JPH0316338B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0316338B2
JPH0316338B2 JP57016371A JP1637182A JPH0316338B2 JP H0316338 B2 JPH0316338 B2 JP H0316338B2 JP 57016371 A JP57016371 A JP 57016371A JP 1637182 A JP1637182 A JP 1637182A JP H0316338 B2 JPH0316338 B2 JP H0316338B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
represented
tertiary
dibenzyloxy
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP57016371A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58134060A (ja
Inventor
Hiroshi Ikawa
Saburo Sugai
Tokuji Okazaki
Mitsuya Akaboshi
Shiro Ikegami
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OTA PHARMA
Original Assignee
OTA PHARMA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by OTA PHARMA filed Critical OTA PHARMA
Priority to JP57016371A priority Critical patent/JPS58134060A/ja
Publication of JPS58134060A publication Critical patent/JPS58134060A/ja
Publication of JPH0316338B2 publication Critical patent/JPH0316338B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、3,4−ジ(p−トルイルオキシ)
−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
コールの新規な製造法に関するものである。
3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級
ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールのメタ
ンスルホン酸塩は医薬品、特に交感神経興奮薬と
して有用な物質であることが知られている。
従来、この化合物の製造法としては、3,4−
ジヒドロキシフエニル三級ブチルアミノメチルケ
トンの2個の水酸基をトルイル化した後、そのジ
トルイル化された化合物をエタノール中で接触還
元するか又は、メタノール中で水素化ホウ素ナト
リウムで還元するという方法が知られている。
(特公昭53−14544) しかしながら、このようなエステル化合物はエ
タノールあるいはメタノールなどの溶媒中では加
溶媒分解を受け易く、従つてこれらの還元条件の
下では、副生物の生成を避け難いなど、の欠点が
存在するため、これらの公知方法においては工業
的に実施する場合の難点といえるものであつた。
本発明者等は、別途、オキシラン誘導体の合成
に関し種々研究し、その優れた合成法を開発した
が、3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三
級ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールの製
造にあたつて、このオキシラン誘導体の合成法を
利用することにより、その優れた工業的製法を提
供することに成功した。すなわち、本発明は、容
易に入手し得る原材料或は試薬等を用いて、簡便
な操作で、かつ穏和な反応条件下に行ない得る工
程を経由し、高収率で3,4−ジ(p−トルイル
オキシ)−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジ
ルアルコールを製造する方法を提供するものであ
る。
本発明の方法は、工業的見地からみるとき、極
めて価値あるものである。以下に、本発明を、さ
らに詳細に説明する。
本発明の方法における各工程の出発物質もしく
は中間体生成物となる下記式、、、、
で表わされる化合物は、いずれも本発明者等によ
り創製された新規物質であり、これらの物質は、
3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級ブ
チルアミノメチル)ベンジルアルコールの製造用
の有用な中間体物質である。
(式中Rは、置換又は非置換のα−アルコキシ
アルキル基又は2−オキサシクロアルキル基又は
トリアルキルシリル基を意味する。) (式中Rは、前述と同じ意味である。) (式中Rは、前述と同じ意味である。) 上記式で表わされる3,4−(ジベンジルオ
キシ)スチレンオキサイドは、3,4−(ジベン
ジルオキシ)ベンズアルデヒドをメチル硫酸トリ
メチルスルホニウムと反応させることにより製造
される。この場合、あらかじめメチル硫酸トリメ
チルスルホニウムとナトリウムメトキサイドとの
混合溶液を調製し、次いで、これに3,4−(ジ
ベンジルオキシ)ベンズアルデヒドを加えるとよ
い。溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランまたはアセトニトリルなどが用いられ、反応
温度は−20℃ないし20℃の温度範囲で行なうのが
好ましく、また反応時間は通常30分間ないし5時
