JPH0335012A - 紫外線硬化性組成物 - Google Patents
紫外線硬化性組成物Info
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- JPH0335012A JPH0335012A JP2117796A JP11779690A JPH0335012A JP H0335012 A JPH0335012 A JP H0335012A JP 2117796 A JP2117796 A JP 2117796A JP 11779690 A JP11779690 A JP 11779690A JP H0335012 A JPH0335012 A JP H0335012A
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 21
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 20
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N Bisphenol F Natural products C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl prop-2-enoate Chemical group CC(C)CCCCCCCOC(=O)C=C LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 7
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical class C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical class C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract 1
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- FEPBXHPRHUHZKV-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(CCC)(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C FEPBXHPRHUHZKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C NEBBLNDVSSWJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 Benzyl dimethyl ketal Chemical compound 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSUCJIJELNXPQI-UHFFFAOYSA-N [4-[[4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]methyl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical class C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1CC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 RSUCJIJELNXPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
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- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
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- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
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- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は紫外線硬化性組成物およびその用途に関する。
特に、本発明は硬化時に低粘度でかつ良好な機械的性質
という独特の組み合わせを有するものである紫外線硬化
性組成物に関する。
という独特の組み合わせを有するものである紫外線硬化
性組成物に関する。
本組成物は約150℃までの温度に対して耐性がありそ
して脆いものではない。本発明の組成物は光ディスク用
の溝層として特に有用である。
して脆いものではない。本発明の組成物は光ディスク用
の溝層として特に有用である。
(従来技術)
光ディスク基板はデジタルオーディオディスク、光ビデ
オディスク、メモリディスクおよび光磁気ディスクに幅
広く用いられている。光ディスクの製作において溝層と
呼ばれる液体光硬化性組成物をガラスディスクとスタン
パート呼ばれる溝パターンとの間に置くことが知られて
いる。次いで液体光硬化性組成物は紫外線照射され、そ
れにより硬膜が形成される。次いでスタンバ−が硬化し
た層から取り除かれる。これで硬化した光硬化性層はス
タンバ−のパターンを複製したことになる。
