JPH03164784A - ホログラムおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明はホログラムおよびその製造方法に関する。

［従来の技術］ ホログラムは、レーザ光等の干渉性を有する光の干渉波
面を屈折率分布または光吸収（濃淡）分布として記録し
たものであり、立体写真、バーコード読取り装置のビー
ムスキャナ等の光学素子、航空機および自動車等のヘッ
ドアップデイスプレィなどに用いられている。

ホログラムを上記の用途に用いるためには、ホログラム
が下記の特性を有していることが必要である。

（Ｉ）回折効率が高いこと。

（２）耐湿性、耐熱性、耐光性に優れていること。

（３）無色透明であること。

（４）ヘイズが少ないこと。

ホログラム用の材料としては、漂白処理銀塩、フォトレ
ジスト、サーモプラスチック、重クロム酸ゼラチン、無
機ガラス系材料、強誘電体などが知られており、これら
のうち、漂白処理銀塩および重クロム酸ゼラチンは実用
化されている。

［発明が解決しようとする課題］ 上記の漂白処理銀塩を用いてホログラムを製造する場合
には、煩雑な処理が必要となること、得られたホログラ
ムの耐光性が劣ることなどの欠点がある。また、重クロ
ム酸ゼラチンが与えるホログラムは耐湿性および耐熱性
に劣ることなどの欠点を有する。

本発明の１つの目的は、可視光線に対する透明性、耐有
機溶媒性および耐熱性が良好であり、かつ高い回折効率
を有するホログラムを提供することにある。本発明の他
の１つの目的は上記のホログラムを製造する方法を提供
することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明によれば、上記の１つの目的は、下記−般式（Ｉ
）で示される構造単位（以下、これを構造単位（Ｉ）と
称する）を２〜９９モル％、下記一般式（ｎ）で示され
る構造単位（以下、これを構造単位（ｎ）と称する）を
０〜９７モル％、および下記一般式（Ｉ［Ｉ）で示され
る構造単位（以下、これを構造単位（Ｉ［［）と称する
）を１〜９８モル％有する重合体（Ａ）と、置換基を有
していてもよい芳香族アルデヒドおよび芳香族ケトンか
らなる群より選ばれる化合物（Ｂ）とからなる組成物か
らなるホログラムを提供することにより達成される。

構造単位（Ｉ）： ＩＩ ［式中、ｘｌは水素原子またはアルキル基を表し、Ｙｌ
はシクロアルケニル基または下記一般式で示される基を
表す。ここで、ｚｌは２１ｉｌ！ｉの炭化水素基を表し
、Ｒ’、　Ｒ”およびＲ３はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基またはアルケニル基を表す。］構造単位（■）： ！意 ［式中、Ｘ！は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ２
はフェニル基、アルコキシカルボニル基またはカルバモ
イル基を表し、構造単位（■）における水素原子はフッ
素原子によって置換されていてもよい。〕 構造単位（■）： ３ ［式中、ｘ３は水素原子またはアルキル基を表し、２！
は２価の炭化水素基を表し、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６はそ
れぞれ水素原子またはアルキル基を表す。］本発明に用
いられる組成物を構成する重合体（Ａ）は構造単位（Ｉ
）を５〜９８モル％含み、かつ構造単位（ＩＩＩ）を２
〜９５モル％含む場合が好ましく、構造単位（Ｉ）およ
び構造単位（Ｉ［［）をそれぞれ２０〜４０モル％含む
場合がより好ましい。

上記の構造単位（Ｉ）におけるＸｌ、構造単位（ＩＩ）
におけるＸ！および構造単位（Ｉｌｌｒ）におけるＸ３
がそれぞれ表すアルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などの炭素
数が４以下の低級アルキル基が好ましい。