間の範囲で充分である。
式で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)
−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
コールは、式の化合物を第三級ブチルアミンと
反応させることにより容易に製造することができ
る。
この反応においては、エタノール、アセトニト
リル、ベンゼンまたはジメチルホルムアミドなど
の溶媒を用いることができるほか、無溶媒におい
ても反応を行わせるこができる。また、反応の温
度は、通常、50℃ないし150℃の範囲で、反応時
間は、通常1日ないし4日間程度である。
式で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)
−α−アミノメチルベンジルアルコール誘導体
は、式で表わされる化合物を、(a)酸、例えば、
p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、オ
キシ塩化リン、三フツ化ホウ素等の存在下に、ビ
ニルエール化合物、例えば、2,3−ジヒドロピ
ラン、エチルビニルエーテルまたは、イソプロペ
ニルメチルエーテル等を反応させるか、もしくは
塩基物質、例えば、トリエチルアミン、ジイソプ
ロピルアミンまたはジイソプロピルエチルアミン
等の存在下に、クロロメチルメチルエーテルある
いは2−メトキシエトキシクロロメタンなどのハ
ロゲノメチルエーテル誘導体を反応させるか、あ
るいは、(b)塩基、例えばピリジン、イミダゾール
またはトリエチルアミンなどの存在下に、トリメ
チルクロロシランまたは三級ブチルジメチルクロ
ロシランなどと反応させることにより容易に製造
することができる。
これらの反応においては、トルエン、ジクロロ
メタンアセトニトリル、ジメチルホルムアミドま
たはテトラヒドロフランなどを溶媒として用いる
ことができる。また、反応の温度は通常、0℃な
いし50℃の範囲で行われ、また、反応時間は通
常、1時間ないし24時間程度である。
一般式で表わされる3,4−ジヒドロキシ−
2−アミノメチルベンジルアルコール誘導体は、
化合物を木炭担持パラジウムを触媒として用い
て、接触水素化することにより製造される。この
反応は、エタノール、メタノールまたはテトラヒ
ドロフランなどを溶媒として用いて、通常、0℃
ないし室温の温度範囲で行われ、また、反応時間
は、通常、1時間ないし6時間の範囲で充分であ
る。
一般式で表わされる3,4−ジ(p−トルイ
ルオキシ)−α−アミノメチルベンルアルコール
誘導体は、化合物を塩基物質、例えばピリジ
ン、トリエチルアミン、または炭酸カリウムなど
の存在下に2モル当量の塩化p−トルイルと反応
させることにより製造される。この場合、溶媒と
しては不活性溶媒、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、ジクロロメタン、アセトニトリル、ピリジン
またはジメチルホルムアミドなどを用いて、通
常、0℃ないし30℃の温度範囲で行われ、また反
応時間は、通常、30分間ないし4時間の範囲で充
分である。
このようにして得られた化合物の保護基Rを
除去することにより、最終的に目的とする、3,
4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級ブチル
アミノメチル)ベンジルアルコールが製造され
る。この保護基の除去は、常法によるが、酸を用
いて処理する場合には、その酸としては、塩酸、
硫酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸、また臭化
亜鉛などがあげられ、また使用する溶媒の例とし
ては、アセトン、テトラヒドロフラン、酢酸また
はジクロロメタンなどがあげられる。これらの溶
媒は所望により水との混合系として用いることも
できる。この反応は、通常、室温下、1時間ない
し10時間で充分である。
本発明方法は、安価かつ入手容易な出発原料を
用い、穏和で、しかも設定の容易な反応条件の下
で簡便な操作により行われる各工程を経由して、
目的とする3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−
α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアルコ
ールを、高収率にしかも高純度に製造することが
できるなど、工業的製法としての優れた利点を有
するものである。
以下に本発明の実施例を掲げるか、本発明は、
これら実施例に限定されるものではない。
実施例 1 3,4−(ジベンジルオキシ)スチレンオキサ
イドの製造 ジメチル硫酸7.57g(0.06モル)をアセトニト
リル20mlに溶かし、これを氷冷撹拌しながらら、
硫化ジメチル4.10g(0.066モル)を加え一夜室
温放置し、メチル硫酸トリメチルスルホニウムの
アセトニトリル溶液を調製する。次いで、この溶
液を0℃に冷却し、撹拌下に、これにナトリウム
メトキサイド3.57g(0.066モル)を加え、次い
で3,4−(ジベンジルオキシ)ベンズアルデヒ
ド12.74g(0.04モル)をアセトニトリル20mlに
溶かした溶液を30分間を要して滴下する。そのま
ま冷却下に、1時間撹拌した後、溶媒を減圧下に
留去し、得られた残留分に水40mlとベンゼン50ml
とを加えて溶かし、有機層を分取する。この水層
をベンゼン20mlで2回抽出し、その抽出物を先の
有機層に合わせ、それを水0mlと飽和食塩水40ml
とを用いて洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用
いて乾燥する。次いでろ過し、そのろ液を濃縮す
ると標記の化合物13.06g(収率98.2%)が得ら
れた。
