JPH03275637A - ビスシクロヘキサノールの製造方法 - Google Patents
ビスシクロヘキサノールの製造方法Info
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- JPH03275637A JPH03275637A JP2074500A JP7450090A JPH03275637A JP H03275637 A JPH03275637 A JP H03275637A JP 2074500 A JP2074500 A JP 2074500A JP 7450090 A JP7450090 A JP 7450090A JP H03275637 A JPH03275637 A JP H03275637A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、耐熱性及び耐水性に優りたアルキッド樹脂、
エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂原料、可塑剤、滑剤、帯
電防止剤等の各種高分子材料の添加剤、医薬、液晶、界
面活性剤、工業薬品等の原料や中間体として有用な、ビ
スシクロヘキサノールの製造法に関する6 [従来技術] ビフェノールの水素化反応は溶媒下、又は無溶媒下に行
うことかでさる。しかし原料の融点が、ビフェニル−2
,2゛−ジオールは109℃、ビフェニル−3,3°−
ジオールは126℃、ビフェニル−4,4°−ジオール
は160℃と高く、無S媒下に水素化反応を行う場合、
原料が固化しないようにするために、原料移送パイプ及
び原料仕込みポンプの加熱が必要となる。従って移送パ
イプ、仕込みポンプ等の耐熱性が問題となる。
エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂原料、可塑剤、滑剤、帯
電防止剤等の各種高分子材料の添加剤、医薬、液晶、界
面活性剤、工業薬品等の原料や中間体として有用な、ビ
スシクロヘキサノールの製造法に関する6 [従来技術] ビフェノールの水素化反応は溶媒下、又は無溶媒下に行
うことかでさる。しかし原料の融点が、ビフェニル−2
,2゛−ジオールは109℃、ビフェニル−3,3°−
ジオールは126℃、ビフェニル−4,4°−ジオール
は160℃と高く、無S媒下に水素化反応を行う場合、
原料が固化しないようにするために、原料移送パイプ及
び原料仕込みポンプの加熱が必要となる。従って移送パ
イプ、仕込みポンプ等の耐熱性が問題となる。
また水素化により生成するビスシクロヘキサノールの融
点も高く、ビシクロへキシル−4,4ジオールの融点は
トランス−トランス体で216℃、シス−シス体で19
7℃、シス−トランス体で179℃〜181℃、ビシク
ロへキシル−1゜1°−ジオールの融点は130℃であ
る。従って無溶媒下に水素化反応を行う場合は、生成物
が固化しないように生成物の抜き出しポンプと生成物移
送パイプ等の加熱が必要となる。さらに触媒濾過時に生
成物がr過器等に付着しやすい等の問題があり、溶媒系
での水素化が多用されている。
点も高く、ビシクロへキシル−4,4ジオールの融点は
トランス−トランス体で216℃、シス−シス体で19
7℃、シス−トランス体で179℃〜181℃、ビシク
ロへキシル−1゜1°−ジオールの融点は130℃であ
る。従って無溶媒下に水素化反応を行う場合は、生成物
が固化しないように生成物の抜き出しポンプと生成物移
送パイプ等の加熱が必要となる。さらに触媒濾過時に生
成物がr過器等に付着しやすい等の問題があり、溶媒系
での水素化が多用されている。
ビフェノールを水素化して、ビスシクロヘキサノールを
製造する方法は、従来以下(I)〜(2)の方法等が知
られている。
製造する方法は、従来以下(I)〜(2)の方法等が知
られている。
(I)原料のビフェノール40gに、水2容量%までを
含む酢酸エチル等500m1を加え、パラジウム触媒存
在下、100気圧の水素ガス下、140℃、12時間水
素化して、4,4°−ジヒドロキシジシクロヘキサンを
99,5%の収率で得る方法(特開平1−34935号
)。
含む酢酸エチル等500m1を加え、パラジウム触媒存
在下、100気圧の水素ガス下、140℃、12時間水
素化して、4,4°−ジヒドロキシジシクロヘキサンを
99,5%の収率で得る方法(特開平1−34935号
)。
(2)ビフェニル−4,4°−ジオール100gをイン
