JPH0316338B2 - - Google Patents
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- JPH0316338B2 JPH0316338B2 JP57016371A JP1637182A JPH0316338B2 JP H0316338 B2 JPH0316338 B2 JP H0316338B2 JP 57016371 A JP57016371 A JP 57016371A JP 1637182 A JP1637182 A JP 1637182A JP H0316338 B2 JPH0316338 B2 JP H0316338B2
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、3,4−ジ(p−トルイルオキシ)
−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
コールの新規な製造法に関するものである。
−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
コールの新規な製造法に関するものである。
3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級
ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールのメタ
ンスルホン酸塩は医薬品、特に交感神経興奮薬と
して有用な物質であることが知られている。
ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールのメタ
ンスルホン酸塩は医薬品、特に交感神経興奮薬と
して有用な物質であることが知られている。
従来、この化合物の製造法としては、3,4−
ジヒドロキシフエニル三級ブチルアミノメチルケ
トンの2個の水酸基をトルイル化した後、そのジ
トルイル化された化合物をエタノール中で接触還
元するか又は、メタノール中で水素化ホウ素ナト
リウムで還元するという方法が知られている。
(特公昭53−14544) しかしながら、このようなエステル化合物はエ
タノールあるいはメタノールなどの溶媒中では加
溶媒分解を受け易く、従つてこれらの還元条件の
下では、副生物の生成を避け難いなど、の欠点が
存在するため、これらの公知方法においては工業
的に実施する場合の難点といえるものであつた。
ジヒドロキシフエニル三級ブチルアミノメチルケ
トンの2個の水酸基をトルイル化した後、そのジ
トルイル化された化合物をエタノール中で接触還
元するか又は、メタノール中で水素化ホウ素ナト
リウムで還元するという方法が知られている。
(特公昭53−14544) しかしながら、このようなエステル化合物はエ
タノールあるいはメタノールなどの溶媒中では加
溶媒分解を受け易く、従つてこれらの還元条件の
下では、副生物の生成を避け難いなど、の欠点が
存在するため、これらの公知方法においては工業
的に実施する場合の難点といえるものであつた。
本発明者等は、別途、オキシラン誘導体の合成
に関し種々研究し、その優れた合成法を開発した
が、3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三
級ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールの製
造にあたつて、このオキシラン誘導体の合成法を
利用することにより、その優れた工業的製法を提
供することに成功した。すなわち、本発明は、容
易に入手し得る原材料或は試薬等を用いて、簡便
な操作で、かつ穏和な反応条件下に行ない得る工
程を経由し、高収率で3,4−ジ(p−トルイル
オキシ)−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジ
ルアルコールを製造する方法を提供するものであ
る。
に関し種々研究し、その優れた合成法を開発した
が、3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三
級ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールの製
造にあたつて、このオキシラン誘導体の合成法を
利用することにより、その優れた工業的製法を提
供することに成功した。すなわち、本発明は、容
易に入手し得る原材料或は試薬等を用いて、簡便
な操作で、かつ穏和な反応条件下に行ない得る工
程を経由し、高収率で3,4−ジ(p−トルイル
オキシ)−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジ
ルアルコールを製造する方法を提供するものであ
る。
本発明の方法は、工業的見地からみるとき、極
めて価値あるものである。以下に、本発明を、さ
らに詳細に説明する。
めて価値あるものである。以下に、本発明を、さ
らに詳細に説明する。
本発明の方法における各工程の出発物質もしく
は中間体生成物となる下記式、、、、
で表わされる化合物は、いずれも本発明者等によ
り創製された新規物質であり、これらの物質は、
3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級ブ