NMR δCDCl3:2.72(d,d,1H) 3.06(d,d,1H) 3.84(t・like,1H) 5.23(s,4H) 6.90(m,3H) 7.43(m,10H) MS 50eV m/e:332(M+),298,241 実施例 2 3,4−(ジベンジルオキシ)−α−(三級ブチ
ルアミノメチル)ベンジルアルコールの製造 (a) 3,4−(ジベンジルオキシ)スチレンオキ
サイド11.20g(0.0337モル)を第三級ブチル
アミン24.65g(0.337モル)に溶かし、封管中
で65℃で3日間、撹拌する。反応生成物中の過
剰の第三級ブチルアミンを常圧で留去し、得ら
れた残留物をアセトニトリル20mlより再結晶す
ると、標記の化合物11.06g(収率80.9%)が
得られた。
融点94.0〜95.0℃ NMR δCDCl3:1.04(s,9H) 2.62(m,4H,D2Oで2H消失) 4.50(d,d,1H) 5.10(s,2H) 5.13(s,2H) 6.85〜7.5(m,13H) MS 70eV m/e405(M+),387,319,314,
138,91,86 元素分析値 C26H31NO3 計算値(%) C:77.01、H:7.71、N:3.45 実測値(%) C:77.14、H:7.66、N:3.23 (b) 3,4−(ジベンジルオキシ)スチレンオキ
サイド9.97g(0.03モル)および第三級ブチル
アミン10.97g(0.15モル)をエタノール30ml
に溶かし、封管中で60℃で24時間撹拌する。次
いで、溶媒を留去し、得られた酸留物をアセト
ニトリル20mlを用いて再結晶すると、融点93.5
〜94.9℃を示す標記の化合物7.40g(収率60.8
%)が得られた。このものの諸分析データは上
記(a)で得られたもののそれと一致した。
実施例 3 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)エチルアミンの製造 3,4−(ジベンジルオキシ)−α−(三級ブチ
ルアミノメチル)ベンジルアルコール2.03g
(0.005モル)をトルエン5mlに溶かし、これにp
−トルエンスルホン酸1.03g(0.006モル)を加
える。次いで、この溶液を0℃で撹拌下に、2,
3−ジヒドロピラン505mgをトルエン5mlに溶か
した溶液を15分間を要して滴下し、そのままさら
に2時間撹拌する。次に、これにアンモニア水10
mlを加え、有機層を分取し、水10mlで2回、飽和
食塩水10mlで1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。次いで、これをろ過し、溶媒を留去し
て得られた残留物をアルミナカラムクロマトグラ
フイーにより精製すると、無色油状の標記の化合
物2.14g(収率87.5%)が得られた。
NMR δCDCl3:1.02(s,9H) 1.56(m,7H) 2.75(d,d,2H) 3.27〜4.02(m,2H) 4.27(m,1H) 4.65(d,d,1H) 5.09(s,4H) 6.75〜7.40(m,13H) MS 50 eV m/e:489(M+),404,388,319,
313,91,86,85 実施例 4 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(2−三級ブチルジメチル
シリルオキシ)エチルアミンの製造 3,4−(ジベンジルオキシ)−α−(三級ブチ
ルアミノメチル)ベンジルアルコール2.77g
(0.0068モル)およびイミダゾール2.33g(0.033
モル)をジクロルメタン20mlに溶かし室温で撹拌
下に三級ブチルジメチルクロロシラン2.26g
(0.015モル)を添加する。そのまま5時間撹拌し
た後、溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーにより精製すると、
無色油状の標記の化合物2.933g(収率83.0%)
が得られた。
NMR δCDCl3:0.22(s,6H) 1.09(s,9H) 1.26(s,9H) 1.80(brs,1H) 2.77(d,d,2H) 4.70(d,d,1H) 5.21(s,4H) 6.8〜7.45(m,13H) MS 70 eV m/e:519(M+),504,462,433,
343,181,91,86 IRcm−1 NaCl:νNH3300 νO-Si1090 実施例 5 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニルオ
キシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシ)−β−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)
エチルアミン2.14g(0.0044モル)を無水エタノ
ール20mlに溶かし、これに10%木炭担持パラジウ
ム0.1gを加え、水素雰囲気下、室温で3時間撹
拌する。その後、固形物をろ別し、溶媒を留去す
ると、淡褐色無定形の標記の化合物1.36g(収率
100.0%)が得られた。
NMR δCD3CN:1.12(s,9H) 1.53(m,6H) 2.84(d,d,2H) 3.2〜3.9(m,2H) 4.36(m,1H) 4.54(d,d,1H) 5.40(brs,3H D2O消失) 6.75(m,3H) 実施例 6 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリル
オキシ)エチルアミン1.04g(0.002モル)をエ
タノール10mlに溶かし、10%木炭担持パラジウム
50mgを溶かし、水素雰囲気下、室温で5時間撹拌
する。次に不溶物をろ別し、ろ液を濃縮すると、
淡褐色油状物0.681gが得られた。このものをア
セトニトリル2mlで再結晶すると無色結晶状の標
記の化合物642mgが得られた。(収率94.7%) 分解点134.3〜134.8℃ NMR δCD3OD:0.20(s,6H) 1.03(s,9H) 1.25(s,9H) 2.82(d,d,2H) 4.73(d,d,1H) 6.84(m,3H) 実施例 7 N−三級ブチル−β−〔3,4−ジ(p−トル
