JPH0375624B2 - - Google Patents
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- JPH0375624B2 JPH0375624B2 JP57115864A JP11586482A JPH0375624B2 JP H0375624 B2 JPH0375624 B2 JP H0375624B2 JP 57115864 A JP57115864 A JP 57115864A JP 11586482 A JP11586482 A JP 11586482A JP H0375624 B2 JPH0375624 B2 JP H0375624B2
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- Japan
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- magnetic
- ribbon
- alloy
- heat treatment
- magnetic field
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
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Landscapes
- Heat Treatment Of Nonferrous Metals Or Alloys (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Description
本発明は、非晶質磁性合金の熱処理方法に係
り、特に高い透磁率の非晶質磁性合金を大量およ
び/または連続的に容易に製造することができる
非晶質磁性合金の熱処理方法に関するものであ
る。 超急冷法、スパツタ及びメツキ法で製造された
非晶質磁性材料は、製造されたままの状態では透
磁率(μ′)が通常低い値を示すので軟磁性材料と
して直接利用することが不可能である。磁歪零材
の組成において非晶質磁性材の透磁率を決定して
いるのは、製造中に誘導される異方性、つまり誘
導磁気異方性がある。この誘導磁気異方性が磁場
中の熱処理により自由に制御できるという事実に
基づき、先に本発明者らは非晶質磁性合金薄板上
の任意の直交座標軸においてKixKiy(Kix:x
方向の誘導磁気異方性、Kiy:y方向の誘導磁気
異方性)の条件を満足する磁場中熱処理を施した
時、著しい透磁率の改善が得られることを提案し
た。しかし、かかる本発明者らの提案では、原理
の呈示はしても実用上、大量および/または連続
的に処理することに難点があつた。 本発明は、このような実情に鑑みてなされたも
のであり、誘導磁気異方性の等方的条件を満た
し、かつ大量および/または連続的に熱処理を可
能にした非晶質磁性合金の熱処理方法を提供する
ものである。 本発明においては、非晶質磁性合金薄帯に対し
て、この合金のキユリー温度以下でかつ結晶化温
度以下で非晶質磁性合金薄帯の主面内の第1の方
向に誘導磁気異方性を発生させるに充分な磁場を
印加して熱処理し、上記合金のキユリー温度以下
でかつ結晶化温度以下で非晶質磁性合金薄帯の主
面内で第1の方向に対して直交する第2の方向
に、その第1の方向の誘導磁気異方性と第2の方
向の誘導磁気異方性が等しくなるに充分な磁界を
印加して熱処理することを特徴とするものであ
る。これによつて、誘導磁気異方性の等方的条件
を満たし、大量および/または連続的に非晶質磁
性合金を熱処理することができる。 以下、図面を用いて本発明による非晶質磁性合
金の熱処理方法の例を詳述する。 第1図は本発明の一例を示す。本例においては
非晶質磁性合金薄帯1を筒状に巻き、これに例え
ばソレノイドコイル2を施してこの合金のキユリ
ー温度以下でかつ結晶化温度以下の温度で、筒状
の円周方向即ち薄帯1の長手方向に磁場H1を印
加して熱処理し、薄帯1の主面内の長手方向に誘
導磁気異方性Klを発生させる。次に同じ筒状態
の薄帯1にこの合金のキユリー温度以下でかつ結
晶化温度以下の温度で、薄帯1の幅方向に外部磁
場H2を印加して熱処理し、薄帯1の主面内でそ
の長手方向と直交する幅方向に誘導磁気異方性
K⊥lを発生させ、KlK⊥lの条件を満足する時
間で熱処理を終える。すなわち、この場合磁場
H2を印加すると磁場H1で発生したKlが減少し
つつ之と直交するK⊥lが増大するのでKlK⊥l
となる時点で熱処理を終える。 この方法によれば、大量に非晶質磁性合金に対
する熱処理が可能になる。特にこの方法はトラン
ス用コア向けに適している。この方法では筒状に
巻いた状態で磁場中熱処理を施すので熱処理後の
非晶質磁性合金薄帯1がそり曲がる懼れがある。 第2図は本発明の他の例である。本例は非晶質
