JPH03208385A - マイクロ波励起ハイパワーレーザ - Google Patents
マイクロ波励起ハイパワーレーザInfo
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- JPH03208385A JPH03208385A JP2304224A JP30422490A JPH03208385A JP H03208385 A JPH03208385 A JP H03208385A JP 2304224 A JP2304224 A JP 2304224A JP 30422490 A JP30422490 A JP 30422490A JP H03208385 A JPH03208385 A JP H03208385A
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
- H01S3/073—Gas lasers comprising separate discharge sections in one cavity, e.g. hybrid lasers
- H01S3/076—Folded-path lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
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- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はハイパワーレーザに関し、さらに詳記すれば、
共振器の軸方向に相互に対向して離間して配置したミラ
ー群と共振器の軸方向及びこれに直交する横断方向の双
方向に延びたビーム軌道とを有する共振器と、ビーム軌
道に透過されレーザガスを収容したガス放電容積部と、
共振器の軸方向及び横断方向に対して実質的平行に展開
しガス放電容積部を包囲してその境界を規定する対向壁
面とを具備1tハイパワーレーザに関する。
共振器の軸方向に相互に対向して離間して配置したミラ
ー群と共振器の軸方向及びこれに直交する横断方向の双
方向に延びたビーム軌道とを有する共振器と、ビーム軌
道に透過されレーザガスを収容したガス放電容積部と、
共振器の軸方向及び横断方向に対して実質的平行に展開
しガス放電容積部を包囲してその境界を規定する対向壁
面とを具備1tハイパワーレーザに関する。
この種のハイパワーレーザは公知である。しかしながら
、従来ガス放電容積部におけるレーザガスの励起は、水
平に広がるビーム軌道が通り抜ける容量区域内でのガス
放電容積部の励起として高周波により実施されている。
、従来ガス放電容積部におけるレーザガスの励起は、水
平に広がるビーム軌道が通り抜ける容量区域内でのガス
放電容積部の励起として高周波により実施されている。
すなわち、共振器の軸方向とこれに直交する方向との双
方向においてのみ、この種の励起が可能であった。
方向においてのみ、この種の励起が可能であった。
しかしながら、レーザの高周波励起は、特に高出力であ
る場合に非常に費用がかかる問題があった。
る場合に非常に費用がかかる問題があった。
したがって本発明の目的は、−船釣な種類のレーザに対
し、より経済的な励起を提供することにある。
し、より経済的な励起を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明によるハイパワーレ
ーザは、少くとも1つの壁面が絶縁壁によって形成され
、ガス放電容積部内のレーザガスから分離しかつ絶縁壁
に面した開口を有して開口に対向したガス放電容積部の
容積区域内にレーザガスのマイクロ波励起を生じさせる
マイクロ波共振構造を絶縁壁土に配置し、このマイクロ
波共振構造にマイクロ波発生源からマイクロ波を誘導可
能であることを特徴とする。
ーザは、少くとも1つの壁面が絶縁壁によって形成され
、ガス放電容積部内のレーザガスから分離しかつ絶縁壁
に面した開口を有して開口に対向したガス放電容積部の
容積区域内にレーザガスのマイクロ波励起を生じさせる
マイクロ波共振構造を絶縁壁土に配置し、このマイクロ
波共振構造にマイクロ波発生源からマイクロ波を誘導可
能であることを特徴とする。
本発明による解決法の有利点は、2つの対向面によって
のみ境界が規定されるため、両側面が開放状態となり、
共振器それ自体を形成出来ない2次元構造物を構成する
ガス放電容積部内で、マイクロ波励起が簡単に達成され
る点に見られる。
のみ境界が規定されるため、両側面が開放状態となり、
共振器それ自体を形成出来ない2次元構造物を構成する
ガス放電容積部内で、マイクロ波励起が簡単に達成され
る点に見られる。
これは、マイクロ波による経済的な励起が可能となる、
本発明にかかわるハイパワーレーザーに帰着する。
本発明にかかわるハイパワーレーザーに帰着する。
複数のマイクロ波共振構造が絶縁壁土に配置されること
は、なかんずくガス放電容積部内で出来るだけ一様とな
るマイクロ波励起を得る上で、特に有益となる。これら
マイクロ波共振構造は、次に、その相互の間隔に関し、
容易に配列出来、これにより、ガス放電容積部内で出来
る限り一様となるマイクロ波励起を供することになる。
は、なかんずくガス放電容積部内で出来るだけ一様とな
るマイクロ波励起を得る上で、特に有益となる。これら
マイクロ波共振構造は、次に、その相互の間隔に関し、
容易に配列出来、これにより、ガス放電容積部内で出来
る限り一様となるマイクロ波励起を供することになる。
ガス放電容積部内で出来る限り一様となるマイクロ波励
起を、これが供するため、この関連で、マイクロ波共振
構造が、一定パターンで配列されることで、特に好都合
となるとの実証が為されている。
起を、これが供するため、この関連で、マイクロ波共振
構造が、一定パターンで配列されることで、特に好都合
