JPH03195710A - 本質的に低復屈折成型重合体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、重合体を光学記憶ディスクの基材並びに良好
な光学的性質が望ましい他の応用に用いられるのに理想
的に適するようにする非常に低い複屈折及び他の性質を
有する重合体に関する。光学記憶ディスク例えばコンパ
クトディスク並びにさらに特にデジタル化データを記録
且つ再生する能力を有するデータ記憶ディスクは、最近
高い産業上の興味を引いている。最近のデザインは、一
般に良好な光学的透過性を有するディスク状の基材並び
にデジタル化情報の記録のためのこのディスクの少なく
とも一つの主な面に沈着されたｌＮ以上の層を用いる。

比較的簡単なコンパクトディスクは、読み出し専用の光
学記憶ディスクの例である。一般に、このようなディス
クは、所望の情報が任意の適当な技術の使用により基材
中に形成される一連の穴で符号化される基材及び反射層
のみからなる。このようなデータの記録及び再生の両者
そしてさらにこのようなデータの消去及び再録音に適合
したより進んだデザインは、基材と反射層との間にｌＮ
以上の追加の層を挿入し、その中の１層は活性層とされ
る。活性層は、データの記録を行わせる材料よりなる。

適当な材料は、温度検出光活性材料、アモーファス結晶
、磁気活性化光学材料（磁気光学材料）又は他の適当な
組成物を含む。特に磁気光学活性層に関し、光学ディス
クからデータを引き出すのに利用される平面偏光レーザ
ービームは、活性層を通過することにより回転せしめら
れる。光学検出装置例えば光検出ダイオードは、光ビー
ムをさえぎりそして回転が生じているかどうかを決める
ように位置する。活性層による光ビームの回転は、零を
示す零出力を生ずる。もしレーザービームが活性層によ
り影響を受けないならば、ダイオードは光を感じそれに
より１を表すように適合される。レーザービームがディ
スクの表面を走査するとき、一連の零及び１が活性層に
記録されたデータに応じて記録される。

上述の磁気・光学活性層を用いる光学ディスクの製造に
当って、熱可塑性基材が望ましくは用いられる。このよ
うな基材は、適当には射出成型により製造できる。多数
の物理的な制約が、このような基材の製造に用いられる
重合体材料により満足されねばならない、もちろん、基
材はレーザー検出手段により用いられる波長で光学的に
透明でなければならない。

光学的に透明であることに加えて、このような基材は、
所望の出力信号の不明瞭化をもたらすやり方で、平面偏
光レーザービームを回転してはならない。

他の光学的な用途において、低い複屈折成型重合体は同
様に望ましい。つや出しのような応用において、又は自
動車の内部の計器パネルカバーの製造において、複屈折
重合体の使用は、成る照明条件下で生ずる着色した回折
像により望ましくない。

複屈折又は光干渉を生ずる重合体の異方性が熱可塑性物
の成型中に生ずる応力から生ずることは知られている。

成る程度まで、この複屈折は、殆ど又は全く成型による
応力を有しない物品を生成するようにデザインされた成
型技術の使用により低下できる。これらの技術は、低分
子量重合体、高い成型温度及び増大した成型時間の使用
を含み、重合体の緩和を促進させ、さらに大きなしかも
妨害のないゲート及びチャンネルを有する型の使用を含
み、得られる成型物の複屈折を低下させる。不利なこと
には、このような技術は、成型ディスク基材に必要な時
間を増大させ、そして究極的に成型コストを増加させる
。

低い複屈折を有する材料が反対する複屈折性を有する適
切な量の重合体を混合することにより製造できることは
、当業者にとり既に知られている。８２％のポリメチル
メタクリレート及び１８％のポリ弗化ビニリデンよりな
るブレンドがＰｏ１ｙ＋ｗｅｒ　２６．　１６１９　（
１９８５）に開示されている。同様な性質を有する他の
ブレンドは、Ｊ、　ｌｌｅｎｎｉｎｇ。

Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅ、７５．４２５　（１９８５）
　、米国特許第４３７３０５５号及びケミカル・アブス
トラクツ１０６　（２）：　１１１３０Ａに開示されて
いる。

不利なことには、低い複屈折材料を生成するための重合
体混合法を利用する技術は、種々の成分が完全に相溶性
であること並びに密接な混合技術例えば溶液混合法が光
の波長より大きいドメインを生じさせないことを確実に
するために用いることを必要とする。大きなドメインの
大きさは、重合体の別々の領域において異なるレベルの
複屈折を生成した。その上、温度／ひすみ速度依存関係
が、２種の重合体が独立した緩和速度を有するという事
実により、このようなブレンドに存在することが分って
いる。即ち、もしこのようなブレンドから形成された物
品がブレンドのすべての成分より低いガラス転移温度よ
り高い温度に加熱されるならば、応力により誘発される
複屈折が再び生ずる。

本質的な低い複屈折に加えて、光学的応用に用いられる
適当な重合体材料は、又低い熱伝導性、低い水分吸収性
、優れた耐久性及び高熱の作用に対する抵抗性を有しな
ければならない、特に、所望の基材材料は、反射層の沈
着の技術例えば金属スパッターリング或いは金属蒸気沈
着又は高温への他の曝露が材料に影響を与えない程十分
に高いガラス転移温度を示さねばならない、又、光学記
録ディスクにとり、低い水分吸収は、ディスクの差別的
な膨張が生じずそして水蒸気とディスクの他の成分特に
活性層又は金属性反射層の何れかとの相互反応が生じな
いように望まれる。ディスクの耐久性又は寸法安定性は
、重合体基材のモジュラスに主として依存する。

最後に基材材料として用いられる適当な樹脂は、圧縮又
は射出成型の適用における成型樹脂として有用に用いら
れるのに十分な引張り強さを有しなければならない。

米国特許第４７８５０５３号において、それぞれが絶対
値の条件で少なくとも５０　Ｘ　１０−２５ｃｖａ３の
正及び負の主な分極率の差並びに良好な水吸収性、熱抵
抗性及び成型性を有する少なくとも２種の構成単位より
なる低下した復屈折を有する光学材料が開示されている
。５欄４δ〜４７行において、文献はスチレン及びメチ
ルメタクリレートの共重合体は低下した復屈折を有する
。文献のこの教示が、メチルメタクリレート含有重合体
の分極率（ポリメチルメタクリレートの分極率の溶液測
定に基づいた）の既に公表された値に対する発明者によ
る信頼によフて不正確であることが分かった。このよう
な溶液測定は、共重合体の極限分極率の予測に用いられ
るのに信頼できない、その代りに、溶融重合体の主な分
極率の測定が用いられなければならない。例えば、本発
明者は、重合体溶融物で測定されるとき、ポリメチルメ
タクリレートが負の、正ではない分極率の値を有するこ
とを見い出した。ポリスチレンも又負の分極率の値を有
するので、スチレン及びメチルメタクリレート単量体の
比が、ポリメチレンメタクリレートに比べて共重合体の
複屈折の低下を生じない。米国特許第４．７８５０５３
号の予測に反して、スチレン及びメタクリレートエステ
ルよりなる重合体は、正のホモポリマーの分極率を有す
る共単量体の不存在下低下した複屈折を有しない。

