JPH03156747A - 光情報記録媒体用スタンパーの製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体用スタンパーの製造方法Info
- Publication number
- JPH03156747A JPH03156747A JP29392689A JP29392689A JPH03156747A JP H03156747 A JPH03156747 A JP H03156747A JP 29392689 A JP29392689 A JP 29392689A JP 29392689 A JP29392689 A JP 29392689A JP H03156747 A JPH03156747 A JP H03156747A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- glass
- master
- glass master
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims abstract description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 22
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 6
- 238000007906 compression Methods 0.000 abstract description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 abstract description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 1
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光カード、光ディスク等の情報を記録、再生
する情報記録媒体を複製するための光情報記録媒体用ス
タンパ−の製造方法に関するものである。
する情報記録媒体を複製するための光情報記録媒体用ス
タンパ−の製造方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、情報記録媒体用スタンパ−は、通常、公開特許公
報62−217442やオブトロニクス(1988)N
oS光ディスクスタンパーの製作技術に記載されている
ような技術により製造されている。
報62−217442やオブトロニクス(1988)N
oS光ディスクスタンパーの製作技術に記載されている
ような技術により製造されている。
すなわち、ビデオディスク、コンパクトディスク等の情
報記録面にトラッキング用溝及び情報用ビット等のグル
ープが形成されている情報記録媒体を得るために、例え
ば情報記録方式に応じた微細パターンか刻設されたスタ
ンパ−を用いて、■情報記録媒体用基板の材料が可塑性
樹脂からなる場合には、インジェクション法、コンプレ
ッション法、又はローラー・グループ成形法、■光硬化
性樹脂組成物を硬化させて、情報記録媒体用スタンパー
のレプリカを遣明樹脂板に転写するいわゆる2P(フォ
ト・ポリマー)法、■樹脂のモノマー又は溶剤を含んだ
プレポリマーを用いる注型成形法、等で情報記録媒体用
基板を製作している。
報記録面にトラッキング用溝及び情報用ビット等のグル
ープが形成されている情報記録媒体を得るために、例え
ば情報記録方式に応じた微細パターンか刻設されたスタ
ンパ−を用いて、■情報記録媒体用基板の材料が可塑性
樹脂からなる場合には、インジェクション法、コンプレ
ッション法、又はローラー・グループ成形法、■光硬化
性樹脂組成物を硬化させて、情報記録媒体用スタンパー
のレプリカを遣明樹脂板に転写するいわゆる2P(フォ
ト・ポリマー)法、■樹脂のモノマー又は溶剤を含んだ
プレポリマーを用いる注型成形法、等で情報記録媒体用
基板を製作している。
上記方法に用いられる情報記録媒体用スタンパ−は次の
ような工程を経て製造される。
ような工程を経て製造される。
まずガラス基板にフォトレジストを塗布したのちレーザ
ー光で所定のパターンを描き、次いでエツチング等の方
法によりフォトレジストがポジ型の場合には感光部分を
除去、ネガ型の場合には非感光部分を除去する。これに
より所定の凹凸パターンを有するガラス原盤を得る。次
に、この上にスパッタリング等によりNiなどの金属薄
膜を形成して表面を導電化し、次いで電鋳して所定の厚
さの金属体を被着し、しかる後、上記凹凸パターンを有
するガラス原盤を剥離することにより、ガラス原盤上に
形成された凹凸パターンと全く逆の凹凸パターンを有す
る金属性スタンパ−を得るというものである。
ー光で所定のパターンを描き、次いでエツチング等の方
法によりフォトレジストがポジ型の場合には感光部分を
除去、ネガ型の場合には非感光部分を除去する。これに
より所定の凹凸パターンを有するガラス原盤を得る。次
に、この上にスパッタリング等によりNiなどの金属薄
膜を形成して表面を導電化し、次いで電鋳して所定の厚
さの金属体を被着し、しかる後、上記凹凸パターンを有
するガラス原盤を剥離することにより、ガラス原盤上に
形成された凹凸パターンと全く逆の凹凸パターンを有す
る金属性スタンパ−を得るというものである。
このようにして得られた金属性スタンパーは比較的型耐
久性に優れたものであるが、射出成形に用いた場合など
、およそ5000シヨツトで寿命となる。またスタンパ
ーの取扱いの際にキズがついたり洗浄の際に洗浄シミが
ついたりして使用できなくなるケースも多い。従って大
量生産を行なう場合、又、−度に多数枚のスタンパーを
使用する場合などスタンパーな何枚も複製する必要があ
る。
久性に優れたものであるが、射出成形に用いた場合など
、およそ5000シヨツトで寿命となる。またスタンパ
ーの取扱いの際にキズがついたり洗浄の際に洗浄シミが
ついたりして使用できなくなるケースも多い。従って大
量生産を行なう場合、又、−度に多数枚のスタンパーを
使用する場合などスタンパーな何枚も複製する必要があ
る。
スタンパーを複製する場合、本来ならば基率となるスク
ンバーから樹脂型を取り、この樹脂型を母型として複製
すればよいのであるが、実際にはエラーレートの上昇な
どの理由により非常に困難であり、従って、一般にスタ
ンパーの複製は一枚毎、前記製造過程を繰り返すことに
より製造されている。
ンバーから樹脂型を取り、この樹脂型を母型として複製
すればよいのであるが、実際にはエラーレートの上昇な
どの理由により非常に困難であり、従って、一般にスタ
ンパーの複製は一枚毎、前記製造過程を繰り返すことに
より製造されている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら通常、光記録媒体の溝パターンは溝幅0.
