JPH03275637A - ビスシクロヘキサノールの製造方法 - Google Patents

ビスシクロヘキサノールの製造方法

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JPH03275637A
JPH03275637A JP2074500A JP7450090A JPH03275637A JP H03275637 A JPH03275637 A JP H03275637A JP 2074500 A JP2074500 A JP 2074500A JP 7450090 A JP7450090 A JP 7450090A JP H03275637 A JPH03275637 A JP H03275637A
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、耐熱性及び耐水性に優りたアルキッド樹脂、
エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂原料、可塑剤、滑剤、帯
電防止剤等の各種高分子材料の添加剤、医薬、液晶、界
面活性剤、工業薬品等の原料や中間体として有用な、ビ
スシクロヘキサノールの製造法に関する6 [従来技術] ビフェノールの水素化反応は溶媒下、又は無溶媒下に行
うことかでさる。しかし原料の融点が、ビフェニル−2
,2゛−ジオールは109℃、ビフェニル−3,3°−
ジオールは126℃、ビフェニル−4,4°−ジオール
は160℃と高く、無S媒下に水素化反応を行う場合、
原料が固化しないようにするために、原料移送パイプ及
び原料仕込みポンプの加熱が必要となる。従って移送パ
イプ、仕込みポンプ等の耐熱性が問題となる。
また水素化により生成するビスシクロヘキサノールの融
点も高く、ビシクロへキシル−4,4ジオールの融点は
トランス−トランス体で216℃、シス−シス体で19
7℃、シス−トランス体で179℃〜181℃、ビシク
ロへキシル−1゜1°−ジオールの融点は130℃であ
る。従って無溶媒下に水素化反応を行う場合は、生成物
が固化しないように生成物の抜き出しポンプと生成物移
送パイプ等の加熱が必要となる。さらに触媒濾過時に生
成物がr過器等に付着しやすい等の問題があり、溶媒系
での水素化が多用されている。
ビフェノールを水素化して、ビスシクロヘキサノールを
製造する方法は、従来以下(I)〜(2)の方法等が知
られている。
(I)原料のビフェノール40gに、水2容量%までを
含む酢酸エチル等500m1を加え、パラジウム触媒存
在下、100気圧の水素ガス下、140℃、12時間水
素化して、4,4°−ジヒドロキシジシクロヘキサンを
99,5%の収率で得る方法(特開平1−34935号
)。
(2)ビフェニル−4,4°−ジオール100gをイン
プロパツール1リツトルに溶解し、無水炭酸ナトウリム
5gとカーボン担持パラジウム触媒5gを加えて、水素
圧5 k g / c m ”で25〜30時間水素化
して、ビシクロへキシル−4,4−ジオールを得る方法
(特開平1−156935)。
特開平1−34935号においては、溶媒として2容量
%まで水を含む酢酸エチル、メチル−t−ブチルエーテ
ル、エタノール及びシクロヘキサンが用いられているが
、2容量%まで水を含む溶媒を用いた場合、反応溶媒中
の水分量を管理することは、工程上、煩雑となり生産性
に欠ける。さらに、原料に対し溶媒量が多く、酢酸エチ
ル、エタノールは低沸点であることから溶tIX回収時
の損失、蒸気圧が高いことによる安全上の問題がある。
また生産性を向上させるためには、溶解性のよい溶媒を
用いるか、多量の触媒又は反応温度を高くして短時間で
水素化反応を行う等が必要となる。
しかし、多量の触媒を使用することは経済的に不利で、
かつ反応終了後の操作にも悪影響を及ぼすこととなる。
また反応温度を限度以上に上げると、二級のヒドロキシ
ル基の脱離等の副反応が生じ、好ましいものではない、
したがって溶解性のよい溶媒を選択することが不可欠と
なる。
特開平1−156935号においては、原料のビフェニ
ル−4,4°−ジオール100gに、インプロパツール
1リツトルを加え、反応を行っているが、原料に対し溶
媒量が多く、イソプロパツールは低沸点であることから
溶媒回収時の損失、蒸気圧が高いことによる安全上の問
題がある。
一方、ビスフェノールA(4,4’ −ジヒドロキシジ
フェニル−2,2−プロパン)をデカリンWI媒中(A
nn、  472.68 (I929))、又はイン7
0パノール若しくはn−ブタノール溶媒中〈特公昭45
−1423)、メタノール若しくはエタノール等の溶媒
中(特公昭45−35300〉、水素化して水素化ビス
フェノールAを製造する方法が開示されているが、ビス
フェノールAは、インプロピリデン基を有するため、ビ
フェノールやビスシクロヘキサノールと比較して溶媒に
対する溶解性ががなり異なり、ビスフェノールAの水素
化に用いられた溶媒をビフェノールの水素化にそのまま
適用することは困難である。
ビフェノールの水素化において、原料のビフェノールと
生成物のビスシクロヘキサノールは溶媒に対する溶解度
、親和性が異なり、溶媒の蒸気圧が低く共によく解ける
溶媒の選択はこれまでは非常に困難であった。