文献は、又４５重量部のメチルメタクリレート、２２重
量部のスチレン及び３３重量部のｎ−ブチルマレイミド
の成るインターポリマーを開示している。このような重
合体は、正の応力光学係数を有するｎ−ブチルマレイミ
ド部分の存在により低下した複屈折に関する可能性を有
する。この事実にかかわらず、このような共重合体は、
なお高性能の光学ディスク基材として用いられるには適
さない。この共重合体の一つの欠点は、より許容できな
い程高い水吸収性である。他の欠点は、樹脂の低い強さ
の性質である。

従って、予測可能なやり方で零又は低下した複屈折を有
する共重合体を提供する必要が存在する。

又良好な光学的性質及び強さの性質の組合わせが望まれ
る使用について新しい重合体を提供する必要が存在する
。

さらに特に、低下した複屈折、容易な成型性、低い水吸
収性及び高い引張り強さ及びモジュラスの性質を有する
成型した物品を提供できる重合体を提供するのが望まし
い。

最後に、上記の共重合体よりなる光学ディスク、レンズ
、器具ケース及びカバーなどの製造に用いられる基材の
ような光学装置を提供するのが望ましい。

（発明の概要） 複屈折は、このような重合体の溶融物における応力光学
係数（ｃ）の測定によりすべての重合体について予測で
きることが分かった。その上、インターポリマーの究極
応力光学係数が、このようなインターポリマー０種々の
構造単位を構成している単量体のホモポリマー又は理論
上のホモポリマーの溶融物の応力光学係数の合計に基づ
いて予測できることが分かった。任意の重合体に間する
応力光学係数は、重合体により偏光ビームに与えられる
回転の方向に依存して正又は負の何れかであり、応力光
学係数は、任意の所定の重合体に間する真の応力対複屈
折のグラフの最初のスロープから計算できる。このよう
な技術は、ＡＳＴＭ　　４０９３により与えられる。理
論上のホモポリマー応力光学係数は、関心のある単量体
の量を変えつつ、共重合体の溶融物の測定値から線状に
外そうすることによりホモポリマーを形成できない成る
単量体について求められる。前記の単量体の例は、メタ
クリレート又はメタクリルアミド重合体から誘導されそ
してプレカーサ一部分の１００％転化により実際上製造
できない種々のグルタールイミドである。

最終重合体の複屈折に対する各単量体の貢献を求めるこ
とにより、このような単量体のモルの量は、その中の構
造単位のタイプ及び割合により本質的に低い複屈折を有
する重合体を提供するように調節できる。適当な成型重
合体は、他の単量体成分の個々の応力光学係数を消去す
る単量体成分によりデザインできる。

本発明によれば、−１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒより大き
い又はそれに等しくさらに＋１０００８ｒｅｖｓｔｅｒ
より小さい又はそれに等しい溶融応力光学係数（＋ｅｌ
ｔ　５ｔｒｅｓｓ　ｏｐｔｉｃ　ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎ
ｔ）（ｃ）、少なくとも１４０℃のガラス転移温度並び
に０．２５％又はそれより小さい水吸収（ＡＳＴＭ　　
Ｄ５７０−８１による八〇２０）を有し、さらに重合し
た形状構造単位（ａ）及び（ｂ）よりなり、構造単位（
ａ）は正の溶融ホモポリマー応力光学係数を有しそして
構造単位（ｂ）は負の溶融ホモポリマー応力光学係数を
有する重合体が提供される。好ましい態様において、本
発明の重合体は、又ＡＳＴＭ　　Ｄ−６３８により測定
するとき少なくとも３０００　ｌ　ｂ／ｉ　ｎ２　（２
０Ｍｐａ）好ましくは４０００　ｌ　ｂ／ｉ　ｎ２　（
２７ＭＰａ）の破壊時の引張り強さ（ｔｅｎｓｉｌｅ　
ｓｔｒｅｎｇｔｈ　ａｔ　ｂｒｅａｋ　）を有する。Ａ
ＳＴＭ　　Ｄ−６３８により測定して少なくとも２９０
０００１ｂ／ｉｎ２　（２０００ＭＰａ）のモジュラス
を有する重合体がさらに好ましい。

他の態様において、基材が−１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ
より大きい又はそれに等しくさらに＋１０００Ｂｒｅｗ
ｓｔｅｒより小さい又はそれに等しい溶融応力光学係数
（ｃ）、少なくとも１４０℃のガラス転移温度並びに０
．２５％又はそれより小さい水吸収（ＡＳＴＭ　　Ｄ５
７０−８１によるＡｌ２Ｏ）を有し、さらに重合した形
状構造単位（ａ）及び（ｂ）よりなり、構造単位（ａ）
は正の溶融ホモポリマー応力光学係数を有しそして構造
単位（ｂ）は負の溶融ホモポリマー応力光学係数を有す
る重合体よりなる、重合体状基材よりなる光学記憶ディ
スクが提供される。

第１図は、重合した形のスチレン、シクロヘキシルメタ
クリレート及びＮ−フェニルマレイミドを含む重合体の
種々の性質のグラフである。ガラス転移温度（Ｔｇ）＝
１４０℃（Ｌｌ）及びそれ以上、水吸収度（Ａｌ２Ｏ）
＝０．２５％（Ｌ２）及びそれ以下、及び＋１０００Ｂ
ｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ３　）と−１０００８ｒｅ冒５ｔ
ｅｒ（Ｌ４）との間の溶融応力光学係数（ｃ）を有する
重合体組成物の領域が記述されている０本発明のすべて
の重合体が、過剰の正の溶融応力光学係数に達する前に
、水吸収により制限されることは、図面から明らかであ
る。従って、本発明の代表的な重合体は、Ｌｌ、　Ｌ２
．　Ｌ４及びグラフの周辺により境界をきめられた領域
内の組成を有する。

第２図は、第１図と同一の単量体成分の同様なグラフで
あるが、ただし＋５００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ　３’
　）及び−５００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　　（Ｌａ’　）の
溶融応力光学係数が記述されている。

