JPH0352856A - ジアルキルペルオキシドおよびその用途 - Google Patents

ジアルキルペルオキシドおよびその用途

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JPH0352856A
JPH0352856A JP1184498A JP18449889A JPH0352856A JP H0352856 A JPH0352856 A JP H0352856A JP 1184498 A JP1184498 A JP 1184498A JP 18449889 A JP18449889 A JP 18449889A JP H0352856 A JPH0352856 A JP H0352856A
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Yoshiki Higuchi
樋口　慶樹
Shuji Suyama
須山　修治
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規なジアルキルペルオキシド、その製造方
法、及び、その用途に関する。
（従来の技術） 光重合（光硬化）性モノマー、光重合（光硬化）性樹脂
組或物を光重合、光硬化させる重合、硬化法は、熱重合
、熱硬化法及び酸化硬化法に比べて、低温、迅速に重合
、硬化でき、生産性向上、省エネルギー、無公害などの
多くの長所があり、また、選択的硬化も可能であるため
、印刷インキ、塗料、接着剤、樹脂凸版、プリント配線
基盤の加工、などに広く使われている。
光重合、光硬化方法においては、各種の開始剤が開発さ
れてきた。例えば、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類
、ベンジル、アリールジアヅニウム塩、ペンゾフエノン
誘導体、アセトフェノン誘導体、キサンテート類、チオ
キサントン類、ハロゲン化炭化水素類などの紫外線の作
用下でラジカルを発生する光重合開始剤が知られている
〔ジャーナル・オブ・オイル・アンド・カラー・ケξス
ツ・アソシエーション（Ｊ．Ｏｉ１．Ｃｏｌ．Ａｓｓｏ
ｃ．）　５９巻，１６６〜１７１頁（１９７６年））。
また、過酸化ベンゾイル、ジーｔ−ブチルペルオキシド
などの有機過酸化物が光重合開始剤として使用できるこ
とが知られている。しかし、これらの有機過酸化物は、
一般に３２０ｎｍ以下の光しか吸収しない〔ケミカル・
レビュー（Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ）．　６８巻，１２５〜１
５１頁（１９６５年）〕。増感剤を併用することが試み
られたが、増感剤から有機過酸化物への分子間での光エ
ネルギーの伝達効率が低く、有機過酸化物の光分解効率
が低くなってしまい、特に、ジアルキル型有機過酸化物
であるジーＬ−プチルペルオキシドは、分子間では光増
感分解しないと報告されている〔ジャーナル・オブ・ジ
・アメリカン・ケξカル・ソサイエティ−　（Ｊ．Ａｍ
．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）　，８７巻，　３４１３〜３４
１７頁（１９６５年）〕。
この問題を解決するために、分子内に光吸収基としてベ
ンゾフエノン基を含有するエステル型有機過酸化物が開
発されている（米国特許第４４１６８２６号）（特開昭
５９−１９７４０１）。しかし、これらの化合物は、暗
所保存安定性が悪い、硬化した樹脂が黄変するなどの欠
点があった。
（発明が解決しようとする問題点） 前記従来の光重合開始剤は、それぞれ有用であるが、な
お改良すべきいくつかの欠点を持っている。例えば、 （１）ベンゾイン、ベンゾインエーテル［ハ、暗所保存
安定性が悪い。
（２）ベンゾフェノン誘導体はアミン等と併用するが、
重合物、硬化物が黄変する。
（３）チオキサントン類は、モノマー及び樹脂への溶解
度が低い。
（４）光吸収基含有エステル型過酸化物は、熱安定性が
悪く、硬化した樹脂も黄変する。
本発明の目的は、従来の光重合開始剤の欠点を改良した
、熱安定性が良く、重合物や硬化物の黄変が少なく、し
かも光重合、光硬化の効率のよい、工業的価値の高い新
規なベルオキシド、その製造法および用途を提供するこ
とにある。
（発明を解決するための手段） 本発明の目的は、新規な光吸収基含有ジアルキルペルオ
キシドによって達威された。
すなわち、本発明の第ｌは、一般式 （式中、Ｒ，は炭素数４〜８の三級アルキル基、または
α−クミル基、Ｒ２＋　Ｒａは炭素数１〜２のアルキル
基、Ｒ４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中か
ら選ばれ、Ｒ５は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中か
ら選ばれ、ｍは１〜３，ｎは１〜２を表す。また、Ｒ＋
００Ｃ（Ｒｚ）　（１１＋１）基は、メタ、またはパラ
位である．） で示されるペンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
ドであり、本発明の第２は、一般式（式中、Ｒ．，　Ｒ
．は炭素数１〜２のアルキル基、Ｒ４は炭素数１〜３の
アルキル基、水素原子の中から選ばれ、Ｒ，は炭素数１
〜１２のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハ
ロゲン原子、水素原子の中から選ばれ、ｍは１〜３，ｎ
はｌ〜２を表す．また、ＣＨ（Ｒ！）　（Ｒ．）基は、
メタ、またはパラ位である。） で示されるイソアルキル基置換ペンゾフェノンと、一般
式　　　　Ｒ＋００Ｈ　　　　　　　　　　（ＩＩ）（
式中、Ｒ，は炭素数４〜８の三級アルキル基、またはα
−クミル基を表す。） で示されるヒドロペルオキシドを、第４および第５周期
の遷移元素の中から選ばれる金属の金属塩の存在下で反
応させることを特徴とする、一般式（１）で示されるベ
ンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシドの製造方法
であり、本発明の第３は、一般式 （式中、Ｒ．，　Ｒ．は炭素数１〜２のアルキル基、Ｒ
４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から選ば
れ、Ｒ，は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子゛の中から選
ばれ、蹟は１〜３、ｎは１〜２を表す。
また、Ｃ（ＯＨ）　（Ｒ２）　（Ｌ）基は、メタ、また
はバラ位である。） で示されるα−ヒドロキシイソアルキル基置換ペンゾフ
ェノンと、 一般式　　　Ｒ．ＯＯＨ　　　　　　　　　　（ＩＩ）
（式中、Ｒ，は炭素数４〜８の三級アルキル基、または
α−クミル基を表す。） で示されるヒドロベルオキシドを、酸触媒の存在下で反
