JPH03176493A - ３―置換アルケニルセファロスポリン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規なセファロスポリン誘導体に関し、 さらに詳しくは、式（Ｉ）： （式中、Ｒ１は置換されていてもよいフェニル基、Ｒ１
は水素原子または低級アルキル基、Ｒ３は−Ｃ００Ｒ◆
、−ＣＯＲ◆、−３ｏ、Ｒ’、または−〇〇ＮＨＲ’で
あり、ここにＲ４は低級アルキル基、Ｒ’は水素原子ま
たは低級アルキル基、ｎは１または２を表す） で示される３−置換アルケニルセファロスボリン化合物
に関するものである。

［従来技術と発明が解決すべき課題］ セファロスポリン誘導体は、その広範囲に及ぶ抗菌スペ
クトルにより、極めて有用な抗生物質の一群を構成して
いる。それらの内、３位に基ニーＣＨ＝ＣＲで示される
置換アルケニル置換基を有するセファロスポリン誘導体
が既に、数多く提供されている（例えば、特公昭第６２
−４２８７４号公報および米国特許Ｎｏ、４２５５４２
３）。

しかしながら、治療に携わる医療関係者ならば容易に理
解することであるが、抗生物質治療は、常に耐性菌の出
現と、それに打ち克つ抗生物質投与の繰り返しであるこ
とから、絶えず新規で有効な抗生物質の開発が求められ
ている。

特に、経口投与で有効であって副作用の少ない抗生物質
の開発は、常に望まれている。本発明者らは、これらの
点を考慮し、セフェム骨格の７位に例えばフェニルグリ
シル基のような大きい置換基、３位に置換アルケニル基
をもつ誘導体について種々検討を加えた。従来、７位に
フェニルグリシル基等を有するセフェム誘導体が経口吸
収性を示すためには、３位置換基は立体的に小さく親油
性の大きいものが好ましいとされてきた。このことは、
上記した特許公報等に記載されている化合物にも認めら
れ、通常、基：　−ＣＨ＝ＣＲで示される３位置換基の
Ｒは、小さいアルキルやアルコキシアルキル基等に限定
されている。本発明者らは、これらの従来例とは異なる
観点から検討を重ねた結果、立体的に大きい親水性の３
位置換基を有し、分子全体の構造が特異的である一連の
７−フェニルグリシル−３−置換アルケニル誘導体が経
口投与に適すると同時に、広範なダラム陽性およびダラ
ム陰性菌、とりわけダラム陰性菌に高活性の抗菌作用を
有することを見出した。

し課題を解決するための手段］ 即ち、本発明は、上記した式（Ｉ〉： （式中、Ｒ１は置換されていてもよいフェニル基、Ｒ１
は水素原子または低級アルキル基、Ｒ３は一０００Ｒ’
、−ＣＯＲ’、−３Ｏ，Ｒ’、または−〇〇ＮＨＲ’で
あり、ここにＲ４は低級アルキル基、Ｒ１１は水素原子
または低級アルキル基、ｎは１または２を表す） で示される３−置換アルケニルセファロスボリン誘導体
を提供するものである。

Ｒ’の定義において、置換されていてもよいフェニル基
における置換針としては、フェノール保護基で保護され
ていてもよい水酸基、フッ素または塩素等のハロゲン原
子あるいはアミノ保護基で保護されていてもよいアミ７
基の１個またはそれ以上を挙げることができる。

また、低級アルキルとは、炭素数１〜８個の直鎖状また
は分枝鎖状アルキル基を意味し、そのようなアルキル基
の例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、第３級ブチル、シクロプロピル
、シクロブチル、ヘンチル、インペンチル、ネオペンチ
ル、第３級ペンチル、シクロペンチル、メチルシクロペ
ンチル、ヘキシル、メチルペンチル、ジメチルブチル、
シクロヘキシル、ヘプチル、メチルヘキシル、シクロヘ
プチル、メチルシクロペンチ、ジメチルペンチル、ジメ
チルシクロペンチル、オクチルなどを列挙できる。

本発明にとって好ましい化合物は、Ｒ１がヒドロキシ、
保護ヒドロキシ、ハロゲン、メ／ルアミ／などで置換さ
れていてもよいフェニル、Ｒ１がＨ，ｌｆｋ、Ｒ’がＧ
ＯＯＲ’、Ｒ’７！ｌ＜ＣＩ　〜Ｇ　、フルキル、ＲＩ
ＩがＣ，−Ｃ，アルキルである化合物である。Ｒ１がｐ
−ヒドロキシフェニルまたはメタンスルホニルフェニル
、Ｒｔが水Ｌ　Ｒ’が一〇〇〇ＣＨａであり、ｎが１で
ある化合物が特に好ましい。

本発明化合物は、式（■）： （式中、Ｒ′は上記の定義に従い、Ｒ１′はアルキル基
またはフェニル基、ｐｉおよびＰ３はアミノまたはカル
ボキシ保護基を表す） で示されるイリド化合物と、式（■）：２ ／ ＨＯＣ（ＣＨｔ）ｎＮ　　　　　　（ＩＩＩ）＼ ３ （式中、Ｒ雪、Ｒ３およびｎは上記定義に従う）で示さ
れるアルデヒド化合物とを反応させて式（■）：（式中
、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ３、Ｐｌ、Ｐｌおよびｎは上記定義に
従う） で示される化合物を得、次いで、この化合物（ＩＶ）を
脱保護することにより製造することができる。

イリド体（ｎ）とアルデヒド体（ＩＩＩ）との反応は、
イリド体（ｎ）に対し、アルデヒド体（Ｉ［Ｉ）を１〜
４当量用い、適当な溶媒中、−２０〜１５０°Ｃにおい
て約１〜５０時間行う。溶媒としては、強酸性のものを
除く通常の有機溶媒を用いることができるが、クロロホ
ルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、
ベンゼンおよびトルエン等が特に好ましい。通常、水冷
ないし使用する溶媒の還流温度で、撹拌下に約１〜１８
時間実施する。

反応終了後、溶媒を留去すると、目的物質であるシス体
とトランス体との混合物が残留物として得られる。次い
で、適当な方法、例えば、シリカゲルカラムによるクロ
マト処理により目的とするシス体（ＩＶ）を分離する。

化合物（■）の脱保護は、β−ラクタム化合物の製造に
用いられる一般的な方法によって行うことができる。例
えば、アニソールおよびトリフルオロ酢酸中で、冷却下
に撹拌したのち、ｎ−ヘキサン−エーテル中で析出させ
、沈澱をろ取し、ＨＰ−２０カラムクロマト等の精製手
段に付すことにより、最終目的物質を得ることができる
。

しかしながら、本発明化合物は、合成法によって限定さ
れるものではなく、当業者既知の反応を組合わせた別途
合成性を用いて得ることができる。

いずれの方法を採用する場合でも、必要に応して、アミ
ン、カルボン酸およびフェノールを保護する。

そのような目的で用いる保護基としては、セファロスポ
リンの化学の分野で、分子中の他の部分に不都合な変化
を起こすことなく着脱可能なものとして知られているも
のを用いることができる。例として、以下のものがある
が、これらに限定されない。

