JPH03269348A - 自動液管理装置 - Google Patents
自動液管理装置Info
- Publication number
- JPH03269348A JPH03269348A JP7001690A JP7001690A JPH03269348A JP H03269348 A JPH03269348 A JP H03269348A JP 7001690 A JP7001690 A JP 7001690A JP 7001690 A JP7001690 A JP 7001690A JP H03269348 A JPH03269348 A JP H03269348A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- absorbance
- deterioration
- concentration
- solution
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 59
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 50
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 claims abstract description 35
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000004448 titration Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 37
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 30
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By The Use Of Chemical Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は、有効成分濃度の測定結果を利用して処理液
が劣化したか否かを判定する自動液管理装置に関するも
のである。
が劣化したか否かを判定する自動液管理装置に関するも
のである。
「従来の技術」
従来より、例えば半導体の製造工程等で用いられる洗浄
液(処理液)は自動、手動を問わず様々な方性で分析、
管理されていた。
液(処理液)は自動、手動を問わず様々な方性で分析、
管理されていた。
具体的には、半導体用シリコンウェハの製造工程で使用
されるレジスト剥離液(処理液)を分析するに際しては
、レジスト剥離液の単位時間あたりの吸光度変化を測定
することて、レジスト剥離液の劣化程度を測定していた
(例えば、特開昭63−189496に示される技術で
は、レジスト剥離液の流れを作り、この流れの中に該レ
ジスト剥離液により分解される有機剤を投入し、更に、
この有機剤を投入した位置から下流側の位置において吸
光度変化を測定することにより、該レジスト剥離液の劣
化状態を判定するようにしている)。
されるレジスト剥離液(処理液)を分析するに際しては
、レジスト剥離液の単位時間あたりの吸光度変化を測定
することて、レジスト剥離液の劣化程度を測定していた
(例えば、特開昭63−189496に示される技術で
は、レジスト剥離液の流れを作り、この流れの中に該レ
ジスト剥離液により分解される有機剤を投入し、更に、
この有機剤を投入した位置から下流側の位置において吸
光度変化を測定することにより、該レジスト剥離液の劣
化状態を判定するようにしている)。
なお、レジスト剥離液は、半導体用/リコンウエハ(被
処理物)の上面に積層されたレジスト(ノボラック樹脂
等)により着色され、また、前記レジスト剥離液の有効
成分である硫酸、過酸化水素により、前記レジストが分
解されることで脱色されるものである。これによって、
レジスト剥離液の吸光度及び吸光度変化を観察した場合
に、レジストが該剥離l夜中に存在しているか否か、ま
た、該レジストが硫酸、過酸化水素により有効に分解さ
れているか否かが判定されるものである。
処理物)の上面に積層されたレジスト(ノボラック樹脂
等)により着色され、また、前記レジスト剥離液の有効
成分である硫酸、過酸化水素により、前記レジストが分
