JPH03156747A - Production of stamper for optical information recording medium - Google Patents
Production of stamper for optical information recording mediumInfo
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Landscapes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光カード、光ディスク等の情報を記録、再生
する情報記録媒体を複製するための光情報記録媒体用ス
タンパ−の製造方法に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a stamper for optical information recording media for duplicating information recording media such as optical cards and optical discs for recording and reproducing information. It is.
［従来の技術］
従来、情報記録媒体用スタンパ−は、通常、公開特許公
報６２−２１７４４２やオブトロニクス（１９８８）Ｎ
ｏＳ光ディスクスタンパーの製作技術に記載されている
ような技術により製造されている。[Prior Art] Conventionally, stampers for information recording media are usually disclosed in Japanese Patent Publication No. 62-217442 and Obtronics (1988) N.
It is manufactured using the technology described in the technology for manufacturing an oS optical disk stamper.
すなわち、ビデオディスク、コンパクトディスク等の情
報記録面にトラッキング用溝及び情報用ビット等のグル
ープが形成されている情報記録媒体を得るために、例え
ば情報記録方式に応じた微細パターンか刻設されたスタ
ンパ−を用いて、■情報記録媒体用基板の材料が可塑性
樹脂からなる場合には、インジェクション法、コンプレ
ッション法、又はローラー・グループ成形法、■光硬化
性樹脂組成物を硬化させて、情報記録媒体用スタンパー
のレプリカを遣明樹脂板に転写するいわゆる２Ｐ（フォ
ト・ポリマー）法、■樹脂のモノマー又は溶剤を含んだ
プレポリマーを用いる注型成形法、等で情報記録媒体用
基板を製作している。That is, in order to obtain an information recording medium in which groups of tracking grooves and information bits are formed on the information recording surface of a video disc, compact disc, etc., a fine pattern is engraved according to the information recording method. Using a stamper, if the material of the substrate for the information recording medium is made of plastic resin, use the injection method, compression method, or roller group molding method, or ■ harden the photocurable resin composition to record the information. Substrates for information recording media are manufactured using the so-called 2P (photopolymer) method, in which a replica of a media stamper is transferred onto a resin board, and the cast molding method, which uses a prepolymer containing resin monomer or solvent. ing.
上記方法に用いられる情報記録媒体用スタンパ−は次の
ような工程を経て製造される。The information recording medium stamper used in the above method is manufactured through the following steps.
まずガラス基板にフォトレジストを塗布したのちレーザ
ー光で所定のパターンを描き、次いでエツチング等の方
法によりフォトレジストがポジ型の場合には感光部分を
除去、ネガ型の場合には非感光部分を除去する。これに
より所定の凹凸パターンを有するガラス原盤を得る。次
に、この上にスパッタリング等によりＮｉなどの金属薄
膜を形成して表面を導電化し、次いで電鋳して所定の厚
さの金属体を被着し、しかる後、上記凹凸パターンを有
するガラス原盤を剥離することにより、ガラス原盤上に
形成された凹凸パターンと全く逆の凹凸パターンを有す
る金属性スタンパ−を得るというものである。First, a photoresist is applied to a glass substrate, a predetermined pattern is drawn with a laser beam, and then the exposed areas are removed using methods such as etching, if the photoresist is positive type, and the non-exposed areas are removed if it is negative type. do. As a result, a glass master having a predetermined uneven pattern is obtained. Next, a thin metal film such as Ni is formed on this by sputtering or the like to make the surface conductive, and then a metal body of a predetermined thickness is deposited by electroforming, and then a glass master having the above-mentioned uneven pattern is formed. By peeling off the glass, a metal stamper having a concavo-convex pattern completely opposite to that formed on the glass master disk is obtained.
このようにして得られた金属性スタンパーは比較的型耐
久性に優れたものであるが、射出成形に用いた場合など
、およそ５０００シヨツトで寿命となる。またスタンパ
ーの取扱いの際にキズがついたり洗浄の際に洗浄シミが
ついたりして使用できなくなるケースも多い。従って大
量生産を行なう場合、又、−度に多数枚のスタンパーを
使用する場合などスタンパーな何枚も複製する必要があ
る。The metal stamper thus obtained has relatively excellent mold durability, but when used for injection molding, etc., its life span is approximately 5,000 shots. In addition, there are many cases where stampers become unusable due to scratches during handling or cleaning stains during cleaning. Therefore, when carrying out mass production, or when using a large number of stampers at a time, it is necessary to duplicate many stampers.