［アミノ保護基］ アミノ保護基としては例えば炭素数１〜２０の基であっ
て、例えば置換基を有し得る炭素数１〜８のアルキル（
第３級ブチル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ル、トリクロロエチル、テトラヒドロフラニル、トテラ
ヒドロピラニル等）、炭素数７〜２０のアラルキル（ベ
ンジル、ジフェニルメチル、トリチル、トメキシベンジ
ル、ニトロベンジル、メチルベンジル等）、炭素数６〜
１２のアリールチオにトロフェニルチオ等）、炭素数１
〜８のアルキリデン、炭素数７〜１４のアラルキリデン
（置換基を有し得るベンジリデン）、アシル［炭素数ｌ
〜８のアルカノイル（ホルミル、アセチル、クロロアセ
チル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル等）
、炭素数７〜１５のアロイル（ベンゾイル、ニトロベン
ゾイル等）、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル（
アルキル部分はメチル、エチル、プロピル、シクロプロ
ピルエチル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、イソブ
チル、トリクロロエチル、ピリジルメチル、シクロペン
チル、シクロヘキシル等である）、炭素数８〜１５のア
ラルコキシカルボニル（アラルキル部分はベンジル、ジ
フェニルメチル、ニトロベンジル等）、炭素数ｌ〜１０
のスルホニル（メタンスルホニル、エタンスルホニル、
ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル等）、炭素数
３〜１０の二塩基性Ｈアシル（サクシニル、フタロイル
等）、ハロスルホニル、炭素数ｏ−ｉｏのりん酸アシル
（ジアルコキシホスホリル、フエニルジクロロホスホリ
ル等）、その他］、炭素数３〜１５のトリアルキルシリ
ル、炭素数３〜１５のトリアルキルスタニル等が好まし
い。

［カルボキシ保護基］ カルボキシ保護基には分子中の他の部分に不都合な変化
を起こすことなく着脱可能な反応作用および医薬用カル
ボキシ保護基がある。

反応用カルボキシ保護基としては炭素数１９までのエス
テル形成基である炭素数１〜８のアルキル（メチル、メ
トキシメチル、エチル、エトキシメチル、ヨードエチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、・イソブチル、エ
トキシエチル、メチルチオエチル、メタンスルホニルエ
チル、トリクロロエチル、Ｌ−ブチル等）、炭素数３〜
８のアルケニル（プロペニル、アリル、プレニル、ヘキ
セニル、フェニルプロペニル、ジメチルへキセニル等）
、炭素数７〜１９のアラルキル（ベンジル、メチルベン
ジル、ジメチルベンジル、メトキシベンジル、エトキシ
ベンジル、ニトロベンジル、アミノベンジル、ジフェニ
ルメチル、フェネチル、トリチル、ジ−ｔ−ブチルヒド
ロキシベンジル、フタリジル、フェナシル等）、炭素数
６〜１２のアリール（フェニル、トルイル、キシリル、
ジイソプロピルフェニル、トリクロロフェニル、ペンタ
クロロフェニル、インダニル等）、炭素数１〜１２のＮ
−置換アミノ（アセトンオキシム、アセトフェノンオキ
シム、アセトアルドキシム、Ｎ−ヒドロキシこはく酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロ牛シフタルイミド等とのエステルを構
成する基）、炭素数３〜１２の炭化水素化シリル（トリ
メチルシリル、ジメチルメトキシシリル、ｔ−ブチルジ
メチルシリル等）、炭素数３〜１２の炭化水素化スタニ
ル（トリメチルスタニル等）等が好ましい。この保護基
部分も後述のような各種置換基を有していてもよい。こ
のカルボキシ保護基は最終目的物までに脱離されるので
、保護の目的を達する限り、その構造は必ずしも重要で
はなく、広範囲な均等基（アミド、炭酸またはカルボン
酸との酸無水物等）と置き換えられる。

塩形成基である医薬用カルボキシ保護基としてはペニシ
リン、セファロスポリンの分野で常用ノ生理学的に許容
し得るイオンとなる周期律表第１〜■族、第２〜４周期
に属する軽金属（リチウム、ナトリウム、カリウム、マ
グネシウム、カルシウム、アルミニウム等）およびアン
モニオ基（炭素数１〜１２のアルキルアンモニウム（ト
リメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、メチ
ルモルホリニウム等））、炭素数４〜９の芳香族塩基（
ピリジニオ、コリジニオ、ピコリニオ、キノリニオ、ジ
メチルアニリニオ等）等が好ましい。

活性エステル形成基である医薬用カルボキシ保護基は主
として経口投与で抗菌活性を示すエステルを形成する。

代表例には炭素数２〜１５の１−酸素置換アルキル（ア
ルカメイルオキシアルキル（アセトキシメチル、ピバロ
イルオキシメチル、シクロヘキサンアセトキシエチル等
）、炭素数３〜１５のアルコキシカルボニルオキシアル
キル（エトキシカルボニルオキシエチル、インプロポキ
シカルボニルオ牛ジエチル、シクロヘキシルオキシカル
ボニルオキジエチル等）、炭素数２〜８のアルコキシア
ルキル（メトキシメチル等）、炭素数４〜８の２−オキ
サシクロアルキル（テトラヒドロピラニル等）等）、炭
素数８〜１２の置換アラルキル（フェナシル、フタリジ
ル等）、炭素数６〜１２のアリールくフェニル、インダ
ニル等）、炭素数２〜１２のアルケニル（アリル、（２
−オキソ−１１３−ジオキソリル）メチル等）等が好ま
しい。

［フェノール保護基］ フェノール保護基は塩、エステル、エーテルなどの形で
保護できる。

憔）−１ては軽金属（リチウム、ナトリウム、カリウム
、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム等）塩とア
ンモニウム基（炭素数１〜１２のアルキルアンモニウム
（メチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、ジエ
チルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、メチルモ
ルホリニウムＷ））、炭素数４〜９の芳香族塩基（ピリ
ジニオ、コリジニオ、ピコリニオ、キノリニオ、ジメチ
ルアニリニオ等）塩が好ましい。