オディスク、メモリディスクおよび光磁気ディスクに幅
広く用いられている。光ディスクの製作において溝層と
呼ばれる液体光硬化性組成物をガラスディスクとスタン
パート呼ばれる溝パターンとの間に置くことが知られて
いる。次いで液体光硬化性組成物は紫外線照射され、そ
れにより硬膜が形成される。次いでスタンバ−が硬化し
た層から取り除かれる。これで硬化した光硬化性層はス
タンバ−のパターンを複製したことになる。
溝層に用いられる光硬化性組成物は幾つかの重要な性質
を有する。例えば、本組成物は比較的低粘度であるが、
それにも拘わらず迅速に硬化することができる。硬化し
た層は揮発性が低いに違いなくその結果続いて工程中に
用いられる薄膜スタンパートは汚染されないであろう。
を有する。例えば、本組成物は比較的低粘度であるが、
それにも拘わらず迅速に硬化することができる。硬化し
た層は揮発性が低いに違いなくその結果続いて工程中に
用いられる薄膜スタンパートは汚染されないであろう。
また硬化した膜は次の薄膜スタンパー工程中に経験する
150℃までの高温に耐えることができるであろう。
150℃までの高温に耐えることができるであろう。
さらに、硬化しI;層は高温で良好な機械的性質、ガラ
ス転移温度(Tg)およびモジュラスを維持するに違い
ない。また硬化した組成物は強靭でありそしてあまり脆
くないに違いない。その上、本組成物はスタンバ−から
その縁に損傷を与えることなく容易に剥離するかまたは
剥離時に粒子を生成する。
ス転移温度(Tg)およびモジュラスを維持するに違い
ない。また硬化した組成物は強靭でありそしてあまり脆
くないに違いない。その上、本組成物はスタンバ−から
その縁に損傷を与えることなく容易に剥離するかまたは
剥離時に粒子を生成する。
(発明が解決しようとする課題)
Tajimaらの米国特許第4.729,938号に例
示されているように特定の組成物が溝まI;はプライマ
ー層として提案されているが、このような組成物は上記
の所望の性質をすべて満足させるものとは限らない。例
えば、広範囲の温度にわたって良好な機械的性質ととも
に低粘度を遺戒することは回避されている。そのため従
来の組成物は改良の余地がある。
示されているように特定の組成物が溝まI;はプライマ
ー層として提案されているが、このような組成物は上記
の所望の性質をすべて満足させるものとは限らない。例
えば、広範囲の温度にわたって良好な機械的性質ととも
に低粘度を遺戒することは回避されている。そのため従
来の組成物は改良の余地がある。
(問題点を解決するための手段)
本発明は硬化時に低粘度でかつ良好な機械的性質という
独特の組み合わせを有する紫外線硬化性i酸物を提供す
る。本i戊物は硬化時に広い温度範囲にわたって非常に
高いTg(ガラス転移温度)および高いモジュラスを有
する。さらに本組成物は標準室温で約50〜約150セ
ンチポアズの低粘度を有する。
独特の組み合わせを有する紫外線硬化性i酸物を提供す
る。本i戊物は硬化時に広い温度範囲にわたって非常に
高いTg(ガラス転移温度)および高いモジュラスを有
する。さらに本組成物は標準室温で約50〜約150セ
ンチポアズの低粘度を有する。
本発明の組成物は統いて付与される薄膜層の腐食または
離層をひき起こさない。
離層をひき起こさない。
詳しくは、本発明の紫外線硬化性組成物はA)約35〜
約70重量%のエトキシル化ビスフェノールAまたはビ
スフェノールFジアクリレートまたはジメタクリレート
、 B)多官能価アクリレートまたはメタクリレート、 C) N−ビニルピロリドン、 D)約0.1〜約5重量%の炭素原子10〜22個から
なる長鎖アクリレートまたはメタクリレートおよび E)約0.1〜約5重量%の光開始剤 からなり、ここでB)とC)との総量は25〜40重量
%でありそしてB)対人)の比は約1:2〜2:1であ
る。
約70重量%のエトキシル化ビスフェノールAまたはビ
スフェノールFジアクリレートまたはジメタクリレート
、 B)多官能価アクリレートまたはメタクリレート、 C) N−ビニルピロリドン、 D)約0.1〜約5重量%の炭素原子10〜22個から
なる長鎖アクリレートまたはメタクリレートおよび E)約0.1〜約5重量%の光開始剤 からなり、ここでB)とC)との総量は25〜40重量
%でありそしてB)対人)の比は約1:2〜2:1であ
る。
さらに、本発明は上記組成物を溝層として用いる光ディ
スク基板(base plate)に関する。詳しくは
本発明は透明な基体(substrate) 、その基
体上に形成しそして情報信号を保持するためのくぼみお
よび突起を有する溝層およびプライマー層上に形成した
記録膜からなり、そしてこの溝層は A)約35〜約70重量%のエトキシル化ビスフェノー
ルAまたはビスフェノールFジアクリレートまたはジメ
タクリレート、 B)多官能価アクリレートまたはメタクリレート、 C) N−ビニルピロリドン、 D)約0.1〜約5重量%の炭素原子10〜22個から
なる長鎖アクリレートまたはメタクリレートおよび E)約O11〜約5重量%の光開始剤 からなり、ここでB)とC)との総量は25〜40重量
%でありそしてB)対人)の比は約l:2〜2:1であ
る紫外線硬化性樹脂組成物を紫外線照射して硬化するこ
とにより得られるものである光ディスク基板に関する。
スク基板(base plate)に関する。詳しくは
本発明は透明な基体(substrate) 、その基
体上に形成しそして情報信号を保持するためのくぼみお
よび突起を有する溝層およびプライマー層上に形成した