スタンパーを複製する場合、本来ならば基率となるスク
ンバーから樹脂型を取り、この樹脂型を母型として複製
すればよいのであるが、実際にはエラーレートの上昇な
どの理由により非常に困難であり、従って、一般にスタ
ンパーの複製は一枚毎、前記製造過程を繰り返すことに
より製造されている。Normally, when replicating a stamper, you would take a resin mold from the base material, Sukumber, and use this resin mold as the mother mold, but in reality, this is extremely difficult due to the increased error rate. Therefore, stamper copies are generally manufactured by repeating the manufacturing process for each stamper.
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら通常、光記録媒体の溝パターンは溝幅０．
６〜８μｍ、ピッチ１．６〜１２＋ｕｍ、深さ０．０７
〜０．３μｍでディスク径は３．５インチないし５．２
５インチであり、従来のようにレーザー光線でこのパタ
ーンを描くと、１枚毎に約２０〜３０分程の時間を要し
、生産性が良くないという問題があった。そこで、例え
ばガラス原盤の製造法としては、特開昭６２−１８７１
４３に示されるようにマスクを用いて密＠露光により瞬
間的にグループパターンを形成し、ガラス基板をエツチ
ングすることによりグループ付きのガラス原盤を作成す
る方法が提案されているが、これは、露光、現象後にガ
ラス露出部をエツチングし、そのガラス基板自体を光デ
イスク用基板として用いるというものであり、従来のガ
ラス基板の製造法に比べ生産性にすぐれているというメ
リットがあるものの、スタンパーを用いて射出成形法な
どによってプラスチック原盤を製造する方法に比べると
、生産性の点においては不充分なものであった。[Problems to be Solved by the Invention] However, normally, the groove pattern of an optical recording medium has a groove width of 0.
6-8μm, pitch 1.6-12+um, depth 0.07
~0.3 μm and disk diameter is 3.5 inches to 5.2 inches
5 inches, and if this pattern were drawn with a laser beam as in the past, it would take about 20 to 30 minutes for each sheet, which caused the problem of poor productivity. Therefore, for example, as a method for manufacturing glass master discs, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-1871
43, a method has been proposed in which a group pattern is instantaneously formed by dense @ exposure using a mask, and a glass master with groups is created by etching the glass substrate. After the phenomenon occurs, the exposed portion of the glass is etched, and the glass substrate itself is used as a substrate for optical disks.Although it has the advantage of superior productivity compared to conventional glass substrate manufacturing methods, it is not possible to use a stamper. Compared to methods of manufacturing plastic master discs by injection molding or the like, this method was insufficient in terms of productivity.
さらに、近年ではガラス基板を１枚１枚レーザーカッテ
ィングマシンにより、露光するかわりに、第４図に示す
ように、ガラス基板上に設けたフォトレジストの上に、
フォトマスクをコンタクト又はプロキシミティの方法で
配置し、該フォトマスクを介して紫外光または遠紫外光
を用いて露光を行なう（第４図（ａ））ことによりフォ
トマスクのグループパターンをガラス基板上に転写し、
フォトレジストを現像して凹凸パターンを作りエツチン
グすることにより得られた基板（同（ｂ））をガラス原
盤としてこの上に電鋳して、スタンパーを作成する（同
（Ｃ））方法が提案されている。Furthermore, in recent years, instead of exposing glass substrates one by one using a laser cutting machine, as shown in Figure 4,
A group pattern of the photomask is formed on a glass substrate by arranging a photomask using a contact or proximity method and exposing the photomask to ultraviolet light or deep ultraviolet light (Fig. 4(a)). transcribed into
A method has been proposed in which a stamper is created by electroforming a substrate ((b)) obtained by developing a photoresist to form a concavo-convex pattern and etching it as a glass master ((c)). ing.
しかしながら、この方法ではスタンパーの数だけスタン
パー原盤となる、ガラス原盤を作成しなくてはならず、
サブミクロンオーダーのパターンを焼き付ける為にフォ
トマスクを基板にコンタクトさせて露光する場合、ステ
ッキングにより、欠陥の発生が多発し、マスク洗浄工程
が頻ばんに必要となる為、やはり、生産性の向上が見込
めないのが実状であった。However, with this method, it is necessary to create as many glass masters as stamper masters for the number of stampers.