本発明の代表的な好ましい重合体は、Ｌ　＋　＋　Ｌ　
２１　Ｌ　ａ’及びグラフの周辺により境界をきめられ
た領域内の組成を有する。

第３図は、重合した形のスチレン、シクロヘキシルメタ
クリレート及び２，４−ジメチルグルタールイミドを含
む重合体の種々の性質のグラフである。ガラス転移温度
（Ｔｇ）＝１４０℃（Ｌ５）及びそれ以上、水吸収度（
Ａ１２Ｑ　）　＝０．２５％（Ｌ６）及びそれ以下並び
に溶融応力光学係数（ｃ）　＋　１０００Ｂｒｅｗｓｔ
ｅｒ　（Ｌ？　）　〜−１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ（Ｌ
８）を有する重合体組成物の領域が記述される。従って
、本発明の代表的な重合体は、Ｌ　６＋　Ｌ　６＋　Ｌ
　ｔ＊　Ｌ　ｓ及びグラフの周辺により境界をきめられ
た領域内の組成を有する。

第４図は、第３図と同じ単量体成分の同様なグラフであ
るが、ただし溶融応力光学係数は＋５００Ｂｒｅｗｓｔ
ｅｒ　（Ｌ？’　）と−５００８ｒｅｖｓｔｅｒ　（Ｌ
　ｓ’　）との間である０本発明の代表的な好ましい重
合体は、Ｌ　６１　ＬＳＩ　Ｌ？’　＊　Ｌｓ’及びグ
ラフの周辺により境界をきめられたグラフの領域内の組
成を有する。

第５図は、重合した形のスチレン、イソブチルメタクリ
レート及びＮ−シクロヘキシル−２，４−ジメチルグル
タールイミドを含む重合体の種々の性質のグラフである
。ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１４０℃（Ｌ９）及びそれ
以上、水吸収度（Ａ１２０　）　＝帆２５％（Ｌ’ｓ）
及びそれ以下並びに−１゜００　Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（
Ｌ　１２　）より大きい溶融応力光学係数（ｃ）を有す
る重合体組成物の領域が記述される。すべての重合体は
、＋　１０００　Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ　Ｌｌ）とい
う過剰の正の溶融応力光学係数に達する前に、水吸収度
（Ｌｌｌりによりυ１限される。従って、本発明の代表
的な重合体は、Ｌ９．Ｌｅａ、Ｌ１２及びグラフの周辺
により境界をきめられる領域内の組成を有する。

第６図は、第５図と同じ単量体成分の同様なグラフであ
るが、ただし＋５００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ　＋＋’
　）　　及び−５００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ　１２’
　）の溶融応力光学係数が提供される。本発明の重合体
は、Ｌ　９＋　Ｌ　１９＋　Ｌ　１２’　　及びグラフ
の周辺により境界をきめられた領域にある。

第７図は、重合した形のスチレン、シクロヘキシルメタ
クリレート及びＮ−シクロヘキシル−２，４−ジメチル
グルタールイミドを含む重合体の種々の性質のグラフで
ある。ガラス転移温度（Ｔｇ）＝ｔａｏ℃（Ｌｌ３）及
びそれ以上、水吸収度（ＡＨ２１））＝０．２５％（Ｌ
ｌ４）及びそれ以下並びに＋　１０００Ｂｒｅｗｓｔｅ
ｒ　（Ｌ　＋５）と−１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ
　＋ｅ）との間の溶融応力光学係数（ｃ）を有する重合
体組成物の領域が記述されている。本発明の多くの重合
体が、過剰の正の溶融応力光学係数に達する前に水吸収
度により制限されることは、図から明らかである０本発
明の代表的な重合体は、Ｌ　ｒａ、Ｌ　１４＋　Ｌ　Ｉ
Ｌ　Ｌ　ｒａ及びグラフの周辺により境界をきめられた
グラフの領域内の組成を有する。

第８図は、重合した形のスチレン、シクロヘキシルメタ
クリレート及びＮ−メチル−２，４−ジメチルグルター
ルイミドを含む重合体の種々の性質のグラフである。ガ
ラス転移温度（Ｔｇ）＝ｉａｏ℃（Ｌｌ７）及びそれ以
上、水吸収度（Ａ１２Ｑ　）　＝帆２５％（Ｌｅａ）及
びそれ以下並びに＋１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ　
＋ｓ）と−１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ　２ｓ）と
の間の溶融応力光学係数（ｃ）を有する重合体組成物の
領域が記述されている。本発明の代表的な重合体は、Ｌ
　Ｉ？＋　Ｌ　ｌ［ｌ＋Ｌ１９１　Ｌ２１１及びグラフ
の周辺により境界をきめられるグラフの領域内の組成を
有する。

第９図は、重合した形のスチレン、イソブチルメタクリ
レート及びＮ−メチル−２，４−ジメチルグルタールイ
ミドを含む重合体の種々の性質のグラフである。ガラス
転移温度（Ｔｇ）＝１４０℃（Ｌ　２１）及びそれ以上
、水吸収度（ＡＨ２ｇ　）　＝帆２５％（Ｌ　２２）及
びそれ以下並びに−１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ２
４　）より大きい溶融応力光学係数（ｃ）を有する重合
体組成物の領域が記述されている。すべての重合体は、
＋　１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ　（Ｌ２３　）の過剰の
正の溶融応力光学係数に達する前に、水吸収度（Ｌ　２
２）により制限される。従フて、本発明の代表的な重合
体は、Ｌ２１１　Ｌ２２１　Ｌ２４及びグラフの周辺に
より境界をきめられた領域内の組成を有する。

第１０図は、重合した形のスチレン、イソブチルメタク
リレート及び２．４−ジメチルグルタールイミドを含む
重合体の種々の性質のグラフである。ガラス転移温度（
Ｔｇ）＝１４０℃（Ｌ　２％）及びそれ以上、水吸収度
（Ａ１２Ｑ　）＝０．２５％（Ｌ　２８）及びそれ以下
並びに−１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒ（Ｌ　２１１）より
大きい溶融応力光学係数（ｃ）を有する重合体組成物の
領域が記述される。すべての重合体は、＋１０００Ｂｒ
ｅｓｒｓｔｅｒ　（Ｌ　２７）の過剰の正の溶融応力光
学係数に達する前に、水吸収度（Ｌ　２６）により制限
される。従って、本発明の代表的な重合体は、Ｌ　２５
＋　Ｌ　２６１　Ｌ　２１１及びグラフの周辺により境
界をきめられた領域内の組成を有する。

溶融応力光学係数（又溶融した応力光学係数と呼ばれる
）は、得られた重合体の複屈折の性質をさらに正確に予
測させるために、分極率の差の代りに本発明者により利
用される。

ホモポリマーの溶融応力光学係数値は、もし利用できる
ならば、重合体溶融物から作成される測定に基づいて計
算されるか、又はさもなければそれは各共単量体の比を
変化させつつ、２種以上の共重合体の計算された溶融応
力光学係数から外そうされる０本発明による重合体は、
溶融応力光学係数、水吸収度及び熱ひずみの制限のすべ
てを満足することが要求される。従って、成る組成物は
一つの性質により排除され、そして他の性質の極限に達
することができない。例えば、第５及び６図の組成物は
、最大の正の溶融応力光学係数に達する前に、水吸収の
性質により制限される。

