JPH03153662A - ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法 - Google Patents
ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法Info
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- JPH03153662A JPH03153662A JP29249789A JP29249789A JPH03153662A JP H03153662 A JPH03153662 A JP H03153662A JP 29249789 A JP29249789 A JP 29249789A JP 29249789 A JP29249789 A JP 29249789A JP H03153662 A JPH03153662 A JP H03153662A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
- C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
-
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- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C317/22—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフ
ェニル）スルホン（以下、ＴＢＳと略記する）を高収率
かつ高純度で得るための製造方法に関するものである。
ェニル）スルホン（以下、ＴＢＳと略記する）を高収率
かつ高純度で得るための製造方法に関するものである。
ＴＢＳは、ポリオレフィン樹脂等の難燃剤及び難燃剤の
中間体として有用なものであり、特に水酸基をアリルエ
ーテル化し、ついでそのアリル基を臭素化して得られる
ビス（３，５−ジブロモ−４−ジブロモプロポキシフェ
ニル）スルホンは、ポリプロピレン等の難燃剤として極
めて有用であることが特公昭５０−３５１０３号、特公
昭５゜−２３６９３号などに述べられている。
中間体として有用なものであり、特に水酸基をアリルエ
ーテル化し、ついでそのアリル基を臭素化して得られる
ビス（３，５−ジブロモ−４−ジブロモプロポキシフェ
ニル）スルホンは、ポリプロピレン等の難燃剤として極
めて有用であることが特公昭５０−３５１０３号、特公
昭５゜−２３６９３号などに述べられている。
従来、ＴＢＳを製造する方法としては、水／アルコール
等の混合溶媒中でビス（４−ヒドロキシフェニル）スル
ホン（以下、ＢＰＳと略記する）を臭素で臭素化して製
造する方法が知られている。
等の混合溶媒中でビス（４−ヒドロキシフェニル）スル
ホン（以下、ＢＰＳと略記する）を臭素で臭素化して製
造する方法が知られている。
しかし、この方法は反応系中に副生する臭化水素が多量
に蓄積するため、ＢＰＳの臭素化反応速度が極端に低下
し、ＴＢＳが低純度なものしか得られないといった問題
を有していた。
に蓄積するため、ＢＰＳの臭素化反応速度が極端に低下
し、ＴＢＳが低純度なものしか得られないといった問題
を有していた。
この臭化水素の除去方法には、過酸化水素、塩素、次亜
塩素酸ナトリウム等の酸化剤を添加して、臭化水素を遊
離臭素として回収する方法が知られている（特開昭５４
−３９０４４号）。しかしながら、この方法に於いても
以下に示す様な問題点を存するため、工業的規模のプロ
セスとしては必ずしも未だ満足出来るものではなかった
。
塩素酸ナトリウム等の酸化剤を添加して、臭化水素を遊
離臭素として回収する方法が知られている（特開昭５４
−３９０４４号）。しかしながら、この方法に於いても
以下に示す様な問題点を存するため、工業的規模のプロ
セスとしては必ずしも未だ満足出来るものではなかった
。
■過酸化水素による除去：工業的に高価格であり、また
毒性、危険性が高い。
毒性、危険性が高い。
■塩素による除去：塩素置換体が生成しやすいため、目
的物が低純度となる。
的物が低純度となる。
■次亜塩素酸ナトリウムによる除去：非常に不安定なた
め、工業的に用いるには困難を要する。
め、工業的に用いるには困難を要する。
本発明の目的は、酸化剤の添加を必要としないで高純度
かつ高収率にＴＢＳを製造する工業的な方法を提供する
ことにある。
かつ高収率にＴＢＳを製造する工業的な方法を提供する
ことにある。
本発明者らは、この様な従来技術において工業的に未だ
満足できなかった問題点を解消すべく鋭意検討を行った
