JPH0322905Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0322905Y2 JPH0322905Y2 JP1986001498U JP149886U JPH0322905Y2 JP H0322905 Y2 JPH0322905 Y2 JP H0322905Y2 JP 1986001498 U JP1986001498 U JP 1986001498U JP 149886 U JP149886 U JP 149886U JP H0322905 Y2 JPH0322905 Y2 JP H0322905Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- target
- rays
- wafer
- aperture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 28
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案は、Ｘ線露光における露光方法やＸ線
の発生方法等を改良したＸ線照射装置に関するも
のである。
の発生方法等を改良したＸ線照射装置に関するも
のである。
第２図は従来のＸ線照射装置の一実施例を示
し、図において、１は電子線発生源（図示せず）
から照射される電子線、４はＸ線、３は電子線１
が照射されて、これによりＸ線４を発生するター
ゲツト、６はマスク、７はウエハである。
し、図において、１は電子線発生源（図示せず）
から照射される電子線、４はＸ線、３は電子線１
が照射されて、これによりＸ線４を発生するター
ゲツト、６はマスク、７はウエハである。
従来のプロキシミテイ型露光法のＸ線照射装置
では、数10KVに加速した電子線１をある一定の
角度でターゲツト３に照射してＸ線４を発生さ
せ、発生した拡がりのあるＸ線４をマスク６を介
してウエハ７上のレジストに照射していた。
では、数10KVに加速した電子線１をある一定の
角度でターゲツト３に照射してＸ線４を発生さ
せ、発生した拡がりのあるＸ線４をマスク６を介
してウエハ７上のレジストに照射していた。
従来のＸ線照射装置は以上のように構成されて
いるので、点光源からの拡がりを持つたＸ線を用
いてウエハを露光するため、レジストパターンの
切れる角度が一定でないという問題点があつた。
また回転しているターゲツトの同じ円周上に電子
線が当るため、ターゲツトの温度が上昇するなど
の問題点があつた。
いるので、点光源からの拡がりを持つたＸ線を用
いてウエハを露光するため、レジストパターンの
切れる角度が一定でないという問題点があつた。
また回転しているターゲツトの同じ円周上に電子
線が当るため、ターゲツトの温度が上昇するなど
の問題点があつた。
この考案は上記のような問題点を解消するため
になされたもので、ターゲツトの温度上昇を防ぐ
ことができ、しかもレジストパターンの切れ角を
一定にすることができるＸ線照射装置を得ること
を目的とする。
になされたもので、ターゲツトの温度上昇を防ぐ
ことができ、しかもレジストパターンの切れ角を
一定にすることができるＸ線照射装置を得ること
を目的とする。
この考案に係る光源可動型Ｘ線照射装置は、タ
ーゲツトから発散して放射されるＸ線の一部のみ
をアパーチヤで通過させ、通過したＸ線をマスク
及びウエハとを相対的に移動させるようにしたも
のであり、特にターゲツトに向けて照射される電
子線を偏向電極により偏向するとともに、その電
子線の偏向に同期して上記アパーチヤを上記マス
クに対して平行移動させるようにしたものであ
る。
ーゲツトから発散して放射されるＸ線の一部のみ
をアパーチヤで通過させ、通過したＸ線をマスク
及びウエハとを相対的に移動させるようにしたも
のであり、特にターゲツトに向けて照射される電
子線を偏向電極により偏向するとともに、その電
子線の偏向に同期して上記アパーチヤを上記マス
クに対して平行移動させるようにしたものであ
る。
この考案においては、ターゲツトに向けて照射
される電子線を偏向電極により偏向するととも
に、その偏向に同期してアパーチヤを移動させる
ので、電子線による上記ターゲツトの局部加熱を
防ぐことができ、しかも上記アパーチヤを通過し
た一定方向のＸ線によりウエハを露光することが
できるので、上記ウエハ上のレジストパターンの
切れ角を一定にできる。
される電子線を偏向電極により偏向するととも
に、その偏向に同期してアパーチヤを移動させる
ので、電子線による上記ターゲツトの局部加熱を
防ぐことができ、しかも上記アパーチヤを通過し
た一定方向のＸ線によりウエハを露光することが
できるので、上記ウエハ上のレジストパターンの
切れ角を一定にできる。
以下、この考案の一実施例を図について説明す
る。第１図は本考案の一実施例による光源可動型
Ｘ線照射装置を示し、図において、１は電子線発
生源（図示せず）からターゲツトに向けて照射さ
れるＸ線励起用の電子線、２は電子線１を偏向す
る偏向電極、４はＸ線、３は電子線１が照射され
て、これによりＸ線４を発生するターゲツトであ
り、これは高速で回転している。６はマスク、７
はウエハ、５はＸ線４の一部のみを通過させるア
パーチヤであり、これは偏向電極２による電子線
１の偏向に同期してマスク６に対して平行に移動
する。
る。第１図は本考案の一実施例による光源可動型
Ｘ線照射装置を示し、図において、１は電子線発
生源（図示せず）からターゲツトに向けて照射さ
れるＸ線励起用の電子線、２は電子線１を偏向す
る偏向電極、４はＸ線、３は電子線１が照射され
て、これによりＸ線４を発生するターゲツトであ
り、これは高速で回転している。６はマスク、７
はウエハ、５はＸ線４の一部のみを通過させるア
パーチヤであり、これは偏向電極２による電子線
１の偏向に同期してマスク６に対して平行に移動
する。
次に作用効果について説明する。電子線１は偏
向電極２による偏向を受けてターゲツト３に照射
される。このため、上記電子線１は上記ターゲツ
ト３上の同じ円周上にのみ照射されるということ
はなく、上記電子線１による上記ターゲツト３が
局部加熱されることはない。上記ターゲツト３は
電子線１が照射されると、これによりＸ線４を発