エーテル形成基としては脱離容易な炭素数１〜８のアル
キル（メチル、エチル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブ
チル、シクロペンチル、メトキシメチル、メトキシエト
キシメチル等）、単環異項環基（テトラヒドロピラニル
、テトラヒドロフラ＝／Ｌ４）、ＪｊｄＲ１ｋ２〜９の
アルケニル（エノールエーテル、エナミン等を形成）、
炭素数３〜１８の炭化水素化シリルまたはスタニル（ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチル−ｔ−ブ
チルシリル、トリメチルスタニル、ジメチルフェニルシ
リル、ジフェニル−ｔ−ブチルシリル、トリフェニルシ
リル、ジメチル−ｔ−ペンチルシリル、ジメチルメトキ
シシリル等）、炭素数７〜１５のアラルキル（ベンジル
、ｐ−メトキシベンジル、トリフェニルメチル、置換ジ
フェニルメチル、フェナシル等）、炭素数１〜１０のア
リール基、例えば炭素環のアリール基（フェニル、ナフ
チル、インデニル、インダニル、テトラリニル等）、異
項環アリール基（フリル、チエニル、ピロリル、オキサ
シリル、チアゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テ
トラゾリル、ピリジル、ピラニル、インドリル、ベンゾ
イミダゾリル、ベンゾチアゾリル、キノリル等）が好ま
しい。

エステル形成基には炭素数１４までのアシル基、例えば
、カルボン酸アシル（ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ピバロイル、オクチル等の炭素数１〜１０の直鎖、
分枝または環状の置換または非置換アルカノニル、単環
または双環でヘテロ原子を有し得る置換または非置換ア
ロイル（ベンゾイル、トルオイル、キシロイル等の単環
アロイル）、アラルカッイル（フェニルアセチル、フェ
ニルプロピオニル等）、アリールアルケノイル（フェニ
ルアクリル等）、炭素数１〜１０のスルホン酸アシル（
メタンスルホニル、エタンスルホニル、プロパンスルホ
ニル等のアルキルスルホニル、ベンゼンスルホニル、ト
ルエンスルホニル、ブロモベンゼンスルホニル等のアリ
ールスルホニル等）、炭素数２〜１０の炭酸アシル（カ
ルバモイル、カルボアルフキシ、カルボアラルコキシ等
のアルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、
ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、ｐ−エトキシ
ベンジルオキシカルボニル、ニトロベンジルオキシカル
ボニル等のアラルキルカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル、イソブテニルオキシカルボニル等のアルケニルオ
キシカルボニル等）、スルホ等が好ましい。

本発明化合物にとって好ましいアミノ保護基はｔ−ブト
キシカルボニル（Ｂ　ｏｃ）　、カルボキシおよびフェ
ノール保護基はパラメトキシベンジル（ｐＭＢ）である
。

［効果］ 本発明化合物は、セファレキシン（ＣＥＸ）、セファク
ロル（ＣＣＬ）あるいは文献記載の下記式（）： で示される化合物と比較し、下記の表１に示すように経
口投与で優れた抗菌作用を示した。表１から、本発明化
合物の最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）はこれらの既知物質
との比較においてダラム陽性菌である溶血性連鎖球菌（
Ｓ　ｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ　ｐｙｏｇｅｎｅｓＣ−
２０３株）に対しても優れているが、ダラム陰性閑であ
る大腸菌（Ｅ、ｃｏｌｉ　Ｈ株、ＪＣ−２株）や肺炎桿
菌（Ｋ、ｐｎｅｕｎ＋ｏｎｉａｅ　Ｓ　Ｒ１株）に対し
、特に優れていることが分かる。また、マウス経口投与
後２時間までの尿中回収率（Ｕ　Ｒ１）ｌｒｌｌ）によ
り測定した経口吸収性は化合物（Ａ）に比べて有意に高
くなっている。例えば、化合物［８］の場合には、５２
、ｌを示しており、臨床上有用な経口吸収性を有するこ
とが分かる。

表１ 式（１）の化合物のＭＩＣおよび経口吸収性−従来化合
物との比較 ＊）；ａ：スタフィロコッカス・アウレウス（Ｓ　ｔａ
ｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ　ａｕｒｅｕｓ）２０９Ｐ　　
ＪＣ−１ ｂ；スタフィロコッカス・アウレウス Ｃ：スタフィロコッカス・アウレウス ｄ：ストレブトコッカス・ピオゲネス （Ｓ　ｔｒｅｐｔｏｃｏｃｃｕｓ　ｐｙｏｇｅｎｅｓ）
ｍ１ｔｈ Ｒ１４ −２０３ ｅ：ストレプトコッカス・ニューモニエ（Ｓ　ｔｒｅｐ
ｔｏｃｏｃｃｕｓ　ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ）ｙｐｅ ■ ｒ：エシェリキア・コリＩＩ （Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ　ｃｏｌｉ）ｇ；エシェリキ
ア・コリ　ＪＣ−２ ｈ：クレブシェラ・ニューモニエ （Ｋ　１ｅｂｓｉｅｌｌａ　ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ）１
ｌｌ ｉニブロチウス・ミラピリス （Ｐｒｏｔｅｕｓ　ｍ１ｒａｂｉｌｉｓ）Ｒ−４ ｊ；プロテウス・ブルガリス （Ｐ　ｒｏｔｅｕｓ　ｖｕｌｇａｒｉｓ）ＢＬＩ６−：
マウス経口投与１５分後の血中濃度ＵＲ，ｈ：マウス経
口投与２時間後の尿中回収率表中の数値は、標準的な抗
生物質の抗菌活性測定法、および化合物の経口吸収性試
験に従って求められた。

以上の結果は、本発明の式（（）で示される化合物の抗
菌作用、特にダラム陰性菌に対する作用が優れており、
また、経口吸収性が従来化合物（Ａ）（尿中回収率はわ
ずかに１．５である）に比べて著しく高いことを示して
いる。このことから、本発明化合物と従来化合物とは、
単なる３位置換アルケニル基における置換骨の相違に止
どまらず、分子全体として異なった構造を有するものと
考えられる。

以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明する。

なお、以下の実施例において、ＰＭＢはバラメトキシベ
ンジル、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニルを表す略語で
ある。

（以下余白） 実施例１ （１）化合物［３コの合成 ［１］ ［３］ イリド化合物［ｌコ３．８１　ｇ＜３．７５ｍｍｏｌ）
を含むクロロホルム５０村溶液にアルデヒド体［２］２
　ｇ（２０ｍｍｏｌ）を加え１５時間還流、撹拌する。

反応液を冷却後水洗し、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥、次
いで溶媒を減圧留去する。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマト（展開液；酢酸エチルエステル：塩化メチ
レン＝１：１）すればシス体、トランス体混合物０．６
７１Ｆ（２３％）と目的とする純粋なシス体［３］　０
．２３９（８％）が得られる。

［３］ １．４２（９Ｈ，ｓ）、 ”ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）：δ １．９１（３Ｈ，ｓ）、３．１９． ３．４８（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ　＝　１８Ｈｚ）、３．６
５（２Ｈ，ｍ）、３．８１　（６Ｈ，ｓ）、４．９５（
ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ４．９８（２Ｈ，ｓ）、５．ｌ　６（２Ｈ，ｓ）、５、
５５（３Ｈ，ｍ）、 ５．８０（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）、６、１２（
Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　ｌ　Ｉ　Ｈｚ）、６．５３（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ８、８７〜６．９８　（６Ｈ，ｓ）、 ７．２５〜７．３７（６Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＩ２３）　：　１７８０．１７０５．１
６８５、１６７０ｃ肩 （２）脱保護による化合物［４］の合成［３コ ［４］ （１）で得られた化合物［３］　２３０Ｊ１１？（０，
２９１１１ｍｏｌ）を水冷しアニソール０．５ｘ１２、
トリフルオロ酢酸２．５ｘｆ２を加え、同温度で１時間
撹拌する。