応させることを特徴とする、一般式（１）で示されるベ
ンゾフエノン基含有ジアルキルベルオキシドの製造方法
であり、本発明の第４は、一般式 （式中、Ｒ，は炭素数１〜２のアルキル基、Ｒ４は炭素
数１〜３のアルキル基、水素原子の中から選ばれ、Ｒ，
は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜４のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、水素原子の中から選ばれ、Ｒ，
は水素原子またはメチル基、ｍは１〜３，ｎは１〜２を
表す。また、ＲｂＨＣ＝　ＣＣＲｚ）基は、メタ、また
はパラ位である。） で示されるイソアルケニル基置換ペンゾフェノンと、 一般式　　Ｒ，ＯＯＨ　　　　　　　　　　（Ｉｆ）（
式中、Ｒ，は炭素数４〜８の三級アルキル基、またはα
−ク旦ル基を表す。） で示されるヒドロベルオキシドを、酸触媒の存在下で反
応させることを特徴とする、一般式（１）で示されるベ
ンゾフエノン基含有ジアルキルペルオキシドの製造方法
であり、本発明の第５は、般式 （式中、Ｒ！，　Ｒ３は炭素数１〜２のアルキル基、Ｒ
４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から選ば
れ、Ｒ，は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中から選ば
れ、Ｘは塩素原子または臭素原子、鯛は１〜３，ｎは１
〜２を表す。また、ＣＸ（Ｒｇ）　（Ｒａ）基は、メタ
、またはパラ位である。） で示されるα〜ハロゲン化イソアルキル基置換ペンゾフ
エノンと、 一般式　　Ｒ，ＯＯＨ　　　　　　　　　　（ＩＩ）（
式中、Ｒ，は炭素数４〜８の三級アルキル基、またはα
−ク逅ル基を表す．） で示されるヒドロペルオキシドとをアルカリの存在下で
反応させることを特徴とする、一般式（Ｉ）で示される
ベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシドの製造方
法であり、本発明の第６は、一般式 （式中、ＲＺ，　Ｒ．は炭素数ｌ〜２のアルキル基、Ｒ
，は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から選ば
れ、Ｒ，は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中から選ば
れ、鋼は１〜３、ｎは１〜２を表す。
また、Ｃ（ＯＯＨ）　（Ｒｇ）　（Ｒ３）基は、メタ、
またはパラ位である．） で示されるα−ヒドロペルオキシイソアルキル基置換ペ
ンゾフェノンと、 一般式　　　　Ｒ，ＯＨ　　　　　　　　　（■）（式
中、Ｒ，は炭素数４〜８の三級アルキル基、またはα−
クミル基を表す。） で示されるアルコールを、酸触媒の存在下で反応させる
ことを特徴とする、一般式（Ｉ）で示されるベンゾフエ
ノン基含有ジアルキルペルオキシドの製造方法であり、
本発明の第７は、一般式（■）で示されるα−ヒドロベ
ルオキシイソアルキル基置換ペンゾフエノンと、 一般式　　　ＲＪｌｌＣ＝ＣＩＩＲ＊　　　　　　　（
　ＩＸ　）（式中、Ｒ，は炭素数１〜５のアルキル基ま
たはフエニル基、Ｒ８は炭素数１〜２のアルキル基、Ｒ
，は水素原子またはメチル基を表す。） で示されるオレフィンを、酸触媒の存在下で反応させる
ことを特徴とする、一般式（１）で示されるペンゾフエ
ノン基含有ジアルキルベルオキシドの製造方法であり、
本発明の第８は、一般式（■）で示されるα−ヒドロベ
ルオキシイソアルキル基置換ペンゾフエノンと、 一般式　Ｒ，Ｘ　　　　　　　　　　　　　（Ｘ）（式
中、Ｒ，は炭素数４〜８の三級アルキル基、またはα−
クミル基、Ｘは塩素原子または臭素原子を表す。） で示されるハロゲン化アルキルとをアルカリの存在下で
反応させることを特徴とする、一般式（１）で示される
ペンゾフエノン基含有ジアルキルベルオキシドの製造方
法であり、本発明の第９および第１０は、前記新規ジア
ルキルベルオキシドを有効戒分とする光分解型ラジカル
発生剤および熱分解型ラジカル発生剤である。
ここで光分解型ラジカル発生剤とは、光重合開始剤、光
硬化剤、光架橋剤等であり、熱分解型ラジカル発生剤と
は、熱によりラジカルを発生する重合開始剤、架橋剤、
硬化剤等である。
本発明のベンゾフエノン基含有ジアルキルベルオキシド
を具体的に示すと （１）　４−（１−ｔ−プチルペルオキシ−１−メチル
エチル）ペンゾフエノン （２）　４−（１−ｔ−アξルベルオキシ−１−メチル
エチル）ペンゾフエノン （３）　４−（１−ｔ−へキシルペルオキシ−１−メチ
ルエチル）ペンゾフェノン （４）　４−（１−ｔ−オクチルベルオキシ−１−メチ
ルエチル）ペンゾフエノン （５）　４−（１−クミルペルオキシ−１−メチルエチ
ル）ペンゾフェノン （６）　４−（１−ｔ−プチルペルオキシ−■−メチル
エチル）−２−メチルベンゾフエノン （７）　４（１−ｔ−プチルペルオキシ−１−メチルエ
チル）一２−プロビルベンゾフエノン （８）　４−（１−ｔ−プチルベルオキシ＝１−メチル
エチル）２，６−ジプロビルベンゾフェノン （９）　４−（１−ｔ−プチルベルオキシ−１−メチル
エチル）〜２．６−ジブロビル−４′−ｔ−　ドデシル
ベンゾフェノン （１０）　４−（１−ｔ−プチルペルオキシ−１−メチ
ルエチル）４′−クロルベンゾフェノン （１１）　４−（１−ｔ−プチルペルオキシ−１−メチ
ルエチル）−４′−ブロモベンゾフエノン （１２）　４−（１−ｔ−プチルペルオキシ−１−メチ
ルエチル）−４′−ブトキシベンゾフエノン （１３）　４−（１−ｔ−オクチルペルオキシ−１−メ
チルプロビル）−２．６−ジブロビル−２’　，３’　
．４’　−　　トリメトキシベンゾフエノン （１４）　４−（１−ｔ−オクチルペルオキシ−１−メ
チルプロビル）−２−，６−ジプロビル−３’　，４’
−ジエトキシベンゾフェノン （１５）　３−（１−ｔ−プチルペルオキシ−１−メチ
ルエチル）ベンゾフエノン （１６）　３−（１−ｔ−オクチルペルオキシ−１−メ
チルブロピル）−６−プロビル−３’　，４’−ジエト
キシベンゾフェノン などがある． 本発明の一般式（１）で示される化合物は、次の４通り
の方法で製造することができる．第１の製造法は、イソ
アルキル基置換ペンゾフエノン誘導体（１）を、金属塩
の存在下、ヒドロペルオキシド（ＩＩ）と反応させるこ
とにより、一般式（１）で示される化合物が得られる。
（式中、ＲＩ　Ｒｔ＋　Ｒ３１　Ｒ４１　Ｒｓ＋　ｌ＋
　ｎおよびＲ　ＩＯＯＣ（Ｒｚ）　（Ｉｈ）基の位置は
、前記の通りである．）最初の化合物（Ｉ［Ｉ）は、置
換ベンゼンと置換ペンゾイルクロリドのフリーデル・ク
ラフッ反応などにより、容易に得られる． 本発明の製造法の化合物（Ｉ［Ｉ）とヒドロペルオキシ