となるとの実証が為されている。
マイクロ波のビーム軌道への最適適合は、共振器軸方向
とこれに直交する両方向でのビーム軌道の範囲に対応す
る区域に配列されるマイクロ波共振構造により可能とな
る。特に、垂直方向において、即ち、2壁面による空間
方向において、出来る限り一様となるレーザガスのマイ
クロ波励起を達成するため、ガス放電容積部の両壁面間
でのマイクロ波励起がここまで及ぶ様にするため、対応
が為される。
とこれに直交する両方向でのビーム軌道の範囲に対応す
る区域に配列されるマイクロ波共振構造により可能とな
る。特に、垂直方向において、即ち、2壁面による空間
方向において、出来る限り一様となるレーザガスのマイ
クロ波励起を達成するため、ガス放電容積部の両壁面間
でのマイクロ波励起がここまで及ぶ様にするため、対応
が為される。
上記実施態様において、マイクロ波共振構造が一方の壁
面上に設置されるときの仮定が行われた。
面上に設置されるときの仮定が行われた。
この場合、この壁面を支持する壁は、絶縁設計となり、
もう一方の壁は、絶縁設計でメタルコーテングを施され
るか、あるいは、完全なメタル製となる。
もう一方の壁は、絶縁設計でメタルコーテングを施され
るか、あるいは、完全なメタル製となる。
しかし、本発明にかかる解法の改善された実施態様にお
いて、双方の壁面が絶縁壁により構成され、少なくとも
1つの共振構造が、双方の壁面のそれぞれに設置され、
これにより、ガス放電容積部内でのガスレーザの励起が
、向かい合った両壁面から生ずる欅にするため、対応が
為された。この場合、例えば、マイクロ波励起が両壁面
の間のガス放電容積郡全体に及ばないこと、および例え
ば、2つの対向する共振構造のマイクロ波励起が、相互
に補完し合うことも可能となる。
いて、双方の壁面が絶縁壁により構成され、少なくとも
1つの共振構造が、双方の壁面のそれぞれに設置され、
これにより、ガス放電容積部内でのガスレーザの励起が
、向かい合った両壁面から生ずる欅にするため、対応が
為された。この場合、例えば、マイクロ波励起が両壁面
の間のガス放電容積郡全体に及ばないこと、および例え
ば、2つの対向する共振構造のマイクロ波励起が、相互
に補完し合うことも可能となる。
しかしガス放電容積部内で、出来る限り一様となる、レ
ーザガスの大部分の共振構造励起の配列による、特に単
純な方法での達成のため、共振構造が双方の絶縁壁中に
設置されることが、特に、有用となる。この関連におい
て、それぞれのマイクロ波共振構造に関連する容積区域
が、相互に一致しない欅に、対向する壁土に配列される
共振構造が、相互に関連して、交互に配列されることが
、特に好都合となる。
ーザガスの大部分の共振構造励起の配列による、特に単
純な方法での達成のため、共振構造が双方の絶縁壁中に
設置されることが、特に、有用となる。この関連におい
て、それぞれのマイクロ波共振構造に関連する容積区域
が、相互に一致しない欅に、対向する壁土に配列される
共振構造が、相互に関連して、交互に配列されることが
、特に好都合となる。
さらに、共振構造が、対向する両者の間のギャップを埋
める様に、相互の関連で、共振構造が設置される対向す
る壁土に来るパターンで、マイクロ波共振構造が配列さ
れることが、好都合となる。
める様に、相互の関連で、共振構造が設置される対向す
る壁土に来るパターンで、マイクロ波共振構造が配列さ
れることが、好都合となる。
本発明の解法の範囲内で、各共振構造が、それ自体のマ
イクロ波源、これに関連する、出来ればマグネトロンを
有する実施態様が特に有用となると実証されている。こ
の場合、出来る限り一様となるガス放電容積部内でのレ
ーザガスの励起を達成することのほかに、ハイパワーレ
ーザを励起するため、如何にして、低出力の幾つかのマ
イクロ波源を、相互に結合させるべきかに関する問題が
、同時に解決される0例えば、最後に言及した場合にお
いて、マイクロ波源が相互に影響し合う、特に、相互に
干渉し合うため、幾つかのマイクロ波源のパワーを単独
ライン中に送るために必要な複雑な手段は、省略される
。マイクロ波源の相互影響が、共振構造のために生じる
ため、各マイクロ波源に関連する共振構造を相互に切り
離すことにより、この問題は、完全に解決され、これに
より共振波源は、ガス放電容積部内でのレーザガスの励
起に対し、全パワーを振り向けることが出来る。
イクロ波源、これに関連する、出来ればマグネトロンを
有する実施態様が特に有用となると実証されている。こ
の場合、出来る限り一様となるガス放電容積部内でのレ
ーザガスの励起を達成することのほかに、ハイパワーレ
ーザを励起するため、如何にして、低出力の幾つかのマ
イクロ波源を、相互に結合させるべきかに関する問題が
、同時に解決される0例えば、最後に言及した場合にお
いて、マイクロ波源が相互に影響し合う、特に、相互に
干渉し合うため、幾つかのマイクロ波源のパワーを単独
ライン中に送るために必要な複雑な手段は、省略される
。マイクロ波源の相互影響が、共振構造のために生じる
ため、各マイクロ波源に関連する共振構造を相互に切り
離すことにより、この問題は、完全に解決され、これに
より共振波源は、ガス放電容積部内でのレーザガスの励
起に対し、全パワーを振り向けることが出来る。
これにより、かかるレーザの励起用に、日常的応用より
知られる商業的に利用可能で、適当な価格のマグネトロ
ンの使用が可能となる。
知られる商業的に利用可能で、適当な価格のマグネトロ
ンの使用が可能となる。
上記実施S様において、共振構造の設計に関し、詳細は
一切示されていない。共振構造が、シリンダ共振器とな
ることが、特に好都合となる。共振構造が、矩形共振器
となることも望ましい。
一切示されていない。共振構造が、シリンダ共振器とな
ることが、特に好都合となる。共振構造が、矩形共振器
となることも望ましい。
シリンダ共振器が絶縁壁の先端面に設置される欅に配列