解されることで脱色されるものである。これによって、
レジスト剥離液の吸光度及び吸光度変化を観察した場合
に、レジストが該剥離l夜中に存在しているか否か、ま
た、該レジストが硫酸、過酸化水素により有効に分解さ
れているか否かが判定されるものである。
「発明が解決しようとする課題」
ところで、上記のようなレジスト剥離液の劣化判定法で
は、レジスト剥離液の時間あたりの吸光度変化が小さい
場合に、該レジスト剥離液に有効成分が十分に存在し、
該レジスト剥離液か活性な状態であるとの検出がなされ
るものであるが、逆に、該レジスト剥離液内の有効成分
が不足している場合にも該レジスト剥離液の時間あたり
の吸光度変化は小さくなる。
は、レジスト剥離液の時間あたりの吸光度変化が小さい
場合に、該レジスト剥離液に有効成分が十分に存在し、
該レジスト剥離液か活性な状態であるとの検出がなされ
るものであるが、逆に、該レジスト剥離液内の有効成分
が不足している場合にも該レジスト剥離液の時間あたり
の吸光度変化は小さくなる。
つまり、有効成分か不足するとレジスト剥離液にレジス
トを分解する能力かなくなり、該レジスト剥離液の色が
透明にならず、これによって該レジスト剥離液か劣化し
ているにも拘わらず、吸光度の変化量か小さいばかりに
劣化していない(つまり活性である)との判定が下され
、そのまま該レジスト剥離液による誤った劣化検知が続
行されるという問題か起こる場合かある。
トを分解する能力かなくなり、該レジスト剥離液の色が
透明にならず、これによって該レジスト剥離液か劣化し
ているにも拘わらず、吸光度の変化量か小さいばかりに
劣化していない(つまり活性である)との判定が下され
、そのまま該レジスト剥離液による誤った劣化検知が続
行されるという問題か起こる場合かある。
この発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって
、レジスト剥離液が劣化したか否を該レジスト剥離液の
有効成分を直接測定することにより判定させるようにし
、更に、この判定結果に基づき、レジスト剥離液の吸光
度の変化量を測定させるようにして高い精度の劣化判定
を行わせるとともに、有効成分の濃度に基づきレジスト
剥離液が劣化しているとの判定がされた場合に、該レジ
スI・剥離液の吸光度自体を判定せず、該吸光度に基づ
く誤った判定がなされることを未然に防止した自動液劣
化装置の提供を目的とする。
、レジスト剥離液が劣化したか否を該レジスト剥離液の
有効成分を直接測定することにより判定させるようにし
、更に、この判定結果に基づき、レジスト剥離液の吸光
度の変化量を測定させるようにして高い精度の劣化判定
を行わせるとともに、有効成分の濃度に基づきレジスト
剥離液が劣化しているとの判定がされた場合に、該レジ
スI・剥離液の吸光度自体を判定せず、該吸光度に基づ
く誤った判定がなされることを未然に防止した自動液劣
化装置の提供を目的とする。
「課題を解決するための手段」
上記の目的を達成するために、本発明では、処理槽から
処理液を取り込むサンプリング手段と、該サンプリング
手段によりサンプリングされた処理を夜の吸光度を検出
する吸光度検出手段と、該サンプリング手段によりサン
プリングされた処理液に対して試薬を滴下する滴定手段
と、該滴定手段からの試薬の滴下量に基づき前記処理液
の濃度を算出するとともに、前記吸光度検出手段より検
出された吸光度に基づき単位時間毎の吸光度変化を算出
し、これら算出結果に基づき、処理液の劣化状態を判定
する制御手段とを具備し、更に、前記制御手段に、前記
濃度が予め設定した基準となる濃度を越えない場合に、
前記吸光度に基つく劣化判定の処理を省略し、前記濃度
が予め設定した基準となる濃度を越えた場合に、吸光度
測定手段からの吸光度を示す検出データを基にして処理
液の劣化判定を行う劣化判定機能を設けるようにしてい
る。
処理液を取り込むサンプリング手段と、該サンプリング
手段によりサンプリングされた処理を夜の吸光度を検出
する吸光度検出手段と、該サンプリング手段によりサン
プリングされた処理液に対して試薬を滴下する滴定手段
と、該滴定手段からの試薬の滴下量に基づき前記処理液
の濃度を算出するとともに、前記吸光度検出手段より検
出された吸光度に基づき単位時間毎の吸光度変化を算出
し、これら算出結果に基づき、処理液の劣化状態を判定
