JPH03283290A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPH03283290A
JPH03283290A JP8236690A JP8236690A JPH03283290A JP H03283290 A JPH03283290 A JP H03283290A JP 8236690 A JP8236690 A JP 8236690A JP 8236690 A JP8236690 A JP 8236690A JP H03283290 A JPH03283290 A JP H03283290A
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high frequency
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cooking chamber
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Takatsugu Igarashi
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、加熱調理室内の食品に高周波(マイクロ波)
を照射して加熱するようにした高周波加熱装置。
(従来の技術) 従来の高周波加熱装置の一般的構造を第7図及び第8図
に基づいて説明する。第7図は、本体1全体の平面図(
但し上面板が破断されている)を示すものである。この
第7図に示すように、本体1内には、加熱調理室2と機
械室3とが左右に併設され、その機械室3内に高周波発
生手段としてマグネトロン4が設けられている。このマ
グネトロン4は、2450 M Hzの高周波を発生し
、この高周波が導波管5を通して加熱調理室2内に導か
れる。この高周波は外部に多量に漏洩すると、人体に悪
影響を及はすので、加熱調理室2を開閉する扉6と本体
1との間の隙間から高周波が漏洩しないようにする必要
がある。そのため、従来は、扉6の四辺部に、第8図に
示すように高周波減衰用のチョークキャビティ7を形成
すると共に、このチョークキャビティ7の開口部7aの
中央と加熱調理室2の開口端との距離をλ/4(λは高
周波の波長)に設定している。更に、チョークキャビテ
ィ7で完全に電波漏洩を防止できないことを考慮して、
減衰域fI (2450MHzではN−1〜1.5cm
)を設けている。以上のような寸法関係により、本体1
の壁厚りは、 L−λ/4+g      ・・・・・・(1)に設定
する必要があった。
(発明が解決しようとする課題) ところで、従来の高周波の周波数は2450MHzであ
るので、1波長λは約12.2cmとなる。また、減衰
域gとして、通常1〜1.5anが必要であるので、本
体1の壁厚りは、上記(1)式に従って計算すれば、約
4cm以上も必要になってしまう。この様な厚い壁を加
熱調理室2の全周にわたって設けなければならないので
、本体1の外形容積に対する加熱調理室2の内容積の割
合である容積効率が低くなってしまい、最大でも40%
程度とするのが限界であった。このため、加熱調理室2
の内容積を十分に確保しようとすれば、本体1全体が相
当に大形化してしまい、小形化の要請に反するばかりか
、本体1を構成する部材の使用量も多くなって、コスト
高と本体重量増大を招いていた。
本発明はこの様な事情を考慮してなされたもので、従っ
てその目的は、加熱調理室の容積効率を向上できて、小
形化の要請を満たすことができ、低コスト化と軽量化を
達成できる高周波加熱装置を提供することにある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明の高周波加熱装置は、加熱調理室を有する本体と
、前記加熱調理室内に収容された食品に高周波を照射し
て加熱する高周波発生手段と、前記本体に前記加熱調理
室の前面開口を開閉するように設けられた扉とを備えた
ものにおいて、前記本体と前記層との合せ面が傾斜状に
なるように構成されている。
この場合、本体の前面と扉の前面とがほぼ同一面になる
ように構成しても良い。
更に、高周波発生手段を、ほぼ5800 M Hzの高
周波を発生するように構成しても良い。
(作用) 本体と扉との合せ面が傾斜状になるように構成されてい
るので、本体の壁厚よりも扉の合せ面の幅寸法を大きく
することができる。従って、本体の壁厚が従来より薄く
ても、扉の合せ面の幅寸法としては、高周波の漏洩防止
に必要十分な距離を確保することができる。このため、
本体の壁厚の薄形化が可能となる。
更に、本体の前面と扉の前面とがほぼ同一面になるよう
に構成すれば、高周波加熱装置の前面をフラット化(平
面化)できて、コンパクト化と共に外観デザインの斬新
性を向上することができる。
また、高周波の周波数を5800 M Hzに設定すれ
ば、高周波の波長λが従来(2450M Hz )の半
分以下となる。このため、λ/4+gで計算される高周