されることが望ましい。
されることが望ましい。
シリンダ共振器のガス放電容積部への最適結合を得るた
め、シリンダ共振器が、絶縁壁に面する端面で開状態と
なる様、最も簡単な状態で、対応が為されている。マイ
クロ波源と共振構造との間の接続は、マイクロ波源より
共振構造まで延びる同軸管による、特に簡単な方法で設
定可能となる。
め、シリンダ共振器が、絶縁壁に面する端面で開状態と
なる様、最も簡単な状態で、対応が為されている。マイ
クロ波源と共振構造との間の接続は、マイクロ波源より
共振構造まで延びる同軸管による、特に簡単な方法で設
定可能となる。
上記実施態様において、ガス放電容積部の境界を定める
壁面に関し、詳細は一切示されない0本発明にかかわる
ハイパワーレーザの望ましい実施態様において、例えば
、壁面が、基本的に共振器軸沿いに、ミラーとミラーと
の間を占める導波管の導波面を光学的に反射する欅に、
対応が為されている。この場合、本発明にかかるハイパ
ワーレーザは、いわゆる導波管レーザーとなる。これと
併せて、共振器が不安定な共振器となることも好都合と
なる。
壁面に関し、詳細は一切示されない0本発明にかかわる
ハイパワーレーザの望ましい実施態様において、例えば
、壁面が、基本的に共振器軸沿いに、ミラーとミラーと
の間を占める導波管の導波面を光学的に反射する欅に、
対応が為されている。この場合、本発明にかかるハイパ
ワーレーザは、いわゆる導波管レーザーとなる。これと
併せて、共振器が不安定な共振器となることも好都合と
なる。
この特に好ましい実施態様において、ガス放電容積部が
滞流レーザガスにより充填され、且つ、レーザガスがこ
のために、出来れば冷却される壁面との、単に相互作用
および拡散により冷却される欅にも対応が為されている
。
滞流レーザガスにより充填され、且つ、レーザガスがこ
のために、出来れば冷却される壁面との、単に相互作用
および拡散により冷却される欅にも対応が為されている
。
この代案として、本発明にかかるレーザーの一層望まし
い実施態様において、レーザガスがガス放電容積部内を
流れる様に対応が為されている。
い実施態様において、レーザガスがガス放電容積部内を
流れる様に対応が為されている。
この場合、レーザガスが共振器を横断する方向に流れる
ことが特に好都合となる。この場合、本発明にかかるハ
イパワーレーザは横断流タイプレーザとなり、これは特
に、両側が開状態となり、ガス放電容積部およびそれ故
ガス放電チャンネルも形成する両壁面により形成される
2次元放電構造を必要とする。
ことが特に好都合となる。この場合、本発明にかかるハ
イパワーレーザは横断流タイプレーザとなり、これは特
に、両側が開状態となり、ガス放電容積部およびそれ故
ガス放電チャンネルも形成する両壁面により形成される
2次元放電構造を必要とする。
放電の正確な均一化は、横断流タイプレーザを使用する
場合、これらの容積区域内で励起されるガスレーザが、
光学式共振器へ到る途中の流れにより均一化される様に
、光学式共振器の上流側に配列される、マイクロ波励起
容積区域により、特に達成可能となる。この場合、この
区域が、マイクロ波励起容積区域と共振器との間のマイ
クロ波励起が妨げられない区域となることは、特に好都
合となる。
場合、これらの容積区域内で励起されるガスレーザが、
光学式共振器へ到る途中の流れにより均一化される様に
、光学式共振器の上流側に配列される、マイクロ波励起
容積区域により、特に達成可能となる。この場合、この
区域が、マイクロ波励起容積区域と共振器との間のマイ
クロ波励起が妨げられない区域となることは、特に好都
合となる。
共振器は、折りたたみ共振器が望ましい。この場合、し
かし、共振器が不安定共振器となることも可能となる。
かし、共振器が不安定共振器となることも可能となる。
本発明にかかる解法のなお一層の利点および特性は、幾
つかの実施11様に関する、下記説明と添付図面中で見
出される。
つかの実施11様に関する、下記説明と添付図面中で見
出される。
第1図において、10で表示される本発明にかかるハイ
パワーレーザーの第1実施例は、その間にガス放電容積
部18を収納する、2枚の平行する壁板14および16
により形成される12で表示される放電チャンネルより
成る。ガス放電容積部18に対向する壁板14および1
6の壁面24および26に平行し、且つ、出来れば壁板
14および16の幅広の側端にも平行に伸びる、横断方
向22により、矢印20により示される樟に、このガス
放電容積部18は、横断方向22に、レーザガス流によ
り透過される。レーザガス流20は、ガス放電チャンネ
ル12の長手方向の全範囲を通じ、即ち、壁板14およ
び16の長手方向の両側端30間で、ガス放電容積部1
8中に入り、再度壁板14および160反対側の長手方
向の両側端32間のガス放電チャンネルより外に出る。
パワーレーザーの第1実施例は、その間にガス放電容積
部18を収納する、2枚の平行する壁板14および16
により形成される12で表示される放電チャンネルより
成る。ガス放電容積部18に対向する壁板14および1
6の壁面24および26に平行し、且つ、出来れば壁板
14および16の幅広の側端にも平行に伸びる、横断方
向22により、矢印20により示される樟に、このガス
放電容積部18は、横断方向22に、レーザガス流によ
り透過される。レーザガス流20は、ガス放電チャンネ
ル12の長手方向の全範囲を通じ、即ち、壁板14およ
び16の長手方向の両側端30間で、ガス放電容積部1
8中に入り、再度壁板14および160反対側の長手方
向の両側端32間のガス放電チャンネルより外に出る。
本発明にかかるハイパワーレーザの第1実施例による共
振器は、壁板14および16の対向する幅広の側端28
での、2組のミラー(それぞれ34および36)より成
る0例えば、1組のミラー34は、相互に平行となる様
