JPH0331326A - ランダム共重合シラザン及びその製法 - Google Patents
ランダム共重合シラザン及びその製法Info
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Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はランダム共重合シラザン及びその製造方法に係
る。
る。
ポリシラザンを前駆体とする窒化珪素および窒化珪素含
有セラミックスは、高温強度、耐熱衝撃性、耐酸化性に
優れているため、高温材料としであるいは高性能材料の
1つとして、宇宙・航空産業、自動車産業等での、広範
な応用が期待できる。
有セラミックスは、高温強度、耐熱衝撃性、耐酸化性に
優れているため、高温材料としであるいは高性能材料の
1つとして、宇宙・航空産業、自動車産業等での、広範
な応用が期待できる。
窒化珪素焼結体は、高温強度、耐熱衝撃性、耐酸化性に
優れているため、ガスタービン、ディーゼルエンジン等
の高温構造材料として、或いは切削用バイト等、省エネ
ルギー、省資源の多大の寄与をし得る高性能材料の一つ
として重要である。
優れているため、ガスタービン、ディーゼルエンジン等
の高温構造材料として、或いは切削用バイト等、省エネ
ルギー、省資源の多大の寄与をし得る高性能材料の一つ
として重要である。
従来、窒化珪素の製造方法としては、■金属シリコン粉
末を窒素又はアンモニア気流中で、1300℃〜150
0℃で加熱して直接窒化するシリコン直接窒化法、■シ
リカ又は含シリカ物質を炭素と共に窒素雰囲気下で加熱
し、尿素でシリカを還元して、生成する珪素と窒素とを
反応させるシリカ還元法、■四塩化珪素とアンモニアと
を高温で直接反応せしめる気相合成法、■四塩化珪素を
アンモノリシスして得られるシリコンジイミドを非酸化
性雰囲気中で加熱して窒化珪素を得るイミド熱分解法等
が採用されている。
末を窒素又はアンモニア気流中で、1300℃〜150
0℃で加熱して直接窒化するシリコン直接窒化法、■シ
リカ又は含シリカ物質を炭素と共に窒素雰囲気下で加熱
し、尿素でシリカを還元して、生成する珪素と窒素とを
反応させるシリカ還元法、■四塩化珪素とアンモニアと
を高温で直接反応せしめる気相合成法、■四塩化珪素を
アンモノリシスして得られるシリコンジイミドを非酸化
性雰囲気中で加熱して窒化珪素を得るイミド熱分解法等
が採用されている。
しかし、上記■の方法の場合には、反応時間が長く、加
熱工程が煩雑である上、得られる窒化珪素は粗大で不純
物を多く含むβ型窒化珪素が主体であり、■の方法の場
合には、原料の精製が困難なばかりでなく、反応時間が
長く、得られる性成物はα型窒化珪素とβ型窒化珪素の
混合系であり、■の方法の場合には、生成した窒化珪素
は一般に非晶質であり、■の方法の場合には、高純度の
α型窒化珪素を収率よ(製造し得るという利点があるも
のの、窒化珪素前駆体であるシリコンジイミド(St(
Nll)z )−は溶媒に溶けないために実質的に用途
が限定されざるを得ない等の欠点があった。
熱工程が煩雑である上、得られる窒化珪素は粗大で不純
物を多く含むβ型窒化珪素が主体であり、■の方法の場
合には、原料の精製が困難なばかりでなく、反応時間が
長く、得られる性成物はα型窒化珪素とβ型窒化珪素の
混合系であり、■の方法の場合には、生成した窒化珪素
は一般に非晶質であり、■の方法の場合には、高純度の
α型窒化珪素を収率よ(製造し得るという利点があるも
のの、窒化珪素前駆体であるシリコンジイミド(St(
Nll)z )−は溶媒に溶けないために実質的に用途
が限定されざるを得ない等の欠点があった。
更に、最近、有機ポリシラザンを熱分解して得られるポ
リシラザンを800〜2000°Cで加熱して窒化珪素
を合成する方法も提案されている(斉Bi!、繊維学会
誌、Vol 38 N(L 1頁65〜?2 (19B
2年〕)が、この方法では窒化珪素と同時に炭化珪素や
遊離の炭素が生成するという欠点があった。
リシラザンを800〜2000°Cで加熱して窒化珪素
を合成する方法も提案されている(斉Bi!、繊維学会
誌、Vol 38 N(L 1頁65〜?2 (19B
2年〕)が、この方法では窒化珪素と同時に炭化珪素や
遊離の炭素が生成するという欠点があった。
一方、溶媒に可溶である無機ポリシラザンは、1921
年に5tock(Ber、54. (1921)、p7
40)等によって合成されており、1983年には5e
yferth (CowIl、八m。
年に5tock(Ber、54. (1921)、p7
40)等によって合成されており、1983年には5e
yferth (CowIl、八m。
Ceraa+、Soc、 C−13/14.(83)
)等によって、これが窒化珪素前駆体として有用である
ことが証明されている。本発明者等は、かかる観点に注
目し無機ポリシラザンを加熱処理することにより、高純
度のα型窒化珪素を得る方法を提案した(特開昭59−
207812号)。
)等によって、これが窒化珪素前駆体として有用である
ことが証明されている。本発明者等は、かかる観点に注
目し無機ポリシラザンを加熱処理することにより、高純
度のα型窒化珪素を得る方法を提案した(特開昭59−
207812号)。
ところが、従来の無機ポリシラザンの製造方法ニオイて
は、何れの場合も気化性の高いジクロロシランを原料と
して用いるために、■反応装置のガス配管又は反応器壁
に生成したポリシラザンが固着してガス流路を閉塞する
恐れがある、■上記弊害を防止するためには反応温度を
低温に維持してジクロロシランの飛散を防止する必要が
ある、■ジクロロシランは毒性及び引火性が強いので低
温密閉容器に入れて利用せねばならないなど取扱が煩雑
である等の欠点があった。更に、合成されたポリシラザ
ンは5tock等の場合には、(SiHzNH)−−の
構造を有するn=7〜8のオリゴマーにすぎず常温では
粘性のある液体であり、5eyferth等の場合には
、S tack等の場合より複雑な構造を有し、5i−
11/N−Hのプロトン比が約3.3のオイル状液体で
あるが、約200’Cで加熱するか、室温で3〜5日放
置することにより固化するものであり、何れのポリシラ
ザンの場合であっても、常温で賦形化した窒化珪素焼結
体のための前駆体として充分な性質を有していると言え
るものではなかった。
は、何れの場合も気化性の高いジクロロシランを原料と
して用いるために、■反応装置のガス配管又は反応器壁
に生成したポリシラザンが固着してガス流路を閉塞する
恐れがある、■上記弊害を防止するためには反応温度を
低温に維持してジクロロシランの飛散を防止する必要が
ある、■ジクロロシランは毒性及び引火性が強いので低
温密閉容器に入れて利用せねばならないなど取扱が煩雑
である等の欠点があった。更に、合成されたポリシラザ
ンは5tock等の場合には、(SiHzNH)−−の