記録膜からなり、そしてこの溝層は A)約35〜約70重量%のエトキシル化ビスフェノー
ルAまたはビスフェノールFジアクリレートまたはジメ
タクリレート、 B)多官能価アクリレートまたはメタクリレート、 C) N−ビニルピロリドン、 D)約0.1〜約5重量%の炭素原子10〜22個から
なる長鎖アクリレートまたはメタクリレートおよび E)約O11〜約5重量%の光開始剤 からなり、ここでB)とC)との総量は25〜40重量
%でありそしてB)対人)の比は約l:2〜2:1であ
る紫外線硬化性樹脂組成物を紫外線照射して硬化するこ
とにより得られるものである光ディスク基板に関する。
(実施例)
本発明の紫外線硬化性組成物はエトキシル化ビスフェノ
ールAジアクリレート、エトキシル化ビスフェノールA
ジメタクリレート、エトキシル化ビスフェノールFジア
クリレートまたはエトキシル化ビスフェノールFジメタ
クリレートのうち少なくとも1つを含有する。所望なら
ばこれらの化合物の混合物を用いることができる。この
ような化合物は例えばエトキシル化ビスフェノールAジ
アクリレートであるSartomer349のごと<
Arco Chemica1社から商業的に入手しうる
。
ールAジアクリレート、エトキシル化ビスフェノールA
ジメタクリレート、エトキシル化ビスフェノールFジア
クリレートまたはエトキシル化ビスフェノールFジメタ
クリレートのうち少なくとも1つを含有する。所望なら
ばこれらの化合物の混合物を用いることができる。この
ような化合物は例えばエトキシル化ビスフェノールAジ
アクリレートであるSartomer349のごと<
Arco Chemica1社から商業的に入手しうる
。
上記の化合物は本組成物中において約35〜約70重量
%好ましくは約45〜約60重量%の量で用いられる。
%好ましくは約45〜約60重量%の量で用いられる。
本発明の組成物はさらに反応性希釈剤としてN−ビニル
ピロリドン、多官能価アクリレートおよび/または多官
能価メタクリレートを含有しなければならない。組成物
中におけるN−ビニルピロリドンおよび多官能価アクリ
レートまたはメタクリレートの総量は約25〜約40重
量%、好ましくは約30〜約36重量%でありそしてそ
のN−ビニルピロリドンと多官能価アクリレートまたは
メタクリレートの比は約l:2〜約2:11好ましくは
約l:lである。
ピロリドン、多官能価アクリレートおよび/または多官
能価メタクリレートを含有しなければならない。組成物
中におけるN−ビニルピロリドンおよび多官能価アクリ
レートまたはメタクリレートの総量は約25〜約40重
量%、好ましくは約30〜約36重量%でありそしてそ
のN−ビニルピロリドンと多官能価アクリレートまたは
メタクリレートの比は約l:2〜約2:11好ましくは
約l:lである。
多官能価アクリレートおよびメタクリレートは少なくと
も3個、通常は4個以下のアクリレートおよび/または
メタクリレート基を含有する。このような化合物の例と
してはトリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、1.2.4−
ブタントリオールトリメタクリレート、ペンタエリトリ
トールテトラメタクリレート、ペンタエリトリトールト
リアクリレート、グリセロールトリアクリレート、グリ
セロールトリメタクリレート、トリメチロールエタント
リメタクリレートおよびトリメチロールエタントリアク
リレートが挙げられる。
も3個、通常は4個以下のアクリレートおよび/または
メタクリレート基を含有する。このような化合物の例と
してはトリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、1.2.4−
ブタントリオールトリメタクリレート、ペンタエリトリ
トールテトラメタクリレート、ペンタエリトリトールト
リアクリレート、グリセロールトリアクリレート、グリ
セロールトリメタクリレート、トリメチロールエタント
リメタクリレートおよびトリメチロールエタントリアク
リレートが挙げられる。
好ましい多官能価アクリレートまたはメタクリレートは
トリメチロールプロパントリアクリレートである。
トリメチロールプロパントリアクリレートである。
さらに本発明の組成物は長鎖モノアクリレートおよび/
または長鎖モノメタクリレートを含有しなければならな
い。通常、アクリレートおよび/またはメタクリレート
は10〜22個、好ましくは12〜18個の炭素原子を
含有する。好適な実施例はイソデシルアクリレートおよ
びステアリルメタクリレートである。長鎖アクリレート
および/またはメタクリレートはスタンパ−除去後の本
組成物の縁の状態を改良する。これらはまたスタンピン
グ工程からの汚染の減少およびスタンバ−の硬化した組
成物からの実際の剥離における改良をもたらす。長鎖ア
クリレートおよび/またはメタクリレートは通常約0.
1〜5重量%好ましくは約1〜約3重量%の量で組成物
中に存在する。
または長鎖モノメタクリレートを含有しなければならな
い。通常、アクリレートおよび/またはメタクリレート
は10〜22個、好ましくは12〜18個の炭素原子を
含有する。好適な実施例はイソデシルアクリレートおよ
びステアリルメタクリレートである。長鎖アクリレート
および/またはメタクリレートはスタンパ−除去後の本
組成物の縁の状態を改良する。これらはまたスタンピン
グ工程からの汚染の減少およびスタンバ−の硬化した組
成物からの実際の剥離における改良をもたらす。長鎖ア
クリレートおよび/またはメタクリレートは通常約0.