散して放射する。そして、該Ｘ線４の一部はアパ
ーチヤ５を通過して方向の定まつたものとなる。
このとき、上記アパーチヤ５は上記電子線１の偏
向に同期して上記マスク６に対し平行に移動する
ので、上記ウエハ６の全面に対して常に一定の角
度を持つたＸ線が入射することとなる。
向電極２による偏向を受けてターゲツト３に照射
される。このため、上記電子線１は上記ターゲツ
ト３上の同じ円周上にのみ照射されるということ
はなく、上記電子線１による上記ターゲツト３が
局部加熱されることはない。上記ターゲツト３は
電子線１が照射されると、これによりＸ線４を発
散して放射する。そして、該Ｘ線４の一部はアパ
ーチヤ５を通過して方向の定まつたものとなる。
このとき、上記アパーチヤ５は上記電子線１の偏
向に同期して上記マスク６に対し平行に移動する
ので、上記ウエハ６の全面に対して常に一定の角
度を持つたＸ線が入射することとなる。
このように本実施例装置では、ウエハに対して
常に一定の入射角を持つたＸ線を用いてウエハの
全面を露光することができるので、ウエハ上のレ
ジストパターンの切れ角を一定にでき、パターン
ぼけを防ぐことができる。また、偏向電極により
電子線が偏向されるので、電子線での局部加熱に
よるターゲツトの温度上昇を防ぐことができる。
常に一定の入射角を持つたＸ線を用いてウエハの
全面を露光することができるので、ウエハ上のレ
ジストパターンの切れ角を一定にでき、パターン
ぼけを防ぐことができる。また、偏向電極により
電子線が偏向されるので、電子線での局部加熱に
よるターゲツトの温度上昇を防ぐことができる。
以上のようにこの考案によれば、ターゲツトか
ら発散して放射されるＸ線の一部がアパーチヤを
通過して方向の定まつたものとなり、そのＸ線を
用いてウエハを露光するので、ウエハに対して常
に一定の入射角を持つたＸ線によりウエハ全面を
露光することができ、ウエハ上のレジストパター
ンの切れ角を一定とし、パターンぼけを防ぐこと
ができる。しかも、ターゲツトに向けて照射され
る電子線を偏向電極により偏向するとともに、そ
の偏向に同期してアパーチヤを移動させるように
したので、ターゲツトの局部加熱による温度上昇
を防ぐことができるという効果がある。
ら発散して放射されるＸ線の一部がアパーチヤを
通過して方向の定まつたものとなり、そのＸ線を
用いてウエハを露光するので、ウエハに対して常
に一定の入射角を持つたＸ線によりウエハ全面を
露光することができ、ウエハ上のレジストパター
ンの切れ角を一定とし、パターンぼけを防ぐこと
ができる。しかも、ターゲツトに向けて照射され
る電子線を偏向電極により偏向するとともに、そ
の偏向に同期してアパーチヤを移動させるように
したので、ターゲツトの局部加熱による温度上昇
を防ぐことができるという効果がある。
第１図はこの考案の一実施例による光源可動型
Ｘ線照射装置の概略図、第２図は従来のＸ線照射
装置の概略図である。 図において、１は電子線、２は偏向電極、３は
ターゲツト、４はＸ線、５はアパーチヤ、６はマ
スク、７はウエハである。なお図中同一符号は同
一又は相当部分を示す。
Ｘ線照射装置の概略図、第２図は従来のＸ線照射
装置の概略図である。 図において、１は電子線、２は偏向電極、３は
ターゲツト、４はＸ線、５はアパーチヤ、６はマ
スク、７はウエハである。なお図中同一符号は同
一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ウエハ上にマスクを介してＸ線を照射するＸ線
照射装置において、 電子線を発生する電子線発生源と、 該電子線発生源からの電子線を偏向する偏向電
極と、 該偏向電極を通過した電子線が照射されて、こ
れによりＸ線を発生するターゲツトと、 該ターゲツトから発散して放射されるＸ線の一
部のみを通過させるアパーチヤと、 上記偏向電極による電子線の偏向に同期して上
記アパーチヤを、それぞれ固定された上記マスク
およびウエハに対し平行に移動させるアパーチヤ
移動手段とを備えたことを特徴とする光源可動型
Ｘ線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986001498U JPH0322905Y2 (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986001498U JPH0322905Y2 (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62114439U JPS62114439U (ja) | 1987-07-21 |
| JPH0322905Y2 true JPH0322905Y2 (ja) | 1991-05-20 |
Family
ID=30779459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986001498U Expired JPH0322905Y2 (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0322905Y2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62155516A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-10 | Mitsubishi Electric Corp | Ｘ線露光装置 |
-
1986
- 1986-01-08 JP JP1986001498U patent/JPH0322905Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62155516A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-10 | Mitsubishi Electric Corp | Ｘ線露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62114439U (ja) | 1987-07-21 |
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