構造を有するn=7〜8のオリゴマーにすぎず常温では
粘性のある液体であり、5eyferth等の場合には
、S tack等の場合より複雑な構造を有し、5i−
11/N−Hのプロトン比が約3.3のオイル状液体で
あるが、約200’Cで加熱するか、室温で3〜5日放
置することにより固化するものであり、何れのポリシラ
ザンの場合であっても、常温で賦形化した窒化珪素焼結
体のための前駆体として充分な性質を有していると言え
るものではなかった。
このような点を解決するために、本発明者らは先に珪素
−水素結合を有する無機又は有機ポリシR,,R 又は−N−(但しR及びR′はオルガノ基で、nは1又
は2である)を導入した窒化珪素前駆体として好適な、
高分子量化されたポリシラザンを提案した(特願昭63
−28295号、同63−28296号、同63−74
919号)。しかしながら、該ポリシラザンを高温焼成
して得られる窒化珪素焼結体は、電気的性質や遠赤外効
果について選択の幅が不充分であった。
−水素結合を有する無機又は有機ポリシR,,R 又は−N−(但しR及びR′はオルガノ基で、nは1又
は2である)を導入した窒化珪素前駆体として好適な、
高分子量化されたポリシラザンを提案した(特願昭63
−28295号、同63−28296号、同63−74
919号)。しかしながら、該ポリシラザンを高温焼成
して得られる窒化珪素焼結体は、電気的性質や遠赤外効
果について選択の幅が不充分であった。
従って、本発明は、高温焼成後に得られる窒化珪素焼結
体中の炭素含有量をより広範囲に制御できる、即ち、電
気的性質や遠赤外効果に関してより広範囲に選択するこ
とができる、窒化珪素前駆体として好適なポリシラザン
を提供することを目的とする。
体中の炭素含有量をより広範囲に制御できる、即ち、電
気的性質や遠赤外効果に関してより広範囲に選択するこ
とができる、窒化珪素前駆体として好適なポリシラザン
を提供することを目的とする。
本発明によれば、上記目的を達成するために、−最大5
illzXz (式中Xはハロゲン原子)で示される無
機ジハロシランと一般式R51(H)Xzで示されるオ
ルガノ(ヒドロ)ジハロシランをルイス塩基と反応させ
て得られた錯体温合物をアンモニアと反応させることに
より合成される共重合シラザンでと一般式R51(II
) Xzで示されるオルガノ(ヒドロ)ジハロシランを
ルイス塩基と反応させて得られた錯体温合物をアンモニ
アと反応させることを特徴とする共重合シラザンの製造
方法も提供される。
illzXz (式中Xはハロゲン原子)で示される無
機ジハロシランと一般式R51(H)Xzで示されるオ
ルガノ(ヒドロ)ジハロシランをルイス塩基と反応させ
て得られた錯体温合物をアンモニアと反応させることに
より合成される共重合シラザンでと一般式R51(II
) Xzで示されるオルガノ(ヒドロ)ジハロシランを
ルイス塩基と反応させて得られた錯体温合物をアンモニ
アと反応させることを特徴とする共重合シラザンの製造
方法も提供される。
本発明によって提供される共重合シラザンは、5ill
Jz (無機ハロシランという)とR51(II)Xz
(有機ハロシランという)とを出発物質とし、ルイス塩
基と反応させて錯体を経た後アンモニアと反応させて合
成することによって、それぞれ5iHJzと〔式中Rは
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルキルアミノ基、アルアルキル基もしくはアル
キルシリル基である。〕で表されるユニットをランダム
に有する直鎖状構造を包含し、数平均分子量100〜5
ooooの範囲内にある共重合シラザンが提供される。
Jz (無機ハロシランという)とR51(II)Xz
(有機ハロシランという)とを出発物質とし、ルイス塩
基と反応させて錯体を経た後アンモニアと反応させて合
成することによって、それぞれ5iHJzと〔式中Rは
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルキルアミノ基、アルアルキル基もしくはアル
キルシリル基である。〕で表されるユニットをランダム
に有する直鎖状構造を包含し、数平均分子量100〜5
ooooの範囲内にある共重合シラザンが提供される。
同様に、本発明によれば.一般式5iHzXz (式中
Xはハロゲン原子)で示される無機ジハロシランで表わ
されるユニットがランダムに結合した共重合体であり、
従って共重合体の直鎖状構造自体が上記2つのユニット
をランダムに有することを特徴とする。
Xはハロゲン原子)で示される無機ジハロシランで表わ
されるユニットがランダムに結合した共重合体であり、
従って共重合体の直鎖状構造自体が上記2つのユニット
をランダムに有することを特徴とする。
無機ハロシラン、有機ハロシランを出発物質とし、ルイ
ス塩基と反応させて錯体を得た後、アンモニアと反応さ
せて合成される重合体は、そうした構造を模式的に示す
と下記式(3)の如くである。
ス塩基と反応させて錯体を得た後、アンモニアと反応さ
せて合成される重合体は、そうした構造を模式的に示す
と下記式(3)の如くである。
〔但し、上記式(1)(2)中、n、m、n’、m’ム
である〕で表わされるような線状部分と環状部分を含む
ことができ、一般的には線状部分は分岐を有することが
できるが、その両端には環状部分が結合した構造を有す
る。限定する意図でなく、れるユニットで構造される前
記式(1)、(2)の如き線状部分と環状部分が種々の
形で結合あるいは枝分れた全体構造において、それらの
線状部分、環状部分は下記式(4) で表わされる構成部分を付加的に含んで構成されている
。従って、全体としての組成は (SillzNH)X(R3iHNH)y ((SiH
t)+、sN) r−x ((RSiH)+、sN)
+−y但し、0.01≦y/x≦0.99.0.4<x
<1 。
である〕で表わされるような線状部分と環状部分を含む
ことができ、一般的には線状部分は分岐を有することが
できるが、その両端には環状部分が結合した構造を有す
る。限定する意図でなく、れるユニットで構造される前
記式(1)、(2)の如き線状部分と環状部分が種々の
形で結合あるいは枝分れた全体構造において、それらの
線状部分、環状部分は下記式(4) で表わされる構成部分を付加的に含んで構成されている
。従って、全体としての組成は (SillzNH)X(R3iHNH)y ((SiH
t)+、sN) r−x ((RSiH)+、sN)
+−y但し、0.01≦y/x≦0.99.0.4<x
<1 。
0、4 < y< 1として表わされるが、本発明の共
重合シラザンの特徴はこれらのユニットが直鎖構造中を
含めてランダムに存在することである。
重合シラザンの特徴はこれらのユニットが直鎖構造中を
含めてランダムに存在することである。
本発明のランダム共重合シラザンの分子量は一般的に数
平均で100〜50000の範囲内にある。大きな分子
量の共重合体は、必要であれば一旦生成した共重合体を