When exposing a photomask in contact with a substrate in order to print submicron-order patterns, sticking often causes defects and requires frequent mask cleaning processes, so productivity is improved. The reality was that there was no hope for this.
また、ガラス原盤として、表面精度の良好なガラス基板
が必要になり、原盤のコストも一卜昇してしまうという
欠点があった。In addition, a glass substrate with good surface precision is required as the glass master, which has the drawback of increasing the cost of the master.
本発明は、上記従来技術の問題点である生産性の低さに
鑑みなされものであり、光記録媒体用スタンパ−の複製
方法において新規なスタンパー原盤作製工程により生産
性良く複製することを可能とする前記複製方法を提供し
ようとするものである。The present invention has been made in view of the low productivity that is a problem with the conventional technology, and makes it possible to perform duplication with high productivity through a novel stamper master production process in a method for duplicating stampers for optical recording media. The purpose of the present invention is to provide the above-mentioned replication method.
［課題を解決するための手段］
本発明は、所望のパターンを有するフォトマスクを用い
て、ガラス基板上に設けられているフォトレジスト層を
パターニングし、さらにエラチンを施すことによりガラ
ス原盤を作成する工程（第１工程）、該ガラス原盤の樹
脂型をとってスタンパー原盤を得る工程（第２工程）、
及び該スタンパ−原盤上に電鋳処理により金属スタンパ
−を形成後剥離する工程（第３工程）から少なくとも成
る光記録媒体用スタンパーの製造方法であり、本発明に
よれば、生産性よく、スタンパーを複製することが可能
となる。[Means for Solving the Problems] The present invention creates a glass master by patterning a photoresist layer provided on a glass substrate using a photomask having a desired pattern, and further applying eratin. a step (first step), a step of taking a resin mold of the glass master to obtain a stamper master (second step);
and a step of forming a metal stamper on the stamper master by electroforming and then peeling it off (third step).According to the present invention, the stamper can be manufactured with high productivity. It becomes possible to copy.
すなわち、本発明は従来技術の問題であった、ガラス原
盤をスタンパーとして基板成形に用いることによる強度
、作業性、歩留りの低さ及びガラス原盤より電鋳をして
スタンパーを作成することから、Ｒ盤１枚につき、スタ
ンパーが１枚しか作成されずスタンパーのｆｆｉ産性、
歩留りが低い、等の問題を解決するものである。That is, the present invention solves the problems of the prior art, which are low strength, workability, and yield due to the use of a glass master as a stamper for substrate molding, and the fact that the stamper is created by electroforming from the glass master. Only one stamper is created for each board, and the stamper's ffi productivity is
This solves problems such as low yield.
以下、本発明を図面を参照して説明する。Hereinafter, the present invention will be explained with reference to the drawings.
第１図は、本発明の詳細な説明する光記録媒体用基板製
造工程の一態様を示す概略図である。本図の工程では大
きく分けて４つの工程から成り、すなわち、第１工程は
フォトマスクを用いてガラス原盤を作成する工程、第２
工程はガラス原盤より樹脂型を作成する工程、第３工程
は樹脂型に電鋳してメタルスタンパ−を作成する工程、
第４工程は該スタンパーより押し出し成形法、コンプレ
ッション法等により、光記録媒体用基板を形成する工程
、である。FIG. 1 is a schematic diagram showing one aspect of the optical recording medium substrate manufacturing process to explain the present invention in detail. The process shown in this figure is roughly divided into four steps: the first step is to create a glass master using a photomask, and the second step is to create a glass master using a photomask.
The process is to create a resin mold from the glass master, the third step is to electroform the resin mold to create a metal stamper,
The fourth step is a step of forming an optical recording medium substrate from the stamper by extrusion molding, compression molding, or the like.
樹脂型をとる為のガラス原盤の作成を行なう第１工程に
おいては、レーザーカッティング等によるレジストパタ
ーン形成を行なわず、フォトマスクによりレジストを露
光しパターン形成を行なうため、すなわち、フォトリソ
グラフィー技術によりパターンが形成されるため、精度
が高く、歩留りも向上させることができる。In the first step of creating a glass master disk for making a resin mold, the resist pattern is not formed by laser cutting or the like, but the pattern is formed by exposing the resist to light using a photomask. In other words, the pattern is formed by photolithography technology. Since it is formed, the precision is high and the yield can also be improved.