波漏洩防止距離(本体と扉との合せ面の幅寸法L)も、
従来の半分程度になり、本体の壁厚を一層薄形化するこ
とができる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図乃至第6図に基づいて
説明する。
高周波加熱装置の本体11は、矩形箱状に構成され、そ
の内部に加熱調理室12と機械室13が左右に併設され
ている。そして、加熱調理室12の上面部には、第4図
に示すように導波管14が機械室13内に突出するよう
に取付けられ、この導波管14の右端下面部に、高周波
発生手段たるマグネトロン15が取付けられている。こ
のマグネトロン15は、従来周波数(2450M Hz
 )のほぼ2倍の周波数であるほぼ5800 M Hz
の高周波を発生するように構成されている。ここで、5
800 M Hzに限定した理由は、次の通りである。
即ち、電波法により高周波加熱等に使用が許可されてい
る周波数は、2450 M Hz 、 5800MHz
、 22125MHzの3種類がある。
一般に電波が物質に浸透するエネルギーは波長λが小さ
い程電波の浸透する深さが浅くなり、均一な深さを得る
ためには500 M Hzから5000 M Hz位ま
でが適当とされている。従って、余りにも高い周波数を
用いた場合は波長λが非常に小さく、これが加熱むらを
生ずる大きな要因となり易い。それ故、上記3種類の周
波数のうち一番高い22125MHzの周波数を採用し
た場合には食品表面から一定の深さのみが加熱されてし
まい、内部まで充分に加熱することができない。
ところが、5800 M Hzの周波数を採用した場合
には、従来周波数(2450M Hz )と同様に均一
な深さを得ることが可能であり、且つ周波数が従来に比
べて高くなる分、定在波(電界)の分布状態もきめ細か
くなり、加熱むらも一段と減少し均一な加熱が得られる
。それ故、5800MHzを採用したもので、第6図に
示すように、従来の2450MHzの場合の波長λが1
2.2(1)であるのに対し、この実施例の周波数であ
る5800 M Hzでは、波長λが5.17cI11
となり、従来の半分以下になる。
一方、第4図に示すように、加熱調理室12の底部には
、食品載置皿16が回転可能に設けられ、この食品載置
皿16が加熱調理室12の外底部に設けられたモータ1
7により回転駆動される。
そして、第3図に示すように、本体1の前面には、加熱
調理室12の前面を開閉する扉18と、操作パネル19
が左右に併設され、この操作パネル19には各種の操作
キー20が設けられている。
而して、この実施例は、第1図及び第2図に示すように
、本体11と扉18との合せ面21を傾斜状に構成した
ところに大きな特徴がある。具体的には、扉18の4辺
部の各端面を、加熱調理室12の中心側へ向けて例えば
45″程度傾斜させ、それに対応して、本体11の合せ
面21部分も例えば45″程度傾斜させている。そして
、扉18の4辺部には、その扉18の厚みを利用してチ
ョークキャビティ22が形成されている。この場合、チ
ョークキャビティ22の大きさは、扉18の合せ面21
の内端からチョークキャビティ22の開口部22aの中
央までの距離がλ/4(約1.3cIl+)、その開口
部22aの中央からのチョークキャビティ22の奥行き
寸法も、同じくλ/4(約1.3cm)に設定している
。そして、チョークキャビティ22で完全に電波漏洩を
防止できない場合を考慮して、減衰域gを設けるが、5
800MHzでは、波長λが従来の約半分になるため、
この減衰域gも従来(1〜1.5cm)の約半分の0゜
5〜0.7anあれば良い。従って、本体11と扉18
との合せ面21の幅寸法りは、λ/4+gに従って計算
すれば、約2cm程度になる。
更に、この実施例では、第2図に示すように、本体11
の前面11aと扉18の前面18aとがほぼ同一面にな
るように設定されている。
上記・実施例によれば、本体11と扉18との合せ面2
1を傾斜状に構成しているので、本体1の壁厚A(第2
図参照)よりも合せ面21の幅寸法りを大きくすること
ができる。従って、本体11の壁厚Aが従来より薄くて
も、扉18の合せ面21の幅寸法りとしては、高周波の
漏洩防止に必要な距離を確保することができる。このた
め、本体11の壁厚Aの薄形化が可能となり、加熱調理
室12の容積効率を向上できて、本体11の小形化の要
請を満たすことができ、低コスト化と軽量化を達成でき
る。
更に、この実施例では、高周波の周波数を従来の約2倍
の5800 M Hzに設定したので、高周波の波長λ
が従来の約半分の5.17cmとなる。
これに伴って、高周波の漏洩防止に必要な距離(扉18
の合せ面21の幅寸法L)も、従来の約4cm程度に比
し、その半分の約2cm程度あれば良い。このため、扉
18の合せ面21を傾斜させたことと相俟って、本体1
1の壁厚Aの大幅な薄形化が可能となり、加熱調理室1
2の容積効率を従来の40%程度から60%以上にまで
高めることができる。
しかも、倍周波数化に伴い、加熱調理室12内における