チルアミノメチル)ベンジルアルコールの製造用
の有用な中間体物質である。
は中間体生成物となる下記式、、、、
で表わされる化合物は、いずれも本発明者等によ
り創製された新規物質であり、これらの物質は、
3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級ブ
チルアミノメチル)ベンジルアルコールの製造用
の有用な中間体物質である。
(式中Rは、置換又は非置換のα−アルコキシ
アルキル基又は2−オキサシクロアルキル基又は
トリアルキルシリル基を意味する。) (式中Rは、前述と同じ意味である。) (式中Rは、前述と同じ意味である。) 上記式で表わされる3,4−(ジベンジルオ
キシ)スチレンオキサイドは、3,4−(ジベン
ジルオキシ)ベンズアルデヒドをメチル硫酸トリ
メチルスルホニウムと反応させることにより製造
される。この場合、あらかじめメチル硫酸トリメ
チルスルホニウムとナトリウムメトキサイドとの
混合溶液を調製し、次いで、これに3,4−(ジ
ベンジルオキシ)ベンズアルデヒドを加えるとよ
い。溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランまたはアセトニトリルなどが用いられ、反応
温度は−20℃ないし20℃の温度範囲で行なうのが
好ましく、また反応時間は通常30分間ないし5時
間の範囲で充分である。
アルキル基又は2−オキサシクロアルキル基又は
トリアルキルシリル基を意味する。) (式中Rは、前述と同じ意味である。) (式中Rは、前述と同じ意味である。) 上記式で表わされる3,4−(ジベンジルオ
キシ)スチレンオキサイドは、3,4−(ジベン
ジルオキシ)ベンズアルデヒドをメチル硫酸トリ
メチルスルホニウムと反応させることにより製造
される。この場合、あらかじめメチル硫酸トリメ
チルスルホニウムとナトリウムメトキサイドとの
混合溶液を調製し、次いで、これに3,4−(ジ
ベンジルオキシ)ベンズアルデヒドを加えるとよ
い。溶媒としては、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランまたはアセトニトリルなどが用いられ、反応
温度は−20℃ないし20℃の温度範囲で行なうのが
好ましく、また反応時間は通常30分間ないし5時
間の範囲で充分である。
式で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)
−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
コールは、式の化合物を第三級ブチルアミンと
反応させることにより容易に製造することができ
る。
−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
コールは、式の化合物を第三級ブチルアミンと
反応させることにより容易に製造することができ
る。
この反応においては、エタノール、アセトニト
リル、ベンゼンまたはジメチルホルムアミドなど
の溶媒を用いることができるほか、無溶媒におい
ても反応を行わせるこができる。また、反応の温
度は、通常、50℃ないし150℃の範囲で、反応時
間は、通常1日ないし4日間程度である。
リル、ベンゼンまたはジメチルホルムアミドなど
の溶媒を用いることができるほか、無溶媒におい
ても反応を行わせるこができる。また、反応の温
度は、通常、50℃ないし150℃の範囲で、反応時
間は、通常1日ないし4日間程度である。
式で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)
−α−アミノメチルベンジルアルコール誘導体
は、式で表わされる化合物を、(a)酸、例えば、
p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、オ
キシ塩化リン、三フツ化ホウ素等の存在下に、ビ
ニルエール化合物、例えば、2,3−ジヒドロピ
ラン、エチルビニルエーテルまたは、イソプロペ
ニルメチルエーテル等を反応させるか、もしくは
塩基物質、例えば、トリエチルアミン、ジイソプ
ロピルアミンまたはジイソプロピルエチルアミン
等の存在下に、クロロメチルメチルエーテルある
いは2−メトキシエトキシクロロメタンなどのハ
ロゲノメチルエーテル誘導体を反応させるか、あ
るいは、(b)塩基、例えばピリジン、イミダゾール
またはトリエチルアミンなどの存在下に、トリメ
チルクロロシランまたは三級ブチルジメチルクロ
ロシランなどと反応させることにより容易に製造
することができる。
−α−アミノメチルベンジルアルコール誘導体
は、式で表わされる化合物を、(a)酸、例えば、
p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、オ
キシ塩化リン、三フツ化ホウ素等の存在下に、ビ
ニルエール化合物、例えば、2,3−ジヒドロピ
ラン、エチルビニルエーテルまたは、イソプロペ
ニルメチルエーテル等を反応させるか、もしくは
塩基物質、例えば、トリエチルアミン、ジイソプ
ロピルアミンまたはジイソプロピルエチルアミン
等の存在下に、クロロメチルメチルエーテルある
いは2−メトキシエトキシクロロメタンなどのハ
ロゲノメチルエーテル誘導体を反応させるか、あ