6〜8μm、ピッチ1.6〜12+um、深さ0.07
〜0.3μmでディスク径は3.5インチないし5.2
5インチであり、従来のようにレーザー光線でこのパタ
ーンを描くと、1枚毎に約20〜30分程の時間を要し
、生産性が良くないという問題があった。そこで、例え
ばガラス原盤の製造法としては、特開昭62−1871
43に示されるようにマスクを用いて密@露光により瞬
間的にグループパターンを形成し、ガラス基板をエツチ
ングすることによりグループ付きのガラス原盤を作成す
る方法が提案されているが、これは、露光、現象後にガ
ラス露出部をエツチングし、そのガラス基板自体を光デ
イスク用基板として用いるというものであり、従来のガ
ラス基板の製造法に比べ生産性にすぐれているというメ
リットがあるものの、スタンパーを用いて射出成形法な
どによってプラスチック原盤を製造する方法に比べると
、生産性の点においては不充分なものであった。
6〜8μm、ピッチ1.6〜12+um、深さ0.07
〜0.3μmでディスク径は3.5インチないし5.2
5インチであり、従来のようにレーザー光線でこのパタ
ーンを描くと、1枚毎に約20〜30分程の時間を要し
、生産性が良くないという問題があった。そこで、例え
ばガラス原盤の製造法としては、特開昭62−1871
43に示されるようにマスクを用いて密@露光により瞬
間的にグループパターンを形成し、ガラス基板をエツチ
ングすることによりグループ付きのガラス原盤を作成す
る方法が提案されているが、これは、露光、現象後にガ
ラス露出部をエツチングし、そのガラス基板自体を光デ
イスク用基板として用いるというものであり、従来のガ
ラス基板の製造法に比べ生産性にすぐれているというメ
リットがあるものの、スタンパーを用いて射出成形法な
どによってプラスチック原盤を製造する方法に比べると
、生産性の点においては不充分なものであった。
さらに、近年ではガラス基板を1枚1枚レーザーカッテ
ィングマシンにより、露光するかわりに、第4図に示す
ように、ガラス基板上に設けたフォトレジストの上に、
フォトマスクをコンタクト又はプロキシミティの方法で
配置し、該フォトマスクを介して紫外光または遠紫外光
を用いて露光を行なう(第4図(a))ことによりフォ
トマスクのグループパターンをガラス基板上に転写し、
フォトレジストを現像して凹凸パターンを作りエツチン
グすることにより得られた基板(同(b))をガラス原
盤としてこの上に電鋳して、スタンパーを作成する(同
(C))方法が提案されている。
ィングマシンにより、露光するかわりに、第4図に示す
ように、ガラス基板上に設けたフォトレジストの上に、
フォトマスクをコンタクト又はプロキシミティの方法で
配置し、該フォトマスクを介して紫外光または遠紫外光
を用いて露光を行なう(第4図(a))ことによりフォ
トマスクのグループパターンをガラス基板上に転写し、
フォトレジストを現像して凹凸パターンを作りエツチン
グすることにより得られた基板(同(b))をガラス原
盤としてこの上に電鋳して、スタンパーを作成する(同
(C))方法が提案されている。
しかしながら、この方法ではスタンパーの数だけスタン
パー原盤となる、ガラス原盤を作成しなくてはならず、
サブミクロンオーダーのパターンを焼き付ける為にフォ
トマスクを基板にコンタクトさせて露光する場合、ステ
ッキングにより、欠陥の発生が多発し、マスク洗浄工程
が頻ばんに必要となる為、やはり、生産性の向上が見込
めないのが実状であった。
パー原盤となる、ガラス原盤を作成しなくてはならず、
サブミクロンオーダーのパターンを焼き付ける為にフォ
トマスクを基板にコンタクトさせて露光する場合、ステ
ッキングにより、欠陥の発生が多発し、マスク洗浄工程
が頻ばんに必要となる為、やはり、生産性の向上が見込
めないのが実状であった。
また、ガラス原盤として、表面精度の良好なガラス基板
が必要になり、原盤のコストも一卜昇してしまうという
欠点があった。
が必要になり、原盤のコストも一卜昇してしまうという
欠点があった。
本発明は、上記従来技術の問題点である生産性の低さに
鑑みなされものであり、光記録媒体用スタンパ−の複製
方法において新規なスタンパー原盤作製工程により生産
性良く複製することを可能とする前記複製方法を提供し
ようとするものである。
鑑みなされものであり、光記録媒体用スタンパ−の複製
方法において新規なスタンパー原盤作製工程により生産
性良く複製することを可能とする前記複製方法を提供し
ようとするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は、所望のパターンを有するフォトマスクを用い
て、ガラス基板上に設けられているフォトレジスト層を
パターニングし、さらにエラチンを施すことによりガラ
ス原盤を作成する工程(第1工程)、該ガラス原盤の樹
脂型をとってスタンパー原盤を得る工程(第2工程)、
及び該スタンパ−原盤上に電鋳処理により金属スタンパ
−を形成後剥離する工程(第3工程)から少なくとも成
る光記録媒体用スタンパーの製造方法であり、本発明に
よれば、生産性よく、スタンパーを複製することが可能
となる。
て、ガラス基板上に設けられているフォトレジスト層を
パターニングし、さらにエラチンを施すことによりガラ
ス原盤を作成する工程(第1工程)、該ガラス原盤の樹
脂型をとってスタンパー原盤を得る工程(第2工程)、
及び該スタンパ−原盤上に電鋳処理により金属スタンパ
−を形成後剥離する工程(第3工程)から少なくとも成
る光記録媒体用スタンパーの製造方法であり、本発明に
よれば、生産性よく、スタンパーを複製することが可能
となる。
すなわち、本発明は従来技術の問題であった、ガラス原
盤をスタンパーとして基板成形に用いることによる強度
、作業性、歩留りの低さ及びガラス原盤より電鋳をして
スタンパーを作成することから、R盤1枚につき、スタ
ンパーが1枚しか作成されずスタンパーのffi産性、
歩留りが低い、等の問題を解決するものである。
盤をスタンパーとして基板成形に用いることによる強度
、作業性、歩留りの低さ及びガラス原盤より電鋳をして
スタンパーを作成することから、R盤1枚につき、スタ
ンパーが1枚しか作成されずスタンパーのffi産性、
歩留りが低い、等の問題を解決するものである。
以下、本発明を図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の詳細な説明する光記録媒体用基板製
造工程の一態様を示す概略図である。本図の工程では大
きく分けて4つの工程から成り、すなわち、第1工程は
フォトマスクを用いてガラス原盤を作成する工程、第2
工程はガラス原盤より樹脂型を作成する工程、第3工程
は樹脂型に電鋳してメタルスタンパ−を作成する工程、
第4工程は該スタンパーより押し出し成形法、コンプレ
ッション法等により、光記録媒体用基板を形成する工程
、である。
造工程の一態様を示す概略図である。本図の工程では大
きく分けて4つの工程から成り、すなわち、第1工程は
フォトマスクを用いてガラス原盤を作成する工程、第2
工程はガラス原盤より樹脂型を作成する工程、第3工程
は樹脂型に電鋳してメタルスタンパ−を作成する工程、
第4工程は該スタンパーより押し出し成形法、コンプレ
ッション法等により、光記録媒体用基板を形成する工程
、である。
樹脂型をとる為のガラス原盤の作成を行なう第1工程に
おいては、レーザーカッティング等によるレジストパタ
ーン形成を行なわず、フォトマスクによりレジストを露
光しパターン形成を行なうため、すなわち、フォトリソ
グラフィー技術によりパターンが形成されるため、精度
が高く、歩留りも向上させることができる。
おいては、レーザーカッティング等によるレジストパタ
ーン形成を行なわず、フォトマスクによりレジストを露
光しパターン形成を行なうため、すなわち、フォトリソ
グラフィー技術によりパターンが形成されるため、精度
が高く、歩留りも向上させることができる。
又ガラス原盤により樹脂型を作成する第2工程において
は、1枚のガラス原盤から多数枚の樹脂型をスタンパー
原盤として作成できるため量産性を著しく向上させるこ
とができる。この結果、電鋳スタンパ−(金属スタンパ
ー)を第3工程により容易に、精度及び歩留り良く、惜
産可能となる。
は、1枚のガラス原盤から多数枚の樹脂型をスタンパー
原盤として作成できるため量産性を著しく向上させるこ
とができる。この結果、電鋳スタンパ−(金属スタンパ
ー)を第3工程により容易に、精度及び歩留り良く、惜
産可能となる。
従来技術におけるスタンパー複製技術では、基準スタン
パ−から樹脂型をとり、これを母型として複数のスタン
パーを複製していたため、エラーレートが上昇し、実用
上問題があったが、本発明においては、基準スタンパー
の複製という手段ではなく、スタンパーを形成するため
のスタンパー原盤を、フォトリソグラフィー技術により
精度良くパターン形成されたガラス原盤から多数枚作成
し、1つのスタンパー原盤からは1つのスタンパーを作
成するためエラーレートの上昇等の問題もない。