反応液をｎ−ヘキサン２０ｍＱおよびエーテル１０ｘＱ
の混合液中へ撹拌しながら加え、析出した沈澱をろ取し
エーテル洗浄する。得られた粉末をＨＰ２０（ダイヤイ
オン、三菱化成）カラムクロマト（展開液：水１００％
）した後、凍結乾燥すれば１１１１９（８６％）の最終
目的化合物［４］が得られる。

［４］： ＩＨＮＭＲ（ＤｔＯ）：δ１．８Ｂ（３Ｈ，ｓ）、３．
１２．３．４１　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ　＝　１８Ｈｚ）
、３．４９〜３．８５　（２Ｈ，ｍ）、 ５．０８（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５、０９（
Ｉ　Ｈ，ｓ）、５．４５（ＩＨ，ｍ）、５．６５（ＩＨ
，ｄ、Ｊ　＝５Ｈｚ）、５．９７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝ｌ　
ＩＨｚ）、６、９２（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　９　Ｈｚ）
、７．３２（２Ｈ，ｄ、Ｊ　＝９Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　　１７６１．１６９０ｃｘ
［１］＋ＯＨＣＮＨＣＯＯＭｅ ［７］トランス体 上記反応を還流条件下、および低温条件下で行った。

１）還流条件下における合成 イリド化合物［１］　３．０８９（３゜２曲ｏ１）を含
むクロロホルム５０ｊ１１２溶液にアルデヒド体［５］
　２゜０７９（１７，７ｍｍｏｌ）を加え１．５時間還
流撹拌する。実施例１（１）と同様に後処理を行なった
後、シリカゲルカラムクロマト（展開液；酢エチ：トル
エン−１：２）すればシス体［６］　０．７９９（３１
％）およびトランス体［７］　０．２１ｇ（８％）が得
られる。

２）低温条件下の合成 イリド化合物［１］　０．４４９（０，４６ｍｍｏｌ）
を含むクロロホルム２０ｍＱ溶液を一５℃に冷却シ、こ
こへアルデヒド体［５コ　０．１６９（１，３８ｍｍｏ
ｌ）を加え同温度で１６時間放置する。反応液を水洗し
ＭｇＳＯ３上で乾燥後、溶媒を留去して残渣をシリカゲ
ルクロマト（展開液：酸ニス：トルエン＝１：ｌ）すれ
ばシス体［６］　０．２１９（５７％）、トランス体［
７］　０，０２ｇ（５％）が得られる。

シス体［６］ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１２ｓ）：δ１．４２（９Ｈ，ｓ）
、３．１８．３．４５（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）
、３．４５〜３．７０（２Ｈ，ｍ）、 ３．６４（３Ｈ，ｓ）、３．８１　（６Ｈ，ｓ）、４．
９６（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ４．９８（２Ｈ，ｓ）、５．１６（２Ｈ，ｓ）、５．５
２（２Ｈ，ｍ）、 ５．８０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）、８．１１（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）、６．８６〜６．９８　（６
Ｈ，ｍ）、 ７．２４〜７．３７（６Ｈ，ｍ） ＩＲ（ＣＤＣ１２ｓ）：　１７８０．１７１５ＣＩ−’
上！Ｚ王生［Ｕ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱ、）：δ１．４２（９Ｈ，ｓ）、
３．４０，３．５０（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、
３．６４〜３．９０（２Ｈ，ｍ）、 ３．６９（３Ｈ，ｓ）、３．８１　（６Ｈ，ｓ）、４、
９０（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　５　Ｈｚ）、４、９８　
（２Ｈ，ｓ）、５．１３（ｌ　Ｈ，ｍ）、５、２０　（
２Ｈ，ｓ）、 ５．５３（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５．７７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）、６．８７〜
６．９８　（６Ｈ，ｉ）、 ７．１６〜７．３７（６Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ１２Ｓ）　：　１７７５．１７１０ｃｙ
ｐ−’（２）脱保護による化合物８の合成 ［８］ （１）で得た化合物［６］　６６　Ｔａ２＜０．８３ｍ
ｌｌ１ｏｌ）を水冷しアニソール１ｘ１７．トリフルオ
ロ酢酸５村を加え同温度で１時間撹拌する。反応液をｎ
−ヘキサン４０ｘＱｓエーテル２０ｘＱ混含液中へ撹拌
しながら加え、実施例１（２）と同様に処理した後、Ｈ
Ｐ−２０カラムクロマト（展開液：メタノール：水＝　
１　：４）にかけ、次いで凍結乾燥すれば最終目的物質
［８］３２０ｎ（８３％）が得られる。

［８コニ ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）：δ３．１９． ３．４６（２Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ　＝　１８Ｈｚ）、３．
４８−３．８２（２Ｈ，ｍ）、３．６１　（３Ｈ，ｓ）
、５、１３（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５、１５
（Ｉ　Ｈ，ｓ）、５．５２（Ｉ　Ｈ，ｍ）、５、７１　
（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、６．０１（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝ｔ　ＩＨｚ）、６．９７（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝９
Ｈｚ）、７．３８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝９Ｈｚ）Ｉ　Ｒ
（Ｎｕｊｏｌ）　：　１７６０．　１６８５ｃｍ−’［
９］ （１）で得たトランス体［７コ １９　’？ｔ９＜０．２５ｎ＋ ｆｆ１ｏｌ）ヲ水冷し、アニソール０．５ｘＱ、トリフ
ルオロ酢酸２．５ｘＱを加え同温度で１時間撹拌する。

実施例１（２）と同様に処理し、ＨＰ−２０カラムクロ
マト（展開液；メタ／−ル：水＝　１　：４）にかけた
後、凍結乾燥すれば６０ｏ（７９％ｙの最終目的物質［
９］が得られる。

［９］： ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）：δ３．４８（２Ｈ，ｓ）、３．
６５（３Ｈ，ｓ）、３．７８（２Ｈ，ｍ）、５．０７（
Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５、１４（、Ｉ　Ｈ，
ｓ）、 ５．６８（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ６．５３（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）、６、９７（２Ｈ
，ｄ、　Ｊ　＝９Ｈｚ）、７．３７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９
Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　１７５９、ｌ　６８４５ｃ
ｍ−’寒換週旦 （１）化合物［１１］の合成 ［１］ ＋　ＯＨＣＮＨ３０Ｊｅ イリド化合物［Ｉコ３．６１１Ｆ（３，７５ｍｍｏｌ）
を含むクロロホルムＬｏｏｍ（２液にアルデヒド体［１
０］１、７９９（１３ｍｎｏｌ）を加え１時間還流撹拌
する。