ド（ｆｆ）との反応では、触媒として第４および第５周
期の遷移元素の中から選ばれる金属の金属塩を用いるこ
とができる。金属塩の金属を具体的に示すと、銅、コバ
ルト、マンガン、鉄、クロム、亜鉛などであり、配位子
を具体的に示すと、ヨウ素、臭素、塩素のハロゲン、硫
酸、リン酸、硝酸、炭酸などの鉱酸、ギ酸、酢酸、ナフ
テン酸、オクテン酸、グルコン酸、などの有機酸、シア
ン、アセチルアセトナートなどである。金属塩の使用量
はヒドロベルオキシド１モルに対してｏ．ｏｏｏｉ〜０
．１モルである。反応条件は用いる金属塩によって異な
るが、反応温度は通常３０〜１００゜Ｃ、反応時間は１
〜５０時間が好ましい。また、溶媒としてベンゼン、ト
ルエンなどを用いることができる。
第２の製造法は、α−ヒドロキシイソアルキル基置換ペ
ンゾフェノン誘導体（ＩＶ）を、酸触媒の存在下、ヒド
ロベルオキシド（ＩＩ）と反応させることにより、一般
式（１）で示される化合物が得られる。
（式中、Ｒ＋＋　Ｒｔ＋　Ｒ３１　Ｒ４１　ＲＳＩ　ｍ
Ｉ　ｎおよび１１．００（Ｒｚ）　（Ｒ２）基の位置は
、前記の通りである．）最初の化合物（ＩＶ）は、化合
物（Ｉ［［）を空気酸化して生成するヒドロペルオキシ
ドを還元することにより容易に得られる． 本発明の製造法の化合物（ｒＶ）とヒドロベルオキシド
（ＩＩ）との反応では、酸触媒として過塩素酸、塩酸、
硫酸、リン酸などの鉱酸を用いることができる．酸触媒
の使用量は、化合物（ＴＶ）　１モルに対して０．００
１−１モルである。溶媒として酢酸などを用いることが
できる。また、反応系中に硫酸マグネシウムなどの脱水
剤を存在させると、収率を向上させることができる。反
応条件は、反応温度は通常Ｏ〜７０゛Ｃ、反応時間は１
〜１０時間が好ましい． また、ヒドロペルオキシド（■）とアルコール（■）と
の反応も、同様に行うことにより、一般式（１）で示さ
れる化合物が得られる．第３の製造法は、イソアルケニ
ル基置換ベンゾフェノン誘導体（Ｖ）を、酸触媒の存在
下、ヒドロベルオキシド（ＩＩ）と反応させることによ
り、一般式（１）で示される化合物が得られる。
（Ｖ） （Ｉ） （式中、Ｒ＋＋　Ｒｚ＋　Ｒ３＋　Ｒ４＋　Ｒ，，Ｒｈ
＋　ｎおよびＲ，ＯＯＣ（１（ｐｚ）基の位置は、前記
の通りである。）最初の化合物（Ｖ）は、化合物（ＩＶ
）を脱水することにより容易に得られる。
本発明の製造法の化合物（Ｖ）とヒドロペルオキシド（
ＩＩ）との反応では、酸触媒として塩酸、硫酸、過塩素
酸などの鉱酸、および／または、塩化亜鉛、塩化アルミ
ニウムなどのルイス酸などが使用される。酸触媒の使用
量は、化合物（■）１モルに対して０．００１〜１モル
である。反応条件は、反応温度は通常Ｏ〜７０゛Ｃ、反
応時間は１〜１０時間が好ましい。また、イソプロビル
アルコールなどの溶媒を用いることができる。
また、ヒドロベルオキシド（■）とオレフィン（ＩＸ）
との反応も、同様に行うことにより、一般式（１）で示
される化合物が得られる。
第４の製造法は、α−ハロゲン化イソアルキル基置換ペ
ンゾフェノン誘導体（ＶＩ）を、アルカリの存在下、ヒ
ドロベルオキシド（ＩＩ）と反応させることにより、一
般式（１）で示される化合物が得られる。
（Ｖｌ）　　　　　　　　　　　　　　　（１）（式中
、ＲＩ＋　ＲＺ＋　Ｒ３１　Ｒ４１　Ｒ５１　ＸＩ　ｍ
＋　ｎおよびＲＩＯＯＣ（Ｒ２）　（Ｒｚ）基の位置は
、前記の通りである。）最初の化合物（Ｖｌ）は、化合
物（１１１１）を塩素ガス、Ｎ−ブロモこはく酸イミド
などでハロゲン化することにより容易に得られる。
本発明の製造法の化合物（Ｖｌ）とヒドロベルオキシド
（ＩＩ）との反応では、アルカリとして、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、ピリジンなどを用いることがで
きる。アルカリの使用量は、化合物（■）１モルに対し
て０．８〜３．０モルが好ましい。反応条件は，，反応
温度は通常０〜７０℃、反応時間は１〜１０時間が好ま
しい。また、溶媒としてヘキサン、ベンゼン、トルエン
、エーテルなどを用いることができる。
また、ヒドロベルオキシド（■）とハロゲン化アルキル
（Ｘ）との反応も、同様に行うことにより、−ｅ式（１
）で示される化合物が得られる。
以上のようにして製造される新規なジアルキルペルオキ
シドは、常温で白色の固体または透明な粘性液体として
得られる。得られたそれぞれの化合物は赤外線吸収スペ
クトル、核磁気共鳴スペクトル、紫外線吸収スペクトル
、マススペクトルおよび元素分析により、その構造を同
定することができる。
本発明のジアルキルペルオキシドは単独で、または他の
戒分と混合し、光重合開始剤としてラジカル重合性不飽
和化合物の光重合または光硬化に使用する。この際、１
種または２種以上のラジカル重合性不飽和化合物と、本
発明の光重合開始剤との混合物中に、通常用いられてい
る顔料、フィラー、色素、熱重合禁止剤、可塑剤、溶媒
、増感剤、また、他の既知の光重合開始剤などの添加剤
を適宜配合することもでき、このような感光性組或物が
塗料、接着剤、印刷インキ、印刷８版、プリント配線基
盤、フォトレジストなどに使用される。
本発明の光重合開始剤、光硬化剤を配合して光重合、光
硬化させうるラジカル性不飽和化合物としては、重合性
単量体、重合性オリゴマー、および重合性不飽和重合体
があげられる。重合性単量体は、一つ以上の重合性二重
結合を持つ化合物であって、例えば、アクリル酸、メタ
クリル酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、イタ
コン酸などの不飽和カルボン酸、および、これらの不飽
和カルボン酸の誘導体、例えばメチル（メタ）アクリレ
ート、ブチル（メタ）アクリレート、２〜エチルヘキシ
ル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、などのモノエステ
ル類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシプ口ピル（メタ）アクリレートなどのヒド
ロキシエステル類、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ネオベンチルグリコールジ（メタ）．アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートな
どの多価エステル類、（メタ）アクリロニトリル、（メ
タ）アクリルアミド、および、Ｎ−置換（メタ）アクリ
ルアミド等、ビニルアセテート、ビニルプロビオネート
、ビニルアセテート、および、ビニルスクシネート等の
ビニルエステル類、ビニルエーテル類、スチレン、アル
キルスチレン、ハロゲン化スチレン、ジビニルベンゼン
、ビニルナフタレン、Ｎ−ビニルビロリドン、ジアリル
フタレート、ジアリルマレート、トリアリルイソシアネ
ート、および、トリアリルホスフェートなどのビニル化