プロパツール1リツトルに溶解し、無水炭酸ナトウリム
5gとカーボン担持パラジウム触媒5gを加えて、水素
圧5 k g / c m ”で25〜30時間水素化
して、ビシクロへキシル−4,4−ジオールを得る方法
(特開平1−156935)。
プロパツール1リツトルに溶解し、無水炭酸ナトウリム
5gとカーボン担持パラジウム触媒5gを加えて、水素
圧5 k g / c m ”で25〜30時間水素化
して、ビシクロへキシル−4,4−ジオールを得る方法
(特開平1−156935)。
特開平1−34935号においては、溶媒として2容量
%まで水を含む酢酸エチル、メチル−t−ブチルエーテ
ル、エタノール及びシクロヘキサンが用いられているが
、2容量%まで水を含む溶媒を用いた場合、反応溶媒中
の水分量を管理することは、工程上、煩雑となり生産性
に欠ける。さらに、原料に対し溶媒量が多く、酢酸エチ
ル、エタノールは低沸点であることから溶tIX回収時
の損失、蒸気圧が高いことによる安全上の問題がある。
%まで水を含む酢酸エチル、メチル−t−ブチルエーテ
ル、エタノール及びシクロヘキサンが用いられているが
、2容量%まで水を含む溶媒を用いた場合、反応溶媒中
の水分量を管理することは、工程上、煩雑となり生産性
に欠ける。さらに、原料に対し溶媒量が多く、酢酸エチ
ル、エタノールは低沸点であることから溶tIX回収時
の損失、蒸気圧が高いことによる安全上の問題がある。
また生産性を向上させるためには、溶解性のよい溶媒を
用いるか、多量の触媒又は反応温度を高くして短時間で
水素化反応を行う等が必要となる。
用いるか、多量の触媒又は反応温度を高くして短時間で
水素化反応を行う等が必要となる。
しかし、多量の触媒を使用することは経済的に不利で、
かつ反応終了後の操作にも悪影響を及ぼすこととなる。
かつ反応終了後の操作にも悪影響を及ぼすこととなる。
また反応温度を限度以上に上げると、二級のヒドロキシ
ル基の脱離等の副反応が生じ、好ましいものではない、
したがって溶解性のよい溶媒を選択することが不可欠と
なる。
ル基の脱離等の副反応が生じ、好ましいものではない、
したがって溶解性のよい溶媒を選択することが不可欠と
なる。
特開平1−156935号においては、原料のビフェニ
ル−4,4°−ジオール100gに、インプロパツール
1リツトルを加え、反応を行っているが、原料に対し溶
媒量が多く、イソプロパツールは低沸点であることから
溶媒回収時の損失、蒸気圧が高いことによる安全上の問
題がある。
ル−4,4°−ジオール100gに、インプロパツール
1リツトルを加え、反応を行っているが、原料に対し溶
媒量が多く、イソプロパツールは低沸点であることから
溶媒回収時の損失、蒸気圧が高いことによる安全上の問
題がある。
一方、ビスフェノールA(4,4’ −ジヒドロキシジ
フェニル−2,2−プロパン)をデカリンWI媒中(A
nn、 472.68 (I929))、又はイン7
0パノール若しくはn−ブタノール溶媒中〈特公昭45
−1423)、メタノール若しくはエタノール等の溶媒
中(特公昭45−35300〉、水素化して水素化ビス
フェノールAを製造する方法が開示されているが、ビス
フェノールAは、インプロピリデン基を有するため、ビ
フェノールやビスシクロヘキサノールと比較して溶媒に
対する溶解性ががなり異なり、ビスフェノールAの水素
化に用いられた溶媒をビフェノールの水素化にそのまま
適用することは困難である。
フェニル−2,2−プロパン)をデカリンWI媒中(A
nn、 472.68 (I929))、又はイン7
0パノール若しくはn−ブタノール溶媒中〈特公昭45
−1423)、メタノール若しくはエタノール等の溶媒
中(特公昭45−35300〉、水素化して水素化ビス
フェノールAを製造する方法が開示されているが、ビス
フェノールAは、インプロピリデン基を有するため、ビ
フェノールやビスシクロヘキサノールと比較して溶媒に
対する溶解性ががなり異なり、ビスフェノールAの水素
化に用いられた溶媒をビフェノールの水素化にそのまま
適用することは困難である。
ビフェノールの水素化において、原料のビフェノールと
生成物のビスシクロヘキサノールは溶媒に対する溶解度
、親和性が異なり、溶媒の蒸気圧が低く共によく解ける
溶媒の選択はこれまでは非常に困難であった。
生成物のビスシクロヘキサノールは溶媒に対する溶解度
、親和性が異なり、溶媒の蒸気圧が低く共によく解ける
溶媒の選択はこれまでは非常に困難であった。
[発明が解決しようとする課題]