パ−から樹脂型をとり、これを母型として複数のスタン
パーを複製していたため、エラーレートが上昇し、実用
上問題があったが、本発明においては、基準スタンパー
の複製という手段ではなく、スタンパーを形成するため
のスタンパー原盤を、フォトリソグラフィー技術により
精度良くパターン形成されたガラス原盤から多数枚作成
し、1つのスタンパー原盤からは1つのスタンパーを作
成するためエラーレートの上昇等の問題もない。
第2図は、石英フォトマスクからAS材ガラス原盤を作
成する場合の前記第1図の第1工程をよりくわしく説明
した一例であり、1はフォトマスク、2はガラス原盤で
6はフォトレジスト、7はメタル層、8はガラス基板、
である。
成する場合の前記第1図の第1工程をよりくわしく説明
した一例であり、1はフォトマスク、2はガラス原盤で
6はフォトレジスト、7はメタル層、8はガラス基板、
である。
まず、AS材のガラス基板8(青板ガラス)上にメタル
層7をスパッタリング法、蒸着法等により形成しこれに
、フォトレジスト6をスピンコード等により塗布する(
第2図(b))。フォトマスク1(同(a))を用いて
、コンタクトあるいはプロキシミティ等の方法によりレ
ジスト6に所望のパターンを焼き付け、現像しく同(C
))、このレジストパターンに沿ってメタル層7をドラ
イまたはウェットでエツチングすることによりガラス原
盤2が得られる(同(d))。
層7をスパッタリング法、蒸着法等により形成しこれに
、フォトレジスト6をスピンコード等により塗布する(
第2図(b))。フォトマスク1(同(a))を用いて
、コンタクトあるいはプロキシミティ等の方法によりレ
ジスト6に所望のパターンを焼き付け、現像しく同(C
))、このレジストパターンに沿ってメタル層7をドラ
イまたはウェットでエツチングすることによりガラス原
盤2が得られる(同(d))。
また上記工程においてメタル層なしで直接ガラス基板を
エツチングすることによっても同じ機能のガラス原盤が
得られる。
エツチングすることによっても同じ機能のガラス原盤が
得られる。
本発明においてガラス基板上に設ける感光性膜(フォト
レジスト)としてはポジ型感光性膜であるキノンジアジ
ド系フォトレジスト等、又ネガ型感光性膜であるポリケ
イ皮酸系フォトレジスト、アジド−ゴム系フォトレジス
ト等紫外光または遠紫外光に感光する一般に用いられる
フォトレジスト膜であり、膜厚は500〜5000人程
度である。
レジスト)としてはポジ型感光性膜であるキノンジアジ
ド系フォトレジスト等、又ネガ型感光性膜であるポリケ
イ皮酸系フォトレジスト、アジド−ゴム系フォトレジス
ト等紫外光または遠紫外光に感光する一般に用いられる
フォトレジスト膜であり、膜厚は500〜5000人程
度である。
次にフォトマスクは、前記感光性膜を設けたガラス基板
−ヒにコンタクト或いはプロキシミディの方法により配
置されるが、該フォトマスクは次のように作成すること
ができる。すなわち、ガラス、石英等のマスク基板にC
r等の薄膜をスパッタリング法等で付着させ、この上に
さらに上記のような一般に用いられているフォトレジス
トを塗布したのち、レーザー光でパターンを描き、次い
でエツチングを行ない、さらに前記薄膜露出部分をエツ
チングした後、フォトレジストを除去すれば該薄膜によ
るフォトマスクを作成することができる。
−ヒにコンタクト或いはプロキシミディの方法により配
置されるが、該フォトマスクは次のように作成すること
ができる。すなわち、ガラス、石英等のマスク基板にC
r等の薄膜をスパッタリング法等で付着させ、この上に
さらに上記のような一般に用いられているフォトレジス
トを塗布したのち、レーザー光でパターンを描き、次い
でエツチングを行ない、さらに前記薄膜露出部分をエツ
チングした後、フォトレジストを除去すれば該薄膜によ
るフォトマスクを作成することができる。
本発明において形成する凹凸パターンは、ミクロン〜サ
ブミクロンオーダーの微細パターンである。そのため、
コンタクト法により行なう場合には、フォトマスクとフ
ォトレジストとの間に空気が入りこまないように注意す
る必要がある。そこで、例えば、フォトマスクの両端を
しならせた状態でフォトレジスト面に近づけ、マスクの
中央がレジスト面と接触した後、徐々にマスクの両端の
方向へとマスクを重ね合せていく方法により行なうのが
良い。また、プロキシミティ法により行なう場合には、
フォトマスクとフォトレジスト間のギャップを5μm以
下、より好ましくは1μm以下とする。マスクとレジス