また構造単位（ｒ）におけろＲ’、　Ｒ’およびＲ３な
らびに構造単位Ｃｒｆｌ）におけるＲ’、Ｒ’およびＲ
＠がそれぞれ表すアルキル基は分岐鎖または任意の置換
基を有していてもよく、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基
、ヘプチル基、オクチル基などの炭素数が８以下の低級
アルキル基が好ましい。上記の１、Ｒ１およびＲ３がそ
れぞれ表すアルケニル基は２−ブテニル基、３−メチル
−２−ブテニル基、３−ペンテニル基、４−メチル−３
−ペンテニル基が好ましい。構造単位（Ｉ）におけるｚ
ｌおよび構造単位（ＩＩＩ）におけるｚ２がそれぞれ表
す２価の炭化水素基としては分岐鎖を有していてもよい
炭素数２〜８のアルキレン基が好ましい。構造単位（Ｉ
）におけるＹｌの好適例として、アリル基；２−ブテニ
ル基、３−ブテニル基、２−メチル−２−プロペニル基
：２−へブテニル基、３−へブテニル基、４−へブテニ
ル基、２−メチル−２−ブテニル基、３−−メチル−２
−ブテニル基、２−エチル−２−プロペニル基、２−メ
チル−３−ブテニル基、１．２−ジメチル−２−プロペ
ニル基；２−へキセニル基、３−へキセニル基、４−へ
キセニル基、５−へキセニル基、１．１−ジメチル−２
−ブテニル基、■、２−ジメチルー２−ブテニル基、１
．３−ツメチル−２−ブテニル基、２．３−ジメチル−
２−ブテニル基、３−メチル−２−へブテニル基、２−
メチル−２−ヘプテニル基；２−メチル−２−シクロへ
キセニル基、３−メチル−２−シクロへキセニル基、ゲ
ラニル基、イソゲラニル基、ネリル基、ラバンジュリル
基、６−メチルゲラニル基、１−メチルゲラニル基、６
−エチルゲラニル基、ペリリル基、ファルネ奮ル基、ゲ
ラニルゲラニル基、β−シクロゲラニルゲラニル基など
を挙げることができる。構造単位（ｎ）におけるＹ！が
表すアルコキシカルボニル基の好適例としては、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボ拳・ル基、プロポキシ
カルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンタノキシカ
ルボニル基、ヘキサノキシカルボニル基、ヘプタノキシ
カルボニル基、シクロヘキサノキシカルボニル基などを
挙げることができる。

また構造単位（［［）における基 としでは、２．３−エポキシプロピル基、２．３−エポ
キシブチル基、３．４−エポキシブチル基、２．３−エ
ポキシ−２−メチルプロピル基、２−メチル−２，３−
エポキシブチル基、３−メチル−２，３−エポキシブチ
ル基、２．３−エポキシヘプチル基、５．６−エポキシ
へブチル基、３−メチル−２，３−エポキシブチル基、
４−メチル−２，３−エポキシへブチル基、４−メチル
−５，６−エポキシヘプチル基などが挙げられる。

重合体（Ａ）はα位がアルキル基によって置換されてい
てもよいアクリル酸またはそのエステルの単独重合また
は構造単位（ＩＩ）を形成するコモノマーとの共重合に
より重合体を得、ついで該重合体と基Ｙ１を有するアル
コールおよび基Ｙ３を有するアルコールとの混合物を反
応させるか、または構造単位（Ｉ）を形成するアクリル
酸誘導体と構造単位（Ｉ［［）を形成するアクリル酸誘
導体との共重合またの共重合により製造することができ
る。

