JPH03187143A - 試料ステージ - Google Patents

試料ステージ

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Publication number
JPH03187143A
JPH03187143A JP32549989A JP32549989A JPH03187143A JP H03187143 A JPH03187143 A JP H03187143A JP 32549989 A JP32549989 A JP 32549989A JP 32549989 A JP32549989 A JP 32549989A JP H03187143 A JPH03187143 A JP H03187143A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
sample
base
electron lens
sample holder
Prior art date
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Pending
Application number
JP32549989A
Other languages
English (en)
Inventor
Jiyunji Masamitsu
政光 順二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
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Publication of JPH03187143A publication Critical patent/JPH03187143A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、走査電子顕微鏡(SEM)やエレクトロプ
ローブマイクロアナライザ(EPMA)等の微小部の観
察や分析を行う装置における試料設置用の試料ステージ
に関する。
〔従来の技術〕
SEMやEPMA等を使用して試料を観察或いは分析す
る場合、電子線を試料に当て発生する二次電子を検出器
で検出・増幅して陰極線管上に像を形成させる。この場
合試料は防振しなければならない。従来の防振対策とし
ては試料ホルダに該試料ホルダ上面より突出した剛体棒
を取付け、試料ホルダを載置した試料ステージをZ方向
(上方向)に駆動して該剛体棒を電子レンズヨークに押
し当て、電子レンズヨークと試料ホルダとを一体とする
ことで試料と電子レンズとの相対的振動を少なくすると
いう方法が取られていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
試料と電子レンズとの距離は試料の凹凸に応じて成る程
度変化させる方が好ましいが、上記する従来の方法では
試料を設置した時点で決まってしまうという不自由があ
る。また、試料と試料ステージ間の一体性の方が試料と
電子レンズとの一体性に勝るため振動対策としての効果
も不充分であるという問題がある。この発明はかかる課
題を解決するためになされたものである。
〔課題を解決するための手段〕
即ち、この発明は上記する課題を解決するために、試料
ステージが、試料ホルダを設置する2ステージを上方に
駆動するZステージ駆動装置と、これら試料ホルダとZ
ステージとZステージ駆動装置と電子レンズ下面に当接
させる剛体棒とを設置するZベースと、tHzベースと
弾性体を介して接続するX−Yステージと、前記Zベー
スと弾性体を介して接続されると共に該Zベースを上方
に移動させる押し上げ装置とより威ることを特徴とする
〔作 用〕
上記手段とすれば、試料と電子レンズとの距離を変化さ
せることが出来ると同時に防振措置を講することが出来
る。また、Z方向に押し上げられる試料ホルダや試料ス
テージ等を剛体棒により電子レンズに剛性的に接続し、
Zステージ及び該Zステージ駆動装置をX−Yステージ
に弾性的に接続することで試料ホルダと各試料ステージ
及び試料と電子レンズ間の一体性をも確保することが出
来る。
〔実施例〕
以下、この発明の具体的実施例について図面を参照して
説明する。
第1図はこの発明にかかる試料ステージの構成図である
。lは電子を小さく焦点に集めるための電子レンズであ
る。2は試料ホルダであってZステージ3の上に設置さ
れる。該Zステージ3は前記試料ホルダ2と共にZステ
ージ駆動装置4により上方へ移動させるようにしである
。従って試料ホルダ2に収納された試料Mと電子レンズ
lとの距離は該試料面の凹凸に対応しである程度変化さ
せられるようになる。5はZベースであって前記試料ホ
ルダ2とZステージ3及びZステージ駆動装置4を設置
するようになっているが、別に剛体棒6(この場合三本
)を固定しである。該剛体棒6は後述する押し上げ装置
10によってZベース5が押し上げられた時電子レンズ
1の下面に当接させられる。
次に、7はX−Yステージであってバネ8.8を介して
前記Zベース5に接続されている。該X・Yステージ7
はX−Yステージ駆動装置9によりZべ〜ス5及び設置
された試料ホルダ2等をX、Y方向に移動させるように
なっているが、前記バネ8.8によりX−Yステージ駆
動装置9からの振動はカットされることになる。
10は押し上げ装置であってブロック11、バネ12、
ブロックエ3を介して前記Zベース5に接続され、該Z
ベース5を独自にZ方向に押し上げるようになっている
。該押し上げ装置1oは2ベース5を上に押し上げ、前
記剛体棒6を電子レンズlの下面に当接させる。この場
合前記バネ12は該押し上げ装置10の駆動モータ(図
示せず)の励磁を切った時駆動機構のバックラッシュを
吸収する役割を果たすと同時にブロック11面と剛体棒
6の先端面との非平行変分を吸収する役目をする。
この発明の構成は以上のようであるがこれらは真空チャ
ンバー14に設置される。これにより試料Mと電子レン
ズ1との距離を変化させることが出来ると同時に防振措
置を講することが出来る。
また、2方向に押し上げられる試料ホルダ2や試料ステ
ージ3等は剛体棒6により電子レンズ1に剛性的に接続
し、Zステージ3及び該Zステージ駆動装置4をX−Y
ステージ7に弾性的に接続することで試料ホルダと各試
料ステージ及び試料Mと電子レンズ1間の一体性も確保
することが出来る。
〔発明の効果〕
この発明にかかる試料ステージは以上詳述したような構
成としたので、試料と電子光学系との間の相対的振動を
より一層減少させることが出来、解像度の高い映像が得
られるようになる。
【図面の簡単な説明】 第1図はこの発明にかかる試料ステージの構成図である
。 1・・−電子レンズ 2−試料ホルダ 3−・−Zステージ 4・−Zステージ駆動装置5−Z
ベース 6−剛体棒 7−X −Yステージ8.12−
・バネ 9−・・X−Yステージ駆動装置0 ・−押し上げ装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)試料ホルダを設置するZステージを上方に駆動す
    るZステージ駆動装置と、これら試料ホルダとZステー
    ジとZステージ駆動装置と電子レンズ下面に当接させる
    剛体棒とを設置するZベースと、該Zベースと弾性体を
    介して接続されるX・Yステージと、前記Zベースと弾
    性体を介して接続されると共に該Zベースを上方に移動
    させる押し上げ装置とより成ることを特徴とする試料ス
    テージ。
JP32549989A 1989-12-15 1989-12-15 試料ステージ Pending JPH03187143A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014116185A (ja) * 2012-12-10 2014-06-26 Jeol Ltd 試料位置決め装置、荷電粒子線装置、および試料ホルダー
JP2016115513A (ja) * 2014-12-15 2016-06-23 株式会社ホロン 画像振動低減装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014116185A (ja) * 2012-12-10 2014-06-26 Jeol Ltd 試料位置決め装置、荷電粒子線装置、および試料ホルダー
EP2741311A3 (en) * 2012-12-10 2016-07-13 JEOL Ltd. Specimen positioning device, charged particle beam system, and specimen holder
JP2016115513A (ja) * 2014-12-15 2016-06-23 株式会社ホロン 画像振動低減装置

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