に調整された、2枚の単独ミラー38および4oより成
り、一方、もう−組のミラー36は、例えば、相互に向
かい合い、これと結合される、幅広い側端28に対し、
45度の角度で配置される、2枚のミラー42および4
4より成る。
振器は、壁板14および16の対向する幅広の側端28
での、2組のミラー(それぞれ34および36)より成
る0例えば、1組のミラー34は、相互に平行となる様
に調整された、2枚の単独ミラー38および4oより成
り、一方、もう−組のミラー36は、例えば、相互に向
かい合い、これと結合される、幅広い側端28に対し、
45度の角度で配置される、2枚のミラー42および4
4より成る。
ガス放電容積部18内を透過する、レーザビーム48が
、例えば、共振器軸46の方向に、ミラー38より、ミ
ラー42まで伸び、ミラー42Mリミラー44上に反射
され、そこより、再度、ミラー4に向けて、共振軸46
の方向に進む欅に、2組のミラー34および36は、長
手方向の側端30および32に平行に伸びる共振軸46
を持つ共振器を形成する。レーザビーム4日の一部が、
このレーザビーム50の様に、ミラー4oがら切り離さ
れ、ミラー40を通して、共振器軸46の方向に続く欅
に、ミラー40が部分的に伝送設計となることが望まし
い。
、例えば、共振器軸46の方向に、ミラー38より、ミ
ラー42まで伸び、ミラー42Mリミラー44上に反射
され、そこより、再度、ミラー4に向けて、共振軸46
の方向に進む欅に、2組のミラー34および36は、長
手方向の側端30および32に平行に伸びる共振軸46
を持つ共振器を形成する。レーザビーム4日の一部が、
このレーザビーム50の様に、ミラー4oがら切り離さ
れ、ミラー40を通して、共振器軸46の方向に続く欅
に、ミラー40が部分的に伝送設計となることが望まし
い。
第1図に示される共振器は、横断流タイプハイパワーレ
ーザ向は共振器の1つの実施例のみを示す、現行レーザ
ビーム50同様、その一部が切り離されるまで、ガス放
電容積部18を通過する際に、レーザビーム48は、前
後に数回反射される欅に、当然共振器も、数回折りたた
まれる。共振器が、横断流タイプハイパワーレーザに対
し、光学的に不安定な共振器として設計されることも考
えられる。
ーザ向は共振器の1つの実施例のみを示す、現行レーザ
ビーム50同様、その一部が切り離されるまで、ガス放
電容積部18を通過する際に、レーザビーム48は、前
後に数回反射される欅に、当然共振器も、数回折りたた
まれる。共振器が、横断流タイプハイパワーレーザに対
し、光学的に不安定な共振器として設計されることも考
えられる。
ガス放電容積部18内を流れるレーザガスを励起するた
め、壁板のうちの1つ以上、例えば、第1図中の壁板1
6が、絶縁材料より成り、且つ共振器52の大部分がガ
ス放電容積部18に対向するその側面上に直接設置され
る。第2図に示される様に、これら共振器はシリンダ共
振器として設計されることが望ましく、シリンダ軸56
に対し、壁板16上に、出来れば垂直方向に設置される
シリンダ状の共振器ハウジング54を有する。壁板工6
に同き合う共振器ハウジング54の一方の端面58は、
壁板16に対し、完全に開状態となり、一方、もう一方
の壁板16より離れて、これに対向するもう一方の端面
60は、共振器ハウジング54のシリンダジャケット6
4と同様、メタル製のカバー62により、閉状態となる
。
め、壁板のうちの1つ以上、例えば、第1図中の壁板1
6が、絶縁材料より成り、且つ共振器52の大部分がガ
ス放電容積部18に対向するその側面上に直接設置され
る。第2図に示される様に、これら共振器はシリンダ共
振器として設計されることが望ましく、シリンダ軸56
に対し、壁板16上に、出来れば垂直方向に設置される
シリンダ状の共振器ハウジング54を有する。壁板工6
に同き合う共振器ハウジング54の一方の端面58は、
壁板16に対し、完全に開状態となり、一方、もう一方
の壁板16より離れて、これに対向するもう一方の端面
60は、共振器ハウジング54のシリンダジャケット6
4と同様、メタル製のカバー62により、閉状態となる
。
本発明に基づき、同軸管66は、カバー62まで導かれ
、その外部導体6日により、カバー62に接続され、一
方、同軸管66の内部導体70は、絶縁状態でカバー6
2中を通り、カバー62またはシリンダジャケット64
への結合ループ74の形で、共振器ハウジング54の内
部72中に導かれる。
、その外部導体6日により、カバー62に接続され、一
方、同軸管66の内部導体70は、絶縁状態でカバー6
2中を通り、カバー62またはシリンダジャケット64
への結合ループ74の形で、共振器ハウジング54の内
部72中に導かれる。
各共振器52の同軸管66はマイクロ波源へ、出来れば
、共振器と結合されるマグネトロン76に導かれる。本
発明の範囲内で、1つのマイクロ波源76より、幾つか
の共振器にマイクロ波を供することが好都合となる。し
かし共振器のそれぞれが、マイクロ波源761個により
、特に、マグネトロンによりマイクロ波を供されること
が特に好都合となる0本発明にかかるレーザーの励起に
対し、経済的価格で商業的に利用可能となり、且つ特に
マグネトロン76が相互に影響し合い、そしてその機能
に関し相互に干渉し合う場合等における複雑な措置を講
する必要性が一切無い。
、共振器と結合されるマグネトロン76に導かれる。本
発明の範囲内で、1つのマイクロ波源76より、幾つか
の共振器にマイクロ波を供することが好都合となる。し
かし共振器のそれぞれが、マイクロ波源761個により
、特に、マグネトロンによりマイクロ波を供されること
が特に好都合となる0本発明にかかるレーザーの励起に
対し、経済的価格で商業的に利用可能となり、且つ特に
マグネトロン76が相互に影響し合い、そしてその機能