又ガラス原盤により樹脂型を作成する第２工程において
は、１枚のガラス原盤から多数枚の樹脂型をスタンパー
原盤として作成できるため量産性を著しく向上させるこ
とができる。この結果、電鋳スタンパ−（金属スタンパ
ー）を第３工程により容易に、精度及び歩留り良く、惜
産可能となる。Furthermore, in the second step of creating a resin mold using a glass master, a large number of resin molds can be created from a single glass master as a stamper master, so that mass productivity can be significantly improved. As a result, the electroforming stamper (metal stamper) can be produced easily in the third step with good precision and yield.
従来技術におけるスタンパー複製技術では、基準スタン
パ−から樹脂型をとり、これを母型として複数のスタン
パーを複製していたため、エラーレートが上昇し、実用
上問題があったが、本発明においては、基準スタンパー
の複製という手段ではなく、スタンパーを形成するため
のスタンパー原盤を、フォトリソグラフィー技術により
精度良くパターン形成されたガラス原盤から多数枚作成
し、１つのスタンパー原盤からは１つのスタンパーを作
成するためエラーレートの上昇等の問題もない。In the conventional stamper duplication technology, a resin mold is taken from a reference stamper and a plurality of stampers are duplicated using this as a mother mold, which increases the error rate and poses a practical problem.However, in the present invention, Rather than duplicating a reference stamper, we create a large number of stamper masters for forming stampers from glass masters that have been precisely patterned using photolithography technology, and one stamper is created from one stamper master. There are no problems such as an increase in error rate.
第２図は、石英フォトマスクからＡＳ材ガラス原盤を作
成する場合の前記第１図の第１工程をよりくわしく説明
した一例であり、１はフォトマスク、２はガラス原盤で
６はフォトレジスト、７はメタル層、８はガラス基板、
である。FIG. 2 is an example explaining in more detail the first step shown in FIG. 1 in the case of creating an AS material glass master from a quartz photomask, in which 1 is a photomask, 2 is a glass master, 6 is a photoresist, 7 is a metal layer, 8 is a glass substrate,
It is.
まず、ＡＳ材のガラス基板８（青板ガラス）上にメタル
層７をスパッタリング法、蒸着法等により形成しこれに
、フォトレジスト６をスピンコード等により塗布する（
第２図（ｂ））。フォトマスク１（同（ａ））を用いて
、コンタクトあるいはプロキシミティ等の方法によりレ
ジスト６に所望のパターンを焼き付け、現像しく同（Ｃ
））、このレジストパターンに沿ってメタル層７をドラ
イまたはウェットでエツチングすることによりガラス原
盤２が得られる（同（ｄ））。First, a metal layer 7 is formed on a glass substrate 8 (blue plate glass) made of AS material by a sputtering method, a vapor deposition method, etc., and a photoresist 6 is applied thereto by a spin code or the like (
Figure 2(b)). Using the photomask 1 (same (a)), a desired pattern is printed on the resist 6 by a method such as contact or proximity, and the same (C
)) By dry or wet etching the metal layer 7 along this resist pattern, a glass master disk 2 is obtained ((d)).
また上記工程においてメタル層なしで直接ガラス基板を
エツチングすることによっても同じ機能のガラス原盤が
得られる。A glass master having the same function can also be obtained by directly etching a glass substrate without a metal layer in the above process.
本発明においてガラス基板上に設ける感光性膜（フォト
レジスト）としてはポジ型感光性膜であるキノンジアジ
ド系フォトレジスト等、又ネガ型感光性膜であるポリケ
イ皮酸系フォトレジスト、アジド−ゴム系フォトレジス
ト等紫外光または遠紫外光に感光する一般に用いられる
フォトレジスト膜であり、膜厚は５００〜５０００人程
度である。In the present invention, the photosensitive film (photoresist) provided on the glass substrate includes positive type photosensitive film such as quinonediazide photoresist, negative type photosensitive film such as polycinnamate photoresist, azide-rubber type photoresist, etc. This is a commonly used photoresist film that is sensitive to ultraviolet light or deep ultraviolet light, such as a resist, and has a film thickness of about 500 to 5,000.