ビフェノールを水素化反応してビスシクロヘキサノール
を製造するに際し、原料のビフェノールと、生成物のビ
スシクロヘキサノールの両方に対する良溶媒を選択する
ことにより、反応速度を向上せしめ、ビスシクロヘキサ
ノールの生産性の向上を図ることを目的とする。
を製造するに際し、原料のビフェノールと、生成物のビ
スシクロヘキサノールの両方に対する良溶媒を選択する
ことにより、反応速度を向上せしめ、ビスシクロヘキサ
ノールの生産性の向上を図ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは以上の問題点を解消すべく、一般式1)式
に示すビフェノールと一般式(II>式に示すビスシク
ロヘキサノールの溶媒に対する溶解性を鋭意検討を行っ
た結果、溶解性、反応速度等が溶媒の種類によって大き
く影響されることを見い出し、一般式(III)式に示
されるグリコールモノアルキルエーテルを用いることに
よって、本発明を完成せしめた。
に示すビフェノールと一般式(II>式に示すビスシク
ロヘキサノールの溶媒に対する溶解性を鋭意検討を行っ
た結果、溶解性、反応速度等が溶媒の種類によって大き
く影響されることを見い出し、一般式(III)式に示
されるグリコールモノアルキルエーテルを用いることに
よって、本発明を完成せしめた。
RO−(RO)n
■]
(III)
(Rは炭素数1〜5のアAキル基を示し、Roは炭素数
2〜4のアルキレン基を示す。
2〜4のアルキレン基を示す。
RとRoの炭素数の合計は7以下である。〉さらに、該
グリコールモノアルキルエーテルは、蒸気圧が小さいた
め、反応装置に高度な耐圧性を必要とすることもなく、
溶媒留去時の損失が少なく、溶媒の繰り返し再使用が可
能であり、目的物との沸点差が大きく、蒸留等による分
離精製が容易であるという利点も有する。
グリコールモノアルキルエーテルは、蒸気圧が小さいた
め、反応装置に高度な耐圧性を必要とすることもなく、
溶媒留去時の損失が少なく、溶媒の繰り返し再使用が可
能であり、目的物との沸点差が大きく、蒸留等による分
離精製が容易であるという利点も有する。
本発明の溶媒を用いると、常温から80℃程度の原料の
通常の仕込み温度で、原料50gに対し溶t1100
m lから300m1程度で十分であり、かつ170℃
程度の水素化温度では蒸気圧が小さいため、同一の耐圧
容器では水素ガスの分圧を大きくすることができ、水素
化反応の時間を短縮することが可能となる。
通常の仕込み温度で、原料50gに対し溶t1100
m lから300m1程度で十分であり、かつ170℃
程度の水素化温度では蒸気圧が小さいため、同一の耐圧
容器では水素ガスの分圧を大きくすることができ、水素
化反応の時間を短縮することが可能となる。
反応溶媒として用いられるグリコールモノアルキルエー
テルとは、メタノール、エタノール、プロパツール、イ
ンプロパツール、ブタノール、−イソブタノール、アミ
ルアルコール、イソアミルアルコールにエチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等のアルキ
レンオキシドを付加させたもので、かつ炭素数の合計が
7以下の化合物である。
テルとは、メタノール、エタノール、プロパツール、イ
ンプロパツール、ブタノール、−イソブタノール、アミ
ルアルコール、イソアミルアルコールにエチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等のアルキ
レンオキシドを付加させたもので、かつ炭素数の合計が
7以下の化合物である。
具体的には、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプ
ロビルエーテル、エチレングリコールモノイソプロビル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールモノイソブチルエーテル。
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプ
ロビルエーテル、エチレングリコールモノイソプロビル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールモノイソブチルエーテル。
エチレングリコールモノアミルエーテル、エチレングリ
コールモノイソアミルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノプロビルエーテル
、ジエチレングリコールモノインプロビルエーテル、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノインブチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノメチルエーテル、ブチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエチル
エーテル、ブチレングリコールモノプロビルエーテル、
ブチレングリコールモノイソプロビルエーテル、等が例
示される。
コールモノイソアミルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノプロビルエーテル
、ジエチレングリコールモノインプロビルエーテル、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノインブチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノメチルエーテル、ブチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエチル
エーテル、ブチレングリコールモノプロビルエーテル、
ブチレングリコールモノイソプロビルエーテル、等が例
示される。
上記の例示の中でも特に、沸点、原料の溶解性、生成物
の溶解性の点から、(IV)式に示すプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルが好ましい。
の溶解性の点から、(IV)式に示すプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルが好ましい。
CH30−CH2−CH−CH3
0H(IV)
炭素数が8以上のグリコールモノアルキルエーテルは、
沸点が高くなり、目的物と分離する上で好ましくない。
沸点が高くなり、目的物と分離する上で好ましくない。
溶媒の量は原料50gに対し、50m1〜500m1で
ある。さらに好ましくは100m1〜300m1である
。溶媒量が50m1以下であると、通常の仕込み温度で
ある常温から80℃程度の温度範囲では、原料及び生成
物を溶解せしめることができず、また逆に500m1以
上であると、原料の仕込み量が減少し、生産性が低下す
る結果となる。
ある。さらに好ましくは100m1〜300m1である
。溶媒量が50m1以下であると、通常の仕込み温度で
ある常温から80℃程度の温度範囲では、原料及び生成
物を溶解せしめることができず、また逆に500m1以
上であると、原料の仕込み量が減少し、生産性が低下す
る結果となる。
本発明に使用される水素化用の触媒は、従来公知の水素
化触媒が例示され、具体的には、ニッケル系触媒、コバ
ルト系触媒、貴金属触媒としてパラジウム触媒、ロジウ
ム触媒、ルテニウム触媒、白金触媒等が使用できる。触
媒の中では安定化二・yケル系触媒、パラジウム系触媒
が好ましいが、これらに限定されるものではない、触媒
を担持する担体は、通常用いられる担体のいずれも使用
でき、ケイソウ土やグラファイト、シリカ、活性炭、ア
ルミナ、炭酸カルシウム等が使用できる。触媒の担持量
は、ケイソウ土やアルミナ、カーボン等の担体に対して
0.1〜5重量%担持したものが適当である。
化触媒が例示され、具体的には、ニッケル系触媒、コバ
ルト系触媒、貴金属触媒としてパラジウム触媒、ロジウ
ム触媒、ルテニウム触媒、白金触媒等が使用できる。触
媒の中では安定化二・yケル系触媒、パラジウム系触媒
が好ましいが、これらに限定されるものではない、触媒
を担持する担体は、通常用いられる担体のいずれも使用
でき、ケイソウ土やグラファイト、シリカ、活性炭、ア
ルミナ、炭酸カルシウム等が使用できる。触媒の担持量
は、ケイソウ土やアルミナ、カーボン等の担体に対して
0.1〜5重量%担持したものが適当である。
触媒量は原料仕込み量に対し、0.1重量%〜30重量
%で、好ましくは、0.5重量%〜15重量%である。
%で、好ましくは、0.5重量%〜15重量%である。
触媒量は水素化に用いる触媒の種類により異なり、安定
化ニッケル系触媒では、通常原料に対し1〜3重量重量
%用いる。貴金属触媒の場合は、通常0.3〜2重量重
量%用いられる。水素化温度はニッケル系触媒の場合、
通常100℃〜250℃であり、これより反応温度が低
いと、水素化反応が遅く、これより高いと生成したビス