合物などがあげられる。
重合性オリゴマー、重合性不飽和重合体としては、例え
ば、マレート基、フマレート基、アリル基、（メタ）ア
クリレート基を持つ硬化性樹脂、不飽和ポリエステル、
不飽和アクリル樹脂、および、イソシアネート改質アク
リルオリゴマー、ポリエステルアクリルオリゴマー、お
よび、ポリエーテルアクリルオリゴマー等があげられる
。
また、本発明の光架橋剤に使用される、架橋されるボリ
マーとしては、例えばポリエチレン、エチレンブロビレ
ンコポリマー（ＥＰＭ）　、エチレンプロピレンジェン
コボリマ−（ＥＰＤＭ）　、エチレン酢酸ビニルポリマ
ー（ＥＶＡ）　、テトラフルオ口エチレンビニリデンフ
ルオライドへキサフルオ口プロピレン三元コボリマー、
クロルスルホン化ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、
ポリブテンー１、ポリイソブテン、エチレンビニルアセ
テートコボリマーポリブタジエン、ポリイソプレン、ポ
リクロロプレン、ブタジエンスチレンコポリマー、天然
ゴム、ボリアクリレートゴム、ブタジエンアクリロニト
リルコボリマー、アクリロニトリルブタジエンスチレン
三元コポリマー、シリコーンゴム、ポリウレタンなどが
挙げられる。
本発明の光重合開始剤、光硬化剤、光架橋剤の使用量は
、基本的にはラジカル重合性不飽和化合物及び架橋され
るポリマーに対して０．０１〜１０重量％、好ましくは
、０．１〜４重量％であるが、添加剤の種類の影響を受
ける。例えば、光透過性の悪い顔料を混合する場合は、
増量することが必要なこともある。しかし、量が多すぎ
ると、重合体の中に未反応の光重合開始剤が残存し、重
合物の物性を低下するおそれがある。また、少なすぎる
と重合が完結せず、未反応の不飽和化合物が残存する。
本発明の光重合開始剤、光硬化剤、光架橋剤を配合した
ラジカル重合性不飽和化合物の光重合、光硬化および光
架橋は、既知の方法により２５０〜５００ｎｍ　、好ま
しくは、３００〜４００ｎｌＩ１の波長範囲の光の照射
により行う。使用できる光源は、日光、水銀ランプ、水
銀放電管、キセノンアークランプ、閃光放電管、タング
ステンランプ、ハロゲンランプ、色素レーザー、エキシ
マレーザー等があげられる。
本発明者らは、本発明のベンゾフエノン基含有ジアルキ
ルベルオキシドの用途について更に追求した結果、熱に
よる重合および架橋においても、有効な性能を有するこ
とを突き止めた。
本発明の熱重合開始剤に使用されるビニル単量体として
は、例えばスチレン、α−メチルスチレン、アクリロニ
トリル、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル
類、マレイン酸エステル類、フマル酸エステル類、マレ
イミド類、ブタジエン、酢酸ビニル等である。
またこれらの単量体の他各種連鎖移動剤、ゴム或分ある
いはベンタンなどの発泡剤を添加したものでもよい。
発明に使用される熱重合開始剤は、熱分解温度の異なる
その他の開始剤と併用しても良い。
開始剤の添加量は重合に用いる単量体の種類あるいはそ
の組合せにより異なるが一般に、単量体の仕込量１００
重量部に対して純品換算で０．００１〜５重量部であり
、好ましくは０．０１〜０．５重量部である。その量が
０．００１重量部未満では重合速度が遅くなる傾向にあ
る。また５重量部を越えると経済的でなく、好ましくな
い。
本発明において用いられる重合方法は、通常の塊状重合
、溶液重合あるいは懸濁重合法で重合温度は一般に８０
〜１５０　’Ｃであり、好ましくは８０〜１３０℃の温
度範囲である。重合温度は一定温度あるいは重合初期で
は比較的低温で行い、重合の進行と共に段階的に昇温す
る方法が用いられる。
本発明で得られた重合体は一般の戒形材料に用いられる
ＧＰタイプポリスチレン、耐衝撃ボリスチレン、発泡ポ
リスチレン、ポリメタクリル酸メチル、スチレン／アク
リロニトリル共重合体、スチレン／アクリロニトリル／
フエニルマレイミド共重合体、メタクリル酸ブチル／２
−エチルへキシルメタクリレート共重合体などの各種ア
クリル酸あるいはメタクリル酸エステルの共重合体など
であるゆ 本発明の熱による架橋剤に使用される、架橋されるボリ
マーとしては、例えばポリエチレン、エチレンプロピレ
ンコボリマー（ＥＰＭ）　、エチレンブロピレンジエン
コボリマー（ＥＰＤＭ）　、エチレン酢酸ビニルコポリ
マー（ＢＶＡ）　、テトラフルオ口エチレンビニリデン
フルオライドへキサフルオロプロピレン三元コボリマー
、クロルスルホン化ポリエチレン、塩素化ポリエチレン
、ポリブテンー１、ポリイソブテン、エチレンビニルア
セテートコポリマー、ポリプタジエン、ポリイソプレン
、ポリクロロブレン、ブタジエンスチレンコポリマー、
天然ゴム、ポリアクリレートゴム、ブタジエンアクリロ
ニトリルコポリマー、アクリロニトリルブタジエンスチ
レン三元コボリマー、シリコーンゴム、ポリウレタン、
ポリスルフィドが挙げられる。
架橋されるべきボリマーに対して本過酸化物は一般に０
．１〜１０重量χ、好ましくは１〜３重Ｍχの範囲で加
えられる。
また架橋されるべきボリマーに架橋プロセスに一般に用
いられる種々の添加剤、例えば架橋助剤、酸化防止剤、
顔料、紫外線安定剤、充填剤、可塑剤などを加えること
ができる。
本発明においてポリマーと有機過酸化物を混合する温度
は一般に２５〜１３０゜Ｃが用いられる。続く架橋の温
度は一般に１１０〜２２０℃、好ましくは１５０〜１９
０゜Ｃが用いられる。
（発明の効果） 本発明のベンゾフエノン基含有ジアルキルペルオキシド
は、従来の光重合開始剤に比べて次の特徴を持っている
。
（１）本発明のペンゾフエノン基含有ジアルキルペルオ
キシドは、同一分子内に光吸収基とラジカル発生源を持
つため、光の照射により、効率よくラジカルを発生させ
ることができる。従って、光重合、光硬化速度が速い。
（２）本発明のペンゾフエノン基含有ジアルキルペルオ
キシドは、ジアルキル型の過酸化物であるので、熱安定
性が良く、従って、これを含む光重合Ｕ或物は、重合お
よびゲル化することなく長期間保存できる。
（３）本発明のベンゾフエノン基含有ジアルキルペルオ
キシドを光重合開始剤、光硬化剤、光架橋剤として用い
て得られた重合体は黄変しない。
〈４〉本発明のペンゾフェノン基含有ジアルキルペルオ
キシドは過酸化物であるため、光硬化による硬化が不十
分な場合、熱硬化によるアフターキュアが可能である。
（５）本発明のペンゾフヱノン基含有ジアルキルペルオ
キシドは、熱による重合開始剤、架橋剤としても有効で
ある。
（６）本発明の製造方法は、ペンゾフエノン基含有ジア
ルキルベルオキシドを収率よく製造することができる。
以上のように、本発明のペンゾフエノン基含有ジアルキ
ルペルオキシドは光重合、硬化、架橋剤、および、熱重
合、架橋剤として優れた特徴を持つ新規な化合物であり
、工業的価値は極めて高い。