に関し相互に干渉し合う場合等における複雑な措置を講
する必要性が一切無い。
本発明にかかる共振器52′の他の実施例は、第3図に
示される。共振器の部品が、第2図中の共振器52の部
品と一致する限り、各部品は同様の参照番号を冠し、こ
れにより、第2図中の共振器52に関する明細書に対す
る参照も示される。
示される。共振器の部品が、第2図中の共振器52の部
品と一致する限り、各部品は同様の参照番号を冠し、こ
れにより、第2図中の共振器52に関する明細書に対す
る参照も示される。
結合ループ74による絶縁結合の代わりに、内部導体7
0に接続され、共振器ハウジング54より絶縁される結
合ウェブ78を介して、電気容量結合となる点において
のみ、共振器52′は、共振器52より異なる。
0に接続され、共振器ハウジング54より絶縁される結
合ウェブ78を介して、電気容量結合となる点において
のみ、共振器52′は、共振器52より異なる。
開状態となる端面58により、共振器52および52′
のそれぞれは、端面58に対向するガス放電容積部18
の容積区域80に、マイクロ波励起をもたらす。容積区
域80は基本的にシリンダ状共振器52に似た、シリン
ダ状形状で、出来れば、絶縁壁板16より対向する壁板
14まで延びる方が望ましく、これにより、ガス放電容
積部18全体を垂直方向帖83に充填する。
のそれぞれは、端面58に対向するガス放電容積部18
の容積区域80に、マイクロ波励起をもたらす。容積区
域80は基本的にシリンダ状共振器52に似た、シリン
ダ状形状で、出来れば、絶縁壁板16より対向する壁板
14まで延びる方が望ましく、これにより、ガス放電容
積部18全体を垂直方向帖83に充填する。
第1図に示される第1実施例において、複数の共振器は
、壁板16上で、予め規定されるパターン82で、配列
される。パターン82が、基本的に1[[r方向22に
、レーザビーム48により透過される、ガス放電容積部
工8の区域を完全にカバーシシかも共振器46の方向で
、出来るだけ広範囲に及ぶ様に、パターン82は、この
横断方向22に延びる方が望ましい。
、壁板16上で、予め規定されるパターン82で、配列
される。パターン82が、基本的に1[[r方向22に
、レーザビーム48により透過される、ガス放電容積部
工8の区域を完全にカバーシシかも共振器46の方向で
、出来るだけ広範囲に及ぶ様に、パターン82は、この
横断方向22に延びる方が望ましい。
上記第1実施例において、壁板14は、絶縁材料製とな
ってもよく、メタルコーテングを施すことも望ましく、
あるいは、壁板16より結合されるマイクロ波に対する
反射壁を形成するため、全体をメタル製としてもよい。
ってもよく、メタルコーテングを施すことも望ましく、
あるいは、壁板16より結合されるマイクロ波に対する
反射壁を形成するため、全体をメタル製としてもよい。
第4図および第5図に示される、第1実施例の変形の中
で、壁板14および16双方が絶縁材料製となり、且つ
、共振器52あるいは52′を支えるために、対応が為
される。この際、パターン82aの共振器52が、パタ
ーン82bの共振器52間のギャップを埋める時に、共
振器52を、対向する壁板14および16上で同一パタ
ーンに配列し、且つ、パターン82を相互に関連し、交
互に配列する。それ故、ガス放電容積部18内で、共振
器52により、マイクロ波励起が引き起こされる区域は
、基本的に、相互に完全にオーバーラツプし、ガス放電
容積部18内でほぼ完全なマイクロ波励起が生じる。
で、壁板14および16双方が絶縁材料製となり、且つ
、共振器52あるいは52′を支えるために、対応が為
される。この際、パターン82aの共振器52が、パタ
ーン82bの共振器52間のギャップを埋める時に、共
振器52を、対向する壁板14および16上で同一パタ
ーンに配列し、且つ、パターン82を相互に関連し、交
互に配列する。それ故、ガス放電容積部18内で、共振
器52により、マイクロ波励起が引き起こされる区域は
、基本的に、相互に完全にオーバーラツプし、ガス放電
容積部18内でほぼ完全なマイクロ波励起が生じる。
第6図中に示される、本発明にかかるハイパワーレーザ
の2番目の実施例の中で、特に、急速なレーザガス流2
0’がガス放電容積部1日を透過し、各部品が第1実施
例の場合の部品に一致する限り、これら部品は、同じ参
照番号を有し、これにより、これら部品の説明のため、
第1実施例に関する明細書に対し、参照が為される。
の2番目の実施例の中で、特に、急速なレーザガス流2
0’がガス放電容積部1日を透過し、各部品が第1実施
例の場合の部品に一致する限り、これら部品は、同じ参
照番号を有し、これにより、これら部品の説明のため、
第1実施例に関する明細書に対し、参照が為される。
第1実施例の場合とは大きく異なり、レーザビーム48
がレーザガス流20’より下流に位置するガス放電容積
部の区域84中に延び、且つパターン82′が区域84
から少くとも上流まで延び、これにより、励起される容
積区域80が、区域84より少くとも上流に及び、場合
により、区域84中にも延びることが出来る様に、共振
器の設計が行われる。
がレーザガス流20’より下流に位置するガス放電容積
部の区域84中に延び、且つパターン82′が区域84
から少くとも上流まで延び、これにより、励起される容
積区域80が、区域84より少くとも上流に及び、場合
により、区域84中にも延びることが出来る様に、共振
器の設計が行われる。
この結果、急速なレーザガス流20の場合は、特に共振
器により透過され、区域84に入る前の流れにより、お
よびレーザビーム48′により、レーザガスが完全に励
起され、それ故可能な最大パワーによる干渉性放射が、
区域84内で生成可能となる。区域84中に入る前に、
レーザガスが励起される強度および継続時間長は、横断
方向22の上流のパターン82′の範囲に依り、自由に