反応液より減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマト処理（展開液：塩化メチレン；酢エチ＝ｉ
：１）すれば、シス体［１１コとトランス体との混合物
１．０１９（３３％）と目的とする純粋なシス体［１１
］　０．４２９（１４％）が得られる。

［１１］： ’ＨＮＭＲ（ＣＤ０１２ｇ）：δ１．４２（９Ｈ，ｓ）
、２、８７（３Ｈ，ｓ）、３．１２． ３．４１（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ−１８Ｈｚ）、３．４６〜
３．７４（２Ｈ，ｎ＋）、 ３．８１（６Ｈ，ｓ）、 ４．９６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ４．９８（２Ｈ，ｓ）、５．１６（２Ｈ，ｓ）、５．５
３（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５、５５（Ｉ　Ｈ，ｎ）、 ５、８０（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ　〜５．９Ｈｚ）、６．
１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝　１２Ｈｚ）、６、８７〜６．９
８　（６Ｈ，ｍ）、 ７．２７〜７．３７　（６Ｈ，ａｎ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ（２ｓ）　：　１７８５．１７２０゜１
６９９ＣＪＩ−直 ［１２］ 化合物［１１コ３２０ｍ９（０，３９ｍｍｏｌ）を水冷
し、アニソール０．５ｉＱ、）リフルオロ酢酸２．５ｘ
＋２を加え同温度で１時間撹拌する。実施例１（２）と
同様の処理を行ない、ＨＰ−２０カラムクロマト処理（
展開液；メタノール：水＝　１　：４）Ｌ、次いで、凍
結乾燥すれば１４０ｙｙ（７４％）の最終目的物質［１
２］が得られる。

［１２］： ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）：６３．０４（３Ｈ，ｓ）、３．
２０．３．４５（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝４８Ｈｚ）、３．
５１〜３．８２（２Ｈ，＋＋＋）、５、１３（ｌ　Ｈ，
ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５、１５（Ｉ　Ｈ，ｓ）、５．
６０（Ｉ　Ｈ，ｍ）、５．７２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
）、 ６．０８（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）、６．９７（２Ｈ
，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ７．３８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　１７５８．１６８　ｌａ「
’ｇ塁何１ （１）［１４コの合成 ［１３］ ［１４］ イリド化合物［１３コ２．４８ｙ（３ｍｍｏｌ）を含む
クロロホルム１００ｉ１２液にアルデヒド体［５］　　
１゜６２９（１３，８＋＋＋ｍｏｌ）を加え１時間還流
撹拌する。

反応液を冷却後、水洗し、Ｍｇ５Ｏａ上で乾燥した後、
溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト（
展開液；トルエン：酢エチー１：１）すれば、シス体［
１４コとトランス体との混合物０．４０９（２０％）と
目的とする純粋なシス体［１４］０゜５７ｇ（２８％）
が得られる。

［１４コニ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１２３）：δ１．４２（９Ｈ，ｓ）
、３．１７．３．４４（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）
、３、４１〜３．７４　（２Ｈ，ｍ）、 ３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．８１　（３Ｈ，ｓ）、４．
９５（ＩＨ，ｄ、Ｊ　＝５Ｈｚ）、５．１５（２Ｈ，ｓ
）、５．５０（・ＩＨ，ｌ１１）、５．６２（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５．８０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）、６、１Ｏ（
Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１２Ｈｚ）、６．８９（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ７．３１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ７．３７（５Ｈ，５） ＩＲ（ＣＤＣ１２３）＋　１７８１，１７１５．１７０
０ｃｘ−’ ［１５コ 化合物［１４］　５５２１９＜０ ８３　ｍｍｏｌ）を水冷し、 アニソール０．５ｙＱ、ｈリフルオロ酢酸２．５ｘ１２
を加え同温度で１時間撹拌する。実施例１（２）と同様
の処理を行ない、ＨＰ−２０カラムクロマト処理（展開
液；メタノール：水＝３ニア）Ｌ、次いで、凍結乾燥す
れば２ＢＯｎ（７６％）の最終目的物質［１５］が得ら
れる。

［１５］： ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）：δ３．１５． ３．４２（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．４５〜
３．８０（２Ｈ，ｍ）、 ３．５９（３Ｈ，ｓ）、 ５．１２（ＬＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ）、 ５、１９（Ｉ　Ｈ，ｓ）、５．４７（Ｌ　Ｈ，ｍ）、５
．７１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５．９６（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１２Ｈｚ）、７．６
０（５Ｈ，ｓ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　１７６１．１６９０ｃｔ−
’Ｘ旌致互 （１）［１７］の合成 Ｅ１６］ イリド化合物［１６］　４．１７９（４，１７ｍｍｏｌ
）を含むクロロホルム１００３１１２液にアルデヒド体
［５］１、７２９（１４，７ｍｎ＋ｏｌ）を加え１時間
還流撹拌する。実施例りと同様に処理した後シリカゲル
カラムクロマト（展開ａ；）ルエン：酢ニス−１：１）
すれば、０．６８９（１９％）の粉末が得られる。この
ものはトランス体を含むためシス体［１７］の純度は８
０％である。

［１７］： ＩＨＮＭＲ（ＣＤＣ１２，）：δ１．４２（９Ｈ，ｓ）
、３．１８．３．４４（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）
、３．４５〜３．７５（２Ｈ，ｍ）、 ３．６４（３Ｈ，ｓ）、３．８１（６Ｈ，ｓ）、４．９
５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５．０８（２Ｈ，ｓ）、５．１５（２Ｈ，ｓ）、５、５
２（Ｉ　Ｈ，ｍ）、 ５、６３（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝６Ｈｚ＞、５、７７（
Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ　＝５．９Ｈｚ）、６．０９（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、６．８６〜６．９７（６Ｈ，ｍ
）、 ７．１５〜７．４０（５Ｈ，１ｉ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣｆｆ＊）　：　　ｌ　７９０．１７２０
．１６９５ｃｍ−’ ［１８］ （１）で得た化合物［１７］　０．８８１Ｆ（０，８１
ｍｍ。

ｔ）を水冷し、アニソール０．５ｘＱ、トリフルオロ酢
酸２．５村を加え同温度で１時間撹拌する。実施例２と
同様の処理を行ない、ＨＰ−２０カラムクロマト（展開
液；メタノールニ水＝３ニア）Ｌ、次いで、凍結乾燥す
れば０．３０９（７５％）の粉末が得られる。このもの
はトランス体を含むため目的物質であるシス体［１８］
の純度は８０％である。

［１Ｂ］： ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）：δ３．１２． ３．３７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ　＝　１８Ｈｚ）、３．３
４〜３．７４　（２Ｈ，＋ｎ）、３．５３（３Ｈ，ｓ）
、 ５、０５（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５．０６（
ＩＨ，ｓ）、５．４２（ＬＨ，ｍ）、５．６３（１Ｈ，
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５、９２（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ、＝　１２Ｈｚ）、７、Ｏ
Ｌ（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝９Ｈｚ）、７．４４（Ｉ　Ｈ
，ｄ、　Ｊ　＝２Ｈｚ）Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　　
１７６０゜実施例６ （１）［２０］の合成 １６８５ＣＩ−’ ［１］　＋　ｏｕｃ、、、に：乳、。