グループ（ａ）に属する構造単位の例は、不活性的にＮ
　−置換されたマレイミド、特にアルキル、シクロアル
キル、アリール及びアルカリールＮ−置換マレイミド並
びにそのアルキル、シクロアルキル、アリール及びアル
カリール環置換誘導体（各置換基において約１２個以内
の炭素を有する）の重合により形成される部分である。

又、グルタールイミド及び不活性的に置換されたグルタ
ールイミド、特にＮ−置換グルタールイミド例えばアル
キル、シクロアルキル、アリール及びアルカリールＮ−
置換グルタールイミド並びにそのアルキル、シクロアル
キル、アリール及びアルカリール環置換誘導体から誘導
される構造単位が含まれる。このような構造単位は、マ
レイミドについて式■によりそしてグルタールイミドに
ついて式■により示される。

ＯＮ　　　　　　　　０ ３ １ ２ 式中、Ｒ＋　、Ｒ２及びＲ３は独立して水素、０１〜Ｃ
Ｉ２アルキル、０６〜ＣＩ２シクロアルキル又はアリー
ル並びに０７〜ＣＩ２アルカリール基から選ばれる。好
ましくは、式Ｉにおいて構造単位Ｒ１及びＲｅはともに
水素である。好ましくは式■において構造単位Ｒ１及び
Ｒ２はともにメチルである。

グルタールイミド含有重合体は、任意の適当な技術によ
り製造できる。一つの方法は、適当なアクリレート又は
メチルアクリレートエステル含有単量体と共重合可能な
モノビニリデン芳香族共単量体との共重合を含む、グル
タールイミド官能基は、アンモノリシス及びシクログル
タールイミド化反応を経てプレカーサー重合体の結合し
たアクリレート又はメタクリレート官能基の転化により
導入される。二段階の方法は、メタクリル又はアクリル
エステル基とアミンとの反応そしてそれに続くヒドロキ
シル化基の除去を含む、メチルメタクリレート重合体へ
のグルタールイミド官能基の導入に適当な技術は、既に
米国特許第３２４４６７９　；３２８４４２５　；４２
４６３７４　；　４７４５１５９号及び日本特許公開第
８５−２３３１０６号に教示されている。もしグルター
ルイミドがアミンの存在下メチルメタクリレート含有重
合体を加熱することにより形成されるならば、Ｎ−置換
グルタールイミドが製造できる。このようなＮ−置換グ
ルタールイミドは、低下した吸湿性を有する。一方、ア
ミド官能基は、先ず例えばメタクリルアミド又は他の適
当な単量体及びアクリル酸又はメタクリル酸又はその誘
導体の標準の共重合を経て重合体に導入され、そして得
られた重合体は通常単に重合体を加熱することにより、
グルタールイミド化される。

マレイミド含有重合体は、簾水マレイン酸含有重合体の
後イミド化により、又は適切な単量体の直接重合により
製造できる。

グループ（ｂ）の構造単位は、芳香族基中に６〜２０個
の炭素を有するモノビニリデン芳香族単量体から誘導さ
れた部分を含み、さらにアルキル基に２〜１４個の炭素
、シクロアルキル又はアリール基に６〜１４個の炭素及
びアルアルキル基に７〜１４個の炭素を有するアクリル
酸及びメタクリル酸のアルキル、シクロアルキル、アリ
ール及びアルアルキルエステルから誘導された構造単位
を含む。好ましいグループ（ｂ）の構造単位は、スチレ
ン及び前記のアルキル−、アリール−、アルカリール−
又はシクロアルキルメタクリレートの重合した形である
。より好ましいグループ（ｂ）の構造単位は、それらに
帰因する比較的低い水吸収性のために、アルキル基に２
〜１４個の炭素、シクロアルキル又はアリール基に６〜
１４個の炭素又はアルアルキル基に７〜１４個の炭素を
有するメタクリル酸のアルキル、シクロアルキル、アリ
ール及びアルアルキルエステル（以下「高級メタクリレ
ートエステル」と呼ぶ）並びにスチレンの重合した形で
ある。

本発明の好ましい態様において、少なくともある量のモ
ノビニリデン芳香族単量体が、モノビニリデン芳香族単
量体が得られた重合体に良好な成型性を付与するために
、望ましい。

特に、重合体溶融加工性及び熱安定性が、少なくとも５
モル％好ましくは少なくとも８モル％のモノビニリデン
芳香族単量体の存在により改善される。さらに、シクロ
グルタールイミド化に利用不能にするモノビニリデン芳
香族単量体部分間の単一のメタクリレートエステル部分
の単離によるため、非常に少ないレベルのメタクリレー
トエステルを有する組成物がここに開示されたアンモノ
リシス／シクログルタールイミド化の好ましい技術によ
り製造できないことを理解すべきである。実際上の限界
として、本発明の重合体のアクリレート又はメタクリレ
ートエステル含量は、少なくとも５モル％好ましくは少
なくとも８モル％である。これらの制約は、添付図面に
記述された領域から重合体領域の排除又は禁止帯を導く
。

最も好ましい重合体は、スチレン；イソプロピルメタク
リレート、イソブチルメタクリレート、ネオペンチルメ
タクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニ
ルメタクリレート及びペンゾルメタクリレートよりなる
群から選ばれるメタクリレートエステル；及び２．４−
ジメチルグルタールイミド又はＣ５〜６アルキルー或い
はシクロヘキシルＮ−置換２．４−ジメチルグルタール
イミド基よりなる。

任意の数の異なるグループ（ａ）及Ｕ　（ｂ）部分が、
所望の重合体の性質を達成するために、本発明の重合体
中に挿入される。グループ（ａ）及び（ｂ）部分のそれ
ぞれの１種以上が、得られた共重合体又はインターポリ
マーが所望の溶融した応力光学係数、水吸収度又はガラ
ス転移温度を有するように用いられる。重合体はブロッ
ク又はランダム重合体の形又はグラフト共重合体の形で
あるが、ランダム共重合体が好′ましい。それは、成る
大きなドメインブロック共重合体に生ずるような重合体
中の大きな領域又はドメインが重合体の光学的性質に影
響するからである。

特別な部分に帰因する本発明の共重合体の最終の溶融し
た応力光学係数への寄与は、このような部分のモル濃度
又はモルフラクションに直接比例する。従って、共重合
体の応力光学係数は、このような部分のホモポリマーの
応力光学係数（即ちホモポリマーの溶融した応力光学係
数）と各部分のモル含量との積の合計である。これは、
数学的にＣｔ＝Σ　Ｍ、Ｃ。