[発明が解決しようとする課題] ビフェノールを水素化反応してビスシクロヘキサノール
を製造するに際し、原料のビフェノールと、生成物のビ
スシクロヘキサノールの両方に対する良溶媒を選択する
ことにより、反応速度を向上せしめ、ビスシクロヘキサ
ノールの生産性の向上を図ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは以上の問題点を解消すべく、一般式1)式
に示すビフェノールと一般式(II>式に示すビスシク
ロヘキサノールの溶媒に対する溶解性を鋭意検討を行っ
た結果、溶解性、反応速度等が溶媒の種類によって大き
く影響されることを見い出し、一般式(III)式に示
されるグリコールモノアルキルエーテルを用いることに
よって、本発明を完成せしめた。
RO−(RO)n ■] (III) (Rは炭素数1〜5のアAキル基を示し、Roは炭素数
2〜4のアルキレン基を示す。
RとRoの炭素数の合計は7以下である。〉さらに、該
グリコールモノアルキルエーテルは、蒸気圧が小さいた
め、反応装置に高度な耐圧性を必要とすることもなく、
溶媒留去時の損失が少なく、溶媒の繰り返し再使用が可
能であり、目的物との沸点差が大きく、蒸留等による分
離精製が容易であるという利点も有する。
本発明の溶媒を用いると、常温から80℃程度の原料の
通常の仕込み温度で、原料50gに対し溶t1100 
m lから300m1程度で十分であり、かつ170℃
程度の水素化温度では蒸気圧が小さいため、同一の耐圧
容器では水素ガスの分圧を大きくすることができ、水素
化反応の時間を短縮することが可能となる。
反応溶媒として用いられるグリコールモノアルキルエー
テルとは、メタノール、エタノール、プロパツール、イ
ンプロパツール、ブタノール、−イソブタノール、アミ
ルアルコール、イソアミルアルコールにエチレンオキシ
ド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等のアルキ
レンオキシドを付加させたもので、かつ炭素数の合計が
7以下の化合物である。
具体的には、 エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプ
ロビルエーテル、エチレングリコールモノイソプロビル
エーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールモノイソブチルエーテル。
エチレングリコールモノアミルエーテル、エチレングリ
コールモノイソアミルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノプロビルエーテル
、ジエチレングリコールモノインプロビルエーテル、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノインブチルエーテル、ジプロピ
レングリコールモノメチルエーテル、ブチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエチル
エーテル、ブチレングリコールモノプロビルエーテル、
ブチレングリコールモノイソプロビルエーテル、等が例
示される。
上記の例示の中でも特に、沸点、原料の溶解性、生成物
の溶解性の点から、(IV)式に示すプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルが好ましい。
CH30−CH2−CH−CH3 0H(IV) 炭素数が8以上のグリコールモノアルキルエーテルは、
沸点が高くなり、目的物と分離する上で好ましくない。
溶媒の量は原料50gに対し、50m1〜500m1で
ある。さらに好ましくは100m1〜300m1である
。溶媒量が50m1以下であると、通常の仕込み温度で
ある常温から80℃程度の温度範囲では、原料及び生成
物を溶解せしめることができず、また逆に500m1以
上であると、原料の仕込み量が減少し、生産性が低下す
る結果となる。
本発明に使用される水素化用の触媒は、従来公知の水素
化触媒が例示され、具体的には、ニッケル系触媒、コバ
ルト系触媒、貴金属触媒としてパラジウム触媒、ロジウ
ム触媒、ルテニウム触媒、白金触媒等が使用できる。触
媒の中では安定化二・yケル系触媒、パラジウム系触媒
が好ましいが、これらに限定されるものではない、触媒
を担持する担体は、通常用いられる担体のいずれも使用
でき、ケイソウ土やグラファイト、シリカ、活性炭、ア
ルミナ、炭酸カルシウム等が使用できる。触媒の担持量
は、ケイソウ土やアルミナ、カーボン等の担体に対して
0.1〜5重量%担持したものが適当である。
触媒量は原料仕込み量に対し、0.1重量%〜30重量
%で、好ましくは、0.5重量%〜15重量%である。
触媒量は水素化に用いる触媒の種類により異なり、安定
化ニッケル系触媒では、通常原料に対し1〜3重量重量
%用いる。貴金属触媒の場合は、通常0.3〜2重量重
量%用いられる。水素化温度はニッケル系触媒の場合、
通常100℃〜250℃であり、これより反応温度が低
いと、水素化反応が遅く、これより高いと生成したビス
シクロヘキサノールの二級のヒドロキシル基の脱離反応
が起こり、オレフィンが生成するなど、好ましいことで
はない、但し、パラジウム系触媒等の貴金属触媒を用い
た場合は、さらに低温でも行うことができる。