るいは、(b)塩基、例えばピリジン、イミダゾール
またはトリエチルアミンなどの存在下に、トリメ
チルクロロシランまたは三級ブチルジメチルクロ
ロシランなどと反応させることにより容易に製造
することができる。
これらの反応においては、トルエン、ジクロロ
メタンアセトニトリル、ジメチルホルムアミドま
たはテトラヒドロフランなどを溶媒として用いる
ことができる。また、反応の温度は通常、0℃な
いし50℃の範囲で行われ、また、反応時間は通
常、1時間ないし24時間程度である。
メタンアセトニトリル、ジメチルホルムアミドま
たはテトラヒドロフランなどを溶媒として用いる
ことができる。また、反応の温度は通常、0℃な
いし50℃の範囲で行われ、また、反応時間は通
常、1時間ないし24時間程度である。
一般式で表わされる3,4−ジヒドロキシ−
2−アミノメチルベンジルアルコール誘導体は、
化合物を木炭担持パラジウムを触媒として用い
て、接触水素化することにより製造される。この
反応は、エタノール、メタノールまたはテトラヒ
ドロフランなどを溶媒として用いて、通常、0℃
ないし室温の温度範囲で行われ、また、反応時間
は、通常、1時間ないし6時間の範囲で充分であ
る。
2−アミノメチルベンジルアルコール誘導体は、
化合物を木炭担持パラジウムを触媒として用い
て、接触水素化することにより製造される。この
反応は、エタノール、メタノールまたはテトラヒ
ドロフランなどを溶媒として用いて、通常、0℃
ないし室温の温度範囲で行われ、また、反応時間
は、通常、1時間ないし6時間の範囲で充分であ
る。
一般式で表わされる3,4−ジ(p−トルイ
ルオキシ)−α−アミノメチルベンルアルコール
誘導体は、化合物を塩基物質、例えばピリジ
ン、トリエチルアミン、または炭酸カリウムなど
の存在下に2モル当量の塩化p−トルイルと反応
させることにより製造される。この場合、溶媒と
しては不活性溶媒、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、ジクロロメタン、アセトニトリル、ピリジン
またはジメチルホルムアミドなどを用いて、通
常、0℃ないし30℃の温度範囲で行われ、また反
応時間は、通常、30分間ないし4時間の範囲で充
分である。
ルオキシ)−α−アミノメチルベンルアルコール
誘導体は、化合物を塩基物質、例えばピリジ
ン、トリエチルアミン、または炭酸カリウムなど
の存在下に2モル当量の塩化p−トルイルと反応
させることにより製造される。この場合、溶媒と
しては不活性溶媒、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、ジクロロメタン、アセトニトリル、ピリジン
またはジメチルホルムアミドなどを用いて、通
常、0℃ないし30℃の温度範囲で行われ、また反
応時間は、通常、30分間ないし4時間の範囲で充
分である。
このようにして得られた化合物の保護基Rを
除去することにより、最終的に目的とする、3,
4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級ブチル
アミノメチル)ベンジルアルコールが製造され
る。この保護基の除去は、常法によるが、酸を用
いて処理する場合には、その酸としては、塩酸、
硫酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸、また臭化
亜鉛などがあげられ、また使用する溶媒の例とし
ては、アセトン、テトラヒドロフラン、酢酸また
はジクロロメタンなどがあげられる。これらの溶
媒は所望により水との混合系として用いることも
できる。この反応は、通常、室温下、1時間ない
し10時間で充分である。
除去することにより、最終的に目的とする、3,
4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級ブチル
アミノメチル)ベンジルアルコールが製造され
る。この保護基の除去は、常法によるが、酸を用
いて処理する場合には、その酸としては、塩酸、
硫酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸、また臭化
亜鉛などがあげられ、また使用する溶媒の例とし
ては、アセトン、テトラヒドロフラン、酢酸また
はジクロロメタンなどがあげられる。これらの溶
媒は所望により水との混合系として用いることも
できる。この反応は、通常、室温下、1時間ない
し10時間で充分である。
本発明方法は、安価かつ入手容易な出発原料を
用い、穏和で、しかも設定の容易な反応条件の下
で簡便な操作により行われる各工程を経由して、
目的とする3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−
α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアルコ
ールを、高収率にしかも高純度に製造することが
できるなど、工業的製法としての優れた利点を有
するものである。
用い、穏和で、しかも設定の容易な反応条件の下
で簡便な操作により行われる各工程を経由して、
目的とする3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−