イルオキシ)フエニル〕−β−(2−テトラヒド
ロピラニルオキシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニルオキ
シ)エチルアミン1.236g(0.004モル)をピリジ
ン5mlに溶かし、0℃で撹拌下にこれに、塩化p
−トルイル1.36g(0.0088モル)を15分間を要し
て滴下し、そのまま3時間撹拌する。次いで、こ
れにベンゼン20mlとアンモニア水20mlとを加え、
有機層を分取し、水20mlで2回、および飽和食塩
水10mlで1回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。これを、次いでろ過し、ろ液を濃縮す
ると標記の化合物2.08g(収率95.4%)が得られ
た。
NMR δCDCl3:1.13(s,9H) 1.66(m,6H) 2.37(s,6H) 2.86(d,d,2H) 3.4〜4.1(m,2H) 4.51(m,1H) 4.90(d,d,1H) 7.08〜7.97(m,11H) MS 50 eV m/e:545(M+),459,426,119,
91.86 IRcm−1 NaCl:νC=0 1735 νNH 3440 実施例 8 N−三級ブチル−β−〔3,4−ジ(p−トル
イルオキシ)フエニル〕−β−(三級ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチルアミン3.39g(0.01モル)およびトリ
エチルアミン3.03g(0.06モル)をジクロルメタ
ン30mlに溶かし、これに、室温撹拌下で塩化p−
トルイル3.09g(0.02モル)をジクロルメタン10
mlに溶かした溶液を20分間を要して滴下する。そ
のまま2時間撹拌した後、水20mlで3回洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。これを次いでろ
過し、ろ液を濃縮すると標記の化合物5.76g(収
率100.0%)が得られた。
NMR δCDCl3:0.17(s,6H) 0.98(s,9H) 1.14(s,9H) 1.90(brs,1H)D2O消失 2.37(s,6H) 2.80(d,d,2H) 4.87(d,d,1H) 7.10〜8.04(m,11H) MS 50 eV m/e:575(M+),560,519,489,
371,313,119,91,86,57 IRcm−1 NaCl:νC=01738 νNH 3440 実施例 9 3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級
ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールの製
造 (a) 実施例7で得られたN−級ブチル−β−〔3,
4−ジ(p−トルイルオキシ)フエニル〕−β
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル
アミン2.08g0.0038モル)をアセトン10mlと10
%塩酸5mlとの混合溶液に溶かし、室温で3時
間撹拌する。この溶液にベンゼン20mlおよび10
%炭酸カリウム水溶液20mlを加え、有機層を分
取する。有機層を水20mlで2回、飽和食塩水で
1回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。これを、次いでろ過し、ろ液を濃縮すると
標記の化合物1.72g(収率98.2%)が得られ
た。
NMR δCDCl3:1.09(s,9H) 2.31(s,6H) 2.75(d,d,2H) 3.62(brs,2H,D2O消失) 4.68(d,d,1H) 7.05〜7.98(m,11H) MS 50 eV m/e:461(M+),443,361,326,
191,136,119,91,86 IRcm−1 NaCl:νC=0 1735 元素分析値 C28H31NO5 計算値(%) C:72.86、H:6.77、N:3.03 実測値(%) C:72.98、H:6.93、N:2.88 (b) 実施例8で得られたN−三級ブチル−β−
〔3,4−ジ(p−トルイルオキシ)フエニ
ル〕〕−β−(三級ブチルジメチルシリルオキシ)
エチルアミン2.88g(0.005モル)を酢酸6ml
水2mlおよびテトラヒドロフラン2mlの混合溶
媒に溶かし、室温で8時間撹拌する。この溶液
を減圧下に濃縮し、残留物をベンゼン15mlおよ
び10%炭酸カリウム水溶液20mlに溶かし、ベン
ゼン層を分取する。次いで、これを水洗し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去す
ると標記の化合物2.05g(収率88.9%)が得ら
れた。この物質の諸分析データは、前記(a)で得
られたもののそれと一致した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)−α−
    アミノメチルベンジルアルコール誘導体の水酸基
    を保護基にて保護した後、接触水素化し、得られ
    た一般式 (式中、Rは水酸基の保護基である) で表わされる3,4−ジヒドロキシ−α−アミノ
    メチルベンジルアルコール誘導体を塩化p−トル
    イルを用いてエステル化し、得られた一般式 (式中、Rは前述の定義を有する) で表わされる3,4−(ジトルイルオキシ)−α−
    アミノメチルベンジルアルコール誘導体の保護基
    Rを除去することを特徴とする式 で表わされる3,4−ジ(p−トルイルオキシ)
    −α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
    コールの製造法 2 3,4−(ジベンジルオキシ)ベンズアルデ