加熱して得ることができる。また、セラミック前駆体と
しての有用性からは分子量は大きいことが望ましく、数
平均分子量で500以上、特に1000以上がより好ま
しい。
平均で100〜50000の範囲内にある。大きな分子
量の共重合体は、必要であれば一旦生成した共重合体を
加熱して得ることができる。また、セラミック前駆体と
しての有用性からは分子量は大きいことが望ましく、数
平均分子量で500以上、特に1000以上がより好ま
しい。
次に本発明の共重合シラザンの製造方法について説明す
る。
る。
本発明において使用する一般式5iHJt (X =
F 。
F 。
C1,Br、I)で表されるジノ\ロシランは取扱し1
性や反応性の観点からハロシラン中から選択されたもの
であるが、反応性及び原料価格等の観点から、特にジク
ロロシランを使用することが好ましい。
性や反応性の観点からハロシラン中から選択されたもの
であるが、反応性及び原料価格等の観点から、特にジク
ロロシランを使用することが好ましい。
本発明で用いる有機ジノ10シランは、次の一般式:
%式%
(式中、Rはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基、アルキルアミノ基、アルアルキル基
もしくはアルキルシリル基である。)で表わされるもの
である。これらのうち、Rとしては、通常炭素数が1〜
7、好ましくは1〜5、さらに好ましくは1〜2のアル
キル基、2〜7のアルケニル基、5〜7のシクロアルキ
ル基、アリール基が一般的であり、Xとしては通常フ・
ン素、塩素、臭素及びヨウ素好ましくは塩素のものが使
用される。アリール基としてはフェニル、トリル、キシ
リル、ジエチル、クメニル、ベンジル、フェネチル、α
−メチルベンジル、ベンズヒドリル、トリチル、スチリ
ル、シンナミル、ビフェニル、ナフチル等を使用するこ
とができる。アルキルシリル基(モノ、ジ、トリー置換
体)、アルキルアミノ基(モノ、ジー置換体)、アルコ
キシ基としては、通常、炭素原子を1〜7個有するもの
が使用される。
ル基、アリール基、アルキルアミノ基、アルアルキル基
もしくはアルキルシリル基である。)で表わされるもの
である。これらのうち、Rとしては、通常炭素数が1〜
7、好ましくは1〜5、さらに好ましくは1〜2のアル
キル基、2〜7のアルケニル基、5〜7のシクロアルキ
ル基、アリール基が一般的であり、Xとしては通常フ・
ン素、塩素、臭素及びヨウ素好ましくは塩素のものが使
用される。アリール基としてはフェニル、トリル、キシ
リル、ジエチル、クメニル、ベンジル、フェネチル、α
−メチルベンジル、ベンズヒドリル、トリチル、スチリ
ル、シンナミル、ビフェニル、ナフチル等を使用するこ
とができる。アルキルシリル基(モノ、ジ、トリー置換
体)、アルキルアミノ基(モノ、ジー置換体)、アルコ
キシ基としては、通常、炭素原子を1〜7個有するもの
が使用される。
使用する塩基はハロシランとアダクトを形成する反応以
外の反応をしないルイス塩基である。このようなルイス
塩基としては例えば、3級アミン類(トリメチルアミン
、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、及び
トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、
ピコリン、ジメチルアニリン及びこれらの誘導体)、立
体障害性の基を有する2級アミン類、フォスフイン、ス
チピン、アルシン及びこれらの誘導体等(例えばトリメ
チルフォスフイン、ジメチルエチルフ゛オスフィン、メ
チルジエチルフォスフイン、トリエチルフォスフイン、
トリメチルアルシン、トリメチルスチピン、トリメチル
アミン、トリエチルアミン等)を挙げることができる。
外の反応をしないルイス塩基である。このようなルイス
塩基としては例えば、3級アミン類(トリメチルアミン
、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、及び
トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、
ピコリン、ジメチルアニリン及びこれらの誘導体)、立
体障害性の基を有する2級アミン類、フォスフイン、ス
チピン、アルシン及びこれらの誘導体等(例えばトリメ
チルフォスフイン、ジメチルエチルフ゛オスフィン、メ
チルジエチルフォスフイン、トリエチルフォスフイン、
トリメチルアルシン、トリメチルスチピン、トリメチル
アミン、トリエチルアミン等)を挙げることができる。
中でも、低沸点でアンモニアより塩基性の小さい塩基(
例えばピリジン、ピコリン、トリメチルフォスフイン、
ジメ′チルエチルフォスフイン、メチルジエチルフォス
フイン、トリエチルフォスフイン)が好ましく、特にピ
リジン及びピコリンが取扱上及び経済上から好ましい。
例えばピリジン、ピコリン、トリメチルフォスフイン、
ジメ′チルエチルフォスフイン、メチルジエチルフォス
フイン、トリエチルフォスフイン)が好ましく、特にピ
リジン及びピコリンが取扱上及び経済上から好ましい。
本発明では、最初に5ill□x2とR31llXzを
ルイス塩基と反応させるが、5iHzχ2とR51HX
2との混合割合は特に限定されずモル比でl:99〜9
9:1の範囲内であればよいが、最終目的とするセラミ
ックスの特性に応じてこの比を選択する。一般的にット
が多くなり、セラミックス化後に炭素がより多く残留す
るようになるといえる。典型的には上記比が10 :
90〜90 : 10、さらには30 : 70〜70
: 30の範囲内で用いる。
ルイス塩基と反応させるが、5iHzχ2とR51HX
2との混合割合は特に限定されずモル比でl:99〜9
9:1の範囲内であればよいが、最終目的とするセラミ
ックスの特性に応じてこの比を選択する。一般的にット
が多くなり、セラミックス化後に炭素がより多く残留す
るようになるといえる。典型的には上記比が10 :
90〜90 : 10、さらには30 : 70〜70
: 30の範囲内で用いる。
ジハロシランの全体に対するルイス塩基の量は、モル比
で0.5以上、好ましくは1.0以上、より好ましくは
1.5以上とするのがよい。
で0.5以上、好ましくは1.0以上、より好ましくは
1.5以上とするのがよい。
本発明では、上記の2種類のジハロシランにルイス塩基
を付加させて錯体を形成させるが、その際、反応溶媒と
しては、ルイス塩基単独、あるいは非反応性溶媒とルイ
ス塩基との混合物を用いるのがよい。非反応性溶媒とし
ては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水
素の炭化水素溶媒、ハロゲン化メタン、ハロゲン化エタ
ン、ハロゲン化ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、脂肪