シクロヘキサノールの二級のヒドロキシル基の脱離反応
が起こり、オレフィンが生成するなど、好ましいことで
はない、但し、パラジウム系触媒等の貴金属触媒を用い
た場合は、さらに低温でも行うことができる。
化ニッケル系触媒では、通常原料に対し1〜3重量重量
%用いる。貴金属触媒の場合は、通常0.3〜2重量重
量%用いられる。水素化温度はニッケル系触媒の場合、
通常100℃〜250℃であり、これより反応温度が低
いと、水素化反応が遅く、これより高いと生成したビス
シクロヘキサノールの二級のヒドロキシル基の脱離反応
が起こり、オレフィンが生成するなど、好ましいことで
はない、但し、パラジウム系触媒等の貴金属触媒を用い
た場合は、さらに低温でも行うことができる。
反応水素圧はゲージ圧(以下、同様)1kg/cm”以
上であればいかなる圧力でもよいが、一般には1〜10
0kg/cm2が好ましく、安定化ニッケル触媒では3
0〜100 k g / c m 2の範囲が適当であ
る。貴金属触媒を用いた場合は、10kg/c m ’
以下でも水素化を行うことができる。
上であればいかなる圧力でもよいが、一般には1〜10
0kg/cm2が好ましく、安定化ニッケル触媒では3
0〜100 k g / c m 2の範囲が適当であ
る。貴金属触媒を用いた場合は、10kg/c m ’
以下でも水素化を行うことができる。
本発明においては、反応時間は特に規定されないが、水
素化に要する時間は20分〜15時間である。より好ま
しくは、30分〜4時間である。
素化に要する時間は20分〜15時間である。より好ま
しくは、30分〜4時間である。
20分より短いと水素化反応が不十分であり、また逆に
15時間よりも長いと、過反応のため二級のヒドロキシ
ル基の脱離を生じ、また生産性の点で好ましいことでは
ない。
15時間よりも長いと、過反応のため二級のヒドロキシ
ル基の脱離を生じ、また生産性の点で好ましいことでは
ない。
本発明によれば、従来法より大幅に生産性の向上を図る
ことができ、反応混合物をr過して、溶媒を蒸発せしめ
るだけで、極めて純度の高い製品が得られるなどの利点
を有し、産業上有用な方法である。さらに、繰り返し使
用による触媒の劣化もない。
ことができ、反応混合物をr過して、溶媒を蒸発せしめ
るだけで、極めて純度の高い製品が得られるなどの利点
を有し、産業上有用な方法である。さらに、繰り返し使
用による触媒の劣化もない。
反応方法はバッチ反応、連続反応方式のどちらでも可能
であり、生産量等により適宜選択される。
であり、生産量等により適宜選択される。
[実施例]
以下、実施例をあげて本発明の詳細な説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。
明はこれに限定されるものではない。
実施例1゜
電磁式撹拌装置を供えた内容積5リツトルのオートクレ
ーブに4.4゛−ジヒドロキシジフェニル(本州化学(
株〉製、以下同品を使用1500gと、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル(日本乳化剤(株)製i 2
000m lを加え、水素化触媒として5N−300+
安定化ニッケル触媒、堺化学(株〉製)を原料に対し2
重量%仕込み、水素ガスでオートクレーブ内部を置換し
て、30 k g / c m 2の圧力になるように
仕込んで昇温し、170℃に到達したら、水素圧を50
k g /’cm2に調整した。水素ガスの吸収があ
れば、随時水素ガスを追加し、反応圧力が常に50 k
g / cm2の圧力になるように調整し、水素ガス
の吸収が停止するまで120分間、水素化反応を行った
。
ーブに4.4゛−ジヒドロキシジフェニル(本州化学(
株〉製、以下同品を使用1500gと、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル(日本乳化剤(株)製i 2
000m lを加え、水素化触媒として5N−300+
安定化ニッケル触媒、堺化学(株〉製)を原料に対し2
重量%仕込み、水素ガスでオートクレーブ内部を置換し
て、30 k g / c m 2の圧力になるように
仕込んで昇温し、170℃に到達したら、水素圧を50
k g /’cm2に調整した。水素ガスの吸収があ
れば、随時水素ガスを追加し、反応圧力が常に50 k
g / cm2の圧力になるように調整し、水素ガス
の吸収が停止するまで120分間、水素化反応を行った
。