構造単位（Ｉ）を形成するアクリル酸誘導体としては、
アリルメタクリレート、アリルアクリレート、２（また
は３）−ブテニルメタクリレート、２（または３）−ブ
テニルアクリレート、２−メチル−２−プロペニルメタ
クリレート、２−メチル−２−プロペニルアクリレート
、２（または３または４）−へブテニルメタクリレート
、２（または３または４）−へブテニルアクリレート、
２−メチル−２（または３）−ブテニルメタクリレート
、２−メチル−２（または３）−ブテニルアクリレート
、２−エチル−２−プロペニルメタクリレート、２−エ
チル−２−プロペニルアクリレート、１．２−ジメチル
−２−プロペニルメタクリレート、ｌ、２−ジメチル−
２−プロペニルアクリレート、２（または３または４ま
たは５）−へキセニルメタクリレート、２（または３ま
たは４または５）−へキセニルアクリレート、１，１　
（または１．２または１．３または２．３）−ジメチル
−２−ブテニルメタクリレート、１．１（または１．２
または１．３または２，３）−ジメチル−２−ブテニル
アクリレート、２（または３）−メチル−２−へブテニ
ルメタクリレート、２（または３）−メチル−２−ヘプ
テニルアクリレートなどのアルコール残基が鎖状になっ
ているアクリル酸誘導体；２（または３）−メチル−２
−シクロへキセニルメタクリレート、２（または３）−
メチル−２−シクロヘキセニルアクリレートなどのアル
コール残基が環状になっているアクリル酸誘導体：ゲラ
ニルメタクリレート、ゲラニルアクリレート、ネリルメ
タクリレート、ネリルアクリレート、イソゲラニルメタ
クリレート、イソゲラニルアクリレート、ラバンジュリ
ルメタクリレート、ラバンジュリルアクリレート、６−
メチルゲラニルメタクリレート、リレート、６−エチル
ゲラニルメタクリレート、６−エチルゲラニルアクリレ
ート、ペリリルメタクリレート、ペリリルアクリレート
等の非共役二重結合を２個有する鎖状または環状のテル
ペン系アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸との
エステル；ファルネシルメタクリレート、ファルネシル
アクリレート、ゲラニルゲラニルメタクリレート、ゲラ
ニルゲラニルアクリレート、β−シクロゲラニルゲラニ
ルメタクリレート、β−シクロゲラニルゲラニルアクリ
レート等の非兵役二重結合を３個以上有する鎖状または
環状のテルペン系アルコールとアクリル酸またはメタク
リル酸とのエステルが挙げられる。これらの中で、アリ
ルメタクリレート、２−メチル−２−プロペニルメタク
リレート、２−ブテニルメタクリレート、２−メチル−
２−ブテニルメタクリレート、２−へキセニルメタクリ
レート、３−へキセニルメタクリレート、ゲラニルメタ
クリレートが、原料となるアルコールの入手のし易さ、
エステル合成ひし易さの点から好ましい。

また構造単位（Ｉ［［）を形成するアクリル酸誘導体と
しては、２．３−エポキシプロビルメタクリレート、２
．３−エポキシプロピルアクリレート、２．３−エポキ
シブチルメタクリレート、２．３−エポキシブチルアク
リレート、３．４−エポキシブチルメタクリレート、３
．４−エポキシブチルアクリレート、２−メチル−２，
３−エポキシプロピルメタクリレート、２−メチル−２
，３−エポキシプロピルアクリレート、２，３−エポキ
シへブチルメタクリレート、５．６−エポキシへブチル
メタクリレート、２．３−エポキシへブチルアクリレ−
）、５．６−エポキシへブチルアクリレート、２（また
は３）−メチル−２，３−エポキシブチルメタクリレー
ト、２（または３）−メチル−２，３−エポキシブチル
アクリレート、４−メチル−２，３−エポキシへブチル
メタクリレート、４−メチル−５，６−エポキシへブチ
ルアクリレートが挙げられる。これらの中で、２．３−
エポキシプロピルメタクリレート、２．３−エポキシプ
ロピルメタクリレート、２．３−エポキシブチルメタク
リレ−）、ａ、４−エポキシブチルメタクリレートがエ
ステルの合成のし易さの点から好ましい。

構造単位（Ｉｆ）を形成するコモノマーとしてはメタク
リル酸：メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ペンチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸アミ
ル、メタクリル酸シクロヘキシルなどのメタクリル酸ア
ルキルエステル；アクリル酸；アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル
、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル
酸アミル、アクリル酸シクロヘキシルなどのアクリル酸
アルキルエステル：メタクリル酸アミド；アクリル酸ア
ミド；スチレン、α−メチルスチレンなどの置換スチレ
ンなどが挙げられる。構造単位（ｎ）における水素原子
はフッ素原子によって置換されていてもよい。