。その結果、ＢＰＳを水／アル−コール混合溶媒中、臭
素で臭素化する方法に於（１て、臭素と無機金属塩基を
ＢＰＳに対して一定量の範囲で添加して反応を行うと、
著しい反応加速が見られ、従来の方法よりも高純度なＴ
ＢＳを高収率で得られることを見出だし、本発明を完成
する１こ至った。
満足できなかった問題点を解消すべく鋭意検討を行った
。その結果、ＢＰＳを水／アル−コール混合溶媒中、臭
素で臭素化する方法に於（１て、臭素と無機金属塩基を
ＢＰＳに対して一定量の範囲で添加して反応を行うと、
著しい反応加速が見られ、従来の方法よりも高純度なＴ
ＢＳを高収率で得られることを見出だし、本発明を完成
する１こ至った。
すなわち、本発明の要旨は、ＢＰＳを、臭素により臭素
化しＴＢＳを製造する方法に於いて、ＢＰＳを含むアル
コール／水混合溶媒中にＢＰＳ １モル当り４．０〜５
．０モルの臭素と２．０〜４．０グラム当量の無機金属
塩基を添加し反応させることを特徴とするＴＢＳの製造
方法にある。
化しＴＢＳを製造する方法に於いて、ＢＰＳを含むアル
コール／水混合溶媒中にＢＰＳ １モル当り４．０〜５
．０モルの臭素と２．０〜４．０グラム当量の無機金属
塩基を添加し反応させることを特徴とするＴＢＳの製造
方法にある。
以下その詳細について説明する。
本発明の方法は、次の反応式を用いて説明することが出
来る。
来る。
ＢＰＳを水／アルコール混合溶媒中、臭素を用いて臭素
化した場合、上述した様に反応系中に副生する臭化水素
が多量に蓄積するため、ＢＰＳの臭素化速度が極端に低
下し、低純度なＴＢＳＬ、か得られない。
化した場合、上述した様に反応系中に副生する臭化水素
が多量に蓄積するため、ＢＰＳの臭素化速度が極端に低
下し、低純度なＴＢＳＬ、か得られない。
しかしながら、臭素と無機塩基をＢＰＳに対して一定の
範囲で添加して臭素化反応を行う本発明の方法では、酸
化剤を添加しなくとも特異的に臭素化速度が加速され、
高純度なＴＢＳを高収率で得ることが出来る。
範囲で添加して臭素化反応を行う本発明の方法では、酸
化剤を添加しなくとも特異的に臭素化速度が加速され、
高純度なＴＢＳを高収率で得ることが出来る。
この理由は必ずしも明確ではないが、副生ずる臭化水素
をアルカリで中和除去することにより、ＢＰＳの水酸基
の解離が著しく促進され、その結果、芳香族環の電子密
度が高まり、ブロモカチオンの親電子置換反応がより加
速されるためと考えられる。
をアルカリで中和除去することにより、ＢＰＳの水酸基
の解離が著しく促進され、その結果、芳香族環の電子密
度が高まり、ブロモカチオンの親電子置換反応がより加
速されるためと考えられる。
本発明の方法において使用される溶媒は、通常、水／ア
ルコールの混合溶媒が選ばれる。アルコールとしては、
例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパツール、
ｉ−プロパツール、ｎ−ブタノール、５ｅｅ−ブタノー
ル、ｔ−ブタノール等が挙げられるが、これらの中でも
、メタノール、エタノール、ｉ−プロパツールが特に好
ましい。
ルコールの混合溶媒が選ばれる。アルコールとしては、
例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパツール、
ｉ−プロパツール、ｎ−ブタノール、５ｅｅ−ブタノー
ル、ｔ−ブタノール等が挙げられるが、これらの中でも
、メタノール、エタノール、ｉ−プロパツールが特に好
ましい。
尚、溶媒中のＢＰＳの基質濃度は、格別の限定はないが
、通常、約１０〜３０重量％程度のものを用いる。
、通常、約１０〜３０重量％程度のものを用いる。
本発明の方法において使用される臭素の使用量は、ＢＰ
ＳＩモルに対して４．０〜５．０モルであり、好ましく
は４．１〜４．５モルである。
ＳＩモルに対して４．０〜５．０モルであり、好ましく
は４．１〜４．５モルである。
４．０モル未満ではＴＢＳの収率が低く、５，０モル以
上加えても反応速度の向上は認められない。
上加えても反応速度の向上は認められない。
臭素の添加は滴下により行うが、その滴下速度はＢＰＳ
Ｉモル当たり５モル／時間以下であり、好ましくは１〜
２モル／時間程度が選ばれる。臭素の滴下速度が５モル
／時間以上の場合、反応時の発熱が激しくなるため好ま
しくない。
Ｉモル当たり５モル／時間以下であり、好ましくは１〜
２モル／時間程度が選ばれる。臭素の滴下速度が５モル
／時間以上の場合、反応時の発熱が激しくなるため好ま
しくない。
本発明の方法において使用される無機金属塩基は、アル
カリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩
または炭酸水素塩であり、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等挙げることが出来る。これらの中でも
、工業的に安価な水酸化ナトリウムが特に好ましい。
カリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩
または炭酸水素塩であり、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等挙げることが出来る。これらの中でも
、工業的に安価な水酸化ナトリウムが特に好ましい。
この無機金属塩基の使用量については、８２８１モルに
対して２．０〜４゜０グラム当量であり、好ましくは３
．５〜４，０グラム当量である。
対して２．０〜４゜０グラム当量であり、好ましくは３
．５〜４，０グラム当量である。
２．０グラム当量未満ではＴＢＳの収率が低く、４．０
グラム当量以上加えた場合、純度低下及び着色の原因と
なるため、好ましくない。
グラム当量以上加えた場合、純度低下及び着色の原因と
なるため、好ましくない。
無機金属塩基の添加方法は、特に限定はなく、反応の初
期に一括して添加する方法、臭素と交互に滴下または臭
素と同時に滴下する方法等が挙げられる。尚、これらの
添加方法の中でも臭素と交互に滴下または臭素と滴下速
度を合わせて同時に滴下する方法は反応成績の高さ等か
ら、特に好ましいものである。尚、無機金属塩基の滴下
速度は、中和熱の蓄積を防ぐために、ＢＰＳ １モル当
たり１０モル／時ｍ１以下程度が選ばれる。
期に一括して添加する方法、臭素と交互に滴下または臭
素と同時に滴下する方法等が挙げられる。尚、これらの
添加方法の中でも臭素と交互に滴下または臭素と滴下速
度を合わせて同時に滴下する方法は反応成績の高さ等か
ら、特に好ましいものである。尚、無機金属塩基の滴下
速度は、中和熱の蓄積を防ぐために、ＢＰＳ １モル当
たり１０モル／時ｍ１以下程度が選ばれる。
反応温度は、臭素と無機金属塩基の添加時に０ｍ４ｏｌ
程度であることが選ばれる。０℃未満では反応が極端に
遅く、４０℃以上の場合、結晶の着色の原因となるため
好ましくない。
程度であることが選ばれる。０℃未満では反応が極端に
遅く、４０℃以上の場合、結晶の着色の原因となるため
好ましくない。
また、滴下終了後、反応を完結するために更に約４０〜
６０℃程度で少なくとも１時間以上熟成を行うことが必
要である。
６０℃程度で少なくとも１時間以上熟成を行うことが必
要である。
本発明において得られるＴＢＳの結晶を含む反応液は、
濾過を行い、水洗を行った後、乾燥して製品をｉする。
濾過を行い、水洗を行った後、乾燥して製品をｉする。
得られたＴＢＳの結晶は、高純度なものであり、そのま
ま特別な精製工程なしでポリオレフィン樹脂等の難燃剤
及び難燃剤の原料として使用できる。
ま特別な精製工程なしでポリオレフィン樹脂等の難燃剤
及び難燃剤の原料として使用できる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、臭素と
無機塩基をＢＰＳに対して一定の範囲で添加して臭素化
反応を行うことにより、従来の方法よりも短時間のうち
に高純度なＴＢＳを高収率で製造することが出来る。
無機塩基をＢＰＳに対して一定の範囲で添加して臭素化
反応を行うことにより、従来の方法よりも短時間のうち
に高純度なＴＢＳを高収率で製造することが出来る。
以下実施例によりさらに説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
（実施例１）
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量３００ｍ１の四
つロフラスコに、メタノール１１０ｇ、水９ｇを仕込み
、さら＋、：ＢＰＳ２５．Ｏｇ （１００■ｏｌ）を加
えて溶解した。溶媒中のＢＰＳの基質濃度は、２１重量
％に相当する。
つロフラスコに、メタノール１１０ｇ、水９ｇを仕込み
、さら＋、：ＢＰＳ２５．Ｏｇ （１００■ｏｌ）を加
えて溶解した。溶媒中のＢＰＳの基質濃度は、２１重量
％に相当する。
次に、臭素３３． ６ ｇ （２１０ｍ１ｏｌ）を室温
下、１．５時間かけて滴下し、滴下後１０分間そのまま
の；８度で攪拌を行った。次いで４８％ＮａＯＨ水溶液
１５．０ｇ （１８０■ｏｌ）を同様に室温下、３０分
かけて滴下した。
下、１．５時間かけて滴下し、滴下後１０分間そのまま
の；８度で攪拌を行った。次いで４８％ＮａＯＨ水溶液
１５．０ｇ （１８０■ｏｌ）を同様に室温下、３０分
かけて滴下した。
その後、再度臭素３３．６ ｇ （２１０■ｏｌ） 及
び４８％ＮａＯＨ水溶液１５． ０ｇ （１８ｔ）ｍｍ