その後20分かけて60℃まで冷却し、内容物をオート
クレーブより取り出して、r通接、溶媒を減圧下で蒸発
せしめ、目的物である4、4゜ジヒドロキシジシクロヘ
キサンを得た。純度の分析はガスクロマトグラフィで行
った。得られた結果を表1に示す。
クレーブより取り出して、r通接、溶媒を減圧下で蒸発
せしめ、目的物である4、4゜ジヒドロキシジシクロヘ
キサンを得た。純度の分析はガスクロマトグラフィで行
った。得られた結果を表1に示す。
実施例2
溶媒としてジエチレングリコール七ツメチルエーテル(
日本乳化剤(株)製)を用いた以外は実施例1と同様に
行った。得られた結果を表1に示す。
日本乳化剤(株)製)を用いた以外は実施例1と同様に
行った。得られた結果を表1に示す。
実施例3゜
溶媒としてエチレングリコールモノブチルエーテル(日
本乳化剤〈株〉製)を用いた以外は実施例1と同様に行
った。得られた結果を表1に示す。
本乳化剤〈株〉製)を用いた以外は実施例1と同様に行
った。得られた結果を表1に示す。
実施例4゜
原料に2,2゛−ジヒドロキシジフェニル(和光純薬(
株)製試薬1級品)を用いた以外は、実施例1と同様に
行った。得られた結果の結果を表1に示す。
株)製試薬1級品)を用いた以外は、実施例1と同様に
行った。得られた結果の結果を表1に示す。
実施例5゜
触媒としてカーボンに5重量%担持されたパラジウム触
媒(エヌ イーテムキャット(株)製)を原料に対し0
.5重量%用い1反応水素圧を10 k g / c
m ’に代えた以外は、実施IMIと同様に行った。得
られた結果を表1に示す。
媒(エヌ イーテムキャット(株)製)を原料に対し0
.5重量%用い1反応水素圧を10 k g / c
m ’に代えた以外は、実施IMIと同様に行った。得
られた結果を表1に示す。
実施例6゜
原料の4.4゛−ジヒドロキシジフェニル500gに、
プロピレングリコールモノメチルエーテル10100O
を加えた以外は、実施例1と同様に行った。得られた結
果を表1に示す。
プロピレングリコールモノメチルエーテル10100O
を加えた以外は、実施例1と同様に行った。得られた結
果を表1に示す。
実施例7゜
触媒の5N−300の使用量を原料の4.4−ジヒドロ
キシジフェニルに対し、1重量%用いた以外は実施例1
と同様に反応を行った。得られた結果を表1に示す。
キシジフェニルに対し、1重量%用いた以外は実施例1
と同様に反応を行った。得られた結果を表1に示す。
比較例1
原料として4.4゛−ジヒドロキシジフェニル500g
、!媒として酢酸エチル(和光純薬(株)製試薬1級品
)2500ml用いた以外は実yMPs1と同様に行っ
た。得られた結果を表1に示す。
、!媒として酢酸エチル(和光純薬(株)製試薬1級品
)2500ml用いた以外は実yMPs1と同様に行っ
た。得られた結果を表1に示す。
比較例2
原料として4,4゛−ジヒドロキシジフェニル500g
、溶媒としてイソプロパツール(和光純薬(株)製試薬
1級品12500ml用いた以外は実施例1と同様に行
った。得られた結果を表1に示す。
、溶媒としてイソプロパツール(和光純薬(株)製試薬
1級品12500ml用いた以外は実施例1と同様に行
った。得られた結果を表1に示す。
250g、溶媒として酢酸エチル(和光純薬〈株)製試
薬1級品)2500ml用いた以外は実施例1と同様に
行った。得られた結果を表1に示す。
薬1級品)2500ml用いた以外は実施例1と同様に
行った。得られた結果を表1に示す。
[発明の効果コ
本発明によれば、従来法より大幅に生産性の向上を図る
ことができ、反応混合物をl遇して、溶媒を蒸発せしめ
るだけで、極めて純度の高い製品が得られるなどの利点
を有する。
ことができ、反応混合物をl遇して、溶媒を蒸発せしめ
るだけで、極めて純度の高い製品が得られるなどの利点
を有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I )式で示すビフェノールを水素化して一般
式(II)式で示すビスシクロヘキサノールを製造するに
際し、一般式(III)式に示すグリコールモノエーテル
の1種又は2種以上の溶媒を使用することを特徴とする
ビスシクロヘキサノールの製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) RO−(R’O)n−H(III) (Rは炭素数1〜5のアルキル基を示し、R’は炭素数