族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用でき
る。
を付加させて錯体を形成させるが、その際、反応溶媒と
しては、ルイス塩基単独、あるいは非反応性溶媒とルイ
ス塩基との混合物を用いるのがよい。非反応性溶媒とし
ては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水
素の炭化水素溶媒、ハロゲン化メタン、ハロゲン化エタ
ン、ハロゲン化ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、脂肪
族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用でき
る。
好ましい溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化
炭素、ブロモホルム、塩化エチレン、塩化エチリデン、
トリクロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エ
チルブチルエーテル、ブチルエーテル、1.2−ジオキ
シエタン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類、ペン
タン、ヘキサン、イソヘキサン、メチルベンクン、ヘプ
タン、イソへブタン、オクタン、イソオクタン、シクロ
ベンクン、メチルシクロベンクン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
エチルベンゼン等の炭化水素である。これらの溶媒のう
ち、安全性などの点から、ジクロロメタンやピリジンが
特に好ましい。
炭素、ブロモホルム、塩化エチレン、塩化エチリデン、
トリクロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エ
チルブチルエーテル、ブチルエーテル、1.2−ジオキ
シエタン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類、ペン
タン、ヘキサン、イソヘキサン、メチルベンクン、ヘプ
タン、イソへブタン、オクタン、イソオクタン、シクロ
ベンクン、メチルシクロベンクン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
エチルベンゼン等の炭化水素である。これらの溶媒のう
ち、安全性などの点から、ジクロロメタンやピリジンが
特に好ましい。
溶媒中のジハロシランの濃度は任意とすることができる
が、1〜15重量%(以下、%と略称する)の範囲とす
るのがよい。又、錯体を形成させる条件として、温度は
反応系が液体となる範囲(典型的には一20〜80°C
)ならいずれでもよいが好ましくは常温であり、圧力は
一般的には常圧〜加圧下であるが、窒素加圧下がよい。
が、1〜15重量%(以下、%と略称する)の範囲とす
るのがよい。又、錯体を形成させる条件として、温度は
反応系が液体となる範囲(典型的には一20〜80°C
)ならいずれでもよいが好ましくは常温であり、圧力は
一般的には常圧〜加圧下であるが、窒素加圧下がよい。
反応は極めて速いので反応時間を任意に定めることがで
きる。
きる。
次に、このようにして製造した錯体に乾燥アンモニアを
反応させて加安分解(アンモノリシス)を行なわせる。
反応させて加安分解(アンモノリシス)を行なわせる。
この際使用するアンモニアは気体でも液体でもよい。ア
ンモニアの乾燥は、例えば固体水酸化ナトリウムに通し
た後、金属ナトリウムに通すなどの方法により行なうの
がよい。アンモニアの添加量は、オルガノ(ヒドロ)ジ
ハロシランに対して、モル比で3.0〜20倍、好まし
くは4〜15倍、より好ましくは5〜10倍とするのが
よい。反応溶媒、反応温度、反応圧力、時間とも錯体形
成時の条件と同じでよい。但し、閉鎖系ではアンモニア
加圧となる。又、反応系中の水分量は、例えば50pp
m以下とするのが望ましい。
ンモニアの乾燥は、例えば固体水酸化ナトリウムに通し
た後、金属ナトリウムに通すなどの方法により行なうの
がよい。アンモニアの添加量は、オルガノ(ヒドロ)ジ
ハロシランに対して、モル比で3.0〜20倍、好まし
くは4〜15倍、より好ましくは5〜10倍とするのが
よい。反応溶媒、反応温度、反応圧力、時間とも錯体形
成時の条件と同じでよい。但し、閉鎖系ではアンモニア
加圧となる。又、反応系中の水分量は、例えば50pp
m以下とするのが望ましい。
反応終了後、遠心分離などの常用手段を用いて共重合シ
ラザンを分離する。
ラザンを分離する。
本発明のランダム共重合シラザン及びその製法は次のよ
うな利点を有し、産業上有用である。
うな利点を有し、産業上有用である。
(1)この共重合シラザンは、有機溶媒に可溶であり、
焼成して窒化珪素あるいは窒化珪素含有セラミックスに
変換できるため、高性能のセラミックス成形体すなわち
、高温機械強度が高く、耐熱性、耐食性、耐酸化性、耐
熱衝撃性に優れた連続繊維、フィルム、被覆膜を容易に
得ることができる。また、セラミック収率が高いので、
焼結用結合剤、含浸剤等としての利用も可能である。
焼成して窒化珪素あるいは窒化珪素含有セラミックスに
変換できるため、高性能のセラミックス成形体すなわち
、高温機械強度が高く、耐熱性、耐食性、耐酸化性、耐
熱衝撃性に優れた連続繊維、フィルム、被覆膜を容易に
得ることができる。また、セラミック収率が高いので、
焼結用結合剤、含浸剤等としての利用も可能である。
(2)この共重合シラザンは、その重合体中に分解を促
進する残留触媒等の不純物の混入がないため、安定性が
向上し、取り扱いが容易になり、その上高温焼成後のセ
ラミックスの純度が向上する。
進する残留触媒等の不純物の混入がないため、安定性が
向上し、取り扱いが容易になり、その上高温焼成後のセ
ラミックスの純度が向上する。
(3)この共重合シラザン中に、触媒が残存しないため
、安定性が向上し、溶媒を除き単離後も長期保存が可能
である。
、安定性が向上し、溶媒を除き単離後も長期保存が可能
である。
(4)本発明の方法は、水素化カリウムやヨウ化メチル
のような高価で危険な触媒を使用せず、しかも本発明で
用いるルイス塩基は再使用可能であるため、低コストで
安全である。
のような高価で危険な触媒を使用せず、しかも本発明で
用いるルイス塩基は再使用可能であるため、低コストで
安全である。
(5)この共重合シラザンは高分子量のため、高温焼成
時の蒸発損失が小さいので、セラミック収率が向上する
。
時の蒸発損失が小さいので、セラミック収率が向上する
。
(6)不純物の混入がないため、高温焼成後のセラミッ
クスの純度が向上する。
クスの純度が向上する。
(7)原料となるジハロシランの割合を変えることによ
り、共重合シラザンの無機ポリシラザンユ成後のセラミ
ックスの電気的性質として、絶縁体から半導体まで、任
意のものが得られる。また、同様にしてSiCの生成量