α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアルコ
ールを、高収率にしかも高純度に製造することが
できるなど、工業的製法としての優れた利点を有
するものである。
以下に本発明の実施例を掲げるか、本発明は、
これら実施例に限定されるものではない。
これら実施例に限定されるものではない。
実施例 1
3,4−(ジベンジルオキシ)スチレンオキサ
イドの製造 ジメチル硫酸7.57g(0.06モル)をアセトニト
リル20mlに溶かし、これを氷冷撹拌しながらら、
硫化ジメチル4.10g(0.066モル)を加え一夜室
温放置し、メチル硫酸トリメチルスルホニウムの
アセトニトリル溶液を調製する。次いで、この溶
液を0℃に冷却し、撹拌下に、これにナトリウム
メトキサイド3.57g(0.066モル)を加え、次い
で3,4−(ジベンジルオキシ)ベンズアルデヒ
ド12.74g(0.04モル)をアセトニトリル20mlに
溶かした溶液を30分間を要して滴下する。そのま
ま冷却下に、1時間撹拌した後、溶媒を減圧下に
留去し、得られた残留分に水40mlとベンゼン50ml
とを加えて溶かし、有機層を分取する。この水層
をベンゼン20mlで2回抽出し、その抽出物を先の
有機層に合わせ、それを水0mlと飽和食塩水40ml
とを用いて洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用
いて乾燥する。次いでろ過し、そのろ液を濃縮す
ると標記の化合物13.06g(収率98.2%)が得ら
れた。
イドの製造 ジメチル硫酸7.57g(0.06モル)をアセトニト
リル20mlに溶かし、これを氷冷撹拌しながらら、
硫化ジメチル4.10g(0.066モル)を加え一夜室
温放置し、メチル硫酸トリメチルスルホニウムの
アセトニトリル溶液を調製する。次いで、この溶
液を0℃に冷却し、撹拌下に、これにナトリウム
メトキサイド3.57g(0.066モル)を加え、次い
で3,4−(ジベンジルオキシ)ベンズアルデヒ
ド12.74g(0.04モル)をアセトニトリル20mlに
溶かした溶液を30分間を要して滴下する。そのま
ま冷却下に、1時間撹拌した後、溶媒を減圧下に
留去し、得られた残留分に水40mlとベンゼン50ml
とを加えて溶かし、有機層を分取する。この水層
をベンゼン20mlで2回抽出し、その抽出物を先の
有機層に合わせ、それを水0mlと飽和食塩水40ml
とを用いて洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用
いて乾燥する。次いでろ過し、そのろ液を濃縮す
ると標記の化合物13.06g(収率98.2%)が得ら
れた。
NMR δCDCl3:2.72(d,d,1H)
3.06(d,d,1H)
3.84(t・like,1H)
5.23(s,4H)
6.90(m,3H)
7.43(m,10H)
MS 50eV m/e:332(M+),298,241
実施例 2
3,4−(ジベンジルオキシ)−α−(三級ブチ
ルアミノメチル)ベンジルアルコールの製造 (a) 3,4−(ジベンジルオキシ)スチレンオキ
サイド11.20g(0.0337モル)を第三級ブチル
アミン24.65g(0.337モル)に溶かし、封管中
で65℃で3日間、撹拌する。反応生成物中の過
剰の第三級ブチルアミンを常圧で留去し、得ら
れた残留物をアセトニトリル20mlより再結晶す
ると、標記の化合物11.06g(収率80.9%)が
得られた。
ルアミノメチル)ベンジルアルコールの製造 (a) 3,4−(ジベンジルオキシ)スチレンオキ
サイド11.20g(0.0337モル)を第三級ブチル
アミン24.65g(0.337モル)に溶かし、封管中
で65℃で3日間、撹拌する。反応生成物中の過
剰の第三級ブチルアミンを常圧で留去し、得ら
れた残留物をアセトニトリル20mlより再結晶す
ると、標記の化合物11.06g(収率80.9%)が
得られた。
融点94.0〜95.0℃
NMR δCDCl3:1.04(s,9H)
2.62(m,4H,D2Oで2H消失)
4.50(d,d,1H)
5.10(s,2H)
5.13(s,2H)
6.85〜7.5(m,13H)
MS 70eV m/e405(M+),387,319,314,
138,91,86 元素分析値 C26H31NO3 計算値(%) C:77.01、H:7.71、N:3.45 実測値(%) C:77.14、H:7.66、N:3.23 (b) 3,4−(ジベンジルオキシ)スチレンオキ
サイド9.97g(0.03モル)および第三級ブチル
アミン10.97g(0.15モル)をエタノール30ml
に溶かし、封管中で60℃で24時間撹拌する。次
いで、溶媒を留去し、得られた酸留物をアセト
ニトリル20mlを用いて再結晶すると、融点93.5
〜94.9℃を示す標記の化合物7.40g(収率60.8
%)が得られた。このものの諸分析データは上
記(a)で得られたもののそれと一致した。
138,91,86 元素分析値 C26H31NO3 計算値(%) C:77.01、H:7.71、N:3.45 実測値(%) C:77.14、H:7.66、N:3.23 (b) 3,4−(ジベンジルオキシ)スチレンオキ
サイド9.97g(0.03モル)および第三級ブチル
アミン10.97g(0.15モル)をエタノール30ml