（実施例） 次に、実施例により、本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれにより限定されるものではない。
実去ＬＬＬ 撹拌装置及び温度計を備えた２００−の四つロフラスコ
に４−イソプロビルベンゾフェノン〔これは、クメンと
ペンゾイルクロリドから得られる１　１１．２ｇ（０．
０５モル）、ｔ−プチルヒドロベルオキシド１３．５ｇ
（０．１５モル）、塩化第一銅０．０５ｇおよびベンゼ
ン５０−の＠濁液を、窒素雰囲気下、７０℃で２５時間
撹拌を続け、次いで１０％塩酸、１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、
溶媒留去後、メタノール中結晶化、またはカラムクロマ
トグラフィーにより白色固体７．８ｇを得た。この化合
物について、赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペク
トル、紫外線吸収スペクトル、マススペクトル、元素分
析、および、融点の測定を行った結果、下記のとおりで
あり、この化合物が４−（１−ｔ−プチルペルオキシ−
１〜メチルエチル）ペンゾフェノンであることを確認し
た。
ＣＨ．　　　　　ＣＨ． 赤外線吸収スペクトル ８７０α−’　（０−０結合） １６６０　ａｓ−’　（Ｃ−０結合） 核磁気共鳴スペクトル（δ） １．２７ｐｐｍ　（９Ｂ） １．６２ｐｐｍ　（６Ｈ） ７．４〜８．２ｐｐｍ　（９１１） 紫外線吸収スペクトル（ジオキサン中）３４２ｎｍ　　
（ε　　１６０） ２５６ｎ慣　（ε　１８８００） マススペクトル ３１２ｍ／ｅ　（分子イオンビーク） 元素分析 Ｃ．　７６．８３２（計算値７６．８９２）Ｈ．　　７
．７Ｘ　（計算値７．７４２）融点　４８〜４９゜Ｃ １１達しし二ｉ Ｌ−プチルヒド口ベルオキシドの代わりに、それぞれｔ
−アミルヒドロペルオキシド、ｔ−へキジルヒド口ベル
オキシド、ｔ−オクチルヒドロペルオキシド、クメンヒ
ドロペルオキシドを用いて実施例ｌに述べた製造方法に
準じた方法で操作して、粘性の液体を得た。これらの化
合物についてそれぞれ実施例１と同様に各分析を行った
結果、これらの化合物が目的のべルオキシドであること
を確認した。得られた化合物および各分析の結果を第Ｉ
表にまとめて示す。
実１津１レニ１ ４−イソブロビルベンゾフェノンの代わりに、種々の置
換基の付いた４−イソプロビルヘンゾフェノンを用いる
以外は、実施例１に述べた製造方法に準した方法で操作
して、得られた化合物についてそれぞれ実施例ｌと同様
に各分析を行った結果、これらの化合物が目的のベルオ
キシドであることを確認した．得られた化合物および各
分析の結果を第２表にまとめて示す． ２旌明旦二旦 ４−イソプロビルベンゾフエノンの代わりに種々の置換
基を持つ３−イソプロビルベンゾフエノンを用いる以外
は、実施例ｌに述べた製造方法に準じた方法で操作して
、得られた化合物についてそれぞれ実施例ｌと同様に各
分析を行った結果、これらの化合物が目的のべルオキシ
ドであることを確認した。得られた化合物および各分析
の結果を第３表にまとめて示す． 実ＩＩ引五 撹拌装置及び温度計を備えた１００　ｄの四つ口フラス
コに４−（α−ヒドロキシイソプロビル）ペンゾフェノ
ン１２．０ｇ　（０．０５モル）、Ｌ−プチルヒドロペ
ルオキシド５．０ｇ（０．０５５モル）、硫酸マグネシ
ウム２．　０ｇの懸濁液中にＬ！過塩素酸の酢酸溶液５
．０ｇ（０．０００５モル）を、２５゜Ｃ以下に保ちな
がら滴下し、４０゜Ｃに昇温後２時間撹拌を続けた。冷
却後、５χ水酸化ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去後、メタノー
ル中結晶化、またはカラムクロマトグラフィーにより白
色固体１１．８ｇを得た。この化合物について、赤外線
吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、紫外線吸収ス
ペクトル、マススペクトル、元素分析、および、融点の
測定を行った結果、この化合物が４−（１−ｔ−プチル
ペルオキシ−１−メチルエチル）ペンゾフェノンである
ことを確認した。
ｚｈ班旦 撹拌装置及び温度計を備えた１００　ｄの四つロフラス
コに４−イソプロペニルベンゾフエノン１１．１ｇ（０
．０５モル）のイソプロビルアルコール溶液中に、濃塩
酸１．０ｇ（０．０１モル）、次いでｔ−プチルヒドロ
ベルオキシド５．０ｇ（０．０５５モル）を、２５゜Ｃ
以下に保ちながら滴下し、４０゜Ｃに昇温後２時間撹拌
を続けた。冷却後、５ｚ水酸化ナトリウム水溶液、次い
で水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去後、
メタノール中結晶化、またはカラムクロマトグラフィー
により白色固体１０．７ｇを得た。この化合物について
、赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、紫外
線吸収スペクトル、マススペクトル、元素分析、および
、融点の測定を行った結果、この化合物が４−（１−ｔ
−プチルペルオキシｌ−メチルエチル）ペンゾフエノン
であることを確認した。
ｚ益班旦 撹拌装置及び温度計を備えた２００　ｍｌの四つロフラ
スコに４０！水酸化ナトリウム水溶液１２．５ｇ（０．
１２５モル）とベンゼン２５ｇ，ジオキサン７５ｇをい
れて撹拌し、水冷して３〜６　”Ｃに保ちながら、ｔ−
プチルヒド口ベルオキシド１１．３ｇ（０．　１２５モ
ル）および４−（α−クロロイソプ口ビル）ペンゾフェ
ノン２５．９ｇ（０．　１０モル）を加えた。その後５
゜Ｃで４〜５時間反応を継続した。この反応混合物から
有機層を取り出し、１（ＩＸ水酸化ナトリウムで２回、
次いで飽和食塩水で２から３回洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、溶媒留去後、メタノール中結晶化、
またはカラムクロマトグラフィーにより白色固体２２．
　１ｇを得た。この化合物について、赤外線吸収スペク
トル、核磁気共鳴スペクトル、紫外線吸収スペクトル、
マススペクトル、元素分析、および、融点の測定を行っ
た結果、この化合物が４−　（１−ｔ−プチルペルオキ
シ−１−メチルエチル）ペンゾフエノンであることを確
認した。
尖施拠旦 ４−（α−　ヒドロキシイソブ口ビル）ペンゾフエノン
およびｔ−プチルヒドロペルオキシドの代わりに、ｔ−
ブチルアルコールおよび４−（α−ヒドロペルオキシイ
ソプ口ピル）ペンゾフェノンを用いる以外は、実施例１
５に述べた製造方法に準じた方法で操作して、得られた
化合物についてそれぞれ実施例１５と同様に各分析を行
った結果、これらの化合物が４−（１−ｔ−プチルペル
オキシ−ｌ−メチルエチル）ペンゾフヱノンであること
を確認した．実施旦旦 ４−イソプロビルベンゾフエノンおよびｔ−プチルヒド