（式中、Ｃｃは得られた共重合体の全溶融応力光学係数
であり、Ｍ、は個々の構造単位ｍのモルフラクションで
あり、Ｃ，は構造単位ｍのホモポリマー溶融応力光学係
数である）として表わされる。

好ましい態様において、本発明は下記の式％式％ （式中、ｘ、ｙ及び２は成分のそれぞれのモルフラクシ
ョンであり、Ｒは独立してそれぞれの場合０２〜Ｃ２〜
Ｃ１４アルキル、０６〜Ｃ２〜Ｃ１４シクロアルキル或
いはアリール、又はＣ７〜Ｃ２〜Ｃ１４アルアルキルで
あり、ＡｒはＣ６〜ＣＩＪアリール又はアルキル−或い
はハロゲン−置換アリールであり、Ｒ＋　、Ｒ２及びＲ
３は前記同様であり、Ｒ４及びＲ′は独立して水素又は
メチルであり、ｎはマレイミド又はグルタールイミド官
能基のどれかが存在するかに応じて零或いは１である）
に相当するインター重合した単位よりなるものとして記
述できる。最も好ましい態様において、重合体はグルタ
ールイミド及びメタクリレートエステル官能基（即ちｎ
＝１及びＲ′がメチルである）よりなる。

好ましいそして最も好ましい組成物に間する前述の重合
体の式（ｘ、ｙ及Ｕｚ）における部分の相対的量は、第
１−１Ｏ図に間して決定され、規定された領域内の重合
体組成物は所望の重合体の性質を達成する。ｘ、ｙ及び
２の値は、前述したように禁止帯を考慮に入れて、これ
ら図面の各成分の対応する最大及び最小から得られる。

従って、スチレン、シクロヘキシルメタクリレート及び
Ｎ−フェニルマレイミドの特定のターポリマー（第１及
び２図）について、好ましくは： Ｘは０．０５〜０゜３０（６〜３０モル％）最も好まし
くは０．０８〜０．２０　（８〜２０モル％）に及び；
ｙは０．４０〜０．８０　（４０〜８０モル％）最も好
ましくは０．５５〜０．８０　（５５〜８０モル％）に
及び；そして ２は０．２０〜０．３０　（２０〜３０モル％）最も好
ましくは０．２０〜０．２７　（２０〜２７モル％）に
及ぶ。

スチレン、シクロヘキシルメタクリレート及び２，４−
ジメチルグルタールイミドのターポリマー（第３及び４
図）について、好ましくは： Ｘは０．０５〜０．５５　（５〜５５モル％）最も好ま
しくは０．０８〜０．５０　（８〜５０モル％）に及び
；ｙは０．０５〜０．８５　（５〜８５モル％）最も好
ましくは０．０８〜０．７７　（８〜７７モル％）に及
び；そして２は０．１５〜０．５５　（１５〜５５モル
％）最も好ましくは０．１５〜０．５５　（１５〜５５
モル％）に及ぶ。

スチレン、イソブチルメタクリレート及びＮ−シクロヘ
キシル−２，４−ジメチルグルタールイミドのターポリ
マー（第５及び６図）について、好ましくは：Ｘは０．
２０〜０．４３　（２０〜４３モル％）最も好ましくは
０．２０〜０．３６（２０〜３５モル％）に及び；ｙは
０．０５〜０．３３　（５〜３３モル％）最も好ましく
は０．０８〜０．３３　（８〜３３モル％）に及び；そ
して２は０．４２〜０．６２　（４２〜６２モル％）最
も好ましくは０．４６〜０．８０　（４６〜６０モル％
）に及ぶ。

スチレン、シクロヘキシルメタクリレート及びＮ−シク
ロヘキシル−２，４−ジメチルグルタールイミドのター
ポリマ（第７図）について、好ましくは： Ｘは０．０５〜０．４３　（５〜４３モル％）に及び；
ｙは０．０５〜０．６８　（５〜６８モル％）に及び：
そして ２は０．２５〜０．８２　（２５〜６２モル％）に及ぶ
。

スチレン、シクロヘキシルメタクリレート及びＮ−メチ
ル−２，４−ジメチルグルタールイミドのターポリマー
（第８図）について、好ましくは： Ｘは０．０９〜０．５４　（９〜５４モル％）に及び；
ｙは０．０５〜０．５５　（５〜５５モル％）に及び；
そして ２は０．３０〜０．５５　（３０〜５５モル％）に及ぶ
。

スチレン、イソブチルメタクリレート及びＮ−メチル−
２゜４−ジメチルグルタールイミドのターポリマー（第
９図）について、好ましくは： Ｘは０．３５〜０．５３　（３５〜５３モル％）に及び
：ｙは０．０５〜０．２５　（５〜２５モル％）に及び
；そして ２は０．３７〜０．４８　（３７〜４８モル％）に及ぶ
。

スチレン、イソブチルメタクリレート及び２．４−ジメ
チルグルタールイミドのターポリマー（第１０図）につ
いて、好ましくは： Ｘは０．３８〜０．５５　（３８〜５５モル％）に及び
；ｙは０．０５〜０．２７　（５〜２７モル％）に及び
；そして ２は帆２８〜０．５４　（３８〜５４モル％）に及ぶ。

本発明者は、高級メタクリレートエステル官能基のみを
含む重合体が、それらが最初のアンモノリシス工程に抵
抗するため、対応するグルタールイミド含有重合体に転
化できないことを見い出した。しかし、高級メタクリレ
ートエステル官能基を散在したメチルメタクリレート部
分の存在は、前者をグルタールイミド官能基へ転化させ
る。そのため、０２〜２＠アルキル又はシクロアルキル
メタクリレートエステルはそれ自体アンモノリシスがで
きずそれ故それに対する任意の前記の従来の技術を利用
する後続のシクロイミド化ができないが、原料重合体中
のメチルメタクリレートエステル官能基及びＣ２〜２１
１アルキル又はシクロアルキルメタクリレート官能基の
両者の存在は、Ｃ２−２１１アルキル又はシクロアルキ
ルメタクリレートのシクロイミド化を生じさせる。その
結果、（共重合のランダムな性質のため）得られる重合
体中に残在する大きなしかも望ましくない割合の吸蔵さ
れたメチルメタクリレート又はメタクリルアミド官能基
を予想するが、事実このような官能基の本質的に完全な
転化が得られる。前記の方法における制限される工程は
、メチルメタクリレート官能基の存在を要するアンモノ
リシスであるように思われる。メチルメタクリレート官
能基のアンモノリシスから生ずる隣接するアクリルアミ
ド単位によるＣ２〜２Ｂアルキル又はシクロアルキルメ
タクリレート官能基のシクロイミド化は、全く容易に生
ずる。