を制御できることにより、遠赤外効果を連続的に変化さ
せることができる。
り、共重合シラザンの無機ポリシラザンユ成後のセラミ
ックスの電気的性質として、絶縁体から半導体まで、任
意のものが得られる。また、同様にしてSiCの生成量
を制御できることにより、遠赤外効果を連続的に変化さ
せることができる。
(8)高温焼成後のセラミックスの結晶化温度が高い。
1施■土
合成装置を第1図に示す。第1図中、lは無機ハロシラ
ン貯槽、2は有機ハロシラン貯槽、3は溶媒貯槽、4は
反応器、5は窒素ガス管、6はアンモニアガス管、7は
恒温槽、8はモーター、9は温度計10と連動したヒー
ター、11は排ガス管である。
ン貯槽、2は有機ハロシラン貯槽、3は溶媒貯槽、4は
反応器、5は窒素ガス管、6はアンモニアガス管、7は
恒温槽、8はモーター、9は温度計10と連動したヒー
ター、11は排ガス管である。
この装置を用いて以下の合成反応を実施した。
温度が0°Cの恒温槽内に設置した反応器内を乾燥窒素
で置換した後、乾燥ピリジン900−を入れ温度が一定
となるまで保持した後、撹拌しながらメチルジクロロシ
ラン(CHzSiHCl□)23.0 g、ジクロロシ
ラン(SiHzCj!□)80.8 gをそれぞれ加え
錯体混合物を形成させ、白色固体状のアダクトを得た。
で置換した後、乾燥ピリジン900−を入れ温度が一定
となるまで保持した後、撹拌しながらメチルジクロロシ
ラン(CHzSiHCl□)23.0 g、ジクロロシ
ラン(SiHzCj!□)80.8 gをそれぞれ加え
錯体混合物を形成させ、白色固体状のアダクトを得た。
反応混合物をO′Cに冷却し、撹拌しながら、乾燥アン
モニア72.gを吹き込んだ。
モニア72.gを吹き込んだ。
反応終了後、乾燥窒素を吹き込み、未反応のアンモニア
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液850
1n1を得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000d
を加え減圧下で溶媒を除去したところ、41.0 gの
無色の粘性液体が得られた。
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液850
1n1を得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000d
を加え減圧下で溶媒を除去したところ、41.0 gの
無色の粘性液体が得られた。
この粘性液体の数平均分子量は、GPCにより測定した
ところ790であった。また、そのTRスペクトル(溶
媒:0−キシレン)の分析の結果、波数(cn+−’)
3350及び1175のN −Hに基づく吸収;21
70の5i−Hに基づく吸収; 1020〜820の5
i−Hおよび5i−NSiに基づく吸収; 29B0
、2950 。
ところ790であった。また、そのTRスペクトル(溶
媒:0−キシレン)の分析の結果、波数(cn+−’)
3350及び1175のN −Hに基づく吸収;21
70の5i−Hに基づく吸収; 1020〜820の5
i−Hおよび5i−NSiに基づく吸収; 29B0
、2950 。
1270のC−Hに基づく吸収を示すことが確認された
。さらに、このポリマーの’ H−NMR(プロトン核
磁気共鳴)スペクトル(60M)lz、溶媒:CDCf
3/基準物質T基準物質骨析したところ第2図に示した
通りのものであった。即ち、64.8(br、 5tu
tまたは5itl)、 64.4(br、 5ilh
)、δ1.4(br、 NH)、δ0.3(br、 5
iCIIz)の吸収が観測された。これらの吸収スペク
トルから第1表に示す如く、5iCIlz/ (Sil
ls+5ill) =0.32であることが読み取られ
た。
。さらに、このポリマーの’ H−NMR(プロトン核
磁気共鳴)スペクトル(60M)lz、溶媒:CDCf
3/基準物質T基準物質骨析したところ第2図に示した
通りのものであった。即ち、64.8(br、 5tu
tまたは5itl)、 64.4(br、 5ilh
)、δ1.4(br、 NH)、δ0.3(br、 5
iCIIz)の吸収が観測された。これらの吸収スペク
トルから第1表に示す如く、5iCIlz/ (Sil
ls+5ill) =0.32であることが読み取られ
た。
また、前記重合体の元素組成(重量%)はSi:57.
3. N :24.O,O: 4.0 、 C:6.9
2であった。
3. N :24.O,O: 4.0 、 C:6.9
2であった。
尖施億1
実施例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち温度が0°Cの恒温槽内に設置した反応器内を乾燥
窒素で置換した後、乾燥ピリジン900dを入れ温度が
一定となるまで保持した後、撹拌しながらメチルジクロ
ロシラン(CHzSiHCj! z)57.5 g 1
ジクロロシラン(SiHzCl g)50.5 gをそ
れぞれ加え錯体混合物を形成させ、白色固体状のアダク
トを得た。反応混合物を0°Cに冷却し、撹拌しながら
、乾燥アンモニア72gを吹き込んだ。
窒素で置換した後、乾燥ピリジン900dを入れ温度が
一定となるまで保持した後、撹拌しながらメチルジクロ
ロシラン(CHzSiHCj! z)57.5 g 1
ジクロロシラン(SiHzCl g)50.5 gをそ
れぞれ加え錯体混合物を形成させ、白色固体状のアダク
トを得た。反応混合物を0°Cに冷却し、撹拌しながら
、乾燥アンモニア72gを吹き込んだ。
反応終了後、乾燥窒素を吹き込み、未反応のアンモニア
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液850
dを得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000100
Oを加え減圧下で溶媒を除去したところ、39.2gの
無色の粘性液体が得られた。
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液850
dを得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000100
Oを加え減圧下で溶媒を除去したところ、39.2gの
無色の粘性液体が得られた。
この粘性液体の数平均分子量は、GPCにより測定した
ところ630であった。また、前記重合体を実施例1と
同様に’ H−NMR分析を行ったところ、第1表に示
す如く、5iC1h/ (SiHz+5iH) = 1
.1であることが読み取られた。
ところ630であった。また、前記重合体を実施例1と
同様に’ H−NMR分析を行ったところ、第1表に示
す如く、5iC1h/ (SiHz+5iH) = 1
.1であることが読み取られた。
また、前記重合体の元素組成(重量%)はSi:54.