ｏｌ）を先と同様の滴下条件で滴下した。
び４８％ＮａＯＨ水溶液１５． ０ｇ （１８ｔ）ｍｍ
ｏｌ）を先と同様の滴下条件で滴下した。
尚、臭素及びＮａＯＨの合計の仕込み量は、８２８１モ
ルに対してそれぞれ４．２モル、３．５グラム当量に相
当する。
ルに対してそれぞれ４．２モル、３．５グラム当量に相
当する。
滴下終了後、更に約４５℃で２時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．９ｇを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．９ｇを
得た。
この単離されたＴＢＳの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化率は
１００９６、ＴＢＳの単離結晶純度は９３，５％、ＴＢ
Ｓ収率は純分計算で９２．３％であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化率は
１００９６、ＴＢＳの単離結晶純度は９３，５％、ＴＢ
Ｓ収率は純分計算で９２．３％であった。
尚、濾液中には目的物であるＴＢＳはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（実施例２〜４）
実施例１に準じて、３００ｍ１の四つロフラスコに表１
に示した組成で原料を仕込み、表１の反応条件で反応を
行った。実施例１と同様の後処理を実施し、ＴＢＳを得
た。得られた結果を表１に示す。
に示した組成で原料を仕込み、表１の反応条件で反応を
行った。実施例１と同様の後処理を実施し、ＴＢＳを得
た。得られた結果を表１に示す。
（実施例５）
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量３００ｍ１の四
つロフラスコに、メタノール１１０ｇ、水９ｇを仕込み
、さらにＢＰＳ２５、Ｏｇ （１００＋ｕｏｌ）を加え
て溶解した。溶媒中のＢＰＳの基質濃度は、２１重量％
に相当する。
つロフラスコに、メタノール１１０ｇ、水９ｇを仕込み
、さらにＢＰＳ２５、Ｏｇ （１００＋ｕｏｌ）を加え
て溶解した。溶媒中のＢＰＳの基質濃度は、２１重量％
に相当する。
次に、臭素６７． ２ ｇ （４２０ｍｌ１ｌｏｌ）及
び４８％ＮａＯＨ水溶液３０．０ｇ （３６０ｍｍｏｌ
）を、室温下、同時に３時間かけて滴下した。
び４８％ＮａＯＨ水溶液３０．０ｇ （３６０ｍｍｏｌ
）を、室温下、同時に３時間かけて滴下した。
尚、臭素及びＮａＯＨの合計の仕込み量は、ＢＰＳＩモ
ルに対してそれぞれ４．２モル、３．６グラム当量に相
当する。
ルに対してそれぞれ４．２モル、３．６グラム当量に相
当する。
滴下終了後、更に約４５℃で２時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．５ｇを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．５ｇを
得た。
この単離されたＴＢＳの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化率は
１００％、ＴＢＳの単離結晶純度は９３．９％、ＴＢＳ
収率は純分計算で９２．１％であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化率は
１００％、ＴＢＳの単離結晶純度は９３．９％、ＴＢＳ
収率は純分計算で９２．１％であった。
尚、濾液中には目的物であるＴＢＳはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（実施例６）
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量３００ｍ１の四
つロフラスコに、メタノール１１０ｇ、ノ尺９ｇを仕込
み、さらにＢＰＳ２５．０ｇ （１００■ｏ ！ ）及
び４８％Ｎａ、ＯＨ水溶液３０．０ｇ （３６Ｑ ５ｖ
ｏｌ）を加えて溶解した。溶媒中のＢＰＳの基７ｉ濃度
は、２１重量％に相当する。また、ＮａＯＨの仕込み量
は、ＢＰＳＩモルに対して３゜６グラム当量に相当する
。
つロフラスコに、メタノール１１０ｇ、ノ尺９ｇを仕込
み、さらにＢＰＳ２５．０ｇ （１００■ｏ ！ ）及
び４８％Ｎａ、ＯＨ水溶液３０．０ｇ （３６Ｑ ５ｖ
ｏｌ）を加えて溶解した。溶媒中のＢＰＳの基７ｉ濃度
は、２１重量％に相当する。また、ＮａＯＨの仕込み量
は、ＢＰＳＩモルに対して３゜６グラム当量に相当する
。
次に、臭素６７． ２ ｇ （４２０ｍａ＋ｏｌ）を室
温下、３時間かけて滴下し、滴下終了後、更に約４５℃