に溶かし、封管中で60℃で24時間撹拌する。次
いで、溶媒を留去し、得られた酸留物をアセト
ニトリル20mlを用いて再結晶すると、融点93.5
〜94.9℃を示す標記の化合物7.40g(収率60.8
%)が得られた。このものの諸分析データは上
記(a)で得られたもののそれと一致した。
実施例 3
N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)エチルアミンの製造 3,4−(ジベンジルオキシ)−α−(三級ブチ
ルアミノメチル)ベンジルアルコール2.03g
(0.005モル)をトルエン5mlに溶かし、これにp
−トルエンスルホン酸1.03g(0.006モル)を加
える。次いで、この溶液を0℃で撹拌下に、2,
3−ジヒドロピラン505mgをトルエン5mlに溶か
した溶液を15分間を要して滴下し、そのままさら
に2時間撹拌する。次に、これにアンモニア水10
mlを加え、有機層を分取し、水10mlで2回、飽和
食塩水10mlで1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。次いで、これをろ過し、溶媒を留去し
て得られた残留物をアルミナカラムクロマトグラ
フイーにより精製すると、無色油状の標記の化合
物2.14g(収率87.5%)が得られた。
キシフエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)エチルアミンの製造 3,4−(ジベンジルオキシ)−α−(三級ブチ
ルアミノメチル)ベンジルアルコール2.03g
(0.005モル)をトルエン5mlに溶かし、これにp
−トルエンスルホン酸1.03g(0.006モル)を加
える。次いで、この溶液を0℃で撹拌下に、2,
3−ジヒドロピラン505mgをトルエン5mlに溶か
した溶液を15分間を要して滴下し、そのままさら
に2時間撹拌する。次に、これにアンモニア水10
mlを加え、有機層を分取し、水10mlで2回、飽和
食塩水10mlで1回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。次いで、これをろ過し、溶媒を留去し
て得られた残留物をアルミナカラムクロマトグラ
フイーにより精製すると、無色油状の標記の化合
物2.14g(収率87.5%)が得られた。
NMR δCDCl3:1.02(s,9H)
1.56(m,7H)
2.75(d,d,2H)
3.27〜4.02(m,2H)
4.27(m,1H)
4.65(d,d,1H)
5.09(s,4H)
6.75〜7.40(m,13H)
MS 50 eV m/e:489(M+),404,388,319,
313,91,86,85 実施例 4 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(2−三級ブチルジメチル
シリルオキシ)エチルアミンの製造 3,4−(ジベンジルオキシ)−α−(三級ブチ
ルアミノメチル)ベンジルアルコール2.77g
(0.0068モル)およびイミダゾール2.33g(0.033
モル)をジクロルメタン20mlに溶かし室温で撹拌
下に三級ブチルジメチルクロロシラン2.26g
(0.015モル)を添加する。そのまま5時間撹拌し
た後、溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーにより精製すると、
無色油状の標記の化合物2.933g(収率83.0%)
が得られた。
313,91,86,85 実施例 4 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(2−三級ブチルジメチル
シリルオキシ)エチルアミンの製造 3,4−(ジベンジルオキシ)−α−(三級ブチ
ルアミノメチル)ベンジルアルコール2.77g
(0.0068モル)およびイミダゾール2.33g(0.033
モル)をジクロルメタン20mlに溶かし室温で撹拌
下に三級ブチルジメチルクロロシラン2.26g
(0.015モル)を添加する。そのまま5時間撹拌し
た後、溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーにより精製すると、
無色油状の標記の化合物2.933g(収率83.0%)
が得られた。
NMR δCDCl3:0.22(s,6H)
1.09(s,9H)
1.26(s,9H)
1.80(brs,1H)
2.77(d,d,2H)
4.70(d,d,1H)
5.21(s,4H)
6.8〜7.45(m,13H)
MS 70 eV m/e:519(M+),504,462,433,
343,181,91,86 IRcm−1 NaCl:νNH3300 νO-Si1090 実施例 5 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニルオ
キシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシ)−β−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)
エチルアミン2.14g(0.0044モル)を無水エタノ
ール20mlに溶かし、これに10%木炭担持パラジウ
ム0.1gを加え、水素雰囲気下、室温で3時間撹