イリド化合物［１］　３．６１９（３，７５ｍｍｏｌ）
を含むクロロホルム１００＊Ｃｉ夜にアルデヒド体［１
９］２、５０９（１９，０７ｍｍｏｌ）を加え１時間還
流撹拌する。実施例１（１）と同じ処理を行なった後、
シリカゲルカラムクロマト（展開液：トルエン：酸ニス
＝１：１）すればトランス体０．４６９（１５％）と目
的とするシス体［２０］　　１，５２９（５０％）が得
られる。

［２０コニ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｆ２．）：δ１．４２（９Ｈ，ｓ）
、２．７４（３Ｈ，ｓ）、３６２１． ３．４６（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ　＝　１８Ｈｚ）、３．４
５〜３．７０（２Ｈ，ｍ）、 ３．６４（３Ｈ，ｓ）、３．８１　（６Ｈ，ｓ）、４、
９７（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、４．９８（２Ｈ
，ｓ）、５．１８（２Ｈ，ｇ）、５、５０　（２Ｈ，ｍ
）、 ５．８０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）、６、１７（
Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１２Ｈｚ）、６．８６〜６．９
８（８Ｈ，ｍ）、 ７．２０〜７．３７（６Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ（２，）　：　１７６９．１６８５ｃｘ
［２１コ 化合物［２０コ０．７４ＶＣ０，９１開ｏ１）を水冷し
、アニソール０．５＊Ｑ、）リフルオロ酢酸２．５ｘＱ
を加え同温度で１時間撹拌する。実施例１（２）と同様
の処理を行ない、ＨＰ−２０カラムクロマト（展開液；
メタ／−ル：水＝　２　：３）処理し、次いで、凍結乾
燥すれば０．２８９（８５％）の最終目的物質［２１コ
が得られる。

［２１］： ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）：δ２．７４（３Ｈ，ｓ）、３．
１３．３．３７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ　＝　１８Ｈｚ）、
３．５７（３Ｈ，ｓ）、 ３．５９〜３．９０（２Ｈ，０１）、 ５．０６（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５．０８（
ＩＨ，ｓ）、５．４５（Ｉ　Ｈ，ｍ）、５、６４（ｌ　
Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ＞、６、０２（Ｉ　Ｈ，ｄ、　
Ｊ　＝　１２Ｈｚ）、６．９０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ
）、 ７．３１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　１７６０．　１６７２ｃＣ
’実施例７ （１）［２３］の合成 イリド化合物［１］　３．６１９（３，７５ｍｍｏｌ）
を含むクロロホルム１００ｊ！Ｑ液にアルデヒド体［２
２］２．０９（１５，３開ｏ１）を加え１時間還流撹拌
する。

実施例１（１）と同様の処理を行なった後、シリカゲル
カラムクロマト処理（展開液；トルエンコ酢ニス＝ｌ：
１）すればシス体［２３］とトランス体との混合物１．
３３９（４３％）および純粋なシス体［２３］　０．４
４９（１４％）が得られる。

［２３］　： ＩＨＮＭＲ（ＣＤＣＩＬ）： ３１　６１’）（ＱｔＪ　　Ｌ　　Ｔ　　　７ｔＪ＋）
１．４２（９Ｈ，ｓ）、３．１９． ３．４６（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ　＝　１８Ｈｚ）、３．４
３〜３．７５　（２Ｈ，ｍ）、 ３、８１　（３Ｈ，ｓ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、４．
０９（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ４．９６（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ４．９８（ＬＨ，ｓ）、５．１６（Ｉ　Ｈ，ｓ）、５．
５３　（２Ｈ，ｍ）、 ５、７９　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ　＝　５．９　Ｈｚ）
、６、１０（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　ｌ　ｌ　ｆ（ｚ）
、６．８５〜６．９８　（６Ｈ，＋＋１）、７．２５〜
７．３７　（８Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣｆｆ３）　：　　１７８１．１７１０ｃ
ＪＩ−’（２）脱保護による　２４の合成 ［２４］ 化合物［２３］　０．４４１？（０，５４ｍｍｏｌ）を
水冷し、アニソール０．５ｘＱ、　　トリフルオロ酢酸
２．５村を加え同温度で１時間撹拌する。実施例１（２
）と同様の処理を行ない、次いで、ＨＰ−２０カラムク
ロマト（展開液；メタノール：水＝２：３）Ｌ、凍結乾
燥すれば０．２０９（７８％）の最終目的物質［２４コ
が得られる。

［２４コニ ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）： δ　１．１２ぐ３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．１２．３
．３８（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、３、３０〜３
．７５　（２Ｈ，ｍ）、 ３．９８（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ５．０６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５．０７（ＬＨ，ｓ）、５．４５（ＩＨ，ｍ）、５．６
４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５、９３（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　ｌ　Ｉ　Ｈｚ）、６
．８９（２）（、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．３０（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＱｆｉ）　：　１７５９、ｌ　８８０ｃ
「’実施例８ （１）［２６］の合成 ［２５］ イリド化合物［２５］　２．７８ｇ（３ｍｍｏｌ）を含
むクロロホルム１００ｘ（ｌｉ（１，にアルデヒド（本
［５］　　１゜５２１？（１３ｍｍｏｌ）を加え１時間
還流撹拌する。実施例１と同様の処理を行なった後、シ
リカゲルカラムクロマト（展開Ｍ；トルエン：酢ニス＝
　ｌ　：３）すればシス体とトランス体の混合物０．４
４ｇ（１９％）と、目的とする純粋なシス体［２６］０
．４５９（２０％）が得られる。

［２６］： ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１２３）：δ１．４２（９Ｈ，ｓ）
、３、０１　（３Ｈ，ｓ）、３．２０゜ ３．４３（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１　８ｌ−１ｚ）、３．
４４〜３．７３（２Ｈ，ｉ）、 ３、６４　（３Ｈ，ｓ）、３．８１　（６Ｈ，ｓ）、４
、’９５（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５、１１　
（２Ｈ，ｓ）、５．５２（Ｉ　Ｈ，ｍ、）、５、７５（
２Ｈ，ｍ）、 ６、１２（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１１　Ｈｚ）、６．
８７（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝９Ｈｚ）、７．２０〜７．３
３（６Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＩｓ）：　１７８０．　１７１０ｃ「’
（２）脱保護による［２７］の合成 ［２６］ 化合物［２６］　４３８ｘ９（０，５８ｍｍｏｌ）を水
冷し、アニソール０．５ｊｌ（２、トリフルオロ酢酸２
．５村を加え同温度で１時間撹拌する。実施例１（２）
と同様の処理を行な０た後、ＨＰ−２０カラムクロマト
（展開液：メタノール：水＝２：３）Ｌ、次いで、凍結
乾燥すれば２６０ｍ９（８３％）の最終目的物質［２７
］が得られる。