    ヒドをメチル硫酸トリメチルスルホニウムおよび
    ナトリウムメトキサイドと反応させ、得られた式
    で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)スチ
    レンオキサイドと第三級ブチルアミンとを反応さ
    せ、得られた式 で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)−α−
    アミノメチルベンジルアルコール誘導体の水酸基
    を保護基にて保護した後、接触水素化し、得られ
    た一般式 (式中、Rは水酸基の保護基である) で表わされる3,4−ジヒドロキシ−α−アミノ
    メチルベンジルアルコール誘導体を塩化p−トル
    イルを用いてエステル化し、得られた一般式 (式中、Rは前述の定義を有する) で表わされる3,4−(ジトルイルオキシ)−α−
    アミノメチルベンジルアルコール誘導体の保護基
    Rを除去することを特徴とする式 で表わされる3,4−ジ(p−トルイルオキシ)
    −α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
    コールの製造法。
JP57016371A 1982-02-05 1982-02-05 α−アミノメチルベンジルアルコ−ル誘導体の製造法 Granted JPS58134060A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57016371A JPS58134060A (ja) 1982-02-05 1982-02-05 α−アミノメチルベンジルアルコ−ル誘導体の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57016371A JPS58134060A (ja) 1982-02-05 1982-02-05 α−アミノメチルベンジルアルコ−ル誘導体の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58134060A JPS58134060A (ja) 1983-08-10
JPH0316338B2 true JPH0316338B2 (ja) 1991-03-05

Family

ID=11914437

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57016371A Granted JPS58134060A (ja) 1982-02-05 1982-02-05 α−アミノメチルベンジルアルコ−ル誘導体の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58134060A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4614830A (en) * 1985-08-09 1986-09-30 Sterling Drug Inc. Esterification process

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58134060A (ja) 1983-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101100064B1 (ko) 나프록센의 니트로옥시유도체 제조방법
EP1904469B1 (en) New pyrocatechin derivatives
US5648484A (en) Catalytic enantioselective synthesis of a spriofused azetidinone
JPH075500B2 (ja) ヒドロキノン誘導体及びその製造方法
JPH0316338B2 (ja)
US4231962A (en) 3-Phenoxybenzylideneamines and 3-benzylbenzylideneamines
JPH0115497B2 (ja)
JP5587350B2 (ja) ラメルテオンの調製方法
JP4399885B2 (ja) 4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体の製造法
JP2659587B2 (ja) 4―アジリジニルピリミジン誘導体及びその製造法
JPH0316339B2 (ja)
JP2517743B2 (ja) 光学活性アルコ―ルの製造法
US3898142A (en) Photolytic cyclization of an amino-keto acylate
JP2876929B2 (ja) 光学活性1,3−ジオールの製法
JP2640688B2 (ja) カルバメート誘導体類及びそれらの製造方法
JP3770678B2 (ja) 光学活性アルコール及びそのカルボン酸エステル
JPH027583B2 (ja)
JPH0316337B2 (ja)
WO2000059860A1 (fr) Procede de preparation de la vitamine a, de produits intermediaires, et procede de preparation de ces produits intermediaires
JP2005104895A (ja) 光学活性なアミノアルコール化合物の製造法
KR100570279B1 (ko) 코엔자임 Qn의 중간체 및 그 중간체의 제조방법
KR100684081B1 (ko) 광학 활성 3,4-디하이드로벤즈옥사진 유도체의 제조방법
JPH07252183A (ja) フェノール誘導体の製造方法
JP2003311156A (ja) 触媒、及びそれを用いたアリル化合物の製法
JPH08245526A (ja) 光学活性なアミン類、光学活性なイミン類およびそれらの製造法