2〜4のアルキレン基を示す。 RとR’の炭素数の合計は7以下である。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2074500A JP2520759B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | ビスシクロヘキサノ―ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2074500A JP2520759B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | ビスシクロヘキサノ―ルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03275637A true JPH03275637A (ja) | 1991-12-06 |
JP2520759B2 JP2520759B2 (ja) | 1996-07-31 |
Family
ID=13549094
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2074500A Expired - Fee Related JP2520759B2 (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | ビスシクロヘキサノ―ルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2520759B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013153957A1 (ja) | 2012-04-09 | 2013-10-17 | 株式会社ダイセル | 水素化ビフェノールの製造方法 |
WO2015012262A1 (ja) * | 2013-07-26 | 2015-01-29 | 株式会社ダイセル | 水素化フェノール類の製造方法 |
US9545617B2 (en) | 2014-12-09 | 2017-01-17 | Industrial Technology Research Institute | Catalyst and manufacturing method thereof and method for manufacturing hydrogenated bisphenol A or derivatives thereof using the same |
-
1990
- 1990-03-23 JP JP2074500A patent/JP2520759B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013153957A1 (ja) | 2012-04-09 | 2013-10-17 | 株式会社ダイセル | 水素化ビフェノールの製造方法 |
US9206099B2 (en) | 2012-04-09 | 2015-12-08 | Daicel Corporation | Method for producing hydrogenated biphenol |
WO2015012262A1 (ja) * | 2013-07-26 | 2015-01-29 | 株式会社ダイセル | 水素化フェノール類の製造方法 |
US9545617B2 (en) | 2014-12-09 | 2017-01-17 | Industrial Technology Research Institute | Catalyst and manufacturing method thereof and method for manufacturing hydrogenated bisphenol A or derivatives thereof using the same |
US10005068B2 (en) | 2014-12-09 | 2018-06-26 | Industrial Technology Research Institute | Catalyst and manufacturing method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2520759B2 (ja) | 1996-07-31 |
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