それ故アンモノリシス及びシクロイミド化の工程を経て
２゜４−ジメチルグルタールイミド官能基及び０２〜２
＠アルキル又はシクロアルキルメタクリレート官能基を
含む重合体を製造するために、Ｃ２〜２１１アルキル又
はシクロアルキルメタクリレート官能基と組合わさった
成る量のメチルメタクリレート官能基を含む原料重合体
を用いる必要がある。

従って、式 （式中Ｒ３は水素、０１〜ＣＩ２アルキル、０６〜ＣＩ
２シクロアルキル又はアリール又は０７〜ＣＩ２フルカ
リール基である）に相当するグルタールイミド部分及び
式ＣＨ３ １ ＣＨ２Ｃ− Ｃ（０）ＯＲ （式中ＲはＣ２〜Ｃ２〜Ｃ１４アルキル、０６〜Ｃ２〜
Ｃ１４シクロアルキル或いはアリール又は０７〜ＣＩ４
アルアルキル基である）に相当する高級メタクリレート
エステル部分よりなりさらに実質的にメチルメタクリレ
ート又はメタクリルアミド官能基を欠く樹脂を製造する
方法において、該方法が１００：１〜１：１００のモル
比で上述の高級メタクリレートエステル及びメチルメタ
クリレート部分よりなるプレポリマーと式Ｒ３ＮＨ２（
式中Ｒ３は前記同様である）に相当するアミンとをアン
モノリシス条件下で接触させて選択的に実質的にすべて
のメチルメタクリレート官能基を対応するメタクリルア
ミド官能基に転化させ、そして得られた生成物をシクロ
イミド化条件で加熱して所望の２．４−ジメチルグルタ
ールイミド部分を形成することよりなる方法が提供され
る。

本発明の重合体の製造において、好ましくは先ず一種以
上のビニル芳香族単量体、メチルメタクリレート及び１
種以上の高級メタクリレートエステルの共重合体（隣接
するメチルメタクリレート・高級メタクリレートエステ
ルの対を形成するのに十分な量のメチルメタクリレート
を含む）を形成し、次にグルタールイミド化の前述の手
段によりグルタールイミド部分に転化できる。グルター
ルイミド官能基への高級メタクリレートエステル官能基
の転化の度は、本発明で要求される低下した水吸収性を
達成するのに必要な比較的低いメチルメタクリレート残
存官能基を得るようにコントロールできる。

好ましくは、原料樹脂は、５：ｌ〜１．５：ｌのモル比
の高級メタクリレートエステル及びメチルメタクリレー
トよりなる。この範囲の成分の部を含むこのような重合
体の利用は、得られた重合体中に実質的な量の高級メタ
クリレートエステル官能基の存在を確実にする。最も好
ましくは、本方法で用いられる原料重合体は、モノビニ
リデン芳香族単量体から誘導された官能基１０〜４０モ
ル％、メチルメタクリレートから誘導された官能基１０
−４５モル％及び高級メタクリレートエステルから誘導
された官能基４０〜８０モル％よりなる。

アンモノリシス及びシクログルタールイミド化法は、例
えば前述の米国特許第４２４６３７４及び４７４５１５
９号に開示されたような当業者に周知の技術に従って行
われる。最も好ましいアンモノリシス剤はメチルアミン
である。従フて最も好ましい態様においてＲ３はメチル
である。適当には、反応は米国特許第４７４５１５９号
に開示された溶媒例えばシクロヘキサノール又は溶媒の
混合物例えばトルエン及びＣ３〜Ｃ８アルカノールの混
合物中又は押出機で行われる。

３０〜３００℃さらに好ましくは１００〜２５０℃の高
温度及び大気圧２０００気圧（０，１〜２００ＭＰａ）
の圧力が通常用いられる。

得られた重合体のシクロイミド化は、アンモノリシス法
と同時に又は並行して生ずる。メタクリルアミド含有ア
ンモノリシス生成物は、閉環により対応するアルコール
の損失をもたらすのに十分な時間、３０〜３００℃さら
に好ましくは１００〜２５０℃の高温度に単にかけられ
る。得られた２、４−ジメチルグルタールイミド含有生
成物は、沈殿、揮発分除去又はすべての溶媒又は副生成
物を除く同様な技術により採取される。脱気した押出機
中で生成物は単に押出されそしてペレットにされる。

グルタールイミド含有重合体を製造する前述のアンモノ
リシス及びシクロイミド化法の別の方法は、共重合及び
グルタールイミド化の技術である。メタクリルアミド含
有共重合体は、最初遊離基共重合により製造される。こ
の重合体は、得られた重合体を加熱することにより２．
４−ジメチルグルタールイミド部分を含有するものに容
易に転化される。

重合体の好ましい残存メチルメタクリレート又はメタク
リルアミド含量は、２．０モル％以下さらに好ましくは
１．０モル％以下最も好ましくは０．５モル％以下であ
る。１３ＯＮＭＲ分析が、メチルメタクリレート又はメ
タクリルアミドの残存レベルを検出するのに用いられる
。マレイミド含有重合体は、当業者に周知のようにそれ
ぞれの単量体の直接遊離基重合により製造される。

本発明により特に好ましい重合体は、−５００Ｂｒｅｗ
ｓｔｅｒより大きいか又は等しくそして一５００Ｂ＋・
ｅｗｓｔｅｒより小さく又は等しい溶融した応力光学係
数を有するものである。このような値を測定するのに、
±２００Ｂｒｅｗｓｔｅｒの精度が通常予想される。

重合体のガラス転移温度は好ましくは少なくとも約１４
５℃である。これらの値は、屈曲点で２０℃／分の加熱
速度でデュポン１０９０サーモ・アナライザーで求めら
れる。水吸収値は、２３℃で２４時間浸漬した後求めら
れる。添付図面において、すべての線は、重合体組成物
の間数として重合体の性質の理論上の変動を表わす線型
のモデルである。実際の重合体の性質は、このような線
型の近似に全く密に一致する。

−船釣に、±６％以内の理論的に予測された値からの実
際の物理的性質の偏りが予想できる。

（実施例） 本発明を記述したが、下記の実施例はさらに説明するた
めに提供され、制限するものと考えてはならない。実施
例を含む明細書を通して、部及び％は、反対して述べら
れていない限り、重量による。

犬胤囲上 ２．４−ジメチルグルタールイミド、スチレン及びシク
ロヘキシルメタクリレート含有重合体は、共重合及びグ
ルタールイミド化の技術により製造された。従ってスチ
レン、シクロヘキシルメタクリレート及びメタクリルア
ミドのインターポリマーが製造された。流入管１．窒素
パッド及び撹拌器を備えた１、５１容ガラス反応器に、
スチレン２９ｇ、シクロヘキシルメタクリレート２２５
ｇ及びメタクリルアミド１２２ｇを、単量体重量に基づ
いて５０％のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶媒ととも
に導入した。２５０ｐｐｍのペルオキシド開始剤１．１
−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンを導入
し、反応器を撹拌しつつ８０〜１００℃に加熱した０反
応は、重合体の組成の変化及び光学的性質の可能な劣化
を防ぐために非常に短い時間（１０〜２０％転化）で続
けた。重合体をメタノール中の沈殿により採取した。