次にフォトマスクは、前記感光性膜を設けたガラス基板
−ヒにコンタクト或いはプロキシミディの方法により配
置されるが、該フォトマスクは次のように作成すること
ができる。すなわち、ガラス、石英等のマスク基板にＣ
ｒ等の薄膜をスパッタリング法等で付着させ、この上に
さらに上記のような一般に用いられているフォトレジス
トを塗布したのち、レーザー光でパターンを描き、次い
でエツチングを行ない、さらに前記薄膜露出部分をエツ
チングした後、フォトレジストを除去すれば該薄膜によ
るフォトマスクを作成することができる。Next, a photomask is placed on the glass substrate provided with the photosensitive film by a contact or proxy method, and the photomask can be prepared as follows. In other words, C is applied to a mask substrate made of glass, quartz, etc.
A thin film such as R is deposited by a sputtering method or the like, and a commonly used photoresist such as the one described above is applied on top of this, a pattern is drawn with a laser beam, and then etching is performed, and the exposed portion of the thin film is then etched. After etching, by removing the photoresist, a photomask can be created using the thin film.
本発明において形成する凹凸パターンは、ミクロン〜サ
ブミクロンオーダーの微細パターンである。そのため、
コンタクト法により行なう場合には、フォトマスクとフ
ォトレジストとの間に空気が入りこまないように注意す
る必要がある。そこで、例えば、フォトマスクの両端を
しならせた状態でフォトレジスト面に近づけ、マスクの
中央がレジスト面と接触した後、徐々にマスクの両端の
方向へとマスクを重ね合せていく方法により行なうのが
良い。また、プロキシミティ法により行なう場合には、
フォトマスクとフォトレジスト間のギャップを５μｍ以
下、より好ましくは１μｍ以下とする。マスクとレジス
ト間のギャップが５μｍを越える場合には、光のまわり
こみによりパターンのエツジが乱れ、そのようなスタン
パ−を用いて作成した記録媒体はトラッキングのかから
ないものとなる。The uneven pattern formed in the present invention is a fine pattern on the order of microns to submicrons. Therefore,
When using the contact method, care must be taken to prevent air from entering between the photomask and the photoresist. Therefore, for example, a method is used in which both ends of the photomask are bent close to the photoresist surface, and after the center of the mask comes into contact with the resist surface, the masks are gradually overlapped in the direction of both ends of the mask. It's good. In addition, when using the proximity method,
The gap between the photomask and the photoresist is set to 5 μm or less, more preferably 1 μm or less. If the gap between the mask and the resist exceeds 5 .mu.m, the edges of the pattern will be disturbed due to the reflection of light, and a recording medium produced using such a stamper will not be tracked.
以ヒのようにして得られる構成によれば紫外光または遠
紫外光を用いて数秒間で露光を完了することができる。According to the configuration obtained as described below, exposure can be completed in several seconds using ultraviolet light or far ultraviolet light.
次に、常法により露光されたフォトレジストを現像して
パターニングし、ドライまたはウェットにより、メタル
層を選択的にエツチングするが、メタル層はガラスと選
択エツチングが可能で、フォトレジストに対しエッチレ
ートの高い材料から成るものほど良く、一般にはクロム
膜が用いられる。Next, the exposed photoresist is developed and patterned using a conventional method, and the metal layer is selectively etched by dry or wet etching. The material with the highest value is better, and chromium film is generally used.
尚、該メタル層の厚みは好ましくは所望のグループパタ
ーンの溝深さと同じ膜厚とするとよい。The thickness of the metal layer is preferably the same as the groove depth of the desired group pattern.
次に、メタル層をグループパターンの溝深さと同じ深さ
になるまでエツチングすれば、ガラス原盤が作成される
。Next, a glass master is created by etching the metal layer to the same depth as the groove depth of the group pattern.
次にガラス原盤より樹脂型を形成する萌記第１図の第２
工程を第３図より説明する。Next, a resin mold is formed from the glass master disk.
The process will be explained with reference to FIG.
本工程は、２Ｐ樹脂を用い２Ｐ樹脂型を作成する方法、
あるいは、アクリル樹脂等を用いたキャスティング法等
公知技術に基づいて行ないつるが、第３図では２２法に
よるものを示している。This process includes a method of creating a 2P resin mold using 2P resin,
Alternatively, the casting may be carried out based on a known technique such as a casting method using an acrylic resin or the like, and FIG. 3 shows a method using the 22 method.