拌する。その後、固形物をろ別し、溶媒を留去す
ると、淡褐色無定形の標記の化合物1.36g(収率
100.0%)が得られた。
343,181,91,86 IRcm−1 NaCl:νNH3300 νO-Si1090 実施例 5 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニルオ
キシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシ)−β−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)
エチルアミン2.14g(0.0044モル)を無水エタノ
ール20mlに溶かし、これに10%木炭担持パラジウ
ム0.1gを加え、水素雰囲気下、室温で3時間撹
拌する。その後、固形物をろ別し、溶媒を留去す
ると、淡褐色無定形の標記の化合物1.36g(収率
100.0%)が得られた。
NMR δCD3CN:1.12(s,9H)
1.53(m,6H)
2.84(d,d,2H)
3.2〜3.9(m,2H)
4.36(m,1H)
4.54(d,d,1H)
5.40(brs,3H D2O消失)
6.75(m,3H)
実施例 6
N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリル
オキシ)エチルアミン1.04g(0.002モル)をエ
タノール10mlに溶かし、10%木炭担持パラジウム
50mgを溶かし、水素雰囲気下、室温で5時間撹拌
する。次に不溶物をろ別し、ろ液を濃縮すると、
淡褐色油状物0.681gが得られた。このものをア
セトニトリル2mlで再結晶すると無色結晶状の標
記の化合物642mgが得られた。(収率94.7%) 分解点134.3〜134.8℃ NMR δCD3OD:0.20(s,6H) 1.03(s,9H) 1.25(s,9H) 2.82(d,d,2H) 4.73(d,d,1H) 6.84(m,3H) 実施例 7 N−三級ブチル−β−〔3,4−ジ(p−トル
イルオキシ)フエニル〕−β−(2−テトラヒド
ロピラニルオキシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニルオキ
シ)エチルアミン1.236g(0.004モル)をピリジ
ン5mlに溶かし、0℃で撹拌下にこれに、塩化p
−トルイル1.36g(0.0088モル)を15分間を要し
て滴下し、そのまま3時間撹拌する。次いで、こ
れにベンゼン20mlとアンモニア水20mlとを加え、
有機層を分取し、水20mlで2回、および飽和食塩
水10mlで1回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。これを、次いでろ過し、ろ液を濃縮す
ると標記の化合物2.08g(収率95.4%)が得られ
た。
フエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジベンジルオ
キシフエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリル
オキシ)エチルアミン1.04g(0.002モル)をエ
タノール10mlに溶かし、10%木炭担持パラジウム
50mgを溶かし、水素雰囲気下、室温で5時間撹拌
する。次に不溶物をろ別し、ろ液を濃縮すると、
淡褐色油状物0.681gが得られた。このものをア
セトニトリル2mlで再結晶すると無色結晶状の標
記の化合物642mgが得られた。(収率94.7%) 分解点134.3〜134.8℃ NMR δCD3OD:0.20(s,6H) 1.03(s,9H) 1.25(s,9H) 2.82(d,d,2H) 4.73(d,d,1H) 6.84(m,3H) 実施例 7 N−三級ブチル−β−〔3,4−ジ(p−トル
イルオキシ)フエニル〕−β−(2−テトラヒド
ロピラニルオキシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(2−テトラヒドロピラニルオキ
シ)エチルアミン1.236g(0.004モル)をピリジ
ン5mlに溶かし、0℃で撹拌下にこれに、塩化p
−トルイル1.36g(0.0088モル)を15分間を要し
て滴下し、そのまま3時間撹拌する。次いで、こ
れにベンゼン20mlとアンモニア水20mlとを加え、
有機層を分取し、水20mlで2回、および飽和食塩
水10mlで1回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。これを、次いでろ過し、ろ液を濃縮す
ると標記の化合物2.08g(収率95.4%)が得られ
た。
NMR δCDCl3:1.13(s,9H)
1.66(m,6H)
2.37(s,6H)
2.86(d,d,2H)
3.4〜4.1(m,2H)
4.51(m,1H)
4.90(d,d,1H)
7.08〜7.97(m,11H)
MS 50 eV m/e:545(M+),459,426,119,
91.86 IRcm−1 NaCl:νC=0 1735 νNH 3440 実施例 8 N−三級ブチル−β−〔3,4−ジ(p−トル
イルオキシ)フエニル〕−β−(三級ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチルアミン3.39g(0.01モル)およびトリ