重合体（Ａ）はゲルパーミェーションクロマトグラフィ
により求めたポリスチレン換算の数平均分子Ｉが１，０
００〜１，０００，０００の範囲にあるものが好ましい
。重合体（Ａ）は数平均分子量が１００，０００〜８（
ｔｏ、００Ｇの範囲にあるものがより好ましい。

化合物（Ｂ）としては例えば置換基を有してもよいベン
ズアルデヒド、ベンゾフェノンまたはその誘導体が挙げ
られ、具体的には下記の一般式（Ｉ’ｉ’）、一般式（
■）または一般式（ＶＩ）で示される。

ｘ″ ［式中、ｘ４、ｘ５、Ｘ＠、ｘ７、Ｘ″、ｘ９、Ｘｌ０
１Ｘｌ＋およびｘ′！はそれぞれ水素原子、炭素数７以
下のアルキル基もしくはアルコキシ基、またはハロゲン
原子を表し、Ｘ１３、ｘ′４、Ｘ１５、ｘｌｌｌ、ＸＩ
？およびＸ　’　”　ｉ；ｉそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表し、ｎは０，１または２である。］ 好ましい化合物（Ｂ）としてはベンゾフェノン；３（ま
たは４）−メチルベンゾフェノン、３（または４）−メ
トキシベンゾフェノン、３．３°（または４．４°）−
ジメチルベンゾフェノン、３．３°（または４，４°）
−ジメトキシベンゾフェノン、２．３（または２．４）
−クロルベンゾフェノン、３．４．５−）ジメトキシベ
ンゾフェノンなどの置換ベンゾフェノン：３−ベンゾイ
ルベンゾフェノン；３（または４）−メチルベンゾイル
−３°（または４゛）−メチルベンゾフェノン：３（ま
たは４）−メトキシベンゾイル−３′（または４゛）−
メトキシベンゾフェノン、３．３°−ジベンゾイルベン
ゾフェノン、１．３．５−　トリベンゾイルベンゼンな
どのメタ置換型のベンゾフェノン；ベンズアルデヒド；
３（または４）−メチルベンズアルデヒド、３（または
４）−メトキシベンズアルデヒド、３．４−ジメチルベ
ンズアルデヒド、３．４−ジメトキシベンズアルデヒド
などの置換ベンズアルデヒドを挙げることができる。こ
れらの中でもベンズアルデヒド、ベンゾフェノン、３−
ベンゾイルベンゾフェノン、３．３゛−ジベンゾイルベ
ンゾフェノンおよび１，３．５−トリベンゾイルベンゼ
ンが合成のし易さから好ましく、また３−ベンゾイルベ
ンゾフェノンおよび１，３．５−　）リベンゾイルベン
ゼン・が、光反応性が良好であり、露光部と非露光部と
の屈折率差を大きくすることが可能であり、製造される
ホログラムの耐溶剤性および耐熱性が高い点で、特に好
ましい。

重合体（Ａ）と化合物（Ｂ）との組成割合はｌＯ：ｌ〜
１：１０（重量比）の範囲が好ましく、３：１〜１：２
（重量比）の範囲がより好ましい。重合体（Ａ）が有す
る構造単位（［）と化合物（Ｂ）との割合はｌＯ・１〜
１：２０（モル比）の範囲であり、好ましくは５：Ｉ〜
１：１０（モル比）の範囲である。

本発明によれば、上記の他の１つの目的は、下記の（イ
）、（ロ）および（八）の工程を設けてなることを特徴
とする上記の組成物からなるホログラムの製造方法を提
供することにより達成される。

（イ）上記の組成物の薄膜を形成する工程。

（［１）薄膜に所望のパターンに応じて部分的に紫外線
を照射する工程。

（八）薄膜から未反応の化合物（Ｂ）を除去する工程。

上記（イ）工程では、重合体（Ａ）と化合物（Ｂ）とを
これらを溶解する溶媒に溶解し、得られた溶液を用いて
キャスティング法、バーコード法、スピンコード法など
によって薄膜を形成する。必要に応じて、薄膜を減圧処
理または熱処理することにより該薄膜から溶剤を除去す
る。薄膜の形成法は所望の薄膜の厚さの程度または形態
によって選択される。薄膜の膜厚は０．５〜５０μｍの
範囲であることスピンコード法が採用される。