揮発分除去及びグルタールイミド化は、７５分間２５５
℃で減圧（４トル：０．５ｋＰａ）下でポリテトラフル
オロエチレン被覆トレイ上で重合体の薄層を加熱するこ
とにより行った。

２．４−ジメチルグルタールイミド官能基の存在は、熱
重量分析及び質量分光分析により同定された。化学構造
の決定は、ＩＲ分光測定、１３ｃ　　ＮＭＲ及びＩＨＮ
ＭＲ分析によりなされた。ＮＭＲ分析において、サンプ
ルは塩化メチレン溶媒中で調製した。グルタールイミド
官能基に帰因するスペクトルのピークは、未グルタール
イミド化及び部分的にグルタールイミド化された重合体
の比較スペクトルの検討により観察された０組成の分析
は、又元素分析により同定された。

モル組成は、２４％のスチレン、５７％のシクロヘキシ
ルメタクリレート及び１９％のグルタールイミドであっ
た。残存メタクリルアミド官能基の証拠は検出されなか
った。

圧縮成型したプラーク（厚さ３．２＋ｎ＋ｍ）を前記の
樹脂から製造し、その物理的性質をテストした。結果は
表Ｉに含まれ表　　　１ １４４　　　　　　　　　−２００　　　　　　　　０
．２１実１１１２ スチレン／マレイミド／シクロヘキシルメタクリレート
インターポリマーを、１．５１容量の連続撹拌タンク反
応器を用いて、ジメチルホルムアミド溶媒中の３．１重
量％のスチレン、８．０重量％のマレイミド及び３６．
５重量％シクロヘキシルメタクリレートの溶液重合によ
り形成した。温度は１００℃であり、１．１−ビス（ｔ
−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン触媒を用いた。得
られた重合体は１３ｃ　　ＮＭＨにより測定してモル％
で１７％のスチレン、６０％のシクロヘキシルメタクリ
レート及び２３％のマレイミドの単量体含量を有した。

圧縮成型したサンプル（厚さ３．２ｍ）を物理的性質に
ついてテストした。結果は表■に含まれる。

表　　　■ １４２　　　　　　　　　−５００　　　　　　　　０
．　１８実１１１１ スチレン、イソブチルメタクリレート及びＮ−シクロヘ
キシル−２，４−ジメチルグルタールイミド共重合体を
、アンモノリシス／シクログルタールイミド化の技術に
より製造した。従って、スチレン、イソブチルメタクリ
レート及びメチルメタクリレートのプレポリマーを、エ
チルベンゼン溶媒及び２５０ｐｐｍの遊離基開始剤を用
いて遊離基・溶液重合法により合成した０重合を、凝縮
器；機械的撹拌器、窒素雰囲気、水蒸気加熱及び水冷の
手段を備えたジャケット付ガラス被覆バッチ反応器中で
１００℃の温度で行われた。

重合は約５０％の転化に進行され、そのとき反応を冷却
し、プレポリマーを過剰のメタノールによる沈殿により
単離した。

プレポリマーを減圧下の濾過により集め、十分に揮発物
を除去して約１時間４トル（０，５ｋＰａ）　、２２０
℃で溶媒を除いた。

プレポリマーを次に、３０％の固体レベルにトルエン及
びメタノールの混合物（９０／１０重量）に溶解した。

混合物を次に高温高圧にデザインされた３００ｍ１容の
バッチ反応器に装入した。反応器の内容物を十分に窒素
によりスバージし脱気した。エステル含量に間して化学
量論的量のシクロヘキシルアミン・アミン化剤を次に反
応器に圧入した。反応器を２３０℃に加熱した０反応器
の圧力を約１０時間約５００ｐｓｊｇ　（３５００ｋＰ
ａ）に保った。サンプルを実験中分析に取り出した０反
応完了後、反応器の内容物を過剰のヘキサンによる沈殿
により単離し、真空オーブン中で十分に揮発分を除いた
。生成物の分析は、メチルメタクリレートの実質的に完
全な転化及び得られたＮ−シクロヘキシル−２，４−ジ
メチルグルタールイミド官能基重合体へのイソブチルメ
タクリレート官能基の若干の転化を示した。メチルメタ
クリレート官能基の残存量の存在に関するＮＭＲ分光測
定による分析は、ｏ、ｏｏｉ％より少ないことを示した
。得られた重合体の性質は、表■に含まれる。

