JPH0342153U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0342153U JPH0342153U JP10281789U JP10281789U JPH0342153U JP H0342153 U JPH0342153 U JP H0342153U JP 10281789 U JP10281789 U JP 10281789U JP 10281789 U JP10281789 U JP 10281789U JP H0342153 U JPH0342153 U JP H0342153U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support frame
- pellicle
- attached
- mask
- supports
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
Description
第１図は一実施例を示す端面図、第２図は同実
施例の支持枠部分を示す拡大端面図、第３図は他
の実施例における支持枠部分の端面図、第４図は
ペリクルを示す外観斜視図、第５図は従来のペリ
クルを示す端面図である。 ２ａ……第２の支持枠、２ｂ……第１の支持枠
、４……ペリクル膜、６……粘着剤、１０ａ，１
０ｂ……突条。
施例の支持枠部分を示す拡大端面図、第３図は他
の実施例における支持枠部分の端面図、第４図は
ペリクルを示す外観斜視図、第５図は従来のペリ
クルを示す端面図である。 ２ａ……第２の支持枠、２ｂ……第１の支持枠
、４……ペリクル膜、６……粘着剤、１０ａ，１
０ｂ……突条。
Claims (1)
- 半導体製造方法の露光工程で用いられるマスク
に貼りつけられるペリクルにおいて、ペリクル膜
を支持する支持枠が、マスクに貼りつけられる第
１の支持枠と、ペリクルが貼りつけられた第２の
支持枠とからなり、第１の支持枠と第２の支持枠
は着脱可能に組み合わされているペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10281789U JPH0342153U (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10281789U JPH0342153U (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0342153U true JPH0342153U (ja) | 1991-04-22 |
Family
ID=31651692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10281789U Pending JPH0342153U (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0342153U (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007047238A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | ペリクル用収納容器 |
| JP2009083539A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Land Walker Ltd | 後輪駆動四輪自転車 |
| JP2011209344A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク |
| JP2014228868A (ja) * | 2013-05-21 | 2014-12-08 | 上海和輝光電有限公司Ｅｖｅｒｄｉｓｐｌａｙ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ （Ｓｈａｎｇｈａｉ） Ｌｉｍｉｔｅｄ | ペリクルフレーム、フォトマスク、及びその取り付け方法 |
| WO2016043292A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 三井化学株式会社 | ペリクル、その製造方法及び露光方法 |
| WO2016043301A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 三井化学株式会社 | ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法 |
| JP2017534077A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | マスクアセンブリ |
| WO2018003603A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、及びその製造方法 |
| JP2018194841A (ja) * | 2017-05-15 | 2018-12-06 | アイメック・ヴェーゼットウェーＩｍｅｃ Ｖｚｗ | リソグラフィレチクルシステム |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP10281789U patent/JPH0342153U/ja active Pending
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007047238A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | ペリクル用収納容器 |
| JP2009083539A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Land Walker Ltd | 後輪駆動四輪自転車 |
| JP2011209344A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク |
| JP2014228868A (ja) * | 2013-05-21 | 2014-12-08 | 上海和輝光電有限公司Ｅｖｅｒｄｉｓｐｌａｙ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ （Ｓｈａｎｇｈａｉ） Ｌｉｍｉｔｅｄ | ペリクルフレーム、フォトマスク、及びその取り付け方法 |
| US10488751B2 (en) * | 2014-09-19 | 2019-11-26 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle, production method thereof, exposure method |
| WO2016043292A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 三井化学株式会社 | ペリクル、その製造方法及び露光方法 |
| JPWO2016043301A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2017-06-29 | 三井化学株式会社 | ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法 |
| JPWO2016043292A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2017-06-29 | 三井化学株式会社 | ペリクル、その製造方法及び露光方法 |
| TWI693467B (zh) * | 2014-09-19 | 2020-05-11 | 日商三井化學股份有限公司 | 防塵薄膜及其製造方法以及曝光方法 |
| WO2016043301A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 三井化学株式会社 | ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法 |
| US10558129B2 (en) | 2014-11-17 | 2020-02-11 | Asml Netherlands B.V. | Mask assembly |
| US10539886B2 (en) | 2014-11-17 | 2020-01-21 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle attachment apparatus |
| JP2017534077A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | マスクアセンブリ |
| US10969701B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Pellicle attachment apparatus |
| US11003098B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-05-11 | Asml Netherlands B.V | Pellicle attachment apparatus |
| US11009803B2 (en) | 2014-11-17 | 2021-05-18 | Asml Netherlands B.V. | Mask assembly |
| JPWO2018003603A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2019-03-28 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、及びその製造方法 |
| WO2018003603A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、及びその製造方法 |
| JP2018194841A (ja) * | 2017-05-15 | 2018-12-06 | アイメック・ヴェーゼットウェーＩｍｅｃ Ｖｚｗ | リソグラフィレチクルシステム |