（イ）工程に続＜　（ＩＩＩ）工程では、薄膜にホログ
ラムのパターンに応じて部分的に波長が２００〜４５０
ｎｍの紫外線を照射する。光源には高圧水銀ランプ、Ｎ
。

ガスレーザ、Ｉ（ｅ−Ｃｄレーザ、Ａｒレーザなどが用
いられる。ホログラムのパターンを形成する方法として
フォトマスクを用いるマスク露光法、干渉露光法、レー
ザビーム直接描画法などが採用される。

（０）工程に続＜（八）工程における未反応の化合物（
Ｂ）の除去は、通常減圧下まは常圧下で熱処理すること
により行う。熱処理の温度としては５０〜１００℃の範
囲であるのが好ましい。これによって露光部が非露光部
よりも高い屈折率を有し、かつ厚みが大きいホログラム
を得る。

本発明のホログラムの製造方法では、上記（八）工程の
次に、ホログラムのパターンが形成された薄膜の全面に
紫外線を照射する（二）工程を設けてもよい。この（ニ
）工程を経ることにより、製造されるホログラムの耐有
機溶剤性および耐熱性がより向上する。照射する紫外線
としては強度が１０〜４０ｍｆ／ｃｍ”であり、かつ波
長が２００〜４５０ｎｍであるものが好ましい。紫外線
照射の時間としては３０秒間〜５分間の範囲が好ましい
。また、（八）工程の次または必要に応じて（ニ）工程
の次に、（ハ）工程の熱処理温度よりも高温の熱処理を
施す（ネ）工程を設けてもよい。この（ネ）工程を経る
ことにより、製造されるホログラムの耐有機溶剤性およ
び耐熱性がさらに向上する。（ネ）工程の熱処理は１０
５〜２３０℃の範囲の温度で１５分間〜４０時間施すこ
とが好適な結果を与える。１５０〜２００℃の範囲の温
度で１〜５時間熱処理するか、１１０〜１４０℃の範囲
の温度で１０〜２５時間熱処理することがより好ましい
結果を与える。

（イ）工程の次に、化合物（Ｂ）の一部のみが反応する
条件下で上記の組成物からなる薄膜の全面に紫外線を照
射する（へ）工程を設けてもよい。

なお、上記の組成物からなる薄膜にホログラムのパター
ンに応じて部分的に紫外線を照射したのち、溶剤に浸漬
することによっても所望の屈折率差と凹凸差とを有する
ホログラムを得ることができる。

本発明のホログラムとしてはピッチが０．２〜５μｍの
範囲であり、かつ露光部と非露光部との屈折率差がｏ、
ｏｏｔ〜０．１の範囲であるものが好ましい。

本発明のホログラムは高い回折効率を有し、そのばらつ
きが小さく、かつ透明性が良好で、ヘイズが少ない。従
って、本発明のホログラムは自動車用のヘッドアップデ
イスプレィに好−ましく用いられる。

［実施例］ 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。

実施例１ 反応容器にｈ置換後に２−ブテニルメタクリレート２６
ｇ、　２．３−エポキシプロピルメタクリレート２６ｇ
１メチルメタクリレート３８ｇ、アゾビスイソブチロニ
トリル９０ｍｇおよびジオキサン３００ｇを仕込み、封
管して５５〜６０℃のウォーターバス中で２４時間加熱
し重合反応を行った。得られた反応液をメタノールＩＱ
中にあけ、生成物を沈澱させ、乾燥させることにより、
重合体（Ａ）を５０ｇ得た。この重合体（Ａ）はＮ　Ｍ
　Ｒによる測定結果から、２−ブテニルメタクリレート
対２．３−エポキシプロピルメタクリレート対メチルメ
タクリレートのモル比がＩ対１対２の共重合体であるこ
とが確認された。また、この重合体（＾）の分子量はゲ
ルパーミェーションクロマトグラフィー法により求めた
ポリスチレン換算の数平均分子量は２２０．０００であ
った。重合体（Ａ）　１０部と、１，３．５−）リベン
ゾイルベンゼン０．８部とからなる組成物をトルエンに
溶解し、得られた溶液を用いてガラス基板上にスピンコ
ード法によって薄膜（厚さ１２μｌ）を形成した。