すなわち、第２図で得られたガラス原盤２上に２２樹脂
を滴下しく同図（ａ））、この上から透明な補材１０を
重ね合わせて（同（ｂ））、該補材側よりＵＶ光を照射
することにより２Ｐ樹脂を硬化させ５ガラス原盤の凹凸
パターンを転写し、２Ｐ樹脂を透明補材と密着させてガ
ラス原盤よりはく雛して樹脂型３を作成する（同（Ｃ）
）。上記透明補材としては、一般にガラス基板が多く用
いられ、ガラス基板と２２樹脂の密着をよくする為にシ
ランカップリング剤で処理されるとよい。That is, 22 resin is dropped onto the glass master 2 obtained in Fig. 2 (a)), a transparent auxiliary material 10 is placed on top of this (b), and the auxiliary material side is The 2P resin is cured by irradiation with UV light, the uneven pattern of the glass master disk 5 is transferred, and the 2P resin is brought into close contact with a transparent auxiliary material and peeled from the glass master disk to create resin mold 3 (same (C) )
). Generally, a glass substrate is often used as the transparent auxiliary material, and it is preferably treated with a silane coupling agent to improve the adhesion between the glass substrate and the 22 resin.
上記第２工程の他の方法としてはアクリル樹脂等を用い
キャスティング法により形成する方法がある。Another method for the second step is to use an acrylic resin or the like and use a casting method.
面記第１図の第３工程では、樹脂型３上に金属薄膜層１
２を形成し、その七に電鋳層１１を形成する。一般に金
属薄膜層１２としては、Ｎｉスパッタ層が用いられ、電
鋳層１１には、Ｎｉ電鋳層等が用いられる。しかる後に
金属体（金属薄膜層及び電鋳層）を樹脂型よりはくすし
てスタンパーを作成し、これを用いて第４工程でガラス
基板成形を行なえばよい。In the third step shown in FIG.
2 is formed, and the electroformed layer 11 is formed on the 7th layer. Generally, a Ni sputtered layer is used as the metal thin film layer 12, and a Ni electroformed layer or the like is used as the electroformed layer 11. Thereafter, the metal body (metal thin film layer and electroformed layer) is removed from the resin mold to create a stamper, and this is used to mold the glass substrate in the fourth step.
基板成形法としては、コンプレッション法、２２法、ロ
ーラーグルービング法等、通常の方法に従い行なえばよ
い。特に、ローラーグルービング法においては、スタン
パ−を曲げてロール七に装着する為電鋳後の金属体の厚
みを０．２ ｍｍ〜０．０５ｍｍと薄くしたスタンパー
により行なうとよい
［実施例コ
以下、実施例により本発明をさらに説明する。The substrate may be formed by a conventional method such as a compression method, a 22 method, or a roller grooving method. In particular, in the roller grooving method, since the stamper is bent and attached to the roll 7, it is preferable to use a stamper that reduces the thickness of the metal body after electroforming to 0.2 mm to 0.05 mm. The invention will be further illustrated by examples.
実施例１
（第１工程）
フロートによる青板ガラス基板にＣｒ薄膜を約３０００
人魚着し、フォトレジストを膜厚１０００人形成した。Example 1 (First step) A thin Cr film of about 3000 ml was deposited on a blue plate glass substrate using a float.
I put on a mermaid costume and formed a photoresist film with a thickness of 1,000 mermaids.
さらにそのトに、フォトマスクを密着させて配置しフォ
トマスク上から数秒間露光し現像した後、ウェットエツ
チングによりＣ「薄膜をパターニングして所定の凹凸パ
ターンを形成しガラス原盤を得た。尚、フォトレジスト
は、ヘキストジャバン１３００５Ｆ−４，６ｃｐ 、露
光装置は、キャノンＰＬＡ ６００ＦＡ （光源：５
００Ｗ高圧水銀灯λ＝２９０ｒ＋ｍ）を用いた。Furthermore, a photomask was placed in close contact with the photomask, and the photomask was exposed to light for several seconds and developed, and then the C thin film was patterned by wet etching to form a predetermined concavo-convex pattern to obtain a glass master. The photoresist was Hoechst Javan 13005F-4,6cp, and the exposure device was Canon PLA 600FA (light source: 5
A 00W high-pressure mercury lamp (λ=290r+m) was used.