で２時間熟成反応を行った。尚、臭素の仕込み量は、Ｂ
ＰＳ １モルに対して４，２モルに相当する。
温下、３時間かけて滴下し、滴下終了後、更に約４５℃
で２時間熟成反応を行った。尚、臭素の仕込み量は、Ｂ
ＰＳ １モルに対して４，２モルに相当する。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．５ｇを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．５ｇを
得た。
この単離されたＴＢＳの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化率は
１００９６、ＴＢＳの単離結晶純度は９１．９％、ＴＢ
Ｓ収率は純分計算で９０．１９６であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化率は
１００９６、ＴＢＳの単離結晶純度は９１．９％、ＴＢ
Ｓ収率は純分計算で９０．１９６であった。
尚、濾液中には目的物であるＴＢＳはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（比較例１）
温度計、攪拌翼及び冷却管を何する容量３００ｍ１の四
つロフラスコに、メタ、ノール１１０ｇ、水２５ｇを仕
込み、さらにＢＰＳ２５．Ｏｇ （１００ＩＩｌｍｏｌ
）を加えて溶解した。溶媒中のＢＰＳの基質濃度は、２
１重量％に相当する。
つロフラスコに、メタ、ノール１１０ｇ、水２５ｇを仕
込み、さらにＢＰＳ２５．Ｏｇ （１００ＩＩｌｍｏｌ
）を加えて溶解した。溶媒中のＢＰＳの基質濃度は、２
１重量％に相当する。
次に、臭素６７． ２ ｇ （４２０ｍｍｏｌ）を室温
下、３時間かけて滴下し、滴下終了後、約４５℃で２時
間熟成反応を行った。
下、３時間かけて滴下し、滴下終了後、約４５℃で２時
間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．２ｇを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．２ｇを
得た。
このｔｔｉ離されたＴＢＳの結晶について、液体クロマ
トグラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化
率は１００％、ＴＢＳの単離結晶純度は８７，９％、Ｔ
ＢＳ収率は純分計算で８５．７％であっｔ二。
トグラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化
率は１００％、ＴＢＳの単離結晶純度は８７，９％、Ｔ
ＢＳ収率は純分計算で８５．７％であっｔ二。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（比較例２）
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量３００ｍ１の四
つ目フラスコに、メタノール１１０ｇ、水１６ｇを仕込
み、さらにＢＰＳ２５．Ｏｇ （１００ ｍｍｏｌ）を
加えて溶解した。溶媒中のＢＰＳのＩＡ質Ｉり度は、２
１正量％に相当する。
つ目フラスコに、メタノール１１０ｇ、水１６ｇを仕込
み、さらにＢＰＳ２５．Ｏｇ （１００ ｍｍｏｌ）を
加えて溶解した。溶媒中のＢＰＳのＩＡ質Ｉり度は、２
１正量％に相当する。
次に、臭素３３． ６ ｇ （２１０ｍｍｏｌ）を室温
下、１．５時間かけて滴下し、滴下後１０分間そのまま
の温度で攪拌を行った。次いで４８％ＮａＯＨ水溶液７
． ５ｇ （９０ｍｍｏｌ）を同様に室温下、３０分か
けて滴下した。
下、１．５時間かけて滴下し、滴下後１０分間そのまま
の温度で攪拌を行った。次いで４８％ＮａＯＨ水溶液７
． ５ｇ （９０ｍｍｏｌ）を同様に室温下、３０分か
けて滴下した。
その後、再度臭素３３．６ ｇ （２１０ｍＩＩＩｏｌ
）および４８９６ Ｎ ａ ＯＨ水溶液７． ５ｇ（９
０ＩＩ１ｍｏｌ）を先と同様の滴下条件で滴下した。
）および４８９６ Ｎ ａ ＯＨ水溶液７． ５ｇ（９
０ＩＩ１ｍｏｌ）を先と同様の滴下条件で滴下した。
尚、臭素及びＮａＯＨの合計の仕込み量は、８２８１モ
ルに対してそれぞれ４．２モル、１．６グラム当量に相
当する。
ルに対してそれぞれ４．２モル、１．６グラム当量に相
当する。
滴下終了後、更に約４５℃で２時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．４ｇを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のＴＢＳ５５．４ｇを
得た。