ト間のギャップが5μmを越える場合には、光のまわり
こみによりパターンのエツジが乱れ、そのようなスタン
パ−を用いて作成した記録媒体はトラッキングのかから
ないものとなる。
ブミクロンオーダーの微細パターンである。そのため、
コンタクト法により行なう場合には、フォトマスクとフ
ォトレジストとの間に空気が入りこまないように注意す
る必要がある。そこで、例えば、フォトマスクの両端を
しならせた状態でフォトレジスト面に近づけ、マスクの
中央がレジスト面と接触した後、徐々にマスクの両端の
方向へとマスクを重ね合せていく方法により行なうのが
良い。また、プロキシミティ法により行なう場合には、
フォトマスクとフォトレジスト間のギャップを5μm以
下、より好ましくは1μm以下とする。マスクとレジス
ト間のギャップが5μmを越える場合には、光のまわり
こみによりパターンのエツジが乱れ、そのようなスタン
パ−を用いて作成した記録媒体はトラッキングのかから
ないものとなる。
以ヒのようにして得られる構成によれば紫外光または遠
紫外光を用いて数秒間で露光を完了することができる。
紫外光を用いて数秒間で露光を完了することができる。
次に、常法により露光されたフォトレジストを現像して
パターニングし、ドライまたはウェットにより、メタル
層を選択的にエツチングするが、メタル層はガラスと選
択エツチングが可能で、フォトレジストに対しエッチレ
ートの高い材料から成るものほど良く、一般にはクロム
膜が用いられる。
パターニングし、ドライまたはウェットにより、メタル
層を選択的にエツチングするが、メタル層はガラスと選
択エツチングが可能で、フォトレジストに対しエッチレ
ートの高い材料から成るものほど良く、一般にはクロム
膜が用いられる。
尚、該メタル層の厚みは好ましくは所望のグループパタ
ーンの溝深さと同じ膜厚とするとよい。
ーンの溝深さと同じ膜厚とするとよい。
次に、メタル層をグループパターンの溝深さと同じ深さ
になるまでエツチングすれば、ガラス原盤が作成される
。
になるまでエツチングすれば、ガラス原盤が作成される
。
次にガラス原盤より樹脂型を形成する萌記第1図の第2
工程を第3図より説明する。
工程を第3図より説明する。
本工程は、2P樹脂を用い2P樹脂型を作成する方法、
あるいは、アクリル樹脂等を用いたキャスティング法等
公知技術に基づいて行ないつるが、第3図では22法に
よるものを示している。
あるいは、アクリル樹脂等を用いたキャスティング法等
公知技術に基づいて行ないつるが、第3図では22法に
よるものを示している。
すなわち、第2図で得られたガラス原盤2上に22樹脂
を滴下しく同図(a))、この上から透明な補材10を
重ね合わせて(同(b))、該補材側よりUV光を照射
することにより2P樹脂を硬化させ5ガラス原盤の凹凸
パターンを転写し、2P樹脂を透明補材と密着させてガ
ラス原盤よりはく雛して樹脂型3を作成する(同(C)
)。上記透明補材としては、一般にガラス基板が多く用
いられ、ガラス基板と22樹脂の密着をよくする為にシ
ランカップリング剤で処理されるとよい。
を滴下しく同図(a))、この上から透明な補材10を
重ね合わせて(同(b))、該補材側よりUV光を照射
することにより2P樹脂を硬化させ5ガラス原盤の凹凸
パターンを転写し、2P樹脂を透明補材と密着させてガ
ラス原盤よりはく雛して樹脂型3を作成する(同(C)
)。上記透明補材としては、一般にガラス基板が多く用
いられ、ガラス基板と22樹脂の密着をよくする為にシ
ランカップリング剤で処理されるとよい。
上記第2工程の他の方法としてはアクリル樹脂等を用い
キャスティング法により形成する方法がある。
キャスティング法により形成する方法がある。
面記第1図の第3工程では、樹脂型3上に金属薄膜層1
2を形成し、その七に電鋳層11を形成する。一般に金
属薄膜層12としては、Niスパッタ層が用いられ、電
鋳層11には、Ni電鋳層等が用いられる。しかる後に
金属体(金属薄膜層及び電鋳層)を樹脂型よりはくすし
てスタンパーを作成し、これを用いて第4工程でガラス
基板成形を行なえばよい。
2を形成し、その七に電鋳層11を形成する。一般に金
属薄膜層12としては、Niスパッタ層が用いられ、電
鋳層11には、Ni電鋳層等が用いられる。しかる後に
金属体(金属薄膜層及び電鋳層)を樹脂型よりはくすし
てスタンパーを作成し、これを用いて第4工程でガラス
基板成形を行なえばよい。
基板成形法としては、コンプレッション法、22法、ロ
ーラーグルービング法等、通常の方法に従い行なえばよ