1〜5重量%好ましくは約1〜約3重量%の量で組成物
中に存在する。
本発明の組成物はまた約0.1〜約5重量%好ましくは
約2〜約4重量%の光開始剤を含有する。光開始剤の例
としてはベンジル類例えばベンジル;ベンゾイン類例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテルおよびa−メチルベンゾイ
ン;ベンゾフェノン類例えばl−ヒドロキシシクロへキ
シルベンゾフェノン;アセトフェノン類例えばアセトフ
ェノン、2.2.2−トリブロモアセトフェノンおよび
ジメトキシ7二二ルアセトフエノン;チオキサントン類
例えば2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサ
ントン:アントラキノン類例えば2−エチルアントラキ
ノン、2−メチルアントラキノン:ベンジルケタール類
例えばベンジルジメチルケタールが挙げられる。
約2〜約4重量%の光開始剤を含有する。光開始剤の例
としてはベンジル類例えばベンジル;ベンゾイン類例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテルおよびa−メチルベンゾイ
ン;ベンゾフェノン類例えばl−ヒドロキシシクロへキ
シルベンゾフェノン;アセトフェノン類例えばアセトフ
ェノン、2.2.2−トリブロモアセトフェノンおよび
ジメトキシ7二二ルアセトフエノン;チオキサントン類
例えば2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサ
ントン:アントラキノン類例えば2−エチルアントラキ
ノン、2−メチルアントラキノン:ベンジルケタール類
例えばベンジルジメチルケタールが挙げられる。
これらの光重合開始剤は単独でまたはその混合物として
使用することができる。
使用することができる。
好ましい光開始剤はジメトキシフェニルアセトフェノン
である。
である。
例えば、紫外線硬化性樹脂組成物を2枚のガラス板によ
りできた空間に注ぎ、2〜20g/cm”好ましくは5
〜159/C11”の圧力でプレスしそして高圧水銀ラ
ンプ、キセノンランプなト(例工ば365nmにおいて
相当な出力を有するランプの何れか)を用いる50〜4
00mW/cm’好ましくは100〜250mW/cm
’の紫外線照射に暴露して樹脂組成物を硬化させる。
りできた空間に注ぎ、2〜20g/cm”好ましくは5
〜159/C11”の圧力でプレスしそして高圧水銀ラ
ンプ、キセノンランプなト(例工ば365nmにおいて
相当な出力を有するランプの何れか)を用いる50〜4
00mW/cm’好ましくは100〜250mW/cm
’の紫外線照射に暴露して樹脂組成物を硬化させる。
紫外線硬化性樹脂IIIR物を用いて、塑性情報記録用
媒体例えば光ディスクは第1〜5図に示されるような慣
用の工程にしたがって作製することができる。
媒体例えば光ディスクは第1〜5図に示されるような慣
用の工程にしたがって作製することができる。
例えば第1図に示されるように、均一な厚さ+7)7オ
トレジスト膜(2)を滑らかなガラス板のような基体(
1)の表面に形成してディスク基板(3)とする。
トレジスト膜(2)を滑らかなガラス板のような基体(
1)の表面に形成してディスク基板(3)とする。
次いで第2図に示されるように、ディスク基板(3)を
スピンドル(4)に取り付け、回転しそしてレーザヘッ
ド(5)をディスク基板(3)の内側から外側に駆動し
ながら7オトレジストg(2)上の所定のトラッキング
信号により変調される打ち抜き用レーザ光(6)で照射
する。
スピンドル(4)に取り付け、回転しそしてレーザヘッ
ド(5)をディスク基板(3)の内側から外側に駆動し
ながら7オトレジストg(2)上の所定のトラッキング
信号により変調される打ち抜き用レーザ光(6)で照射
する。
次いで、7オトレジスト膜(2)を現像処理に付して打
ち抜き用レーザ光(6)に暴露した部分を除去しそして
情報を保持するための溝が形成されている記録基板とす
る。
ち抜き用レーザ光(6)に暴露した部分を除去しそして
情報を保持するための溝が形成されている記録基板とす
る。
第3図に示されるように、導電性膜(8)をNiなとの
蒸着により記録基板のフォトレジスト膜(2)上に形成
し、次いでその導電性膜(8)上に例えばNiなどの金
属材料を用いて電鋳膜(9)を形成する。次いで、導電
性膜(8)と電鋳膜(9)との積層体を導電性膜(8)
およびフォトレジスト膜(2)の界面から取り外してス
タンパ−(lO)とする。
蒸着により記録基板のフォトレジスト膜(2)上に形成
し、次いでその導電性膜(8)上に例えばNiなどの金
属材料を用いて電鋳膜(9)を形成する。次いで、導電
性膜(8)と電鋳膜(9)との積層体を導電性膜(8)
およびフォトレジスト膜(2)の界面から取り外してス
タンパ−(lO)とする。
第4図に示されるように、スタンパ−(10)の溝の転
写側に溝層として紫外線硬化性樹脂組成物(11)を塗
布しそしてこの樹脂組成物(11)をガラス、プラスチ
ックなどから作られた透明な基体(12)を用いて均一
に延伸する。
写側に溝層として紫外線硬化性樹脂組成物(11)を塗
布しそしてこの樹脂組成物(11)をガラス、プラスチ
ックなどから作られた透明な基体(12)を用いて均一
に延伸する。
溝層としての樹脂組成物(11)を硬化しt;後、溝層
と基体との積重ね体をスタンパ−(10)および溝層樹
脂(11)の界面から取り外す。次いで第5図に示され