する制御手段とを具備し、更に、前記制御手段に、前記
濃度が予め設定した基準となる濃度を越えない場合に、
前記吸光度に基つく劣化判定の処理を省略し、前記濃度
が予め設定した基準となる濃度を越えた場合に、吸光度
測定手段からの吸光度を示す検出データを基にして処理
液の劣化判定を行う劣化判定機能を設けるようにしてい
る。
「作用」
この発明によれば、濃度が予め設定した基準となる濃度
を越えたく活性な状態の)場合に、吸光度測定手段から
出力された処理液の吸光度を示す検出データを基にして
処理液の劣化判定を行い、また、濃度値が予め設定した
基準となる濃度を越えない(劣化な状態の)場合に、前
記吸光度に基づく劣化判定の処理を行わせない機能が設
けられているので、従来のように、該レジスト剥離液力
劣化しているにも拘わらず、吸光度の変化量が小さいば
かりに処理液が活性であるとの誤った判定が下されるこ
とが防止される。
を越えたく活性な状態の)場合に、吸光度測定手段から
出力された処理液の吸光度を示す検出データを基にして
処理液の劣化判定を行い、また、濃度値が予め設定した
基準となる濃度を越えない(劣化な状態の)場合に、前
記吸光度に基づく劣化判定の処理を行わせない機能が設
けられているので、従来のように、該レジスト剥離液力
劣化しているにも拘わらず、吸光度の変化量が小さいば
かりに処理液が活性であるとの誤った判定が下されるこ
とが防止される。
「実施例」
この発明の一実施例を第1図(A)、第1図(B)〜第
2図を参照して説明する。
2図を参照して説明する。
まず、第■図(A)により自動液管理装置全体の概略構
成を説明すると、図において符号lて示すものは、図示
しない処理槽から処理液としてのレジスト剥離液か供給
される処理液供給経路である。
成を説明すると、図において符号lて示すものは、図示
しない処理槽から処理液としてのレジスト剥離液か供給
される処理液供給経路である。
なお、前記処理液には、半導体用シリコンウェハ上のレ
ジスト(ノホラソク樹脂等)を剥離して溶解する硫酸、
過酸化水素等の有効成分が含有されている。
ジスト(ノホラソク樹脂等)を剥離して溶解する硫酸、
過酸化水素等の有効成分が含有されている。
前記処理液供給経路1の途中には処理液の流通方向Xに
沿って、処理液を冷却する冷却器2、未溶解物等の不純
物を除去するフィルタ3、フォトセル4、六方電磁弁5
か順次設けられている。
沿って、処理液を冷却する冷却器2、未溶解物等の不純
物を除去するフィルタ3、フォトセル4、六方電磁弁5
か順次設けられている。
前記フォトセル4は、前記経路1によって送られてきた
レジスト剥離液をセル(図示略)内に導き、該レジスト
剥離液に一定波長の光線を照射することにより、当該レ
ジスト剥離波の吸光度を測定するものである。
レジスト剥離液をセル(図示略)内に導き、該レジスト
剥離液に一定波長の光線を照射することにより、当該レ
ジスト剥離波の吸光度を測定するものである。
なお、前記フォトセル4において検出された吸光度は、
検出データ(イ)として後述するデータ処理装置Mの制
御手段■00に出力されている。
検出データ(イ)として後述するデータ処理装置Mの制
御手段■00に出力されている。
また、前記六方電磁弁5は、(−)通常は実線で示すよ
うに配置されており、前記処理液をループ10及び経路
6・7を通じて処理槽(図示略)に、経路6・8を通じ
てドレンタンク9にそれぞれ案内する、に)処理液中の
硫酸、過酸化水素濃度を測定する際に、点線て示す位置
に切り換え、前記実線の位置に配置されている間にルー
プ10に一時貯留された処理液を、純水供給系1.1
(後述する)を通じて送られた純水により押し出し、反
応セル(後述する)に案内する。
うに配置されており、前記処理液をループ10及び経路
6・7を通じて処理槽(図示略)に、経路6・8を通じ
てドレンタンク9にそれぞれ案内する、に)処理液中の
硫酸、過酸化水素濃度を測定する際に、点線て示す位置
に切り換え、前記実線の位置に配置されている間にルー
プ10に一時貯留された処理液を、純水供給系1.1
(後述する)を通じて送られた純水により押し出し、反
応セル(後述する)に案内する。
なお、前記ループ10は、その内部に貯留される処理液
の量か予め設定されている、つまり定量のために用いる
ものである。
の量か予め設定されている、つまり定量のために用いる