ロベルオキシドの代わりに、２−メチル＝１−ペンテン
および４−（α−ヒドロペルオキシイソプロビル）ペン
ゾフェノンを用いる以外は、実施例ｌ６に述べた製造方
法に準じた方法で操作して、得られた化合物についてそ
れぞれ実施例１６と同様に各分析を行った結果、これら
の化合物が４−　（１−　ｔ−へキシルベルオキシ−■
−メチルエチル）ペンゾフェノンであることを確認した
。
裏旌拠廻 ４−（α−クロロイソプ口ピル）ペンゾフエノンおよび
ｔ−プチルヒドロペルオキシドの代わりに、塩化ｔ−ブ
チルおよび４−（α−ヒドロペルオキシイソプロビル）
ペンゾフェノンを用いる以外は、実施例１７に述べた製
造方法に準じた方法で操作して、得られた化合物につい
てそれぞれ実施例１７と同様に各分析を行った結果、こ
れらの化合物が４−（１−ｔヘキシルペルオキシ−１−
メチルエチル）ペンゾフェノンであることを確認した。
実益班麩二国 石英製光重合管に、重合禁止剤を含まないメタクリル酸
メチルに本発明の光重合開始剤をそれぞれ０．０１　ｔ
ｏｏｌ／Ｉ！添加し、凍結融解法で窒素置換した後、２
０゜Ｃの恒温槽でメリーゴーランド型光照射装置（大科
工業社製、商品名ＭＧＲ−Ｐ型）を用い、４００一高圧
水銀灯（ＵＶＴ　３６Ａ　７　イ／Ｉ／夕一使用）テ３
６５ｎｍの紫外線を８ｃｍの距離から３０分照射した後
、メタノール沈降法による重量法で重合転化率および重
合速度（Ｒｐ）を測定した。得られた結果を第４表に示
す。
且笠囲上 本発明の光重合開始剤に変え、第４表に示される従来の
光重合開始剤を用いた以外は、実施例２Ｉに準じてメタ
クリル酸メチルを重合し、重合転化率、および重合速度
を測定した。その結果を第４表に示す。
第 表 「ダロキュア１１７３Ｊ　ｉメルク社製商品名第４表の
結果は、本発明の化合物が有効な光重合性能を持ってい
ることを示している。
裏旌明韮 メタクリル酸メチルに本発明の４−　（１−　ｔ−プチ
ルペルオキシ−１−メチルエチル）ペンゾフエノンを０
．０１ｉｏ　１　／　ｌ添加し、実施例２１と同じ装置
を使い、同じ操作で、光照射時間を変えて重合させ、重
合転化率を測定した。得られた照射時間と重合転化率の
関係を第１図に示す。
止較脳主 本発明の光重合開始剤に変え、第４表に示された従来の
光重合開始剤を用いた以外は、実施例２６に準じてメタ
クリル酸メチルを重合し、得られた照射時間と重合転化
率との関係を第１図に示す。
第ｌ図から、本発明の光重合開始剤を用いると、重合活
性が大きいことがわかる。
夫出史幽 ガラスプレート上に、本発明の４−　（１−　ｔ−プチ
ルベルオキシ−１−メチルエチル）ペンゾフェノンを２
重量部添加したエステルアクリレート樹脂〔組或は「ア
ロニックスＭ−８０６０Ｊ　　（東亜合戒社製品名）／
「アロニックスト５７００Ｊ　　（東亜合或社製品名＝
４／６〕を、１００μｍの膜厚に塗布し、コンベア式紫
外線硬化装置（集光型）を用いて樹脂を硬化させた。こ
の樹脂の、目視での黄変はなかった。
比較皿主 ４−　（１−　ｔ−プチルペルオキシ−１−メチルエチ
ル）ペンゾフェノンの代わりに、１，２−ジフェニル−
２．３−ジメトキシエタン−１−オンを用いる以外は実
施例２７に準じてエステルアクリレート樹脂を硬化させ
た。この樹脂は、黄変していた。
夫施班迎二川 ガラスびん中に、本発明の光重合開始剤をそれぞれ２重
量部添加したエステルアクリレート樹脂〔組或は、実施
例２７で用いた樹脂と同し］を入れ、インキュベーター
内、６０’Ｃで暗所保存安定性を調べた。結果は、目視
でゲル化の生じた日数で表した。得られた暗所保存安定
性を第５表に示す。
比較脳土二ｉ 本発明の光重合開始剤に変えて、第５表に示される従来
の光重合開始剤を用いる以外は、実施例２８に準じて暗
所保存安定性を測定した。得られた結果を第５表に示す
。
第 表 ｌ） 「イルガキュア６５ｉ　Ｊ　： チバ ガイギー社商品名 「ダロキュア１１７３． ；メルク社商品名 実動Ｈ組阻 容ｉ１２　０　ｄのガラス製アンプル管に本発明の４−
　（ｔ−プチルペルオキシ−■−メチルエチル）ペンゾ
フェノン０．００５　ｍｏ　ｌ　／　ｌを添加したスチ
レン１０ｇを入れ、真空脱気後、封管した。このアンプ
ル管を１２０″Ｃの恒温油浴槽中で所定時間重合させた
。重合物をそれぞれメタノールに投入し、再沈澱を行い
、得られた白色粉体の重量より重合転化率を計算した。
また、ゲルパーミエーションク口マトグラフィ−（ＧＰ
Ｃ）により、重合平均分子量（Ｍｗ）を測定した。結果
を第６表に示す。
比較輿ユ ４−（ｔ−プチルペルオキシ−１゜−メチルエチル）ペ
ンゾフェノンの代わりにｔ−プチルクミルペルオキシド
０．００５　ｍｏｌ　／　ｌを添加したスチレン１０ｇ
を用いる以外は実施例３３に記載した方法に準じて重合
を行い、結果を第６表に示す。
第 表 第６表より本発明の化合物が熱による重合開始剤として
有効な性能を有することがわかる。
夫旌握旦 容量７ｉのヘンシエルミキサー（撹拌翼：標準型）に見
かけた比重０．４５、粒径ＡＳＴ？Ｉ３０メッシュ９９
、５χバス、Ｍ１３０．５、密度０．９５６の粉末状ポ
リエチレン２０ｋｇと４−（ｔ−プチルベルオキシー１
−メチルエチル）ペンゾフェノン０．２　ｋｇを同時に
投入し、約７５Ｏｒｐｍで２分、１５００ｒｐｍで８分
間混合した。
得られた混合物を用いて鋳造金型を用い、２軸回転戒形
法により製品を得た．得られた製品の外観および機械物
性は第７表のとおりであった。
且笠班且 ４−（ｔ−プチルベルオキシ−１−メチルエチル〉ペン
ゾフェノンの代わりにジクミルペルオキシドを用いる以
外は実施例３４に記載した方法に準して操作し、結果を
第７表に示す。
第７表 第１図は、本発明における実施例２６および比較例２に
おける光重合開始剤の照射時間と重合転化率との関係を
示す線図である． 第１図 Ｏ ｆ０　　　　　２０ 照ｆｔ時Ｍｃ匍 手 続 補 正 書 平戒元年 ８月２５日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアル
    キル基、Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子
    の中から選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基
    、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原
    子の中から選ばれ、ｍは１〜３、ｎは１〜２を表す。ま
    た、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、ま
    たはパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ド。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアルキル基、
    Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から
    選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
    １〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中か
    ら選ばれ、ｍは１〜３、ｎは１〜２を表す。また、ＣＨ
    （Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、またはパラ位である
    。） で示されるイソアルキル基置換ベンゾフェノンと、一般
    式Ｒ＿１ＯＯＨ（II） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基を表す。） で示されるヒドロペルオキシドを、第４および第５周期
    の遷移元素の中から選ばれる金属の金属塩の存在下で反
    応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は前
    記と同じものを示し、ｍ、ｎも前記と同じである。また
    、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、また
    はパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドの製造方法。 ３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアルキル基、
    Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から
    選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
    １〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中か
    ら選ばれ、ｍは１〜３、ｎは１〜２を表す。また、Ｃ（
    ＯＨ）（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、またはパラ位
    である。） で示されるα−ヒドロキシイソアルキル基置換ベンゾフ
    ェノンと、 一般式Ｒ＿１ＯＯＨ（II） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基を表す。） で示されるヒドロペルオキシドを、酸触媒の存在下で反
    応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は前
    記と同じものを示し、ｍ、ｎも前記と同じである。また
    、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、また
    はパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドの製造方法。 ４、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアルキル基、Ｒ＿４は
    炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から選ばれ、
    Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜４の
    アルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中から選ばれ
    、Ｒ＿６は水素原子またはメチル基、ｍは１〜３、ｎは
    １〜２を表す。 また、Ｒ＿６ＨＣ＝Ｃ（Ｒ＿３）基は、メタ、またはパ
    ラ位である。） で示されるイソアルケニル基置換ベンゾフェノンと、 一般式Ｒ＿１ＯＯＨ（II） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基を表す。） で示されるヒドロペルオキシドを、酸触媒の存在下で反
    応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は前
    記と同じものを示し、ｍ、ｎも前記と同じである。また
    、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、また
    はパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドの製造方法。 ５、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアルキル基、
    Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から
    選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
    １〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中か
    ら選ばれ、ｘは塩素原子または臭素原子、ｍは１〜３、
    ｎは１〜２を表す。また、ＣＸ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基
    は、メタ、またはパラ位である。） で示されるα−ハロゲン化イソアルキル基置換ベンゾフ
    ェノンと、 一般式Ｒ＿１ＯＯＨ（II） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基を表す。） で示されるヒドロペルオキシドとをアルカリの存在下で
    反応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は前
    記と同じものを示し、ｍ、ｎも前記と同じである。また
    、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、また
    はパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドの製造方法。 ６、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） （式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアルキル基、
    Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から
    選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