い。特に、ローラーグルービング法においては、スタン
パ−を曲げてロール七に装着する為電鋳後の金属体の厚
みを0.2 mm〜0.05mmと薄くしたスタンパー
により行なうとよい [実施例コ 以下、実施例により本発明をさらに説明する。
ーラーグルービング法等、通常の方法に従い行なえばよ
い。特に、ローラーグルービング法においては、スタン
パ−を曲げてロール七に装着する為電鋳後の金属体の厚
みを0.2 mm〜0.05mmと薄くしたスタンパー
により行なうとよい [実施例コ 以下、実施例により本発明をさらに説明する。
実施例1
(第1工程)
フロートによる青板ガラス基板にCr薄膜を約3000
人魚着し、フォトレジストを膜厚1000人形成した。
人魚着し、フォトレジストを膜厚1000人形成した。
さらにそのトに、フォトマスクを密着させて配置しフォ
トマスク上から数秒間露光し現像した後、ウェットエツ
チングによりC「薄膜をパターニングして所定の凹凸パ
ターンを形成しガラス原盤を得た。尚、フォトレジスト
は、ヘキストジャバン13005F−4,6cp 、露
光装置は、キャノンPLA 600FA (光源:5
00W高圧水銀灯λ=290r+m)を用いた。
トマスク上から数秒間露光し現像した後、ウェットエツ
チングによりC「薄膜をパターニングして所定の凹凸パ
ターンを形成しガラス原盤を得た。尚、フォトレジスト
は、ヘキストジャバン13005F−4,6cp 、露
光装置は、キャノンPLA 600FA (光源:5
00W高圧水銀灯λ=290r+m)を用いた。
(第2工程)
次に、このガラス原盤上に2PPI4脂をボッティング
し、上からカップリング材11MO5を塗布した青板ガ
ラスを重ねその上からUV照射を行なった。この青板ガ
ラスを22樹脂と共にガラス原盤よりはくすし、スタン
パ−原盤を得た。尚、Uvクランプ、4kW高圧水銀灯
を高さ15cmに配置し、その下を0.5m/secで
通過させることにより行なった。
し、上からカップリング材11MO5を塗布した青板ガ
ラスを重ねその上からUV照射を行なった。この青板ガ
ラスを22樹脂と共にガラス原盤よりはくすし、スタン
パ−原盤を得た。尚、Uvクランプ、4kW高圧水銀灯
を高さ15cmに配置し、その下を0.5m/secで
通過させることにより行なった。
(第3工程)
次に、得られたスタンパ−原盤にNi電鋳処理を施した
。
。
以上の操作を行なった結果、1枚のガラス原盤より50
枚以上洗浄なしで22成形が可能であり、洗浄を行なえ
ばさらに2P成形が可能となる為、1枚のフォトマスク
より10枚のガラス原盤を作成すれば、ガラス原盤の洗
浄なしで500枚の樹脂型がとれ500枚のスタンパ−
が形成可能であった。
枚以上洗浄なしで22成形が可能であり、洗浄を行なえ
ばさらに2P成形が可能となる為、1枚のフォトマスク
より10枚のガラス原盤を作成すれば、ガラス原盤の洗
浄なしで500枚の樹脂型がとれ500枚のスタンパ−
が形成可能であった。
実施例2
第2の実施例は、ガラス原盤として、30cm口のフォ
トマスク用基板に(r膜を3000人蒸着人蒸l000
人のフォトレジストをスピンコードして、実施例1と同
様に露光現像エツチングして、30cm口のガラス原盤
を作成した。さらに実施例1と同様にして2P成形で、
30CII1口の樹脂型を成形し、その上にNiスパッ
タリングにより電鋳処理を行ない30cm口のスタンパ
ーを作成できた。
トマスク用基板に(r膜を3000人蒸着人蒸l000
人のフォトレジストをスピンコードして、実施例1と同
様に露光現像エツチングして、30cm口のガラス原盤
を作成した。さらに実施例1と同様にして2P成形で、
30CII1口の樹脂型を成形し、その上にNiスパッ
タリングにより電鋳処理を行ない30cm口のスタンパ
ーを作成できた。
この結果、上記第1工程〜第3工程の簡単な工程で30
c+n口内に、カードパターン12コ、ディスクパター
ンで9コのパターンが形成できた。すなわち、量産性が
いちじるしく向上したことがわかる。
c+n口内に、カードパターン12コ、ディスクパター
ンで9コのパターンが形成できた。すなわち、量産性が
いちじるしく向上したことがわかる。
[発明の効果]
以上説明したように、従来は、ガラス原盤(すなわち、
スタンパー原盤)の複製を露光により行なっていた九ス
テッキングの問題がさけられず複数のフォトマスクを用
意するかフォトマスクの洗浄を必要としていたが、本発
明ではスタンパー原盤に、ガラス原盤を使わずガラス原
盤より、2Pもしくはキャスティング等の樹脂型をとり