ものである。
また、前記経路6〜8の分岐部に設けられたものは、特
に汚れた処理液をトレンタンク9に案内するための三方
電磁弁12、前記経路6の途中に設けられたものはポン
プ13、前記経路8の途中に設けられたものは、処理液
のPHを測定するPH電極14である。
に汚れた処理液をトレンタンク9に案内するための三方
電磁弁12、前記経路6の途中に設けられたものはポン
プ13、前記経路8の途中に設けられたものは、処理液
のPHを測定するPH電極14である。
また、前記純水供給系11は、純水の供給経路15に沿
って設けられた三方電磁弁16、中間トラップ17、ポ
ンプ■8と、分岐した経路19に設けられて、該純水の
供給圧力を一定値以下に保持するリリーフ弁20とによ
り構成されるものである。なお、このリリーフ弁20に
より排出された純水は、前記ドレンタンク9に案内され
る。
って設けられた三方電磁弁16、中間トラップ17、ポ
ンプ■8と、分岐した経路19に設けられて、該純水の
供給圧力を一定値以下に保持するリリーフ弁20とによ
り構成されるものである。なお、このリリーフ弁20に
より排出された純水は、前記ドレンタンク9に案内され
る。
一方、前記ループ10に一時貯留された後、純水により
押し出された処理液は、経路21〜23と該経路21〜
23の分岐部に設けられた三方電磁弁24とにより、反
応セル25・26に選択的に案内される。
押し出された処理液は、経路21〜23と該経路21〜
23の分岐部に設けられた三方電磁弁24とにより、反
応セル25・26に選択的に案内される。
また、前記反応セル25・26には、前記経路22・2
3により供給された処理液に対して、試薬を供給する試
薬供給系27〜29と、前記反応セル25・26内の溶
液の酸化還元電位を測定する酸化還元電極30・31と
が設けられている。
3により供給された処理液に対して、試薬を供給する試
薬供給系27〜29と、前記反応セル25・26内の溶
液の酸化還元電位を測定する酸化還元電極30・31と
が設けられている。
前記試薬供給系27〜29は、フラスコ27A〜29A
に貯留された試薬を、滴定ポンプ27B〜29Bにより
経路27C〜29Cを経由させて、前記反応セル25・
26に少量ずつ供給するものであり、前記酸化還元電極
30・31は、試薬を滴下した場合における処理液の酸
化還元電位を検出するものであって、この酸化還元電位
の変化から処理液の硫酸、過酸化水素濃度が算出できる
ようになっている。
に貯留された試薬を、滴定ポンプ27B〜29Bにより
経路27C〜29Cを経由させて、前記反応セル25・
26に少量ずつ供給するものであり、前記酸化還元電極
30・31は、試薬を滴下した場合における処理液の酸
化還元電位を検出するものであって、この酸化還元電位
の変化から処理液の硫酸、過酸化水素濃度が算出できる
ようになっている。
つまり、酸化還元電位が飛躍した点を反応の終点として
、この反応の終点における試薬の滴下量(このときの滴
下量を示すデータは、検出データ(ロ)として滴定ポン
プ27B〜29Bから後述するデータ処理装置Mの制御
手段100に出力されている)から、前記処理l夜の有
効成分である硫酸、過酸化水素の濃度がそれぞれ算出さ
れるようになっている。なお、制御手段100による検
出データ(イ)・(ロ)の処理内容については第2図の
フローチャートを参照して後で述べる。
、この反応の終点における試薬の滴下量(このときの滴
下量を示すデータは、検出データ(ロ)として滴定ポン
プ27B〜29Bから後述するデータ処理装置Mの制御
手段100に出力されている)から、前記処理l夜の有
効成分である硫酸、過酸化水素の濃度がそれぞれ算出さ
れるようになっている。なお、制御手段100による検
出データ(イ)・(ロ)の処理内容については第2図の
フローチャートを参照して後で述べる。
また、前記フラスコ27A〜29Aに貯留される試薬と
しては、水酸化ナトリウム等のアルカリ標準液、過マン
ガン酸カリウム溶岐等の酸化還元反応を起こす標準液、
硫酸等の酸性標準液等が適当である。
しては、水酸化ナトリウム等のアルカリ標準液、過マン
ガン酸カリウム溶岐等の酸化還元反応を起こす標準液、
硫酸等の酸性標準液等が適当である。
一方、反応セル25・26の下部には、副定か終了する
毎に該反応セル25・26内の処理液を排出するための