4. N :23.8. O: 3.0 、 C:12
.9であった。
4. N :23.8. O: 3.0 、 C:12
.9であった。
夫隻班主
実施例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち温度が0℃の恒温槽内に設置した反応器内を乾燥窒
素で置換した後、乾燥ピリジン900−を入れ温度が一
定となるまで保持した後、撹拌しながらメチルジクロロ
シラン(CHsSillCl g)92.0 g 、ジ
クロロシラン(SitbCIt り20.2 gをそれ
ぞれ加え錯体温合物を形成させ、白色固体状のアダクト
を得た。反応混合物を0°Cに冷却し、撹拌しながら、
乾燥アンモニア72gを吹き込んだ。
素で置換した後、乾燥ピリジン900−を入れ温度が一
定となるまで保持した後、撹拌しながらメチルジクロロ
シラン(CHsSillCl g)92.0 g 、ジ
クロロシラン(SitbCIt り20.2 gをそれ
ぞれ加え錯体温合物を形成させ、白色固体状のアダクト
を得た。反応混合物を0°Cに冷却し、撹拌しながら、
乾燥アンモニア72gを吹き込んだ。
反応終了後、乾燥窒素を吹き込み、未反応のアンモニア
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液85(
b++j!を得た。この濾液に乾燥O−キシレン1.0
OOdを加え減圧下で溶媒を除去したところ、41.2
gの無色の粘性液体が得られた。
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液85(
b++j!を得た。この濾液に乾燥O−キシレン1.0
OOdを加え減圧下で溶媒を除去したところ、41.2
gの無色の粘性液体が得られた。
この粘性液体の数平均分子量は、GPCにより測定した
ところ540であった。また、前記重合体を実施例1と
同様に’ H−NMR分析を行ったところ、第1表に示
す如く、5iC)l:+/ (SiHz+Silり =
2.1であることが読み取られた。
ところ540であった。また、前記重合体を実施例1と
同様に’ H−NMR分析を行ったところ、第1表に示
す如く、5iC)l:+/ (SiHz+Silり =
2.1であることが読み取られた。
また、前記重合体の元素組成(重量%)はSi:52.
8. N :22.4. O: 1.9 、 C:16
.2”?’あった。
8. N :22.4. O: 1.9 、 C:16
.2”?’あった。
を校皿上
実施例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち温度がO″Cの恒温槽内に設置した反応器内を乾燥
窒素で置換した後、乾燥ピリジン900dを入れ温度が
一定となるまで保持した後、撹拌しながらジクロロシラ
ン(SiHzCfz) 101.0gを加え、白色固体
状のアダクトを得た。反応混合物を0°Cに冷却し、撹
拌しながら、乾燥アンモニア72gを吹き込んだ。
窒素で置換した後、乾燥ピリジン900dを入れ温度が
一定となるまで保持した後、撹拌しながらジクロロシラ
ン(SiHzCfz) 101.0gを加え、白色固体
状のアダクトを得た。反応混合物を0°Cに冷却し、撹
拌しながら、乾燥アンモニア72gを吹き込んだ。
反応終了後、乾燥窒素を吹き込み、未反応のアンモニア
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液850
rR1を得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000d
を加え減圧下で溶媒を除去したところ、39.5gの無
色の粘性液体が得られた。
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液850
rR1を得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000d
を加え減圧下で溶媒を除去したところ、39.5gの無
色の粘性液体が得られた。
この粘性液体の数平均分子量は、GPCにより測定した
ところ1260であった。また、前記重合体を実施例1
と同様に’ H−NMR分析を行ったところ、5iCI
+、の吸収は観測されず、第1表に示す如く、5iCH
s/ (SiHz+5iH) = O,Oとなった。
ところ1260であった。また、前記重合体を実施例1
と同様に’ H−NMR分析を行ったところ、5iCI
+、の吸収は観測されず、第1表に示す如く、5iCH
s/ (SiHz+5iH) = O,Oとなった。
また、前記重合体の元素組成(重量%)はSi:64.
3. N :26.8. O: 1.9 、 C: 2
.6であった。
3. N :26.8. O: 1.9 、 C: 2
.6であった。
止較開I
実施例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち温度が0°Cの恒温槽内に設置した反応器内を乾燥
窒素で置換した後、乾燥ピリジン900dを入れ温度が
一定となるまで保持した後、撹拌しながらメチルジクロ
ロシラン(CIlsSillCj2 z) 115.0
gを加え、白色固体状のアダクトを得た。反応混合物を
0°Cに冷却し、撹拌しながら、乾燥アンモニア72g
を吹き込んだ。
窒素で置換した後、乾燥ピリジン900dを入れ温度が
一定となるまで保持した後、撹拌しながらメチルジクロ
ロシラン(CIlsSillCj2 z) 115.0
gを加え、白色固体状のアダクトを得た。反応混合物を
0°Cに冷却し、撹拌しながら、乾燥アンモニア72g
を吹き込んだ。
反応終了後、乾燥窒素を吹き込み、未反応のアンモニア
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液850
mj!を得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000d
を加え減圧下で溶媒を除去したところ、40.5gの無
色の粘性液体が得られた。
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液850
mj!を得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000d
を加え減圧下で溶媒を除去したところ、40.5gの無
色の粘性液体が得られた。
この粘性液体の数平均分子量は、GPCにより測定した
ところ380であった。また、前記重合体を実施例1と
同様に’ H−NMR分析を行ったところ、第1表に示
す如く、5iCH+/ (SiHz+5iH)−3,0
であることが読み取られた。
ところ380であった。また、前記重合体を実施例1と
同様に’ H−NMR分析を行ったところ、第1表に示
す如く、5iCH+/ (SiHz+5iH)−3,0
であることが読み取られた。
また、前記重合体の元素組成(重量%)はSi:48.