るように殆んど均一な厚さのB111n、 Ta、 A
s、 Pb、 Snなどの金属材料から作られた記録膜
(13)を溝層樹脂(11)の表面上に形成して記録膜
(13)、溝層樹脂(11)および透明な基体(12)
から一体となって形成される光ディスク基板(14)と
する。
と基体との積重ね体をスタンパ−(10)および溝層樹
脂(11)の界面から取り外す。次いで第5図に示され
るように殆んど均一な厚さのB111n、 Ta、 A
s、 Pb、 Snなどの金属材料から作られた記録膜
(13)を溝層樹脂(11)の表面上に形成して記録膜
(13)、溝層樹脂(11)および透明な基体(12)
から一体となって形成される光ディスク基板(14)と
する。
記録膜を形成するための材料として、好ましくはTe系
材料例えばpbを含有するTe化合物例えばTe−5e
−Pb結結栓性カルコゲナイド例えばTeaoSe+*
Pb+s)、CH,などをTe上にプラズマ共蒸着する
ことにより得られるTe−Cs CSIをTe上にプ
ラズマ共蒸着することにより得られるTe−C5゜Te
a、とTeをプラズマ共蒸着することにより得られるT
eOxなどを用いることができる。
材料例えばpbを含有するTe化合物例えばTe−5e
−Pb結結栓性カルコゲナイド例えばTeaoSe+*
Pb+s)、CH,などをTe上にプラズマ共蒸着する
ことにより得られるTe−Cs CSIをTe上にプ
ラズマ共蒸着することにより得られるTe−C5゜Te
a、とTeをプラズマ共蒸着することにより得られるT
eOxなどを用いることができる。
最後に、第6図に示されるように二枚の光ディスク基板
(14,14)は溝層樹脂側が互いに向い合うように平
行に置きそして反対側の記録膜(13,13)の間に所
定の空間(15)を有するスペーサー(または非常に小
さい熱伝導率を有する物質から作られた層)を介して結
合して情報を記録するための所望の光ディスク(16)
とする。
(14,14)は溝層樹脂側が互いに向い合うように平
行に置きそして反対側の記録膜(13,13)の間に所
定の空間(15)を有するスペーサー(または非常に小
さい熱伝導率を有する物質から作られた層)を介して結
合して情報を記録するための所望の光ディスク(16)
とする。
以下の実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
実施例 l
約60重量%のSartomer348、約18重量%
のトリメチロールプロパントリアクリレート、約18重
量%のN−ビニルピロリドン、約2重量%のイソデシル
アクリレートおよび約2重量%のジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノンを含有する組成物を調製した。この
組成物の粘度は25℃で約100センチポアズであった
。この組成物を40mW/c−で約365nn+の波長
を有する紫外線に75秒間暴露することにより硬化した
。硬化した組成物のTgは195℃であり、またモジュ
ラスは25℃で102 、000ps iそして200
℃で17.000psiテあつ tこ 。
のトリメチロールプロパントリアクリレート、約18重
量%のN−ビニルピロリドン、約2重量%のイソデシル
アクリレートおよび約2重量%のジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノンを含有する組成物を調製した。この
組成物の粘度は25℃で約100センチポアズであった
。この組成物を40mW/c−で約365nn+の波長
を有する紫外線に75秒間暴露することにより硬化した
。硬化した組成物のTgは195℃であり、またモジュ
ラスは25℃で102 、000ps iそして200
℃で17.000psiテあつ tこ 。
第1〜6図は光ディスクの製作工程を説明するための光
ディスクの一部の横断面図である。
ディスクの一部の横断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)A)約35〜約70重量%のエトキシル化ビスフェ
ノールAまたはビスフェノールFジアク リレートまたはジメタクリレート、 B)多官能価アクリレートまたはメタクリレート、 C)N−ビニルピロリドン、 D)約0.1〜約5重量%の炭素原子10〜22個から
なる長鎖アクリレートまたはメタクリ レートおよび E)約0.1〜約5重量%の光開始剤 からなり、ここでB)とC)との総量は25〜40重量
%でありそしてB)対A)の比は約1:2〜2:1であ
る紫外線硬化性組成物。 2)A)はエトキシル化ビスフェノールAジメタクリレ
ートである請求項1記載の組成物。 3)多官能価アクリレートまたはメタクリレートはトリ
メチロールプロパントリアクリレートである請求項1記
載の組成物。 4)長鎖アクリレートまたはメタクリレートはイソデシ
ルアクリレートまたはステアリルメタクリレートまたは
その混合物である請求項1記載の組成物。 5)長鎖アクリレートまたはメタクリレートはイソデシ
ルアクリレートを含むものである請求項1記載の組成物
。 6)光開始剤はジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ンを含むものである請求項1記載の組成物。 7)光開始剤は約2〜約4重量%の量で存在する請求項
1記載の組成物。 8)長鎖アクリレートまたはメタクリレートは約1〜約
3重量%の量で存在する請求項1記載の組成物。 9)N−ビニルピロリドンと多官能価アクリレートまた