漢訳可能となる。この範囲が、パターン82′の容積区
域80と区域84との間のマイクロ波励起に障害の無い
区域となることが、特に望ましい。
器により透過され、区域84に入る前の流れにより、お
よびレーザビーム48′により、レーザガスが完全に励
起され、それ故可能な最大パワーによる干渉性放射が、
区域84内で生成可能となる。区域84中に入る前に、
レーザガスが励起される強度および継続時間長は、横断
方向22の上流のパターン82′の範囲に依り、自由に
漢訳可能となる。この範囲が、パターン82′の容積区
域80と区域84との間のマイクロ波励起に障害の無い
区域となることが、特に望ましい。
第7図に示される本発明にかかる、ハイパワーレーザの
3番目の実施例において、第1実施例の場合の部品と一
致する部品は同じ参照番号が付き、これにより、これら
部品の説明のため、第1実施例に関する明細書に対し、
完全に、参照が為される。
3番目の実施例において、第1実施例の場合の部品と一
致する部品は同じ参照番号が付き、これにより、これら
部品の説明のため、第1実施例に関する明細書に対し、
完全に、参照が為される。
第1実施例の場合とは大きく異なり、壁板14および1
6は、ガス放電容積部18の境界を定めるためにのみ役
立つだけでなく、同時にレーザビームを光学的に反射す
る壁面24′および26′として供され、これにより、
2枚の壁板14および16が、壁面24′および26′
により、導波管の場合に通例となる相互間隔で、壁面2
4および26′の配列される、特別必要条件に適合する
、その全体110で表示される、導波管を形成する。
6は、ガス放電容積部18の境界を定めるためにのみ役
立つだけでなく、同時にレーザビームを光学的に反射す
る壁面24′および26′として供され、これにより、
2枚の壁板14および16が、壁面24′および26′
により、導波管の場合に通例となる相互間隔で、壁面2
4および26′の配列される、特別必要条件に適合する
、その全体110で表示される、導波管を形成する。
さらに、共振器は幅広の側端28に関連する凸面鏡11
2および幅広の側端28反対側に関連する凹面鏡14よ
り成る、光学的に不安定な共振器として設計される。凸
面鏡112および凹面鏡114はシリンダ状の設計とな
る、即ち、垂直方向83で平坦となることが望ましく、
対向する、出来れば、同焦点ミラー表面116および1
18を有することが望ましい。ミラー表面116および
118の半分が、左右対称で、不安定な共振器を形成す
る様に設計される、共振器が特に望ましく、これにより
、例えば、この不安定な共振器の共振器軸120は、ミ
ラー表面116および118を共振器軸120に直交さ
せ、共振器120との交点に設置することにより、第7
図中のミラー表面116の左側端より、例えば、ミラー
表面の左側端まで伸びる。ミラー表面116および11
8の設計によって、ビーム経路122が、前後の反射を
増大させることにより形成され、共振器軸120より右
側に、横断方向22に伝搬する0次に、ビーム経路は、
凸面鏡112に到る現行レーザービーム124上に及ぶ
、凸面鏡112は凹面鏡114よりも、横断方向22に
おいて、その範囲が狭い。
2および幅広の側端28反対側に関連する凹面鏡14よ
り成る、光学的に不安定な共振器として設計される。凸
面鏡112および凹面鏡114はシリンダ状の設計とな
る、即ち、垂直方向83で平坦となることが望ましく、
対向する、出来れば、同焦点ミラー表面116および1
18を有することが望ましい。ミラー表面116および
118の半分が、左右対称で、不安定な共振器を形成す
る様に設計される、共振器が特に望ましく、これにより
、例えば、この不安定な共振器の共振器軸120は、ミ
ラー表面116および118を共振器軸120に直交さ
せ、共振器120との交点に設置することにより、第7
図中のミラー表面116の左側端より、例えば、ミラー
表面の左側端まで伸びる。ミラー表面116および11
8の設計によって、ビーム経路122が、前後の反射を
増大させることにより形成され、共振器軸120より右
側に、横断方向22に伝搬する0次に、ビーム経路は、
凸面鏡112に到る現行レーザービーム124上に及ぶ
、凸面鏡112は凹面鏡114よりも、横断方向22に
おいて、その範囲が狭い。
ガス放電容積部18内を通る流れも一切無い方が望まし
いが、その代わり、ガス放電容積部18は、滞流するレ
ーザガスにより充填され、これにより、ガス放電容積部
18内の横断方向の流れを引き起こすための装置全てが
、それ無しで済まされることになる。
いが、その代わり、ガス放電容積部18は、滞流するレ
ーザガスにより充填され、これにより、ガス放電容積部
18内の横断方向の流れを引き起こすための装置全てが
、それ無しで済まされることになる。
第1実施例の場合同様、共振器52が、対応する絶縁設
計となる壁板16上にのみ配列される様とするための、
3番目の実施例に関する最初の変形の範囲内で、対応が
為され、一方壁板14は、この場合、メタル製あるいは
メタルコーテングを施した絶縁材料製の何れかとなる。
計となる壁板16上にのみ配列される様とするための、
3番目の実施例に関する最初の変形の範囲内で、対応が
為され、一方壁板14は、この場合、メタル製あるいは
メタルコーテングを施した絶縁材料製の何れかとなる。
共振器が、共振器軸120内での振動をスタートさせる
ことを可能とするため、パターン82は、少くとも、共
振器軸120をカバーする欅、対応が為される。さらに
、パターン821は、横断方向22に出来る限り遠くま
で及び、しかも、出来るだけ完全に、横断方向22にお
いても、ビーム経路122をカバーしなければならない
、パターン82′が、共振器軸120方向において、出
来るだけ遠くまで及ぶことも好都合となる。
ことを可能とするため、パターン82は、少くとも、共