経路32〜34が設けられ、これら経路32〜34の途
中に(J、フィルタ35・36、反応セル25・26か
らの溶液の排出動作を行うための三方電磁弁37・38
、排液ポンプ3つが順次設けられている。そして、前記
経路32〜34を通じて排出された溶液は、前述したド
レンタンク9内に送られるようになっている。
毎に該反応セル25・26内の処理液を排出するための
経路32〜34が設けられ、これら経路32〜34の途
中に(J、フィルタ35・36、反応セル25・26か
らの溶液の排出動作を行うための三方電磁弁37・38
、排液ポンプ3つが順次設けられている。そして、前記
経路32〜34を通じて排出された溶液は、前述したド
レンタンク9内に送られるようになっている。
なお、第1図(A)に示す系統図において、−点鎖線で
示す範囲のものは滴定手段103である。
示す範囲のものは滴定手段103である。
次に、第1図(B)に示すデータ処理装置Mについて説
明すると、このデータ処理装置Mは、制御手段100、
人力手段101、出力手段である表示パネル102によ
って構成されるものである。
明すると、このデータ処理装置Mは、制御手段100、
人力手段101、出力手段である表示パネル102によ
って構成されるものである。
前記制御手段100は、第2図に示すフローチャートに
示すように、滴定手段103から取り込んだ当量点を示
す滴下量を示す検出データ(ロ)に基づき、有効成分濃
度の観点から処理液の劣化検知を行い、その結果、活性
であるとの判定がなされた場合に、フォトセル4から取
り込んだ吸光度を示す検出データ(イ)を基にして、吸
光度変化の観点から処理液の劣化判定を行わせるもので
ある(これら処理は、制御手段100が有する劣化判定
機能による)。
示すように、滴定手段103から取り込んだ当量点を示
す滴下量を示す検出データ(ロ)に基づき、有効成分濃
度の観点から処理液の劣化検知を行い、その結果、活性
であるとの判定がなされた場合に、フォトセル4から取
り込んだ吸光度を示す検出データ(イ)を基にして、吸
光度変化の観点から処理液の劣化判定を行わせるもので
ある(これら処理は、制御手段100が有する劣化判定
機能による)。
また、前記制御手段100の図示しない記憶部には、基
準となる有効成分濃度(ao)が設定されるようになっ
ており、この有効成分濃度(ao)を、滴下量を示す検
出データ(ロ)に基づき算出された処理液の有効成分濃
度(a)が越えたか否かにより、吸光度に基づく処理液
の劣化判定を行うものである。
準となる有効成分濃度(ao)が設定されるようになっ
ており、この有効成分濃度(ao)を、滴下量を示す検
出データ(ロ)に基づき算出された処理液の有効成分濃
度(a)が越えたか否かにより、吸光度に基づく処理液
の劣化判定を行うものである。
次に、第2図のフローチャートを参照して、前記制御手
段100の制御内容について説明する。
段100の制御内容について説明する。
なお、以下の説明において示すステップNは、第2図の
rsPnJに対応する。
rsPnJに対応する。
〈ステップ1〉
開始
〈ステップ2〉
基準となる有効成分濃度(ao)を設定する。
〈ステップ3〉
吸光度を示す検出データ(イ)を一定時間毎に取り込み
、時間に対する吸光度の変化量を測定する(この測定結
果はステップ6において使用する)。
、時間に対する吸光度の変化量を測定する(この測定結
果はステップ6において使用する)。
〈ステップ4〉
1
検出データ(ロ)に基づき、サンプリングされた一定量
の処理液に対して滴下された試薬の滴下量(この滴下量
は、酸化還元電位が飛躍した点である反応の終点を示す
ものである)から、処理液の有効成分濃度(a)を算出
する。
の処理液に対して滴下された試薬の滴下量(この滴下量
は、酸化還元電位が飛躍した点である反応の終点を示す
ものである)から、処理液の有効成分濃度(a)を算出
する。
〈ステップ5〉
前記ステップ2で設定した基準となる処理液の有効成分
濃度(ao)と、前記ステップ4で算出した処理液の有
効成分濃度(a)とを比較し、前記有効成分濃度(a)
が基準となる有効成分濃度(a o)より大きい場合に
ステップ6に進み、小さい場合にステップ7に進む。
濃度(ao)と、前記ステップ4で算出した処理液の有
効成分濃度(a)とを比較し、前記有効成分濃度(a)