はメタクリレートとの比は約1:1である請求項1記載
の組成物。 10)約60重量%のエトキシル化ビスフェノールAジ
メタクリレートまたはエトキシル化ビスフェノールAジ
アクリレートまたはその混合物、約18重量%のN−ビ
ニルピロリドン、約18重量%のトリメチロールプロパ
ントリアクリレート、約2重量%のイソデシルアクリレ
ートまたはステアリルメタクリレートまたはその混合物
および約2重量%のジメトキシ−2−フェニルアセトフ
ェノンを含有する請求項1記載の組成物。 11)透明な基体、その基体上に形成しそして情報信号
を保持するためのくぼみおよび突起を有する溝層および
プライマー層上に形成した記録用膜からなり、そしてこ
の溝層は A)約35〜約70重量%のエトキシル化ビスフェノー
ルAまたはビスフェノールFジアク リレートまたはジメタクリレート、 B)多官能価アクリレートまたはメタクリレート、 C)N−ビニルピロリドン、 D)約0.1〜約5重量%の炭素原子10〜22個から
なる長鎖アクリレートまたはメタクリ レートおよび E)約0.1〜約5重量%の光開始剤 からなり、ここでB)とC)との総量は25〜40重量
%でありそしてB)対A)の比は約1:2〜2:1であ
る紫外線硬化性樹脂組成物を紫外線照射して硬化するこ
とにより得られるものである光ディスク基板。 12)A)はエトキシル化ビスフェノールAジメタクリ
レートである請求項11記載の光ディスク基板。 13)多官能価アクリレートまたはメタクリレートはト
リメチロールプロパントリアクリレートである請求項1
1記載の光ディスク基板。 14)長鎖アクリレートまたはメタクリレートはイソデ
シルアクリレートまたはステアリルメタクリレートまた
はその混合物である請求項11記載の光ディスク基板。 15)長鎖アクリレートまたはメタクリレートはイソデ
シルアクリレートを含むものである請求項11記載の光
ディスク基板。 16)光開始剤はジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノンを含むものである請求項11記載の光ディスク基板
。 17)光開始剤は約2〜約4重量%の量で存在する請求
項11記載の光ディスク基板。 18)長鎖アクリレートまたはメタクリレートは約1〜
約3重量%の量で存在する請求項11記載の光ディスク
基板。 19)N−ビニルピロリドンと多官能価アクリレートま
たはメタクリレートとの比は約1:1である請求項11
記載の光ディスク基板。 20)約60重量%のエトキシル化ビスフェノールAジ
メタクリレートまたはエトキシル化ビスフェノールAジ
アクリレートまたはその混合物、約18重量%のN−ビ
ニルピロリドン、約18重量%のトリメチロールプロパ
ントリアクリレート、約2重量%のイソデシルアクリレ
ートまたはステアリルメタクリレートまたはその混合物
および約2重量%のジメトキシ−2−フェニルアセトフ
ェノンを含有する請求項11記載の光ディスク基板。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/363,756 US4948703A (en) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | Ultraviolet light curable composition and use thereof |
US363,756 | 1989-06-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0335012A true JPH0335012A (ja) | 1991-02-15 |
JPH0575768B2 JPH0575768B2 (ja) | 1993-10-21 |
Family
ID=23431591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2117796A Granted JPH0335012A (ja) | 1989-06-09 | 1990-05-09 | 紫外線硬化性組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4948703A (ja) |
EP (1) | EP0402334B1 (ja) |
JP (1) | JPH0335012A (ja) |
CA (1) | CA2013336C (ja) |
DE (1) | DE69023281D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005281506A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Jsr Corp | 光硬化性組成物および光学部材 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995025760A1 (en) | 1994-03-23 | 1995-09-28 | Dsm N.V. | Coated superconducting wire |
US5822285A (en) * | 1997-03-31 | 1998-10-13 | International Business Machines Corporation | Atomic force microscopy disk data storage system with nonradial tracking lines |