エチルアミン3.03g(0.06モル)をジクロルメタ
ン30mlに溶かし、これに、室温撹拌下で塩化p−
トルイル3.09g(0.02モル)をジクロルメタン10
mlに溶かした溶液を20分間を要して滴下する。そ
のまま2時間撹拌した後、水20mlで3回洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。これを次いでろ
過し、ろ液を濃縮すると標記の化合物5.76g(収
率100.0%)が得られた。
91.86 IRcm−1 NaCl:νC=0 1735 νNH 3440 実施例 8 N−三級ブチル−β−〔3,4−ジ(p−トル
イルオキシ)フエニル〕−β−(三級ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチルアミンの製造 N−三級ブチル−β−(3,4−ジヒドロキシ
フエニル)−β−(三級ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチルアミン3.39g(0.01モル)およびトリ
エチルアミン3.03g(0.06モル)をジクロルメタ
ン30mlに溶かし、これに、室温撹拌下で塩化p−
トルイル3.09g(0.02モル)をジクロルメタン10
mlに溶かした溶液を20分間を要して滴下する。そ
のまま2時間撹拌した後、水20mlで3回洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。これを次いでろ
過し、ろ液を濃縮すると標記の化合物5.76g(収
率100.0%)が得られた。
NMR δCDCl3:0.17(s,6H)
0.98(s,9H)
1.14(s,9H)
1.90(brs,1H)D2O消失
2.37(s,6H)
2.80(d,d,2H)
4.87(d,d,1H)
7.10〜8.04(m,11H)
MS 50 eV m/e:575(M+),560,519,489,
371,313,119,91,86,57 IRcm−1 NaCl:νC=01738 νNH 3440 実施例 9 3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級
ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールの製
造 (a) 実施例7で得られたN−級ブチル−β−〔3,
4−ジ(p−トルイルオキシ)フエニル〕−β
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル
アミン2.08g0.0038モル)をアセトン10mlと10
%塩酸5mlとの混合溶液に溶かし、室温で3時
間撹拌する。この溶液にベンゼン20mlおよび10
%炭酸カリウム水溶液20mlを加え、有機層を分
取する。有機層を水20mlで2回、飽和食塩水で
1回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。これを、次いでろ過し、ろ液を濃縮すると
標記の化合物1.72g(収率98.2%)が得られ
た。
371,313,119,91,86,57 IRcm−1 NaCl:νC=01738 νNH 3440 実施例 9 3,4−ジ(p−トルイルオキシ)−α−(三級
ブチルアミノメチル)ベンジルアルコールの製
造 (a) 実施例7で得られたN−級ブチル−β−〔3,
4−ジ(p−トルイルオキシ)フエニル〕−β
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル
アミン2.08g0.0038モル)をアセトン10mlと10
%塩酸5mlとの混合溶液に溶かし、室温で3時
間撹拌する。この溶液にベンゼン20mlおよび10
%炭酸カリウム水溶液20mlを加え、有機層を分
取する。有機層を水20mlで2回、飽和食塩水で
1回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。これを、次いでろ過し、ろ液を濃縮すると
標記の化合物1.72g(収率98.2%)が得られ
た。
NMR δCDCl3:1.09(s,9H)
2.31(s,6H)
2.75(d,d,2H)
3.62(brs,2H,D2O消失)
4.68(d,d,1H)
7.05〜7.98(m,11H)
MS 50 eV m/e:461(M+),443,361,326,
191,136,119,91,86 IRcm−1 NaCl:νC=0 1735 元素分析値 C28H31NO5 計算値(%) C:72.86、H:6.77、N:3.03 実測値(%) C:72.98、H:6.93、N:2.88 (b) 実施例8で得られたN−三級ブチル−β−
〔3,4−ジ(p−トルイルオキシ)フエニ
ル〕〕−β−(三級ブチルジメチルシリルオキシ)
エチルアミン2.88g(0.005モル)を酢酸6ml
水2mlおよびテトラヒドロフラン2mlの混合溶
媒に溶かし、室温で8時間撹拌する。この溶液
を減圧下に濃縮し、残留物をベンゼン15mlおよ
び10%炭酸カリウム水溶液20mlに溶かし、ベン
ゼン層を分取する。次いで、これを水洗し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去す
