用
い、この第１層の上に同様にして厚さが１９５ｎｍとな
るよう蒸着して第２層を形成した。
い、この第１層の上に同様にして厚さが１９５ｎｍとな
るよう蒸着して第２層を形成した。
更に、Ｓｉｎｇ （屈折率：１．４５）のターゲットを
用い、この第２層の上に同様にして厚さが１９５ｎｍと
なるよう蒸着して第３層を形成して、３層構成の反射防
止膜を得た。
用い、この第２層の上に同様にして厚さが１９５ｎｍと
なるよう蒸着して第３層を形成して、３層構成の反射防
止膜を得た。
これらの各層の膜厚は、λが７８０ｎｍの光に対して０
．２５λに相当するものである。
．２５λに相当するものである。
こうして得た反射防止膜について分光反射率を測定した
結果を第１図に示すが、７００から９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．２％以下であった。
結果を第１図に示すが、７００から９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．２％以下であった。
〔実施例２〕
ポリカーボネート樹脂（帝人化或ＡＤ−５５０３、屈折
率：１．５８）で成形した板状の光学部品の表面上に、
第２層としてＴａｘｅｓ （屈折率： ２．０ ）の
蒸着膜を形成した他はすべて実施例１と同様にして、３
層構成の反射防止膜を得た。
率：１．５８）で成形した板状の光学部品の表面上に、
第２層としてＴａｘｅｓ （屈折率： ２．０ ）の
蒸着膜を形成した他はすべて実施例１と同様にして、３
層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た反射防止膜について分光反射率を測定した
結果を第２図に示すが、７００から９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．４％以下であった。
結果を第２図に示すが、７００から９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．４％以下であった。
〔比較例１］
実施例１と同様な板状の光学部品の表面に、実施例１と
同様な方法により、層の厚さが１９５ｎｎ＋のＭｇＦ、
の単一層の反射防止膜を形成した。
同様な方法により、層の厚さが１９５ｎｎ＋のＭｇＦ、
の単一層の反射防止膜を形成した。
この反射防止膜について分光反射率を測定した結果を第
３図に示すが、反射率が１．５％以上であった。
３図に示すが、反射率が１．５％以上であった。
〔比較例２〕
実施例２と同様な板状の光学部品の表面に、実施例１と
同様な方法により、膜厚が１９５ｎｎ＋となるよう蒸着
したＬａ、０．の第１層と、膜厚が１９５ｎ＊となるよ
う蒸着したＳｉｎ、の第２層とからなる積層反射防止膜
を形成した。
同様な方法により、膜厚が１９５ｎｎ＋となるよう蒸着
したＬａ、０．の第１層と、膜厚が１９５ｎ＊となるよ
う蒸着したＳｉｎ、の第２層とからなる積層反射防止膜
を形成した。
この反射防止膜について分光反射率を測定した結果を第
４図に示す。この場合、中心波長７ＢＯｎＩ１１での反
射率は０．１％以下となるが、波長が中心から離れるに
従って、反射率は１％あるいはそれ以上に達している。
４図に示す。この場合、中心波長７ＢＯｎＩ１１での反
射率は０．１％以下となるが、波長が中心から離れるに
従って、反射率は１％あるいはそれ以上に達している。
光学部品の表面に設けた反射防止膜の耐久性を以下の方
法で評価した。
法で評価した。
付着性試験：
セロファン粘着テープを膜の表面に密着させたのち垂直
方向に剥がして、膜の付着性を調べた。実施例１，２お
よび比較例１，２の膜はいずれも剥離が認められなかっ
た。
方向に剥がして、膜の付着性を調べた。実施例１，２お
よび比較例１，２の膜はいずれも剥離が認められなかっ
た。
耐湿試験：
温度４５℃、相対湿度９５％の恒温恒湿槽内に２４時間
放置後乾燥して、膜の状態の変化を観察した。実施例１
，２および比較例２の膜には何らの異常も認められなか
ったが、比較例１の膜には曇りが発生していた。
放置後乾燥して、膜の状態の変化を観察した。実施例１
，２および比較例２の膜には何らの異常も認められなか
ったが、比較例１の膜には曇りが発生していた。
熱衝ＷＪ試Ｍニ
ー３０℃および７０ ’Ｃの環境に交互に各３０分間放
置することを１０回繰り返したのち常温に戻し、表面状
態を観察した。実施例１，２および比較例２の膜には何
らの変化も認められなかったが、比較例１の膜にはクラ
ンクや曇りが生じていた。
置することを１０回繰り返したのち常温に戻し、表面状
態を観察した。実施例１，２および比較例２の膜には何
らの変化も認められなかったが、比較例１の膜にはクラ
ンクや曇りが生じていた。
〔発明の効果）
本発明の反射防止膜は、特定材料からなる層を三層構成
となるように特定順序に積層してなるもので、７００か
ら９００ｎｍという広い波長域において優れた分光反射
特性を示すものであり、また優れた耐久性を有しており
、極めて有用である。
となるように特定順序に積層してなるもので、７００か
ら９００ｎｍという広い波長域において優れた分光反射
特性を示すものであり、また優れた耐久性を有しており
、極めて有用である。
第１図および第２図はそれぞれ本発明の実施例１および
実施例２の反射防止膜の分光反射特性図であり、 第３図および第４図は比較例１および比較例２の反射防
止膜の分光反射特性図である。 ７８０ ８２０ 製表＋ｎｍ ｌ 第１図 ８６０ＣｎＩ′Ｉ′Ｉ） ７８Ｑ ８２０ ４哀ｆｎｍ１ ８６０ （ｎｍ＋ 第 図
実施例２の反射防止膜の分光反射特性図であり、 第３図および第４図は比較例１および比較例２の反射防
止膜の分光反射特性図である。 ７８０ ８２０ 製表＋ｎｍ ｌ 第１図 ８６０ＣｎＩ′Ｉ′Ｉ） ７８Ｑ ８２０ ４哀ｆｎｍ１ ８６０ （ｎｍ＋ 第 図
Claims (1)
- Ｓｉ＿３Ｎ＿４とＳｉＯ＿２との複合材料からなる第１
層と、屈折率が２．０〜２．２の範囲内にある誘電体材
料からなる第２層と、ＳｉＯ＿２からなる第３層とを基
板表面側から順次積層してなることを特徴とする合成樹
脂製光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1220317A JPH0384501A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1220317A JPH0384501A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0384501A true JPH0384501A (ja) | 1991-04-10 |
Family
ID=16749249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1220317A Pending JPH0384501A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0384501A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7880966B2 (en) | 2006-02-01 | 2011-02-01 | Seiko Epson Corporation | Optical article including a layer siox as main component and manufacturing method of the same |
-
1989
- 1989-08-29 JP JP1220317A patent/JPH0384501A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7880966B2 (en) | 2006-02-01 | 2011-02-01 | Seiko Epson Corporation | Optical article including a layer siox as main component and manufacturing method of the same |
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