この薄膜に第１図に示す干渉露光装置を用いてホログラ
ムの格子状パターンを露光した。干渉露光装置において
は、波長が３６３．８部ｍであるＡｒレーザｌを出射し
、干渉光学系２へ入射された光はミラー３で反射された
のち、ビームスプリッタ４で２分割される。２分割され
た光はミラー５（６）により反射され、レンズ系７（８
）により平行光になり、露光面９に干渉縞を形成する。

この実施例では、得られるホログラムの周期が０．４３
μｍになるようにレンズ系およびミラーを調整して干渉
露光を行った。

干渉露光後、パターンが形成された薄膜を真空乾燥機中
で９８℃、０，２■■ｇの条件で１７時間熱処理し、該
薄膜より未反応の化合物（Ｂ）を除去した。こののち、
薄膜の全面に２０ｍＷ／　ｃ＋ｎ’の紫外線を６分間照
射することによってホログラムを得た。

得られたホログラムが有する波長６３２．８ｎａの光に
対する回折効率は、ホログラムの格子状パターンと同じ
方向の偏光に対しては４０％、垂直方向の偏光に対して
は１６％であった。次に、このホログラムが有する可視
光線に対する分光透過特性図を第２図に示す。ここで、
第２図では波長６３２．８部ｇ＋の光に対する回折効率
が最大になるようにホログラムを配置し、測定して得ら
れた結果を示している。第２図より明らかなように、上
記のホログラムは回折光が生じる波長以外の波長の光に
対して９０％以上の透過率を有しており、可視光線に対
する透明性が極めて良好である。また、ホログラムをメ
チルメタクリレートの飽和蒸気中に５０’Ｃで５０時間
放置したが、その回折効率は変化しなかった。

これより、このホログラムの屈折率は変化しないものと
判定した。

また、このホログラムを１５０℃（常圧）で２時間加熱
したが、回折効率は変化しなかった。

実施例２〜ＩＩ 実施例１におけると同様の方法で、第１表に水製造した
ホログラムをメチルメタクリレート飽和蒸気中に５０°
Ｃで５０時間放置したが、いずれのホログラムにおいて
ら回折効率は変化しなかった。また、ホログラムを１５
０℃で２時間加熱したが、回折効率は変化しなかった。

なお、第１表において、部は重量部を示す。

以下余白 実施例１２ 反応容器にＮ２置換後にゲラニルメタクリレート３９ｇ
１２．３−エポキシプロピルメタクリレート２６ｇ１メ
チルメタクリレート３８ｇ１アゾビスイソブチロニトリ
ル９０Ｂおよびジオキサン３００ｇを仕込み、封管して
５５〜６０℃のウォーターバス中で２４時間加熱し重合
反応を行った。得られた反応液をメタノールＩ（中にあ
け、生成物を沈澱させ、乾燥させることにより、重合体
（Ａ）を４５部得た。この重合体（Ａ）はＮ　Ｍ　Ｒに
よる測定結果から、ゲラニルメタクリレート対２．３−
エポキシプロビルメタクリレート対メチルメタクリレー
トのモル比が１対１対２の共重合体であることが確認さ
れた。また、この重合体（Ａ）のゲルパーミェーション
クロマトグラフィー法により求めたポリスチレン換算の
数平均分子量は１９０，０００であった。重合体（Ａ）
１０部と、１．３゜５−トリベンゾイルベンゼン８部と
からなる感光性樹脂組成物をトルエンに溶解し、得られ
た溶液を用いてガラス基板上にスピンコード法によって
薄膜（厚さ１２μｆｆ１）を形成し、実施例１における
と同じ条件で干渉露光を行った。干渉露光の後、真空乾
燥機中で９８℃、０．２ｍｄｇの条件で１７時間熱処理
し、未反応の化合物（Ｂ）を除去した。こののち、薄膜
の全面に２５ｍｆ／ｃ＋ｓ”の紫外線を５分間照射する
ことによってホログラムを製造した。