（第２工程）
次に、このガラス原盤上に２ＰＰＩ４脂をボッティング
し、上からカップリング材１１ＭＯ５を塗布した青板ガ
ラスを重ねその上からＵＶ照射を行なった。この青板ガ
ラスを２２樹脂と共にガラス原盤よりはくすし、スタン
パ−原盤を得た。尚、Ｕｖクランプ、４ｋＷ高圧水銀灯
を高さ１５ｃｍに配置し、その下を０．５ｍ／ｓｅｃで
通過させることにより行なった。(Second Step) Next, 2PPI4 resin was potted onto this glass master disk, and a blue plate glass coated with the coupling material 11MO5 was layered on top, and UV irradiation was performed from above. This blue plate glass was removed from the glass master together with 22 resin to obtain a stamper master. Incidentally, a UV clamp and a 4kW high-pressure mercury lamp were placed at a height of 15 cm, and the test was carried out by passing under them at a rate of 0.5 m/sec.
（第３工程）
次に、得られたスタンパ−原盤にＮｉ電鋳処理を施した
。(Third Step) Next, the obtained stamper master was subjected to Ni electroforming treatment.
以上の操作を行なった結果、１枚のガラス原盤より５０
枚以上洗浄なしで２２成形が可能であり、洗浄を行なえ
ばさらに２Ｐ成形が可能となる為、１枚のフォトマスク
より１０枚のガラス原盤を作成すれば、ガラス原盤の洗
浄なしで５００枚の樹脂型がとれ５００枚のスタンパ−
が形成可能であった。As a result of the above operations, 50
It is possible to mold 22 sheets or more without cleaning, and if cleaning is performed, further 2P molding is possible, so if 10 glass masters are created from one photomask, 500 glass masters can be molded without cleaning the glass master. 500 stampers with resin molds
could be formed.
実施例２
第２の実施例は、ガラス原盤として、３０ｃｍ口のフォ
トマスク用基板に（ｒ膜を３０００人蒸着人蒸ｌ０００
人のフォトレジストをスピンコードして、実施例１と同
様に露光現像エツチングして、３０ｃｍ口のガラス原盤
を作成した。さらに実施例１と同様にして２Ｐ成形で、
３０ＣＩＩ１口の樹脂型を成形し、その上にＮｉスパッ
タリングにより電鋳処理を行ない３０ｃｍ口のスタンパ
ーを作成できた。Example 2 In the second example, an R film was deposited on a photomask substrate with a 30 cm opening as a glass master using 3,000 evaporators and 1,000 evaporators.
A human photoresist was spin-coded and subjected to exposure, development, and etching in the same manner as in Example 1 to create a glass master with a 30 cm opening. Furthermore, in the same manner as in Example 1, 2P molding was performed,
A 30CII resin mold with one opening was molded, and electroforming was performed on the mold by Ni sputtering, thereby creating a stamper with a 30 cm opening.
この結果、上記第１工程〜第３工程の簡単な工程で３０
ｃ＋ｎ口内に、カードパターン１２コ、ディスクパター
ンで９コのパターンが形成できた。すなわち、量産性が
いちじるしく向上したことがわかる。As a result, in the simple steps 1 to 3 above, 30
Twelve card patterns and nine disk patterns were formed in the c+n opening. In other words, it can be seen that mass productivity has been significantly improved.
［発明の効果］
以上説明したように、従来は、ガラス原盤（すなわち、
スタンパー原盤）の複製を露光により行なっていた九ス
テッキングの問題がさけられず複数のフォトマスクを用
意するかフォトマスクの洗浄を必要としていたが、本発
明ではスタンパー原盤に、ガラス原盤を使わずガラス原
盤より、２Ｐもしくはキャスティング等の樹脂型をとり
スタンパ−原盤とすることで、歩留りを著しく向上させ
ることができる。[Effect of the invention] As explained above, conventionally, a glass master (i.e.
When duplicating a stamper master (stamper master) by exposure, the problem of sticking was unavoidable, requiring the preparation of multiple photomasks or the cleaning of the photomasks.However, in the present invention, a glass master is not used as the stamper master. By making a resin mold such as 2P or casting from a glass master and using it as a stamper master, the yield can be significantly improved.
