JPH033619B2 - - Google Patents
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- JPH033619B2 JPH033619B2 JP472983A JP472983A JPH033619B2 JP H033619 B2 JPH033619 B2 JP H033619B2 JP 472983 A JP472983 A JP 472983A JP 472983 A JP472983 A JP 472983A JP H033619 B2 JPH033619 B2 JP H033619B2
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- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 19
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 15
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 6
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4485—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation without using carrier gas in contact with the source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/86—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid by bubbling a gas through the liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/87—Controlling the temperature
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光フアイバ母材作製用の装置に、気化
したガラス原料を供給するための光フアイバ用原
料供給装置に関する。
したガラス原料を供給するための光フアイバ用原
料供給装置に関する。
一般に光フアイバ母材は、液体のガラス原料を
アルゴン等のガスでアルゴン等のガスでバブリン
グして気化させ、気化したガラス原料を加水分解
し、得られたガラス粉末を所定の部材に堆積させ
ることによつて作製されている。
アルゴン等のガスでアルゴン等のガスでバブリン
グして気化させ、気化したガラス原料を加水分解
し、得られたガラス粉末を所定の部材に堆積させ
ることによつて作製されている。
したがつてここでは少なくとも加水分解・堆積
用の母材作製装置と原料供給装置とが必要にな
る。
用の母材作製装置と原料供給装置とが必要にな
る。
本発明は後者の装置に係るものである。
ところで光フアイバ母材を作製するには、
SiCl4、GeCl4、POCl3等の数種のガラス原料を適
当な比率で混合させ、これを堆積させるのが一般
である。
SiCl4、GeCl4、POCl3等の数種のガラス原料を適
当な比率で混合させ、これを堆積させるのが一般
である。
この場合にはこれらガラス原料を種類別に原料
容器に入れ、同容器を恒温槽中の熱溶媒に浸漬し
て液体のガラス原料を所定の温度に保持してお
き、同原料中にアルゴン等のガスを導入してバブ
リングを行なう。
容器に入れ、同容器を恒温槽中の熱溶媒に浸漬し
て液体のガラス原料を所定の温度に保持してお
き、同原料中にアルゴン等のガスを導入してバブ
リングを行なう。
そうして気化したガラス原料を適当な比率で混
合し、これを堆積させる。
合し、これを堆積させる。
この混合比は液体のガラス原料の温度と、バブ
リング用のガスの流量とに依存するため、液体ガ
ラス原料の温度を適正に設定する必要がある。
リング用のガスの流量とに依存するため、液体ガ
ラス原料の温度を適正に設定する必要がある。
ところで従来の原料供給装置として次の代素的
な２例を挙げることができる。
な２例を挙げることができる。
その１つは個々の原料容器を、各々独立した恒
温槽の夫々に入れ、各恒温槽の温度を独立に設定
するタイプであり、また１つは１つの恒温槽に総
ての原料容器を入れるタイプである。
温槽の夫々に入れ、各恒温槽の温度を独立に設定
するタイプであり、また１つは１つの恒温槽に総
ての原料容器を入れるタイプである。
しかし前者においては、各恒温槽毎に設けた温
度制御部をまつたく同等に調整することは困難
で、必ず制御部間に差が生じ、したがつて各恒温
槽を同一温度に設定することは不可能である。
度制御部をまつたく同等に調整することは困難
で、必ず制御部間に差が生じ、したがつて各恒温
槽を同一温度に設定することは不可能である。
また後者においては温度制御部が１つであるた
め、前者のような不都合は生じないが、恒温槽が
大きくなるため、温度分布の問題が生じる。
め、前者のような不都合は生じないが、恒温槽が
大きくなるため、温度分布の問題が生じる。
そこでこの装置では熱溶媒を撹拌することによ
つて温度の均一化を図つているが、温度分布の発