スタンパ−原盤とすることで、歩留りを著しく向上させ
ることができる。
スタンパー原盤)の複製を露光により行なっていた九ス
テッキングの問題がさけられず複数のフォトマスクを用
意するかフォトマスクの洗浄を必要としていたが、本発
明ではスタンパー原盤に、ガラス原盤を使わずガラス原
盤より、2Pもしくはキャスティング等の樹脂型をとり
スタンパ−原盤とすることで、歩留りを著しく向上させ
ることができる。
またスタンパー原盤となる、ガラス基板の表面精度規準
も、ゆるくてよい為安価に製造できる。
も、ゆるくてよい為安価に製造できる。
さらに、従来の密着露光では、大判化しての量産がむず
かしいが、樹脂型を用いることによりそれが可能となる
。
かしいが、樹脂型を用いることによりそれが可能となる
。
第1図は、本発明の詳細な説明する光記録媒体用基板製
造工程の一態様を示す概略図であり、第1工程〜第4工
程の順に行なうもの、第2図は、第1図の第1工程を説
明する概略図であり、(a)〜(d)の順に行なうもの
、第3図は、第1図の第2工程を説明する概略図であり
(a)〜(C)の順に行なうもの、第4図は従来例に
よる光記録媒体用基板製造工程を示す概略図であり、
(a)〜(d)の順に行なうものを示す。 1・・・フォトマスク 2・・・ガラス原盤3・・
・樹脂型(スタンパー原盤) 4・・・スタンパ−5・・・基板 6・・・レジスト 8・・・ガラス基板 10・・・透明補材 12−・・金属薄膜層 13・・・ガラス原盤 7・・・メタル層 9・・−2P樹脂 11・・・電鋳層 (スタンパー原盤)
造工程の一態様を示す概略図であり、第1工程〜第4工
程の順に行なうもの、第2図は、第1図の第1工程を説
明する概略図であり、(a)〜(d)の順に行なうもの
、第3図は、第1図の第2工程を説明する概略図であり
(a)〜(C)の順に行なうもの、第4図は従来例に
よる光記録媒体用基板製造工程を示す概略図であり、
(a)〜(d)の順に行なうものを示す。 1・・・フォトマスク 2・・・ガラス原盤3・・
・樹脂型(スタンパー原盤) 4・・・スタンパ−5・・・基板 6・・・レジスト 8・・・ガラス基板 10・・・透明補材 12−・・金属薄膜層 13・・・ガラス原盤 7・・・メタル層 9・・−2P樹脂 11・・・電鋳層 (スタンパー原盤)
Claims (2)
- (1)所望のパターンを有するフォトマスクを用いて、
ガラス基板上に設けられているフォトレジスト層をパタ
ーニングし、さらにエッチングを施すことによりガラス
原盤を作成する工程(第1工程)、該ガラス原盤の樹脂
型をとってスタンパー原盤を得る工程(第2工程)、及
び該スタンパー原盤上に電鋳処理により金属スタンパー
を形成後剥離する工程(第3工程)から少なくとも成る
光記録媒体用スタンパーの製造方法。 - (2)前記第1工程において、フォトレジスト層の下層
として、所望のグループパターンの溝深さと同じ膜厚の
メタル層を有するガラス基板を用いて、ガラス原盤を作
成する請求項(1)に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29392689A JPH03156747A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 光情報記録媒体用スタンパーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29392689A JPH03156747A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 光情報記録媒体用スタンパーの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03156747A true JPH03156747A (ja) | 1991-07-04 |
Family
ID=17800952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29392689A Pending JPH03156747A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 光情報記録媒体用スタンパーの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03156747A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006129633A1 (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-07 | Alps Electric Co., Ltd. | 金型の製造方法及びそれにより得られた成型品 |