反応水素圧はゲージ圧(以下、同様)1kg/cm”以
上であればいかなる圧力でもよいが、一般には1〜10
0kg/cm2が好ましく、安定化ニッケル触媒では3
0〜100 k g / c m 2の範囲が適当であ
る。貴金属触媒を用いた場合は、10kg/c m ’
以下でも水素化を行うことができる。
本発明においては、反応時間は特に規定されないが、水
素化に要する時間は20分〜15時間である。より好ま
しくは、30分〜4時間である。
20分より短いと水素化反応が不十分であり、また逆に
15時間よりも長いと、過反応のため二級のヒドロキシ
ル基の脱離を生じ、また生産性の点で好ましいことでは
ない。
本発明によれば、従来法より大幅に生産性の向上を図る
ことができ、反応混合物をr過して、溶媒を蒸発せしめ
るだけで、極めて純度の高い製品が得られるなどの利点
を有し、産業上有用な方法である。さらに、繰り返し使
用による触媒の劣化もない。
反応方法はバッチ反応、連続反応方式のどちらでも可能
であり、生産量等により適宜選択される。
[実施例] 以下、実施例をあげて本発明の詳細な説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。
実施例1゜ 電磁式撹拌装置を供えた内容積5リツトルのオートクレ
ーブに4.4゛−ジヒドロキシジフェニル(本州化学(
株〉製、以下同品を使用1500gと、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル(日本乳化剤(株)製i 2
000m lを加え、水素化触媒として5N−300+
安定化ニッケル触媒、堺化学(株〉製)を原料に対し2
重量%仕込み、水素ガスでオートクレーブ内部を置換し
て、30 k g / c m 2の圧力になるように
仕込んで昇温し、170℃に到達したら、水素圧を50
 k g /’cm2に調整した。水素ガスの吸収があ
れば、随時水素ガスを追加し、反応圧力が常に50 k
 g / cm2の圧力になるように調整し、水素ガス
の吸収が停止するまで120分間、水素化反応を行った
その後20分かけて60℃まで冷却し、内容物をオート
クレーブより取り出して、r通接、溶媒を減圧下で蒸発
せしめ、目的物である4、4゜ジヒドロキシジシクロヘ
キサンを得た。純度の分析はガスクロマトグラフィで行
った。得られた結果を表1に示す。
実施例2 溶媒としてジエチレングリコール七ツメチルエーテル(
日本乳化剤(株)製)を用いた以外は実施例1と同様に
行った。得られた結果を表1に示す。
実施例3゜ 溶媒としてエチレングリコールモノブチルエーテル(日
本乳化剤〈株〉製)を用いた以外は実施例1と同様に行
った。得られた結果を表1に示す。
実施例4゜ 原料に2,2゛−ジヒドロキシジフェニル(和光純薬(
株)製試薬1級品)を用いた以外は、実施例1と同様に
行った。得られた結果の結果を表1に示す。
実施例5゜ 触媒としてカーボンに5重量%担持されたパラジウム触
媒(エヌ イーテムキャット(株)製)を原料に対し0
.5重量%用い1反応水素圧を10 k g / c 
m ’に代えた以外は、実施IMIと同様に行った。得
られた結果を表1に示す。
実施例6゜ 原料の4.4゛−ジヒドロキシジフェニル500gに、
プロピレングリコールモノメチルエーテル10100O
を加えた以外は、実施例1と同様に行った。得られた結
果を表1に示す。
実施例7゜ 触媒の5N−300の使用量を原料の4.4−ジヒドロ
キシジフェニルに対し、1重量%用いた以外は実施例1
と同様に反応を行った。得られた結果を表1に示す。
比較例1 原料として4.4゛−ジヒドロキシジフェニル500g
、!媒として酢酸エチル(和光純薬(株)製試薬1級品
)2500ml用いた以外は実yMPs1と同様に行っ
た。得られた結果を表1に示す。
比較例2 原料として4,4゛−ジヒドロキシジフェニル500g
、溶媒としてイソプロパツール(和光純薬(株)製試薬
1級品12500ml用いた以外は実施例1と同様に行
った。得られた結果を表1に示す。
250g、溶媒として酢酸エチル(和光純薬〈株)製試
薬1級品)2500ml用いた以外は実施例1と同様に
行った。得られた結果を表1に示す。
[発明の効果コ 本発明によれば、従来法より大幅に生産性の向上を図る
ことができ、反応混合物をl遇して、溶媒を蒸発せしめ
るだけで、極めて純度の高い製品が得られるなどの利点
を有する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式( I )式で示すビフェノールを水素化して一般
    式(II)式で示すビスシクロヘキサノールを製造するに
    際し、一般式(III)式に示すグリコールモノエーテル
    の1種又は2種以上の溶媒を使用することを特徴とする
    ビスシクロヘキサノールの製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) RO−(R’O)n−H(III) (Rは炭素数1〜5のアルキル基を示し、R’は炭素数
    2〜4のアルキレン基を示す。 RとR’の炭素数の合計は7以下である。)
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