表 ■ スチトン　（２１）　　　　　　　　　　　　１５Ｂ　
　　　　−６３００，２５イソγｆルメタク１ルート（
２９） Ｎ−シフ０へＮシト２，４− シーメｆルク゛ル９−ルイミド（５０）医較■ 実施例３の反応条件は、スチレン及びイソブチルメタク
リレートのみを含むプレポリマー出発反応物を用いて実
質的に繰返された。得られた重合体は、アンモノリシス
及びシクログルタールイミド化法により実質的に影響さ
れず、本質的にスチレン及び未変化のイソブチルメタク
リレートよりなった。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第１０図は単量体成分の割合と性質との関係を
示すグラフである。 −、′１ ソ　） ″′″ｊ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）−１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒより大きい又はそれ
   に等しくさらに＋１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒより小さい
   又はそれに等しい溶融応力光学係数（ｃ）、少なくとも
   １４０℃のガラス転移温度並びに０．２５％又はそれよ
   り小さい水吸収（２３℃の水中の２４時間浸漬後のＡＳ
   ＴＭＤ５７０−８１によるＡ＿（Ｈ＿２Ｏ）を有し、さ
   らに重合した形状構造単位（ａ）及び（ｂ）よりなり、
   構造単位（ａ）は正の溶融ホモポリマー応力光学係数を
   有しそして構造単位（ｂ）は負の溶融ホモポリマー応力
   光学係数を有する重合体。 （２）重合体が少なくとも２０ＭＰａ（３０００ｐｓｉ
   ）の破壊時引張り強さ（ＡＳＴＭＤ−６３８による）を
   有する請求項１記載の重合体。 （３）Ｃが−５００Ｂｒｅｗｓｔｅｒより大きいか又は
   等しくそして＋５００Ｂｒｅｗｓｔｅｒより小さいか又
   は等しく、さらにガラス転移温度が少なくとも１４５℃
   である請求項１又は２記載の重合体。 （４）構造単位（ａ）が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＲ＿３は独立して水素、Ｃ＿
   １〜Ｃ＿１＿２アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ＿１＿２シクロア
   ルキル又はアリール及びＣ＿７〜Ｃ＿１＿２アルカリー
   ル基であり；そしてｎは零又は１である）に相当するマ
   レイミド及びグルタールイミド部分から選ばれる請求項
   １〜３の何れか一つの項記載の重合体。 （５）Ｒ＿１及びＲ＿２はｎが０のときともに水素であ
   り、そしてＲ＿１及びＲ＿２はｎが１のときともにメチ
   ルである請求項４記載の重合体。 （６）構造単位（ｂ）が、芳香族基中で６〜２０個の炭
   素を有するモノビニリデン芳香族単量体、及び／又はア
   ルキル基中に２〜１４個の炭素、シクロアルキル或いは
   アリール基中に６〜１４個の炭素及びアルアルキル基中
   に７〜１４個の炭素を有するアクリル酸及びメタクリル
   酸のアルキル、シクロアルキル、アリール及びアルアル
   キルエステルよりなる請求項１〜５の何れか一つの項記
   載の重合体。 （７）該マレイミド部分、芳香族基に６〜２０個の炭素
   を有するモノビニリデン芳香族部分並びにエステル基が
   Ｃ＿２〜Ｃ＿１＿４アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ＿１＿４シク
   ロアルキル又はアリール又はＣ＿７〜Ｃ＿１＿４アルア
   ルキルである高級メタクリレートエステル部分を含有す
   る請求項４又は６記載の重合体。 （８）該グルタールイミド部分、芳香族基に６〜２０個
   の炭素を有するモノビニリデン芳香族部分並びにエステ
   ル基がＣ＿２〜Ｃ＿１＿４アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ＿１＿
   ４シクロアルキル或いはアリール又はＣ＿７〜Ｃ＿１＿
   ４アルアルキルである高級メタクリレートエステル部分
   を含有する請求項４又は６記載の重合体。 （９）少なくとも５モル％のモノビニリデン芳香族単量
   体が存在する請求項６〜８の何れか一つの項記載の重合
   体。 （１０）高級メタクリレートエステルがイソプロピルメ
   タクリレート、イソブチルメタクリレート、ネオペンチ
   ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フ
   ェニルメタクリレート又はペンゾルメタクリレートであ
   る請求項６〜９の何れか一つの項記載の重合体。 （１１）モル基準で５〜３０％のスチレン、４０〜８０
   ％のシクロヘキシルメタクリレートエステル及び２０〜
   ３０％のＮ−フェニルマレイミド官能基よりなる請求項
   ７記載の重合体。 （１２）モル基準で （ａ）５〜５５％のスチレン、５〜８５％のシクロヘキ
   シルメタクリレート及び１５〜５５％の２、４−ジメチ
   ルグルタールイミド官能基； （ｂ）２０〜４３％のスチレン、５〜３３％のイソブチ
   ルメタクリレート及び４２〜６２％のＮ−シクロヘキシ
   ル−２、４−ジメチルグルタールイミド官能基；（ｃ）
   ５〜４３％のスチレン、５〜６８％のシクロヘキシルメ
   タクリレート及び２５〜６２％のＮ−シクロヘキシル−
   ２、４−ジメチルグルタールイミド官能基；（ｄ）９〜
   ５４％のスチレン、５〜５５％のシクロヘキシルメタク
   リレート及び３０〜５５％のＮ−メチル−２、４−ジメ
   チルグルタールイミド官能基； （ｅ）３５〜５３％のスチレン、５〜２５％のイソブチ
   ルメタクリレート及び３７〜４８％のＮ−メチル−２、
   ４−ジメチルグルタールイミド官能基；又は （ｆ）３８〜５５％のスチレン、５〜２７％のイソブチ
   ルメタクリレート及び３７〜５４％の２、４−ジメチル
   グルタールイミド官能基 を含有し、 それぞれが２．０モル％より少ないメチルメタクリレー
   ト又はメタクリルアミド官能基を有する請求項８記載の
   重合体。 （１３）請求項１〜１２の何れか一つの項記載の重合体
   を含有する低い複屈折を有する成型した熱可塑性物品。 （１４）請求項１〜１２の何れか一つの項記載の重合体
   の光学記憶ディスクの製造における用途。 （１５）重合体基材が請求項１〜１２の何れか一つの項
   記載の重合体を含有することを特徴とする二つの主な表
   面を有する重合体基材を含有し、一つの主な表面がその
   上に沈着したデジタル化情報の記録に適合した一層以上
   の追加の層を有する光学記憶ディスク。 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＿３は水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキル、Ｃ
   ＿６〜Ｃ＿１＿２シクロアルキル又はアリール又はＣ＿
   ７〜Ｃ＿１＿２アルカリール基である） に相当するグルタールイミド部分及び式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中ＲはＣ＿２〜Ｃ＿１＿４アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ＿
   １＿４シクロアルキル或いはアリール又はＣ＿７〜Ｃ＿
   １＿４アルアルキル基である）に相当する高級メタクリ
   レートエステル部分を含有しさらに実質的にメチルメタ
   クリレート又はメタクリルアミド官能基を欠く樹脂を製
   造する方法において、該方法が１００：１〜１：１００
   のモル比で上述の高級メタクリレートエステル及びメチ
   ルメタクリレート部分を含有するプレポリマーと式Ｒ＿
   ３ＮＨ＿２（式中Ｒ＿３は前記同様である）に相当する
   アミンとアンモノリシス条件下で接触させて選択的に実
   質的にすべてのメチルメタクリレート官能基を対応する
   メタクリルアミド官能基に転化させ、そして得られた生
   成物をシクロイミド化条件で加熱して所望の２、４−ジ
   メチルグルタールイミド部分を形成することよりなる方
   法。 （１７）重合体の溶融物の応力光学係数を求めることを
   特徴とする重合体の復屈折を予測する方法。 （１８）重合体がインターポリマーであり、該係数が、
   インターポリマーの単量体成分のホモポリマー（理論上
   のホモポリマーを含む）の溶融物の応力光学係数とイン
   ターポリマー中のそれらのそれぞれのモルフラクシヨン
   との積の和により求められる請求項１７記載の方法。 （１９）重合した形において正の溶融ホモポリマー応力
   光学係数を有する構造単位（ａ）及び負の溶融ホモポリ
   マー応力光学係数を有する構造単位（ｂ）を含有するイ
   ンターポリマーを製造する方法において、該係数が求め
   られそしてインターポリマー中の該構造単位の相対的割
   合が選択されて、該係数とインターポリマー中のそれら
   のそれぞれのモルフラクシヨンとの積の和が−１０００
   Ｂｒｅｗｓｔｅｒと＋１０００Ｂｒｅｗｓｔｅｒとの間
   である方法。