振器軸120をカバーする欅、対応が為される。さらに
、パターン821は、横断方向22に出来る限り遠くま
で及び、しかも、出来るだけ完全に、横断方向22にお
いても、ビーム経路122をカバーしなければならない
、パターン82′が、共振器軸120方向において、出
来るだけ遠くまで及ぶことも好都合となる。
なお−層の変形の中で、壁板14と壁板16双方が、対
応して交互に配列されるパターン82aおよび82b中
で、共振器52を支える様に、第4図および第5図に示
される通り、対応を為し得る。
応して交互に配列されるパターン82aおよび82b中
で、共振器52を支える様に、第4図および第5図に示
される通り、対応を為し得る。
この特許出願の際の説明書は、1989年11月10日
のドイツ特許出願番号P3937490.4内で開示さ
れる主題に関連し、この全体スペックは、参照としてこ
の説明書中に組み込まれる。
のドイツ特許出願番号P3937490.4内で開示さ
れる主題に関連し、この全体スペックは、参照としてこ
の説明書中に組み込まれる。
第1図は第1実施例の略斜視図、第2図は第1図の線2
−2に沿った断面図、第3図は第2図と同様の図で第1
実施例の変形例の断面図、第4図は第2図と同様の図で
第1実施例の他の変形例の断面図、第5図は第4図の他
の変形例の平面図、第6図は第1図と同様の図で第2実
施例の略斜視図、第7図は第1図と同様の図で第3実施
例の略斜視図である。 14、16・・・絶縁壁、 18・・・ガス放電容
積部、24、26・・・壁面、 48.122・
・・ビーム軌道、52・・・マイクロ波共振構造、 6
6・・・同軸管、76・・・マイクロ波発生源、 1
10・・・導波管、80・・・容積区域。 FIG、7 手 続 補 正 書(方式) %式% 事件の表示 平成2年特許層第304224号 発明の名称 マイクロ波励起ハイパワーレーザ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 6、補正の対象 (1)願書の「出願人の代表者」の欄 (2)委任状 (3)明細書(e丸) 7、補正の内容 (1)(2)別紙の通り (3)明細書の浄書(内容に変更なし)& 添附書類の
目録 (1) 訂正願書 (2)委任状及び訳文 (3)浄書明細書 1通 各1通 1這 4、代理人
−2に沿った断面図、第3図は第2図と同様の図で第1
実施例の変形例の断面図、第4図は第2図と同様の図で
第1実施例の他の変形例の断面図、第5図は第4図の他
の変形例の平面図、第6図は第1図と同様の図で第2実
施例の略斜視図、第7図は第1図と同様の図で第3実施
例の略斜視図である。 14、16・・・絶縁壁、 18・・・ガス放電容
積部、24、26・・・壁面、 48.122・
・・ビーム軌道、52・・・マイクロ波共振構造、 6
6・・・同軸管、76・・・マイクロ波発生源、 1
10・・・導波管、80・・・容積区域。 FIG、7 手 続 補 正 書(方式) %式% 事件の表示 平成2年特許層第304224号 発明の名称 マイクロ波励起ハイパワーレーザ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 6、補正の対象 (1)願書の「出願人の代表者」の欄 (2)委任状 (3)明細書(e丸) 7、補正の内容 (1)(2)別紙の通り (3)明細書の浄書(内容に変更なし)& 添附書類の
目録 (1) 訂正願書 (2)委任状及び訳文 (3)浄書明細書 1通 各1通 1這 4、代理人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、共振器の軸方向に相互に対向して離間して配置した
ミラー群と、該共振器の軸方向及び該軸方向に直交した
横断方向の双方向に延びるビーム軌道とを有する共振器
と、 レーザガスを収容し、前記ビーム軌道が透過するガス放
電容積部と、 前記共振器の軸方向及び前記横断方向に対して実質的平
行に展開し、前記ガス放電容積部を包囲してその境界を
規定する対向した2つの壁面、とを具備するハイパワー
レーザにおいて、 少なくとも1つの前記壁面(24、26)が絶縁壁(1
4、16)によって形成され、 前記ガス放電容積部(18)内の前記レーザガスから分
離したマイクロ波共振構造(52)を前記絶縁壁(14
、16)上に配置し、該マイクロ波共振構造(52)が
該絶縁壁(14、16)に面した開口を有して該開口に
対向した該ガス放電容積部(18)の容積区域(80)
内に該レーザガスのマイクロ波励起を生じさせ、前記マ
イクロ波共振構造(52)にマイクロ波発生源(76)
からマイクロ波を誘導可能であること、を特徴とするハ
イパワーレーザ。 2、複数の前記マイクロ波共振構造(52)を前記絶縁
壁(14、16)上に配置することを特徴とする請求項
1記載のハイパワーレーザ。 3、前記複数のマイクロ波共振構造(52)を特定の様
式(82a、82b)に配置することを特徴とする請求
項2記載のハイパワーレーザ。 4、前記複数のマイクロ波共振構造(52)を、前記共
振器の軸方向(46、120)及び前記横断方向(22
)における前記ビーム軌道(48、122)の広がりに
対応した区域に配置することを特徴とする請求項2又は
3記載のハイパワーレーザ。 5、前記マイクロ波励起は前記ガス放電容積部(18)
の前記2つの壁面(24、26)間に広がることを特徴
とする請求項1〜4のいずれか一項記載のハイパワーレ
ーザ。 6、前記2つの壁面(24、26)をいずれも絶縁壁(
14、16)によって形成し、少くとも1つのマイクロ
波共振構造(52)を該壁面の各々に配置することを特
徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載のハイパワー
レーザ。 7、複数の前記マイクロ波共振構造(52)を前記絶縁