［２７コ： ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ（３）：δ３．０４　（３Ｈ，ｓ）
、３．０７．３．３５（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ−１８Ｈｚ）
、３．３６〜３．７２（２Ｈ，ｍ）、３．５２（３Ｈ，
ｓ）、５．０３（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５、　Ｌ　２（Ｉ　Ｈ，ｓ）、５．４３（ＩＨ５，６３
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５．８９（ＩＨ，、ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）、６．６７〜６
．７１　（３Ｈ，ｍ）、 ８．８１〜６．８８（ＬＨ，ｍ） Ｉ　　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　二　１　７８０゜実施例９ （１）［：２９］の合成 ６８５ｃｘ ｍ）、 ［２９］ イリド化合物［１コ２．７６ｇ（３ｍｆｆｌｏｌ）を含
むクロロホルム１００ｍ（液にアルデヒド体［２８］　
　１゜３１９（６ｍｍｏｌ）を加え２時間室温で撹拌す
る。実施例１（１）と同様の処理を行なった後、シリカ
ゲルカラムクロマト（展開液；トルエン：酸ニス＝１：
ｌ）すればシス体［２９コとトランス体との混合物１．
０９ｇ（４４％）が得られる。この混合物は再度クロマ
ト処理しても分離できずシス体［２９］の純度は８５％
である。

［２９］： ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣム）： ６１．２１（６Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．４２（９Ｈ
，ｓ）、３．１９． ３．４６（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、３、４５〜
３．６４（２Ｈ，ｍ）、 ３、８１　（８Ｈ，ｇ）、４．８０〜４．９５（ＩＨ，
ｍ）、４．９６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ４．９８（２Ｈ，ｓ）、５．１５（２Ｈ，ｓ）、５、５
４　（２Ｈ，ｍ）、 ５．７９（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）、６、　ｌ　
０（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１２Ｈｚ）、６．８５〜６．
９８　（６Ｈ，ｍ）、 ７．２２〜７．３７（６Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ＆、）＋　１７８０．１７６０ｃｍ−’
（２）脱保護による［３０　のム成 ［２９］ （１）で得た化合物［２９］　０．６０ｇ（０，７２ｍ
ｍ。

１）を水冷し、アニソール０．５ｍ（１，トリフルオロ
酢酸２，５＊Ｉ２を加え同温度で１時間撹拌する。実施
例１（２）と同様の処理を行なった後、ＨＰ−２０カラ
ムクロマト（展開液；メタノール二本＝２：３）し、次
いで、凍結乾燥すれば０．２６９（７２％）の粉末が得
られる。このものはトランス体を含むため最終目的物シ
ス体［３０］の純度は８５％である。

［３０コニ ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）： ６１．１９（６Ｈ，ｄ、Ｊ　＝ＢＨｚ＞、３．２０．３
．４６（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．４８〜３
．８２（２Ｈ，ｍ）、 ５．１２（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５、１４（
Ｉ　Ｈ，ｓ）、５．５２（Ｉ　Ｈ，ｍ）、５．７１（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ６、　ＯＯ（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１２Ｈｚ）、６．
９７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ７．３７（２Ｈ，ｄ、Ｊ　＝９Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　　１７５９．１８８０ｃ「
’（以下余白） 実施例１０ （１）［３３］の合成 ［３１］ ［３３］ イリド化合物［３１］　２．７９９（４ｍｍｏｌ）を含
むクロロホルム１００１１２溶液にアルデヒド体［３２
］０．９４９（８１０１１０１）を加え、室温で２．５
時間撹拌する。反応液を水洗後、乾燥、留去し、残渣を
シリカゲルクロマト（展開液；トルエン：酢エチ＝２：
１）すれば目的物質［３３］　０．５１９＜２４％）が
得られる。

［３３］ ’ＨＮＭＲ（ＣＤ　（ｄ２３）　： ６３、２５〜３．７５（４Ｈ，ｍ）、 ３．６５（３Ｈ，ｓ）、３．８１　（３Ｈ，ｓ）、５．
１７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５．１９（２Ｈ，ｓ）、 ５．３４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５、６４（Ｉ　Ｈ，ｍ）、 ６、１６（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１１　Ｈｚ）、６．
８７〜７．７３（８Ｈ，ｍ）、 ８、６２（Ｉ　Ｈ，ｓ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ＆、）：　　Ｌ　７７８．１７１９．１
８２５ｃｍ−’ （２）［３４コの合成 ［３４］ 化合物［３３］　０．５０９（０，９３ｍｍｏｌ）を酸
ニス１０　ｚＱｓエタノール２．！５ｘ（ｌに溶かし室
温で撹拌しながら、濃塩酸０．１５ｍ１２を加える。同
温度で１時間撹拌後、減圧で溶媒を留去した残渣を酸ニ
ス、エーテルで洗浄すれば０．２１ｇ（４８％〉の［３
４］が得られる。

［３４］： ＩＨＮＭＲ（ＣＤ、ＯＤ）： ６３．３６〜３．７１　（４Ｈ，ｍ）、３．６２（３Ｈ
，ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、５．１１（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５．１Ｂ（２Ｈ，ｓ）、 ５．３１　（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　５　Ｈｚ）、５．
５４（ＩＨ，ｍ）、 ６、２２（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　−１２Ｈｚ）、８．９０
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ７．３３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　１７７９．１７１０ａｒ’
［３５コ ［３６コ スルフィド［３５］（８００Ｒ９，０、９８ｍｍｏｌ）
をＣＨ，Ｃ１２，（２５ｍ１２）に溶かし、水冷下８０
％ｍ−ＣＰＢＡ（２１２ｘ９．０．９８ｍｍｏｌ）／　
ＣＨ＊Ｃ１２＊（５１１２）を加え、１０分間撹拌する
。ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄後、減圧濃縮しスルフオキ
シド［３６］（７９１ｘ９．９７％）を得る。

［３６］　： ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１２ｓ）　：δ１．４４（９Ｈ，ｓ
）、３．２０〜４．００（４Ｈ，ｍ）、 ３、６１　（３Ｈ，ｓ）、 ４．９８（２Ｈ，ｓ）、 ５．０８〜５．２９（３Ｈ，ｍ）、 ５．４２〜５．６０（２Ｈ，ｍ）、 ６、０３（Ｌ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ　＝５．１０Ｈｚ）、６
．１０（ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）、 ６．７２〜７．Ｏ０（６Ｈ，ｍ）、 ７．２３〜７．４７（６Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ１２，）：　　１７９０，１７０３．１
６００ｃｙＩ−’ ３．８２（６Ｈ，ｓ）、 ［３６］ ［３７］ エステル［３６コ（３００ｆｆｌｉ＋、０　、３６　ｍ
ｍｏｌ）／　ＣＨ，ＣＣ，（０，８１＋１７２）に、水
冷下アニソール（０，４ｘＱ）次いで、トリフルオロ酢
酸（３ｘＱ）を加え、１時間撹拌する。減圧濃縮し、残
渣にＥ　ｔ、Ｏ（２０１１２）を加え粉末とし、ろ取、
Ｅ　ｔ、Ｏにて洗浄する。得られた粉末を水に溶かしＨ
Ｐ−２０クロマトに付し、１５％ＭｅＯＨ／Ｈ，Ｏで溶
出する。減圧濃縮、凍結乾燥し［３７］　（１４８１９
，８６％）を得る。