磁性合金薄帯1を平板の状態で一方に移送し、そ
の移送途上の第1の位置において例えばソレノイ
ドコイル2を用いて該合金のキユリー温度以下で
かつ結晶化温度以下の温度で薄帯1の長手方向に
磁場H1を印加して熱処理し、薄帯1の主面内の
長手方向に誘導磁気異方性Klを発生させる。次
に移送途上の第2の位置において、同様に合金の
キユリー温度以下でかつ結晶化温度以下の温度
で、薄帯1の幅方向に外部磁場H2を印加して熱
処理し、薄帯1の主面内で長手方向と直交する幅
方向に誘導磁気異方性K⊥lを発生させ、Kl
K⊥lの条件を満足する時間で熱処理を終える。 この方法によれば、非晶質磁性合金薄帯1が平
板の状態で磁場中熱処理されるので熱処理後の薄
帯1のそり曲りを防ぎ、しかも大量かつ連続的に
非晶質磁性合金の熱処理を可能にする。従つてこ
の方法で熱処理された非晶質磁性合金薄帯はそり
曲りがなく平板状に得られるので、爾後の打抜
き、エツチング等の加工性がよく、例えば磁気ヘ
ツド等の軟磁性コア材用に適するものである。 尚、第1図及び第2図において磁場H1及びH2
を印加する順序は問わない。つまり、上例では磁
場H1を先にし磁場H2を後に印加したが、逆の磁
場H2を先にし磁場H1を後に印加してもよい。い
ずれの順序においてもH1,H2の磁場中熱処理に
おいてKlK⊥lの条件を満足させることで本発
明は達成される。従つて本質的には磁場は交流、
直流を問はない。 また、上例では薄帯1の主面上において、その
長手方向と之に直交する幅方向に夫々磁場H1及
びH2を印加したが、その他主面内における任意
の直交座標軸において互に直交する方向に磁場
H1及びH2を印加してもよい。 また、第1図及び第2図ではすべて炉中で熱処
理が行なわれる。 更に、図示せざるも、例えば第2図の例におい
てさらに薄帯1の移送途上の第3の位置において
薄帯1の板面に対して垂直方向に外部磁場H3を
印加して該合金のキユリー温度以下でかつ結晶化
温度以下の温度で 熱処理し、3次元的に誘導磁
気異方性を略等しくするようになすことも可能で
ある。このときはさらに高周波領域の透磁率向上
が期待できる。 次に本発明の実施例を述べる。 実施例 1 試料はFe5Co75Si4B16(結晶化温度420℃、キユ
リー温度570℃)で厚み約20μm、長さ約10mの
非晶質磁性合金薄帯を使用し、これを筒状に巻
き、第1図に示す熱処理法を用いて最初に熱処理
温度Ta=360℃、時間ta=30min、磁場H2=
2.4KOeで誘導磁気異方性を与えた。然る後、熱
処理温度Ta=300℃、時間ta=10min、磁場H1=
30Oeの条件で熱処理を行つた。表1に、その結
果を示す。透磁率の測定磁界は10mOeである。
り、特に高い透磁率の非晶質磁性合金を大量およ
び/または連続的に容易に製造することができる
非晶質磁性合金の熱処理方法に関するものであ
る。 超急冷法、スパツタ及びメツキ法で製造された
非晶質磁性材料は、製造されたままの状態では透
磁率(μ′)が通常低い値を示すので軟磁性材料と
して直接利用することが不可能である。磁歪零材
の組成において非晶質磁性材の透磁率を決定して
いるのは、製造中に誘導される異方性、つまり誘
導磁気異方性がある。この誘導磁気異方性が磁場
中の熱処理により自由に制御できるという事実に
基づき、先に本発明者らは非晶質磁性合金薄板上
の任意の直交座標軸においてKixKiy(Kix:x
方向の誘導磁気異方性、Kiy:y方向の誘導磁気
異方性)の条件を満足する磁場中熱処理を施した
時、著しい透磁率の改善が得られることを提案し
た。しかし、かかる本発明者らの提案では、原理
の呈示はしても実用上、大量および/または連続
的に処理することに難点があつた。 本発明は、このような実情に鑑みてなされたも
のであり、誘導磁気異方性の等方的条件を満た
し、かつ大量および/または連続的に熱処理を可
能にした非晶質磁性合金の熱処理方法を提供する
ものである。 本発明においては、非晶質磁性合金薄帯に対し
て、この合金のキユリー温度以下でかつ結晶化温
度以下で非晶質磁性合金薄帯の主面内の第1の方
向に誘導磁気異方性を発生させるに充分な磁場を
印加して熱処理し、上記合金のキユリー温度以下
でかつ結晶化温度以下で非晶質磁性合金薄帯の主
面内で第1の方向に対して直交する第2の方向
に、その第1の方向の誘導磁気異方性と第2の方
向の誘導磁気異方性が等しくなるに充分な磁界を
印加して熱処理することを特徴とするものであ
る。これによつて、誘導磁気異方性の等方的条件
を満たし、大量および/または連続的に非晶質磁
性合金を熱処理することができる。 以下、図面を用いて本発明による非晶質磁性合
金の熱処理方法の例を詳述する。 第1図は本発明の一例を示す。本例においては
非晶質磁性合金薄帯1を筒状に巻き、これに例え
ばソレノイドコイル2を施してこの合金のキユリ