生を抑制することは困難であつた。
つて温度の均一化を図つているが、温度分布の発
生を抑制することは困難であつた。
また多量の熱溶媒を必要とするため、不経済で
あり、さらには装置が大型化する等の難点があつ
た。
あり、さらには装置が大型化する等の難点があつ
た。
本発明は、原料容器の数に対応した数の恒温槽
を用意し、１つの温度制御部から出る熱溶媒を各
槽に分配すると共に各分配量を調節することによ
つて上記問題点を解決しようというもので、これ
を図面に示す実施例を参照しながら説明すると、
第１図に示すように複数の恒温槽１，１……は、
配管系２を介して温度制御部３に連結されてい
る。
を用意し、１つの温度制御部から出る熱溶媒を各
槽に分配すると共に各分配量を調節することによ
つて上記問題点を解決しようというもので、これ
を図面に示す実施例を参照しながら説明すると、
第１図に示すように複数の恒温槽１，１……は、
配管系２を介して温度制御部３に連結されてい
る。
配管系２は、温度制御部３に連結された主パイ
プ２ａと、主パイプ２ａから分岐しかつ各恒温槽
１，１……に連結された分配パイプ２ｂ，２ｂ…
…とから構成されている。
プ２ａと、主パイプ２ａから分岐しかつ各恒温槽
１，１……に連結された分配パイプ２ｂ，２ｂ…
…とから構成されている。
上記分配パイプ２ｂ，２ｂ……は各恒温槽１，
１……の底部１ａ，１ａ……に取り付けられる
が、その取付け位置は第２図ａに示すように原料
容器４の直下かまたは同図ｂに示すように底部１
ａの周縁部であるのが好ましい。
１……の底部１ａ，１ａ……に取り付けられる
が、その取付け位置は第２図ａに示すように原料
容器４の直下かまたは同図ｂに示すように底部１
ａの周縁部であるのが好ましい。
同図ａに示す位置に取り付けることにより、熱
溶媒５は矢印Ａで示すように原料容器４を包むよ
うに上昇し、また同図ｂに示す位置に取り付ける
ことにより、熱溶媒５は矢印Ｂで示すように原料
容器４の周囲をら旋状に上昇する。
溶媒５は矢印Ａで示すように原料容器４を包むよ
うに上昇し、また同図ｂに示す位置に取り付ける
ことにより、熱溶媒５は矢印Ｂで示すように原料
容器４の周囲をら旋状に上昇する。
また第１図に示すように各分配パイプ２ｂ，２
ｂ……には、熱溶媒５の流量を調節するための調
節バルブ６，６……が設けられている。
ｂ……には、熱溶媒５の流量を調節するための調
節バルブ６，６……が設けられている。
同バルブによつて流量を調節することにより各
槽１，１……内の温度分布は変化し、適当な流量
に設定することにより温度分布差を減少させるこ
とができる。
槽１，１……内の温度分布は変化し、適当な流量
に設定することにより温度分布差を減少させるこ
とができる。
さらに各恒温槽１，１……の上部には環流パイ
プ７，７……が取り付けられており、これらパイ
プ７，７……は１つにまとまつて集液パイプ８を
構成している。
プ７，７……が取り付けられており、これらパイ
プ７，７……は１つにまとまつて集液パイプ８を
構成している。
この集液パイプ８は配管系２に連結されて、１
つの循環路を形成している。
つの循環路を形成している。
この循環路の中途、即ち配管系２と集液パイプ
８との境界には温度制御部３とポンプ１０とが設
けられている。
８との境界には温度制御部３とポンプ１０とが設
けられている。
この温度制御部３は第３図に示すように、熱交
換器１１と、この熱交換器１１の温度を調節する
ための温度調節計１２と、熱交換器１１から出る
熱溶媒５の温度を検出しかつその情報を温度調節
計１２に送る温度検出器１３とから構成されてい
る。
換器１１と、この熱交換器１１の温度を調節する
ための温度調節計１２と、熱交換器１１から出る
熱溶媒５の温度を検出しかつその情報を温度調節
計１２に送る温度検出器１３とから構成されてい
る。
かかる温度制御部３によつて所定の温度に設定
された熱溶媒５は配管系２を経て恒温槽１，１…
…内に流入し、さらにそこから環流パイプ７，７
……を介して流出し、集液パイプ８から温度制御
部３に到る。
された熱溶媒５は配管系２を経て恒温槽１，１…
…内に流入し、さらにそこから環流パイプ７，７
……を介して流出し、集液パイプ８から温度制御
部３に到る。
この熱溶媒５の循環はポンプ１０によつて行な
われる。
われる。
ところで各恒温槽１，１……には原料容器４，
４……が入れられ、同容器中の液体ガラス原料４
ａは熱溶媒５によつて所定の温度に設定される。
４……が入れられ、同容器中の液体ガラス原料４
ａは熱溶媒５によつて所定の温度に設定される。
これら原料容器４，４……には供給系１４を介
してアルゴン等の所定ガスが導入され、液体のガ
ラス原料４ａは同ガスによるバブリングによつて
気化する。
してアルゴン等の所定ガスが導入され、液体のガ
ラス原料４ａは同ガスによるバブリングによつて
気化する。
気化したガラス原料は排気系１５を介して図示
しない光フアイバ母材作製装置に送られる。
しない光フアイバ母材作製装置に送られる。
以上のように本発明においては、原料容器の数
に対応した数の恒温槽の夫々に温度制御部から流
出する熱溶媒を分配すると共に熱溶媒の流量を調
節自在としたので、各恒温槽には同一の温度制御
部からの熱溶媒が供給されることになり、したが
つて各恒温槽はほぼ同一の温度に保持されるた
め、原料容器中の液体ガラス原料間における温度