壁(14、16)の双方に配置することを特徴とする請
求項6記載のハイパワーレーザ。 8、対向する前記絶縁壁(14、16)に配置した前記
マイクロ波共振構造群(52)を相互にジグザグ状に配
置することを特徴とする請求項6又は7記載のハイパワ
ーレーザ。9、前記マイクロ波共振構造(52)の各々
をそれ自体のマイクロ波発生源(76)に連結すること
を特徴とする請求項1〜8のいずれか一項記載のハイパ
ワーレーザ。 10、前記マイクロ波共振構造(52)はシリンダ共振
器であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項
記載のハイパワーレーザ。 11、前記シリンダ共振器(52)を一端面(58)を
以って前記絶縁壁(14、16)上に配置することを特
徴とする請求項10記載のハイパワーレーザ。 12、前記シリンダ共振器(52)は前記絶縁壁(14
、16)に対面した前記端面(58)で開口することを
特徴とする請求項11記載のハイパワーレーザ。 13、前記マイクロ波発生源から前記マイクロ波共振構
造まで同軸管(66)が連通することを特徴とする請求
項1〜12のいずれか一項記載のハイパワーレーザ。 14、前記壁面群(24’、26’)を、実質的に前記
共振器の軸(120)に沿って前記ミラー群(112、
114)の間に延びる導波管(110)の光学的反射導
波面として形成することを特徴とする請求項1〜13の
いずれか一項記載のハイパワーレーザ。 15、前記共振器は不安定共振器であることを特徴とす
る請求項1〜14のいずれか一項記載のハイパワーレー
ザ。 16、レーザガスは前記ガス放電容積部(18)を通っ
て流れることを特徴とする請求項1〜15のいずれか一
項記載のハイパワーレーザ。 17、レーザガスは前記共振器を通って前記横断方向(
22)に流れることを特徴とする請求項16記載のハイ
パワーレーザ。 18、マイクロ波励起した前記容積区域(80)を前記
共振器の上流に配置することを特徴とする請求項16又
は17記載のハイパワーレーザ。 19、前記マイクロ波励起した前記容積区域(80)と
前記共振器との間に、マイクロ波励起を受けない区域が
あることを特徴とする請求項18記載のハイパワーレー
ザ。 20、前記共振器が折畳み式共振器であることを特徴と
する請求項1〜19のいずれか一項記載のハイパワーレ
ーザ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3937490A DE3937490A1 (de) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | Mikrowellenangeregter hochleistungslaser |
DE3937490.4 | 1989-11-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03208385A true JPH03208385A (ja) | 1991-09-11 |
JPH0716063B2 JPH0716063B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=6393297
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2304224A Expired - Lifetime JPH0716063B2 (ja) | 1989-11-10 | 1990-11-13 | マイクロ波励起ハイパワーレーザ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5058122A (ja) |
JP (1) | JPH0716063B2 (ja) |
DE (1) | DE3937490A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5353297A (en) * | 1993-07-12 | 1994-10-04 | Coherent, Inc. | Gas slab laser with folded resonator structure |
US5412681A (en) * | 1994-03-30 | 1995-05-02 | Carl Zeiss, Inc. | Slab-waveguide CO2 laser |
US5438587A (en) * | 1994-03-31 | 1995-08-01 | Spectranetics | Preionizer for laser assembly |
US5822354A (en) * | 1996-04-22 | 1998-10-13 | Synrad, Inc. | Variable-aperture cavity laser |
JPH11220195A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロ波ガスレーザ発振装置 |
US6215807B1 (en) * | 1998-02-24 | 2001-04-10 | Northeast Science & Technology | Coherent multiple beam laser system |
US8599898B2 (en) * | 2004-12-22 | 2013-12-03 | Universal Laser Systems, Inc. | Slab laser with composite resonator and method of producing high-energy laser radiation |
Family Cites Families (7)
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