ー温度以下でかつ結晶化温度以下の温度で、筒状
の円周方向即ち薄帯1の長手方向に磁場H1を印
加して熱処理し、薄帯1の主面内の長手方向に誘
導磁気異方性Klを発生させる。次に同じ筒状態
の薄帯1にこの合金のキユリー温度以下でかつ結
晶化温度以下の温度で、薄帯1の幅方向に外部磁
場H2を印加して熱処理し、薄帯1の主面内でそ
の長手方向と直交する幅方向に誘導磁気異方性
K⊥lを発生させ、KlK⊥lの条件を満足する時
間で熱処理を終える。すなわち、この場合磁場
H2を印加すると磁場H1で発生したKlが減少し
つつ之と直交するK⊥lが増大するのでKlK⊥l
となる時点で熱処理を終える。 この方法によれば、大量に非晶質磁性合金に対
する熱処理が可能になる。特にこの方法はトラン
ス用コア向けに適している。この方法では筒状に
巻いた状態で磁場中熱処理を施すので熱処理後の
非晶質磁性合金薄帯1がそり曲がる懼れがある。 第2図は本発明の他の例である。本例は非晶質
磁性合金薄帯1を平板の状態で一方に移送し、そ
の移送途上の第1の位置において例えばソレノイ
ドコイル2を用いて該合金のキユリー温度以下で
かつ結晶化温度以下の温度で薄帯1の長手方向に
磁場H1を印加して熱処理し、薄帯1の主面内の
長手方向に誘導磁気異方性Klを発生させる。次
に移送途上の第2の位置において、同様に合金の
キユリー温度以下でかつ結晶化温度以下の温度
で、薄帯1の幅方向に外部磁場H2を印加して熱
処理し、薄帯1の主面内で長手方向と直交する幅
方向に誘導磁気異方性K⊥lを発生させ、Kl
K⊥lの条件を満足する時間で熱処理を終える。 この方法によれば、非晶質磁性合金薄帯1が平
板の状態で磁場中熱処理されるので熱処理後の薄
帯1のそり曲りを防ぎ、しかも大量かつ連続的に
非晶質磁性合金の熱処理を可能にする。従つてこ
の方法で熱処理された非晶質磁性合金薄帯はそり
曲りがなく平板状に得られるので、爾後の打抜
き、エツチング等の加工性がよく、例えば磁気ヘ
ツド等の軟磁性コア材用に適するものである。 尚、第1図及び第2図において磁場H1及びH2
を印加する順序は問わない。つまり、上例では磁
場H1を先にし磁場H2を後に印加したが、逆の磁
場H2を先にし磁場H1を後に印加してもよい。い
ずれの順序においてもH1,H2の磁場中熱処理に
おいてKlK⊥lの条件を満足させることで本発
明は達成される。従つて本質的には磁場は交流、
直流を問はない。 また、上例では薄帯1の主面上において、その
長手方向と之に直交する幅方向に夫々磁場H1及
びH2を印加したが、その他主面内における任意
の直交座標軸において互に直交する方向に磁場
H1及びH2を印加してもよい。 また、第1図及び第2図ではすべて炉中で熱処
理が行なわれる。 更に、図示せざるも、例えば第2図の例におい
てさらに薄帯1の移送途上の第3の位置において
薄帯1の板面に対して垂直方向に外部磁場H3を
印加して該合金のキユリー温度以下でかつ結晶化
温度以下の温度で 熱処理し、3次元的に誘導磁
気異方性を略等しくするようになすことも可能で
ある。このときはさらに高周波領域の透磁率向上
が期待できる。 次に本発明の実施例を述べる。 実施例 1 試料はFe5Co75Si4B16(結晶化温度420℃、キユ
リー温度570℃)で厚み約20μm、長さ約10mの
非晶質磁性合金薄帯を使用し、これを筒状に巻
き、第1図に示す熱処理法を用いて最初に熱処理
温度Ta=360℃、時間ta=30min、磁場H2=
2.4KOeで誘導磁気異方性を与えた。然る後、熱
処理温度Ta=300℃、時間ta=10min、磁場H1=
30Oeの条件で熱処理を行つた。表1に、その結
果を示す。透磁率の測定磁界は10mOeである。
【表】
実施例 2
実施例1と同じ試料を用い、第2図の熱処理法
(磁場を印加する順序は逆)により最初の第1の
位置で熱処理温度Ta=360℃、時間ta=30min、
磁場H2=2.4KOeで誘導磁気異方性を与え、次の
位置で熱処理温度Ta=300℃、時間ta=10min、
磁場H1=30Oeの条件で熱処理を行つた。この結
果は上記表1と同じであつた。 上述せる如く、本発明によれば非晶質磁性合金
に対して誘導磁気異方性の等方的条件を満たし、
かつ大量または/および連続的な熱処理が可能と
なるもので、従つて軟磁性材料として使用し得る
高い透磁率の非晶質磁性合金の量産化を可能にす
るものである。
(磁場を印加する順序は逆)により最初の第1の
位置で熱処理温度Ta=360℃、時間ta=30min、
磁場H2=2.4KOeで誘導磁気異方性を与え、次の
位置で熱処理温度Ta=300℃、時間ta=10min、
磁場H1=30Oeの条件で熱処理を行つた。この結
果は上記表1と同じであつた。 上述せる如く、本発明によれば非晶質磁性合金
に対して誘導磁気異方性の等方的条件を満たし、