KR100867851B1 (ko) * | 2004-04-14 | 2008-11-10 | 닛폰 휘루콘 가부시키가이샤 | 수지제 마이크로 화학 칩의 제조방법 |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP29392689A patent/JPH03156747A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100867851B1 (ko) * | 2004-04-14 | 2008-11-10 | 닛폰 휘루콘 가부시키가이샤 | 수지제 마이크로 화학 칩의 제조방법 |
WO2006129633A1 (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-07 | Alps Electric Co., Ltd. | 金型の製造方法及びそれにより得られた成型品 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3006199B2 (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
US5663016A (en) | All-polymeric phase shift masks | |
CA1039999A (en) | Method of creating a replicating matrix and the matrix created thereby | |
JPH01196749A (ja) | 光情報記録媒体用基板の製造方法 | |
US5389313A (en) | Method of producing a molding die for an information recording medium | |
JPH07235075A (ja) | 光ヘッド用回折格子とその作製方法 | |
US20030209819A1 (en) | Process for making micro-optical elements from a gray scale etched master mold | |
JPH03156747A (ja) | 光情報記録媒体用スタンパーの製造方法 | |
ATE435487T1 (de) | Verfahren zur herstellung eines prägestempels für optische informationsmedien, originalplatte eines solchen prägestempels | |
JPS59214623A (ja) | プラスチック成形用鋳型の製造方法 | |
JPH0337842A (ja) | 情報記録媒体用スタンパーの製造方法 | |
EP1496510A1 (en) | Stamper original and its manufacturing method, stamper and its manufacturing method, and optical disk | |
JPH06119661A (ja) | スタンパー及びスタンパーの製造方法 | |
JPH02134743A (ja) | 光ディスク用スタンパーの複製方法 | |
JPS6055534A (ja) | 光学記録媒体の製造方法 | |
JPS63275053A (ja) | スタンパ−の製造方法 | |
JPS6262450A (ja) | スタンパの製法 | |
JP3367985B2 (ja) | レリーフパターンの複製方法 | |
JPH0469296A (ja) | 光カード基板の製造方法 | |
JPH07153122A (ja) | マーカー付案内溝作製方法 | |
JPS63181141A (ja) | 光学的記録媒体の製造方法 | |
JPH01320136A (ja) | パターン複製方法 | |
JPH11339323A (ja) | 光記録媒体用原盤の製造方法 | |
JPS63313332A (ja) | 光ディスク基板の製造法 | |
JP2003067985A (ja) | 光ディスク用成形金型及びそれによる光ディスク |