US5804710A (en) * | 1997-06-05 | 1998-09-08 | International Business Machines Corporation | Atomic force microscope system with multi-directional voice coil actuator for controlling the stylus |
KR100402925B1 (ko) | 1997-06-19 | 2003-10-24 | 보든 케미칼, 인코포레이티드 | 코팅된 광학 디스크 |
TW430672B (en) * | 1997-07-03 | 2001-04-21 | Sumitomo Chemical Co | A photo-curing resin composition for DVD |
US6168845B1 (en) | 1999-01-19 | 2001-01-02 | International Business Machines Corporation | Patterned magnetic media and method of making the same using selective oxidation |
US6421195B1 (en) | 1999-09-20 | 2002-07-16 | International Business Machines Corporation | Magnetic disk media with patterned sections |
ES2334209T3 (es) | 2001-02-19 | 2010-03-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Contenedor para suministro de toner y sistema de suministro de toner. |
US7150844B2 (en) * | 2003-10-16 | 2006-12-19 | Seagate Technology Llc | Dry passivation process for stamper/imprinter family making for patterned recording media |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4209371A (en) * | 1979-03-01 | 1980-06-24 | The Dow Chemical Company | Method of promoting essentially complete vinyl polymerization of ultraviolet-curable compositions |
JPS5977647A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学式円盤 |
JPS61117746A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-05 | Hitachi Ltd | 光デイスク基板 |
-
1989
- 1989-06-09 US US07/363,756 patent/US4948703A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-03-29 CA CA002013336A patent/CA2013336C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-05-09 JP JP2117796A patent/JPH0335012A/ja active Granted
- 1990-05-21 DE DE69023281T patent/DE69023281D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-21 EP EP90850193A patent/EP0402334B1/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005281506A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Jsr Corp | 光硬化性組成物および光学部材 |
JP4576864B2 (ja) * | 2004-03-30 | 2010-11-10 | Jsr株式会社 | 光硬化性組成物および光学部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0575768B2 (ja) | 1993-10-21 |
EP0402334B1 (en) | 1995-11-02 |
EP0402334A3 (en) | 1991-02-27 |
CA2013336A1 (en) | 1990-12-09 |
CA2013336C (en) | 1995-06-20 |
DE69023281D1 (de) | 1995-12-07 |
EP0402334A2 (en) | 1990-12-12 |
US4948703A (en) | 1990-08-14 |
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