が基準となる有効成分濃度(a o)より大きい場合に
ステップ6に進み、小さい場合にステップ7に進む。
つまり、処理液の有効成分が十分にあり活性であると判
定された場合にステップ6に進み、処理液の有効成分が
不足し劣化していると判定された場合にステップ7に進
む。
定された場合にステップ6に進み、処理液の有効成分が
不足し劣化していると判定された場合にステップ7に進
む。
このことを第3図(A)を参照して説明すると、処理液
の有効成分濃度(a)が基準となる有効成分濃度(ao
)より大きい「A」の領域では吸光度変化に基づく劣化
判定を行うようにし、また、処理2 肢の有効成分濃度(a)が基準となる有効成分濃度(a
o)より小さい「B」の領域では吸光度変化に基つく劣
化判定を省略させるようにしている。
の有効成分濃度(a)が基準となる有効成分濃度(ao
)より大きい「A」の領域では吸光度変化に基づく劣化
判定を行うようにし、また、処理2 肢の有効成分濃度(a)が基準となる有効成分濃度(a
o)より小さい「B」の領域では吸光度変化に基つく劣
化判定を省略させるようにしている。
〈ステップ6〉
前記ステップ3で測定した単位時間当たりの吸光度の変
化に基づき、処理液が劣化してきている(吸光度の変化
か大きい)か、処理液が十分に活性な状態である(吸光
度の変化が小さい)かを判定する(第3図(B)を参照
のこと)。
化に基づき、処理液が劣化してきている(吸光度の変化
か大きい)か、処理液が十分に活性な状態である(吸光
度の変化が小さい)かを判定する(第3図(B)を参照
のこと)。
くステップ7〉
前記ステップ6で得られた判定結果を出力手段である表
示パネル102に出力する。
示パネル102に出力する。
また、前記ステップ5において、処理液の有効成分が不
足しているとの判定がなされた場合にはステップ6を経
由しないので、特に、吸光度に基づく処理液の劣化判定
は行わず、ステップ3で得た時間に対する吸光度の変化
量を示すデータのみを表示パネル102に出力する。
足しているとの判定がなされた場合にはステップ6を経
由しないので、特に、吸光度に基づく処理液の劣化判定
は行わず、ステップ3で得た時間に対する吸光度の変化
量を示すデータのみを表示パネル102に出力する。
〈ステップ8〉
終了
以上詳細に説明したように、本実施例に示す自動l夜管
理装置によれば、有効成分濃度(a、)が予め設定した
基準となる有効成分濃度(ao)を越えている場合に、
処理液が活性な状態であると判定しくステップ5のYE
S)、更に、吸光度を示す検出データ(イ)を基にして
処理液の劣化判定を行い、また、有効成分濃度(ao)
が予め設定した基準となる有効成分濃度(a、)を越え
ない場合に、処理液が劣化な状態であると判定して(ス
テップ5のNO)、前記吸光度に基づく劣化判定の処理
を行わせない劣化判定機能が設けられているので、従来
のように、該処理液が劣化しているにも拘わらず、吸光
度の時間に対する変化量が小さいばかりに該処理液が活
性であるとの誤った判定が下されることが防止され、一
方、吸光度の変化量の検出のみにより劣化状態を判定さ
せるようにした従来の判定法と比較して、該処理液の劣
化判定を正確に行うことができ、信頼性の高い検出を行
うことができる効果が得られる。
理装置によれば、有効成分濃度(a、)が予め設定した
基準となる有効成分濃度(ao)を越えている場合に、
処理液が活性な状態であると判定しくステップ5のYE
S)、更に、吸光度を示す検出データ(イ)を基にして
処理液の劣化判定を行い、また、有効成分濃度(ao)
が予め設定した基準となる有効成分濃度(a、)を越え
ない場合に、処理液が劣化な状態であると判定して(ス
テップ5のNO)、前記吸光度に基づく劣化判定の処理
を行わせない劣化判定機能が設けられているので、従来
のように、該処理液が劣化しているにも拘わらず、吸光
度の時間に対する変化量が小さいばかりに該処理液が活
性であるとの誤った判定が下されることが防止され、一
方、吸光度の変化量の検出のみにより劣化状態を判定さ
せるようにした従来の判定法と比較して、該処理液の劣
化判定を正確に行うことができ、信頼性の高い検出を行
うことができる効果が得られる。
「発明の効果」
以上詳細に説明したように、本発明によれば、従来のよ
うに、処理液が劣化しているにも拘わらず、吸光度の変