定在波(電界)の分布状態が、第5図に示すように、従
来周波数の場合と比較してきめ細かい分布状態となる。
このため、食品にきめ細かく高周波が照射されて、食品
が均一加熱されるようになり、食品の加熱むらを改善す
ることができる。この様な効果は、薄物の食品(例えば
ピザ)を加熱する場合には、特に好都合であり、調理の
仕上がり具合を良くできると共に、加熱時間も短縮する
ことかできて、調理のスピードア・ツブと消費電力の低
減化を図り得る。また、冷凍食品の解凍においても、従
来は、定在波(電界)の分布状態が粗(なっていたため
、加熱むらが生じて加熱過ぎ部分と未解凍の部分が出来
易く、解凍が上手にできにくいという欠点があったが、
上記実施例では、定在波(電界)の分布状態がきめ細か
くなるため、被解凍物を均一加熱できて、被解凍物全体
をまんべんなく上手に解凍できる利点がある。
更に、本体11の前面11aと扉18の前面18aとが
ほぼ同一面になるように構成しているので、高周波加熱
装置の前面をフラ・ソト化(平面化)できて、コンパク
ト化と共に外観デザインの斬新性を向上することができ
る。
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、オ
ーブン機能やグリル機能を付加した高周波加熱装置にも
適用して実施できる等、種々の変形が可能である。
[発明の効果コ 本発明は以上の説明から明らかなように、本体と扉との
合せ面が傾斜状になるように構成されているので、本体
の壁厚よりも扉の合せ面の幅寸法を大きくすることがで
きて、本体の壁厚を薄形化することができ、加熱調理室
の容積効率を向上できて、本体の小形化の要請を満たす
ことができ、低コスト化と軽量化を達成できる。
更に、本体の前面と扉の前面とがほぼ同一面になるよう
に構成すれば、高周波加熱装置の前面をフラット化(平
面化)できて、コンパクト化と共に外観デザインの斬新
性を向上することができる。
また、高周波の周波数を5800 M Hzに設定すれ
ば、高周波の波長が従来(2450MHz)の半分以下
となるため、高周波漏洩防止距離(扉の合せ面の幅寸法
)も、従来に比し半分程度で済み、本体の壁厚を一層薄
形化することができて、−層のコンパクト化が可能であ
る。しかも、倍周波数化に伴い、加熱調理室内における
定在波(電界)の分布状態がきめ細かくなるため、特に
薄物の食品(例えばピザ)を加熱する場合には、均一加
熱により調理の仕上がり具合を良くできると共に、加熱
時間も短縮することができて、調理のスピードアップと
消費電力の低減化を図り得る。また、冷凍食品の解凍に
おいても、被解凍物を均一加熱できて、被解凍物全体を
まんべんなく上手に解凍できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第6図は本発明の一実施例を示したもので、
第1図は上面板を破断して示す本体の平面図、第2図は
本体と扉との合せ面部分の横断面図、第3図は全体の正
面図、第4図は同縦断正面図、第5図は定在波の分布状
態を説明するための加熱調理室の縦断正面図、第6図は
この実施例の高周波(5800M Hz )の波長を従
来の高周波(2450M Hz )の波長と比較して示
す図である。そして、第7図及び第8図は従来例を示し
たもので、第7図は第1図相当図、第8図は第2図相当
図である。 図面中、11は本体、12は加熱調理室、13は機械室
、15はマグネトロン(高周波発生手段)18は扉、 は合せ面、 2はチ ョークキャ ビティである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、加熱調理室を有する本体と、前記加熱調理室内に収
    容された食品に高周波を照射して加熱する高周波発生手
    段と、前記本体に前記加熱調理室の前面開口を開閉する
    ように設けられた扉とを備えた高周波加熱装置において
    、前記本体と前記扉との合せ面が傾斜状になるように構
    成されていることを特徴とする高周波加熱装置。 2、本体の前面と扉の前面とがほぼ同一面になるように
    構成されていることを特徴とする請求項1記載の高周波
    加熱装置。 3、高周波発生手段は、ほぼ5800MHzの高周波を
    発生することを特徴とする請求項1又は2記載の高周波
    加熱装置。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004098241A1 (ja) * 2003-04-25 2004-11-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 高周波加熱装置及びその制御方法
JP2012021738A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Panasonic Corp 高周波加熱装置

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