2. N :21.6. O: 1.6 、 C:20
.5であった。
2. N :21.6. O: 1.6 、 C:20
.5であった。
実1111
実施例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち温度が0℃の恒温槽内に設置した反応器内を乾燥窒
素で置換した後、乾燥ピリジン200mfと乾燥ジクロ
ロメタン700111i!を入れ温度が一定となるまで
保持した後、撹拌しながらエチルジクロロシラン(Cd
lsSillCl g)25.8 g 1ジクロロシラ
ン(SillzCf□)80.3gをそれぞれ加え錯体
温合物を形成させ、白色固体状のアダクトを得た。反応
混合物を0°Cに冷却し、撹拌しながら、乾燥アンモニ
ア72gを吹き込んだ。
素で置換した後、乾燥ピリジン200mfと乾燥ジクロ
ロメタン700111i!を入れ温度が一定となるまで
保持した後、撹拌しながらエチルジクロロシラン(Cd
lsSillCl g)25.8 g 1ジクロロシラ
ン(SillzCf□)80.3gをそれぞれ加え錯体
温合物を形成させ、白色固体状のアダクトを得た。反応
混合物を0°Cに冷却し、撹拌しながら、乾燥アンモニ
ア72gを吹き込んだ。
反応終了後、乾燥窒素を吹き込み、未反応のアンモニア
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液820
dを得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000dを加
え減圧下で溶媒を除去したところ、39.5gの無色の
粘性液体が得られた。
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液820
dを得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000dを加
え減圧下で溶媒を除去したところ、39.5gの無色の
粘性液体が得られた。
この粘性液体の数平均分子量は、GPCにより測定した
ところ720であった。
ところ720であった。
実施1
実施例1と同一の装置を用いて反応を行った。
即ち温度が0°Cの恒温槽内に設置した反応器内を乾燥
窒素で置換した後、乾燥T−ピコリン900dを入れ温
度が一定となるまで保持した後、撹拌しながらフエニル
ジクロロシラン(CaHsSiHCj! t)35.8
g 、ジクロロシラン(SiHzC!2 t)80.
3 gをそれぞれ加え錯体混合物を形成させ、白色固体
状のアダクトを得た。反応混合物を0°Cに冷却し、撹
拌しながら、乾燥アンモニア72gを吹き込んだ。
窒素で置換した後、乾燥T−ピコリン900dを入れ温
度が一定となるまで保持した後、撹拌しながらフエニル
ジクロロシラン(CaHsSiHCj! t)35.8
g 、ジクロロシラン(SiHzC!2 t)80.
3 gをそれぞれ加え錯体混合物を形成させ、白色固体
状のアダクトを得た。反応混合物を0°Cに冷却し、撹
拌しながら、乾燥アンモニア72gを吹き込んだ。
反応終了後、乾燥窒素を吹き込み、未反応のアンモニア
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液820
IINを得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000m
を加え減圧下で溶媒を除去したところ、45.5 gの
無色の粘性液体が得られた。
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液820
IINを得た。この濾液に乾燥0−キシレン1000m
を加え減圧下で溶媒を除去したところ、45.5 gの
無色の粘性液体が得られた。
この粘性液体の数平均分子量は、GPCにより測定した
ところ680であった。
ところ680であった。
災施■ニ
ジクロヘキシルブロマイドより合成したグリニヤール試
薬124.0 gをトリクロロシラン220 gにゆっ
くりと添加した。減圧蒸留したところ、シクロへキシル
ジクロロシランが32.8 g得られた。
薬124.0 gをトリクロロシラン220 gにゆっ
くりと添加した。減圧蒸留したところ、シクロへキシル
ジクロロシランが32.8 g得られた。
実施例1と同一の装置を用いた。温度が0°Cの恒温槽
内に設置した反応器内を乾燥窒素で置換した後、乾燥ピ
リジン900−を入れ温度が一定となるまで保持した後
、撹拌しながらシクロヘキシルジクロロシラン35.0
g、ジクロロシラン80.3 g ヲそれぞれ加え錯体
温合物を形成させ、白色固体状のアダクトを得た0反応
器合物を0℃に冷却し、撹拌しながら、乾燥アンモニア
72gを吹き込んだ。
内に設置した反応器内を乾燥窒素で置換した後、乾燥ピ
リジン900−を入れ温度が一定となるまで保持した後
、撹拌しながらシクロヘキシルジクロロシラン35.0
g、ジクロロシラン80.3 g ヲそれぞれ加え錯体
温合物を形成させ、白色固体状のアダクトを得た0反応
器合物を0℃に冷却し、撹拌しながら、乾燥アンモニア
72gを吹き込んだ。
反応終了後、乾燥窒素を吹き込み、未反応のアンモニア
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液820
IIIf/、を得た。この濾液に乾燥0−キシレン10
00II11を加え減圧下で溶媒を除去したところ、3
6.5gの無色の粘性液体が得られた。
を除去した後、窒素雰囲気下で加圧濾過し、濾液820
IIIf/、を得た。この濾液に乾燥0−キシレン10
00II11を加え減圧下で溶媒を除去したところ、3
6.5gの無色の粘性液体が得られた。
この粘性液体の数平均分子量は、GPCにより測定した
ところ700であった。
ところ700であった。
第1表
’H−NMR(比)
実施例1で得られた共重合シラザンを窒素中で1500
°Cまで昇温速度3°C/分で加熱し、熱分解すること
で灰黒色固体を85.2重量%の収率で得た。
°Cまで昇温速度3°C/分で加熱し、熱分解すること
で灰黒色固体を85.2重量%の収率で得た。
得られたセラミックスの粉末X線回折測定を行なったと
ころ、非晶質であることが確認された。
ころ、非晶質であることが確認された。
次に、この固体を更に窒素中で1700℃まで昇温速度
lO℃/分で加熱焼成して黒緑色固体を得た。
lO℃/分で加熱焼成して黒緑色固体を得た。
この物質の粉末X線回折測定を行なったところ、2θ=
20.5°にα−5iJaの(101)回折線、2θ−
22,9°にα−5i、N、の(110)回折線、2θ
−2664°にα−S43N4の(200)回折線、2
θ=30.9’にα−3i3N4の(201)回折線、
2θ=31.7°にα5iJ4の(002)回折線、2
θ=34.5’にα−5iJ4(7) (102)回折
線、2θ=35.2°ニa −5iJ4ノ(210)回
折線、2 θ=38.8°ニ(X 5j3Na (7
)(211)回折線、2θ=39.4°にα−5i3N
nの(112)回折線、2θ=40.1’にα−3iJ
、の(300)回折線、2θ=41.8°にα−5iJ
nの(202)回折線、2θ−43,4°ニα−5iJ
a ノ(301)回折線、2θ=46.9°にα−5i
3N、の(220)回折線、2θ=48.2°にα−5
i、N、の(212)回折線、2θ=48.8’にα−
5i3N4の(310)回折線、更に2θ=23.3゜
にβ−Si、N、の(110)回折線、2θ=26.9
°にβ5sJaの(200)回折線、2θ=33.6°
にβ−3iJ4の(101)回折線、2θ=36.0’
ニβ−5iJnの(210)回折線、2θ=41.4
°にβ−3iJs (’)(201)回折線、2 θ=
49.9’ !、:β−3iJ4(’)(310)回折
線、2θ=34.2°ニry −5iC(7) (10
1)回折線、2θ=35.7°ニcx −3iC(7)
(006)回折線、(102)回折線、2θ=38.