    １〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中か
    ら選ばれ、ｍは１〜３、ｎは１〜２を表す。また、Ｃ（
    ＯＯＨ）（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、またはパラ
    位である。） で示されるα−ヒドロペルオキシイソアルキル基置換ベ
    ンゾフェノンと、 一般式Ｒ＿１ＯＨ（VIII） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基を表す。） で示されるアルコールを、酸触媒の存在下で反応させる
    ことを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は前
    記と同じものを示し、ｍ、ｎも前記と同じである。また
    、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、また
    はパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドの製造方法。 ７、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） （式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアルキル基、
    Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から
    選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
    １〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中か
    ら選ばれ、ｍは１〜３、ｎは１〜２を表す。また、Ｃ（
    ＯＯＨ）（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、またはパラ
    位である。） で示されるα−ヒドロペルオキシイソアルキル基置換ベ
    ンゾフェノンと、 一般式Ｒ＿７Ｒ＿８Ｃ＝ＣＨＲ＿９（IX） （式中、Ｒ＿７は炭素数１〜５のアルキル基またはフェ
    ニル基、Ｒ＿８は炭素数１〜２のアルキル基、Ｒ＿９は
    水素原子またはメチル基を表す。）で示されるオレフィ
    ンを、酸触媒の存在下で反応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は前
    記と同じものを示し、ｍ、ｎも前記と同じである。また
    、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、また
    はパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドの製造方法。 ８、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） （式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアルキル基、
    Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子の中から
    選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
    １〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原子の中か
    ら選ばれ、ｍは１〜３、ｎは１〜２を表す。また、Ｃ（
    ＯＯＨ）（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、またはパラ
    位である。） で示されるα−ヒドロペルオキシイソアルキル基置換ベ
    ンゾフェノンと、 一般式Ｒ＿１Ｘ（Ｘ） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基、Ｘは塩素原子または臭素原子を表す。 ） で示されるハロゲン化アルキルとをアルカリの存在下で
    反応させることを特徴とする、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は前
    記と同じものを示し、ｍ、ｎも前記と同じである。また
    、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、また
    はパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドの製造方法。 ９、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアル
    キル基、Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子
    の中から選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基
    、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原
    子の中から選ばれ、ｍは１〜３、ｎは１〜２を表す。ま
    た、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、ま
    たはパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドを有効成分とする光分解型ラジカル発生剤。 １０、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８の三級アルキル基、また
    はα−クミル基、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜２のアル
    キル基、Ｒ＿４は炭素数１〜３のアルキル基、水素原子
    の中から選ばれ、Ｒ＿５は炭素数１〜１２のアルキル基
    、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子、水素原
    子の中から選ばれ、ｍは１〜３、ｎは１〜２を表す。ま
    た、Ｒ＿１ＯＯＣ（Ｒ＿２）（Ｒ＿３）基は、メタ、ま
    たはパラ位である。） で示されるベンゾフェノン基含有ジアルキルペルオキシ
    ドを有効成分とする熱分解型ラジカル発生剤。
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