化量が小さいばかりに該処理液が活性であるとの誤った
判定が下されることが防止され、一方、吸光度の変化量
の検出のみにより劣化状態を判定させるようにした従来
の判定法と比較して、該処理液の劣化判定を正確に行う
ことができ、信頼性の高い検出を行うことができるとい
う効果が得られる。
うに、処理液が劣化しているにも拘わらず、吸光度の変
化量が小さいばかりに該処理液が活性であるとの誤った
判定が下されることが防止され、一方、吸光度の変化量
の検出のみにより劣化状態を判定させるようにした従来
の判定法と比較して、該処理液の劣化判定を正確に行う
ことができ、信頼性の高い検出を行うことができるとい
う効果が得られる。
第1図(A)〜第3図(B)は本発明の一実施例を示す
ものであって、第1図(A)は自動液管理装置の全体概
略構成図、第1図(B)は自動液管理装置の制御装置を
示す図、第2図は制御装置の制御内容を示すフローチャ
ート、第3図(A)は有効成分濃度の変化を示すグラフ
、第3図(B)は吸光度の変化を示すグラフである。 サンプリング手段・・・〔処理液供給経路l、六方電磁
弁5、経路6、ルー 5 プ■0、ポンプ13〕、 4 ・フォトセル(吸光度測定手段)、100・・・制
御手段、103・・・滴定手段。 6
ものであって、第1図(A)は自動液管理装置の全体概
略構成図、第1図(B)は自動液管理装置の制御装置を
示す図、第2図は制御装置の制御内容を示すフローチャ
ート、第3図(A)は有効成分濃度の変化を示すグラフ
、第3図(B)は吸光度の変化を示すグラフである。 サンプリング手段・・・〔処理液供給経路l、六方電磁
弁5、経路6、ルー 5 プ■0、ポンプ13〕、 4 ・フォトセル(吸光度測定手段)、100・・・制
御手段、103・・・滴定手段。 6
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 処理槽から処理液を取り込むサンプリング手段と、該
サンプリング手段によりサンプリングされた処理液の吸
光度を検出する吸光度検出手段と、該サンプリング手段
によりサンプリングされた処理液に対して試薬を滴下す
る滴定手段と、 該滴定手段からの試薬の滴下量に基づき前記処理液の濃
度を算出するとともに、前記吸光度検出手段より検出さ
れた吸光度に基づき単位時間毎の吸光度変化を算出し、
これら算出結果に基づき、処理液の劣化状態を判定する
制御手段とを具備してなり、 前記制御手段には、前記濃度が予め設定した基準となる
濃度を越えない場合に、前記吸光度に基づく劣化判定の
処理を省略し、前記濃度が予め設定した基準となる濃度
を越えた場合に、吸光度測定手段からの吸光度を示す検
出データを基にして処理液の劣化判定を行う劣化判定機
能が設けられていることを特徴とする自動液管理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7001690A JPH03269348A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 自動液管理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7001690A JPH03269348A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 自動液管理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03269348A true JPH03269348A (ja) | 1991-11-29 |
Family
ID=13419394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7001690A Pending JPH03269348A (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | 自動液管理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03269348A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6340253B1 (en) * | 2000-02-10 | 2002-01-22 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Resist peeling system and control method of a resist peeling solution |