このホログラムは実施例１のホログラムと同様に高い回
折効率を有し、耐有機溶剤性、耐熱性および透明性は良
好であった。

比較例 ２−ブテニルメタクリレート：メチルメタクリレート＝
Ｉ：３（モル比）の共重合体１０部と、３一ペンゾイル
ベンゾフエノン８部とからなる組成物を用いて、実施例
１におけると同様にしてホログラムを製造した。このホ
ログラムをメチルメタクリレートの飽和蒸気中に５０℃
で放置すると、１０時間後にはパターンが膨潤し、ホロ
グラムの回折効率が変化した。また、このホログラムを
１５０℃で２時間加熱するとパターンが変形し、回折効
率が変化した。

［発明の効果コ 本発明によれば、可視光線に対する透明性、耐有機溶剤
性および耐熱性が良好で、かつ高い回折効率を有するホ
ログラムが提供される。このホログラムは露光部が非露
光部よりも高い屈折率を有し、かつ厚みが大きい。また
本発明によれば、上記のホログラムを製造する方法が提
供される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のホログラムの製造に用いられる干渉露
光装置の概略構成図、第２図は実施例１のホログラムの
可視光線に対する分光透過特性図である。 Ａｒレーザ、 ビームスプリッタ、 レンズ系、 露光面。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式（ I ） （ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾１はシクロアルケニル基または下記一般式▲数式、化
   学式、表等があります▼ で示される基を表す。ここで、Ｚ＾１は２価の炭化水素
   基を表し、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ水素
   原子、アルキル基またはアルケニル基を表す。］ で示される構造単位を２〜９９モル％、下記一般式（I
   I） （II）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾２は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾２はフェニル基、アルコキシカルボニル基またはカル
   バモイル基を表し、一般式（II）における水素原子はフ
   ッ素原子によって置換されていてもよい。］ で示される構造単位を０〜９７モル％、および下記一般
   式（III） （III）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾３は水素原子またはアルキル基を表し、Ｚ
   ＾２は２価の炭化水素基を表し、Ｒ＾４、Ｒ＾５および
   Ｒ＾６はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表す。］
   で示される構造単位を１〜９８モル％有する重合体（Ａ
   ）と、置換基を有していてもよい芳香族アルデヒドおよ
   び芳香族ケトンからなる群より選ばれる化合物（Ｂ）と
   からなる組成物からなるホログラム。 ２、（イ）下記一般式（ I ） （ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾１はシクロアルケニル基または下記一般式▲数式、化
   学式、表等があります▼ で示される基を表す。ここで、Ｚ＾１は２価の炭化水素
   基を表し、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ水素
   原子、アルキル基またはアルケニル基を表す。］ で示される構造単位を２〜９９モル％、下記一般式（I
   I） （II）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾２は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾２はフェニル基、アルコキシカルボニル基またはカル
   バモイル基を表し、一般式（II）における水素原子はフ
   ッ素原子によって置換されていてもよい。］ で示される構造単位を０〜９７モル％、および下記一般
   式（III） （III）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾３は水素原子またはアルキル基を表し、Ｚ
   ＾２は２価の炭化水素基を表し、Ｒ＾４、Ｒ＾５および
   Ｒ＾６はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表す。］
   で示される構造単位を１〜９８モル％有する重合体（Ａ
   ）と、置換基を有していてもよい芳香族アルデヒドおよ
   び芳香族ケトンからなる群より選ばれる化合物（Ｂ）と
   からなる組成物の薄膜を形成する工程、 （ロ）薄膜に所望のパターンに応じて部分的に紫外線を
   照射する工程、および （ハ）薄膜から未反応の化合物（Ｂ）を除去する工程、 を設けてなることを特徴とするホログラムの製造方法。