ると標記の化合物2.05g(収率88.9%)が得ら
れた。この物質の諸分析データは、前記(a)で得
られたもののそれと一致した。
191,136,119,91,86 IRcm−1 NaCl:νC=0 1735 元素分析値 C28H31NO5 計算値(%) C:72.86、H:6.77、N:3.03 実測値(%) C:72.98、H:6.93、N:2.88 (b) 実施例8で得られたN−三級ブチル−β−
〔3,4−ジ(p−トルイルオキシ)フエニ
ル〕〕−β−(三級ブチルジメチルシリルオキシ)
エチルアミン2.88g(0.005モル)を酢酸6ml
水2mlおよびテトラヒドロフラン2mlの混合溶
媒に溶かし、室温で8時間撹拌する。この溶液
を減圧下に濃縮し、残留物をベンゼン15mlおよ
び10%炭酸カリウム水溶液20mlに溶かし、ベン
ゼン層を分取する。次いで、これを水洗し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去す
ると標記の化合物2.05g(収率88.9%)が得ら
れた。この物質の諸分析データは、前記(a)で得
られたもののそれと一致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)−α−
アミノメチルベンジルアルコール誘導体の水酸基
を保護基にて保護した後、接触水素化し、得られ
た一般式 (式中、Rは水酸基の保護基である) で表わされる3,4−ジヒドロキシ−α−アミノ
メチルベンジルアルコール誘導体を塩化p−トル
イルを用いてエステル化し、得られた一般式 (式中、Rは前述の定義を有する) で表わされる3,4−(ジトルイルオキシ)−α−
アミノメチルベンジルアルコール誘導体の保護基
Rを除去することを特徴とする式 で表わされる3,4−ジ(p−トルイルオキシ)
−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
コールの製造法 2 3,4−(ジベンジルオキシ)ベンズアルデ
ヒドをメチル硫酸トリメチルスルホニウムおよび
ナトリウムメトキサイドと反応させ、得られた式
で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)スチ
レンオキサイドと第三級ブチルアミンとを反応さ
せ、得られた式 で表わされる3,4−(ジベンジルオキシ)−α−
アミノメチルベンジルアルコール誘導体の水酸基
を保護基にて保護した後、接触水素化し、得られ
た一般式 (式中、Rは水酸基の保護基である) で表わされる3,4−ジヒドロキシ−α−アミノ
メチルベンジルアルコール誘導体を塩化p−トル
イルを用いてエステル化し、得られた一般式 (式中、Rは前述の定義を有する) で表わされる3,4−(ジトルイルオキシ)−α−
アミノメチルベンジルアルコール誘導体の保護基
Rを除去することを特徴とする式 で表わされる3,4−ジ(p−トルイルオキシ)
−α−(三級ブチルアミノメチル)ベンジルアル
コールの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57016371A JPS58134060A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | α−アミノメチルベンジルアルコ−ル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57016371A JPS58134060A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | α−アミノメチルベンジルアルコ−ル誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58134060A JPS58134060A (ja) | 1983-08-10 |
JPH0316338B2 true JPH0316338B2 (ja) | 1991-03-05 |
Family
ID=11914437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57016371A Granted JPS58134060A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | α−アミノメチルベンジルアルコ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58134060A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4614830A (en) * | 1985-08-09 | 1986-09-30 | Sterling Drug Inc. | Esterification process |
-
1982
- 1982-02-05 JP JP57016371A patent/JPS58134060A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58134060A (ja) | 1983-08-10 |
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