2°にα−5iCの(103)回折線、2θ=41.5
°にα−5iCの(104)回折線が認められ、結晶質
の窒化珪素−炭化珪素混合セラミックスであることが確
認された。
20.5°にα−5iJaの(101)回折線、2θ−
22,9°にα−5i、N、の(110)回折線、2θ
−2664°にα−S43N4の(200)回折線、2
θ=30.9’にα−3i3N4の(201)回折線、
2θ=31.7°にα5iJ4の(002)回折線、2
θ=34.5’にα−5iJ4(7) (102)回折
線、2θ=35.2°ニa −5iJ4ノ(210)回
折線、2 θ=38.8°ニ(X 5j3Na (7
)(211)回折線、2θ=39.4°にα−5i3N
nの(112)回折線、2θ=40.1’にα−3iJ
、の(300)回折線、2θ=41.8°にα−5iJ
nの(202)回折線、2θ−43,4°ニα−5iJ
a ノ(301)回折線、2θ=46.9°にα−5i
3N、の(220)回折線、2θ=48.2°にα−5
i、N、の(212)回折線、2θ=48.8’にα−
5i3N4の(310)回折線、更に2θ=23.3゜
にβ−Si、N、の(110)回折線、2θ=26.9
°にβ5sJaの(200)回折線、2θ=33.6°
にβ−3iJ4の(101)回折線、2θ=36.0’
ニβ−5iJnの(210)回折線、2θ=41.4
°にβ−3iJs (’)(201)回折線、2 θ=
49.9’ !、:β−3iJ4(’)(310)回折
線、2θ=34.2°ニry −5iC(7) (10
1)回折線、2θ=35.7°ニcx −3iC(7)
(006)回折線、(102)回折線、2θ=38.
2°にα−5iCの(103)回折線、2θ=41.5
°にα−5iCの(104)回折線が認められ、結晶質
の窒化珪素−炭化珪素混合セラミックスであることが確
認された。
この結晶質混合セラミックスの元素分析結果は(重量%
) Si :62.3. N :25.8.0 : 4
.2 、 Cニア、5であった。
) Si :62.3. N :25.8.0 : 4
.2 、 Cニア、5であった。
第1図は実施例でランダム共重合シラザンを製造するた
めに用いた装置の模式図、第2図は実施例のランダム共
重合シラザンの’ H−NMRスペクトル図である。 1・・・無機ハロシラン貯槽、 2・・・有機ハロシラン貯槽、 3・・・溶媒貯槽、 4・・・反応器、6・・
・アンモニアガス管、 7・・・恒温槽。 合成装置 @1図
めに用いた装置の模式図、第2図は実施例のランダム共
重合シラザンの’ H−NMRスペクトル図である。 1・・・無機ハロシラン貯槽、 2・・・有機ハロシラン貯槽、 3・・・溶媒貯槽、 4・・・反応器、6・・
・アンモニアガス管、 7・・・恒温槽。 合成装置 @1図
Claims (2)
- 1.一般式SiH_2X_2(式中Xはハロゲン原子)
で示される無機ジハロシランと一般式RSi(H)X_
2で示されるオルガノ(ヒドロ)ジハロシランをルイス
塩基と反応させて得られた錯体混合物をアンモニアと反
応させることにより合成される共重合シラザンであって
、一般式、▲数式、化学式、表等があります▼および▲
数式、化学式、表等があります▼〔式中Rはアルキル基
、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アル
キルアミノ基、アルアルキル基もしくはアルキルシリル
基である。〕で表されるユニットをランダムに有する直
鎖状構造を包含し、数平均分子量100〜50000の
範囲内にある共重合シラザン。 - 2.一般式SiH_2X_2(式中Xはハロゲン原子)
で示される無機ジハロシランと一般式RSi(H)X_
2で示されるオルガノ(ヒドロ)ジハロシランをルイス
塩基と反応させて得られた錯体混合物をアンモニアと反
応させることを特徴とする共重合シラザンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1165456A JPH0331326A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | ランダム共重合シラザン及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1165456A JPH0331326A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | ランダム共重合シラザン及びその製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0331326A true JPH0331326A (ja) | 1991-02-12 |
Family
ID=15812764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1165456A Pending JPH0331326A (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | ランダム共重合シラザン及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0331326A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
US7344603B2 (en) | 2001-12-27 | 2008-03-18 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Solvent for treating polysilazane and method of treating polysilazane with the solvent |
WO2009054522A1 (ja) | 2007-10-26 | 2009-04-30 | Az Electronic Materials (Japan) K.K. | 緻密なシリカ質膜を得ることができるポリシラザン化合物含有組成物 |
CN102666666A (zh) * | 2009-12-22 | 2012-09-12 | 3M创新有限公司 | 制备架藏稳定的可固化聚硅氮烷的方法及由此制得的聚硅氮烷 |
WO2017191049A1 (en) | 2016-05-02 | 2017-11-09 | Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. | Composition for forming dense siliceous film |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6189230A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-07 | Toa Nenryo Kogyo Kk | ポリオルガノヒドロシラザンの製造方法 |
JPS61287930A (ja) * | 1985-06-17 | 1986-12-18 | Chisso Corp | ポリシラザンの製造方法 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP1165456A patent/JPH0331326A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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