かつ大量または/および連続的な熱処理が可能と
なるもので、従つて軟磁性材料として使用し得る
高い透磁率の非晶質磁性合金の量産化を可能にす
るものである。
第1図及び第2図は夫々本発明における熱処理
工程の例を示す概略図である。 1は非晶質磁性合金薄帯、2はソレノイドコイ
ル、H1,H2は印加磁界である。
工程の例を示す概略図である。 1は非晶質磁性合金薄帯、2はソレノイドコイ
ル、H1,H2は印加磁界である。
Claims (1)
- 1 非晶質磁性合金薄帯に対して、該合金のキユ
リー温度以下でかつ結晶化温度以下で該薄帯の主
面内の第1の方向に誘導磁気異方性を発生させる
に充分な磁場を印加して熱処理し、該合金のキユ
リー温度以下でかつ結晶化温度以下で該薄帯の主
面内で上記第1の方向に対して直交する第2の方
向に、該第1の方向の誘導磁気異方性と該第2の
方向の誘導磁気異方性が等しくなるに充分な磁界
を印加して熱処理することを特徴とする非晶質磁
性合金の熱処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57115864A JPS596360A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57115864A JPS596360A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS596360A JPS596360A (ja) | 1984-01-13 |
JPH0375624B2 true JPH0375624B2 (ja) | 1991-12-02 |
Family
ID=14673033
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57115864A Granted JPS596360A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 非晶質磁性合金の熱処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS596360A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0777007B2 (ja) * | 1985-08-23 | 1995-08-16 | 日立マクセル株式会社 | 磁気ヘツドの製造方法 |
JPH0724247B2 (ja) * | 1987-12-26 | 1995-03-15 | 株式会社トーキン | 非晶質合金薄帯巻磁心の熱処理方法とその装置 |
US5676767A (en) * | 1994-06-30 | 1997-10-14 | Sensormatic Electronics Corporation | Continuous process and reel-to-reel transport apparatus for transverse magnetic field annealing of amorphous material used in an EAS marker |
US5786762A (en) * | 1994-06-30 | 1998-07-28 | Sensormatic Electronics Corporation | Magnetostrictive element for use in a magnetomechanical surveillance system |
US5684459A (en) * | 1995-10-02 | 1997-11-04 | Sensormatic Electronics Corporation | Curvature-reduction annealing of amorphous metal alloy ribbon |
EP3693980A1 (en) * | 2014-06-10 | 2020-08-12 | Hitachi Metals, Ltd. | Fe-based nanocrystalline alloy core |
CN106575567B (zh) * | 2014-07-28 | 2020-05-12 | 日立金属株式会社 | 变流器用芯及其制造方法以及具备该芯的装置 |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP57115864A patent/JPS596360A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS596360A (ja) | 1984-01-13 |
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