CN107703202A (zh) * | 2017-08-22 | 2018-02-16 | 中兴仪器(深圳)有限公司 | 一种高锰酸盐指数在线监测自动滴定判定方法及其装置 |
-
1990
- 1990-03-20 JP JP7001690A patent/JPH03269348A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6340253B1 (en) * | 2000-02-10 | 2002-01-22 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Resist peeling system and control method of a resist peeling solution |
CN107703202A (zh) * | 2017-08-22 | 2018-02-16 | 中兴仪器(深圳)有限公司 | 一种高锰酸盐指数在线监测自动滴定判定方法及其装置 |
CN107703202B (zh) * | 2017-08-22 | 2020-07-31 | 中兴仪器(深圳)有限公司 | 一种高锰酸盐指数在线监测自动滴定判定方法及其装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101723883B1 (ko) | 일체형 산화반응조를 구비한 총유기탄소 측정장치 및 측정방법 | |
US10458968B2 (en) | Water quality analysis device | |
US20030175983A1 (en) | System and method for sensing and controlling the concentration of a chemical agent in a solution | |
CN105738287A (zh) | 水质分析仪 | |
JPH03269348A (ja) | 自動液管理装置 | |
JP5659968B2 (ja) | 水質分析計 | |
JP2018534579A (ja) | 液体サンプル分析器内における凝塊の存在又は不存在を検出する方法 | |
JP2865771B2 (ja) | 自動液管理装置 | |
JPH03269349A (ja) | 自動液管理装置 | |
JPH03269357A (ja) | 自動液管理装置 | |
JP2008249443A (ja) | 分注プローブの洗浄方法および装置 | |
US20220250957A1 (en) | Automated analyzer | |
JPH08226923A (ja) | 自動分析装置 | |
JP2022062815A (ja) | 分析システム及び管理システム、並びに分析方法、並びに分析プログラム | |
JPH04320960A (ja) | 自動液管理装置 | |
JPH03214617A (ja) | 自動液管理装置 | |
CN106290343A (zh) | 总剩余氧化物在线实时检测装置及检测方法 | |
JPH06288923A (ja) | 水中のシリカ成分の分析装置 | |
EP4382901A1 (en) | Electrolyte analysis apparatus and analysis method | |
JPH04320954A (ja) | 自動液管理装置 | |
US20220065839A1 (en) | Water quality analyzer | |
US20230011100A1 (en) | Total organic carbon measurement method and total organic carbon measurement device | |
JPH04161846A (ja) | イオン選択電極の洗浄方法および洗浄液 | |
JPH05136043A (ja) | 自動液管理装置 | |
JP3036817B2 (ja) | 自動液管理装置 |