［３７］： ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）： ６３．２６〜３．９５（４Ｈ，ｍ）、 ３．５４（３Ｈ，ｓ）、 ４．８２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ５、１１　（Ｌ　Ｈ，ｓ）、 ５．４３−５．５８（ＩＨ，ｍ）、 ５．８７（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１１Ｈｚ）、５．８
８（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、６．９３（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ７．３２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　　１７６５．１６８０ａｒ
’［３８］ ［４０コ 〔４１コ イリド［３８］（４，８２９，５ｍｍｏｌ）／　ＣＨｅ
ｃ　Ｌ（１００ＲＱ）にアルデヒド［３９］（１，０ｇ
、７．６３ｍｎ。

ｌ）を加え７時間加熱還流する。減圧濃縮し、残渣をシ
リカゲルクロマトに付し、トルエン：ＣＨｅＣＱ、：　
Ａｃ０Ｅｔ＝２　：　２　：　１で溶出し、［４０コ（
７４１ｍ９、　■　８．１％）と［４１コ（４９０７１
９、％）を得る。

［４０］： ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）：δ １．９０〜２−２５（２Ｈ，ｍ）、 ３．０２〜３．２８（２Ｈ，ｍ）、３．１７．３．３９
（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１９Ｈｚ）、３．６３（３Ｈ，ｓ
）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、４．９５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝
５Ｈｚ）、 ４．９８（２Ｈ，ｓ）、５．１６（２Ｈ，ｓ）、５．４
５〜５．５７（Ｌ　Ｈ，ｎ＋）、５、７８　（Ｉ　Ｈ，
ｄｄ、　Ｊ　＝　５．９　Ｈｚ）、６、１５（Ｌ　Ｈ，
ｄ、　Ｊ　＝　Ｌ　Ｉ　Ｈｚ）、６．８５〜６．９８　
（６Ｈ，ｍ）、 ７．２２〜７．３９　（６Ｈ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ＆ｓ）　：　１７９８．１７１５．１６
０５ｃｘ−’ １２．０ １、４２　（９Ｈ，ｓ）、 ［４１コニ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｊ３）：　δ１　、４２（９Ｈ，ｓ
）、２．２４〜２．４０（２Ｈ，ｎ＋）、 ３．１６〜３．３０（２Ｈ，ｍ）、３．３８．３．５２
（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ　＝　１８Ｈｚ）、３．６６（３Ｈ
，ｓ）、３．８１　（８Ｈ，ｓ）、４、δ９（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ４．９８（２Ｈ，ｓ）、５．２１（２Ｈ，ｓ）、５．５
３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５．７５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）、５．７５〜
５．９６（ＩＨ，耐、 ６．８３〜７．Ｏ０（６Ｈ，＋ｎ）、 ７．２２〜７．４３（６Ｈ，ｍ） ｌ　Ｒ（ＣＨＣＩ２３）　：　　１７９８、ｌ　７１０
゜１６０５ｃｍ−’ （２）［４２］の合成 ［４０］ 土 ［４２コ ニスチル［４０］（４４０ｘ９．０　、５４　ｍｍｏｌ
）を塩化メチレン（１ｘＱ）に懸濁し、水冷下アニソー
ル（０，５ｘｅ）、ｌ−リフルオロ酢酸（４ｘＱ）を加
え、５０分間撹拌する。減圧濃縮し、残渣にエーテル（
２０ｍＱ）を加え粉末とし、ろ取する。これを水に溶か
し、ＨＰ−２０り０７トに付し、２０〜３０％ＭｅＯＨ
／Ｈ、Ｏで溶出す、る。濃縮、凍結乾燥して目的物質［
４２］（２６３ｍ９．１０２％）を得る。

［４２］ ’ＨＮＭＲ（Ｄ、○）： δ１．３０〜１．７０（２Ｈ，＋ｎ）、２．３４〜２．
５０（２Ｈ，ｍ）、２．４８．２．６７（２Ｈ，ＡＢｑ
、Ｊ　＝　１７Ｈｚ）、２、９１　（３Ｈ，ｓ）、 ４．３９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、 ４、４５（Ｉ　Ｈ，ｓ）、 ４．７７〜４．９２（Ｉ　Ｈ，ｍ）、 ４、９９（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５．２８（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）、６．２７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝
９Ｈｚ）、 ６．６８（２Ｈ，ｄ、Ｊ　＝９Ｈｚ） ＋　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　　１７３０゜（３）ＢＳＵ
史金惑 １６７５ｃｍ−友 ［４１］ ［４３］ エステル［４１コ（２８０ｇ！９．０　、３４　ｍｍｏ
ｌ）を塩化メチレン（０，６村）に懸濁し、水冷下アニ
ソール（０，３ｘＱ＞、トリフルオロ酢酸（２，５３１
１２）を加え、１時間撹拌する。減圧濃縮し、残渣にエ
ーテル（１５＊Ｑ”）を加え粉末とし、ろ取する。これ
を水に溶かし、ＨＰ−２０クロマトに付し、２０〜３０
％Ｍ　ｅｏ　Ｈ／　Ｈｔ　Ｏで溶出し、濃縮、凍結乾燥
して目的物質［４３コ（１４２ｍｇ、０　、３０　ｍｍ
ｏｌ）を得［４３］ ’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）： δ１，５２〜１．６８（２Ｈ，ｍ）、 ２．４７（２Ｈ，ｔ、Ｊ　＝６Ｈｚ）、２．７８（２Ｈ
，＋＋）、２．９１　（３Ｈ，ｓ）、４．３５（Ｌ　Ｈ
，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、４、４４　（２Ｈ，ｓ）、 ４．９７（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ）、５．０４〜
５．２０（Ｌ　Ｈ，ｍ）、 ５．７７（Ｌ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１６Ｈｚ）、６．２
７（２Ｈ，ｄ、Ｊ　＝９Ｈｚ）、６．６８（２Ｈ，ｄ、
Ｊ　＝９Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　：　　１７５５．１６８０ｃｊ
ｌ−’

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は置換されていてもよいフェニル基、Ｒ
   ＾２は水素原子または低級アルキル基、Ｒ＾３は−ＣＯ
   ＯＲ＾４、−ＣＯＲ＾４、−ＳＯ＿２Ｒ＾４、または−
   ＣＯＮＨＲ＾５であり、ここにＲ＾４は低級アルキル基
   、Ｒ＾５は水素原子または低級アルキル基、ｎは１また
   は２を表す） で示される３−置換アルケニルセファロスポリン誘導体
   。