差は極めて低減化され、例えば３種のガラス原料
間における温度分布を±0.2℃以下にすることが
できる。
に対応した数の恒温槽の夫々に温度制御部から流
出する熱溶媒を分配すると共に熱溶媒の流量を調
節自在としたので、各恒温槽には同一の温度制御
部からの熱溶媒が供給されることになり、したが
つて各恒温槽はほぼ同一の温度に保持されるた
め、原料容器中の液体ガラス原料間における温度
差は極めて低減化され、例えば３種のガラス原料
間における温度分布を±0.2℃以下にすることが
できる。
このためガラス原料の混合比が安定することに
なり、したがつて光フアイバの屈折率分布の再現
性が向上することになる。
なり、したがつて光フアイバの屈折率分布の再現
性が向上することになる。
また熱溶媒の量は、恒温槽が１つの場合に比べ
半分ですむことになり、コストの低減化も図れる
ことになる。
半分ですむことになり、コストの低減化も図れる
ことになる。
第１図は本発明に係る装置の略示断面図、第２
図ａ，ｂは分配パイプの取付け位置と熱溶媒の流
れとの関係を示す説明図、第３図は温度制御部の
構成を示す略示図である。 １……恒温槽、２……配管系、３……温度制御
部、４……原料容器、５……熱溶媒、６……調節
バルブ。
図ａ，ｂは分配パイプの取付け位置と熱溶媒の流
れとの関係を示す説明図、第３図は温度制御部の
構成を示す略示図である。 １……恒温槽、２……配管系、３……温度制御
部、４……原料容器、５……熱溶媒、６……調節
バルブ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 液体のガラス原料を入れるための原料容器
と、該原料容器を所定の温度に保持するための恒
温槽と、該恒温槽に供給される熱溶媒を所定の温
度に設定するための温度制御部と、上記ガラス原
料中にアルゴン等の所定のガスを導入するための
供給系と、同ガスのバブリングによつて気化した
ガラス原料を光フアイバ母材作製装置に供給する
ための排気系とを有する光フアイバ用原料供給装
置において、上記原料容器の数に対応する数の恒
温槽と、各恒温槽に上記制御部から流出する熱溶
媒を分配するための配管系と、該配管系を介して
各恒温槽に流入する熱溶媒の流量を調節するため
の調節バルブとを有していることを特徴とする光
フアイバ用原料供給装置。 ２ 配管系は各恒温槽に連結された分配パイプを
備えており、夫々の分配パイプは原料容器の直下
における恒温槽の底部に取り付けられていること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光フア
イバ母材用原料供給装置。 ３ 配管系は各恒温槽に連結された分配パイプを
備えており、夫々の分配パイプは恒温槽底部の周
縁部に設けられていると共に同パイプは同底部に
対し傾斜して取り付けられていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の光フアイバ母材用
原料供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP472983A JPS59131532A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 光フアイバ用原料供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP472983A JPS59131532A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 光フアイバ用原料供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59131532A JPS59131532A (ja) | 1984-07-28 |
| JPH033619B2 true JPH033619B2 (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=11591981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP472983A Granted JPS59131532A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 光フアイバ用原料供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59131532A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62207725A (ja) * | 1986-03-07 | 1987-09-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 液体ガラス原料の気化装置 |
-
1983
- 1983-01-14 JP JP472983A patent/JPS59131532A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59131532A (ja) | 1984-07-28 |
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