またスタンパー原盤となる、ガラス基板の表面精度規準
も、ゆるくてよい為安価に製造できる。In addition, the surface accuracy standards for the glass substrate, which is the stamper master, may be lenient, so it can be manufactured at low cost.
さらに、従来の密着露光では、大判化しての量産がむず
かしいが、樹脂型を用いることによりそれが可能となる
。Furthermore, with conventional contact exposure, it is difficult to mass-produce large formats, but this becomes possible by using a resin mold.
第１図は、本発明の詳細な説明する光記録媒体用基板製
造工程の一態様を示す概略図であり、第１工程〜第４工
程の順に行なうもの、第２図は、第１図の第１工程を説
明する概略図であり、（ａ）〜（ｄ）の順に行なうもの
、第３図は、第１図の第２工程を説明する概略図であり
（ａ）〜（Ｃ）の順に行なうもの、第４図は従来例に
よる光記録媒体用基板製造工程を示す概略図であり、
（ａ）〜（ｄ）の順に行なうものを示す。
１・・・フォトマスク ２・・・ガラス原盤３・・
・樹脂型（スタンパー原盤）
４・・・スタンパ−５・・・基板
６・・・レジスト
８・・・ガラス基板
１０・・・透明補材
１２−・・金属薄膜層
１３・・・ガラス原盤
７・・・メタル層
９・・−２Ｐ樹脂
１１・・・電鋳層
（スタンパー原盤）FIG. 1 is a schematic diagram showing one aspect of the optical recording medium substrate manufacturing process to explain the present invention in detail, in which the first to fourth steps are performed in order, and FIG. FIG. 3 is a schematic diagram illustrating the first step, which is performed in the order of (a) to (d); FIG. 3 is a schematic diagram illustrating the second step in FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing a conventional process for manufacturing a substrate for an optical recording medium.
(a) to (d) are shown in order. 1... Photomask 2... Glass master 3...
- Resin mold (stamper master) 4... Stamper 5... Substrate 6... Resist 8... Glass substrate 10... Transparent supplementary material 12 - Metal thin film layer 13... Glass master 7 ...Metal layer 9...-2P resin 11...Electroformed layer (stamper master)
Claims (2)
ガラス基板上に設けられているフォトレジスト層をパタ
ーニングし、さらにエッチングを施すことによりガラス
原盤を作成する工程（第１工程）、該ガラス原盤の樹脂
型をとってスタンパー原盤を得る工程（第２工程）、及
び該スタンパー原盤上に電鋳処理により金属スタンパー
を形成後剥離する工程（第３工程）から少なくとも成る
光記録媒体用スタンパーの製造方法。(1) Using a photomask with a desired pattern,
A step of creating a glass master by patterning a photoresist layer provided on a glass substrate and further etching (first step), a step of making a resin mold of the glass master to obtain a stamper master (second step) A method for manufacturing a stamper for an optical recording medium, comprising at least the steps of forming a metal stamper on the stamper master by electroforming and then peeling it off (third step).
として、所望のグループパターンの溝深さと同じ膜厚の
メタル層を有するガラス基板を用いて、ガラス原盤を作
成する請求項（１）に記載の方法。(2) In the first step, a glass master is created using a glass substrate having a metal layer having the same film thickness as the groove depth of the desired group pattern as a lower layer of the photoresist layer. the method of.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29392689A JPH03156747A (en) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Production of stamper for optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29392689A JPH03156747A (en) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Production of stamper for optical information recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03156747A true JPH03156747A (en) | 1991-07-04 |
Family
ID=17800952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29392689A Pending JPH03156747A (en) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Production of stamper for optical information recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03156747A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006129633A1 (en) * | 2005-06-03 | 2006-12-07 | Alps Electric Co., Ltd. | Method for producing die and molding obtained by it |
| KR100867851B1 (en) * | 2004-04-14 | 2008-11-10 | 닛폰 휘루콘 가부시키가이샤 | A manufacturing process of microfluidics applied devices those are made of plastics |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP29392689A patent/JPH03156747A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100867851B1 (en) * | 2004-04-14 | 2008-11-10 | 닛폰 휘루콘 가부시키가이샤 | A manufacturing process of microfluidics applied devices those are made of plastics |
| WO2006129633A1 (en) * | 2005-06-03 | 2006-12-07 | Alps Electric Co., Ltd. | Method for producing die and molding obtained by it |
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