この単離されたＴＢＳの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化率は
１００％、ＴＢＳの単離結晶純度は８７，８％、ＴＢＳ
収率は純分計算で８５．９％であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、ＢＰＳの転化率は
１００％、ＴＢＳの単離結晶純度は８７，８％、ＴＢＳ
収率は純分計算で８５．９％であった。
尚、濾液中には目的物であるＴＢＳはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表１に示す。
（比較例３）
比較例２に阜して、３００ｍ１の四つロフラスコに表１
に示した組成で原料を仕込み、表１の反応条件で反応を
行った。実施例１と同様の後処理を実施し、ＴＢＳを得
た。得られた結果を表１に示す。
に示した組成で原料を仕込み、表１の反応条件で反応を
行った。実施例１と同様の後処理を実施し、ＴＢＳを得
た。得られた結果を表１に示す。
Claims (1)
- （１）ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンを、臭
素により臭素化しビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブ
ロモフェニル）スルホンを製造する方法に於いて、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホンを含むアルコール
／水混合溶媒中にビス（４−ヒドロキシフェニル）スル
ホン１モル当り４．０〜５．０モルの臭素と２．０〜４
．０グラム当量の無機金属塩基を添加し反応させること
を特徴とするビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモ
フェニル）スルホンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1292497A JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1292497A JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03153662A true JPH03153662A (ja) | 1991-07-01 |
| JP2785391B2 JP2785391B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=17782588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1292497A Expired - Lifetime JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス（４―ヒドロキシー３，５―ジブロモフェニル）スルホンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2785391B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54119430A (en) * | 1978-03-07 | 1979-09-17 | Asahi Glass Co Ltd | Preparation of tetrabromobisphenol s |
| JPS6210058A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-19 | Marubishi Yuka Kogyo Kk | ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフエニル）スルホン誘導体の製法 |
-
1989
- 1989-11-13 JP JP1292497A patent/JP2785391B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54119430A (en) * | 1978-03-07 | 1979-09-17 | Asahi Glass Co Ltd | Preparation of tetrabromobisphenol s |
| JPS6210058A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-19 | Marubishi Yuka Kogyo Kk | ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフエニル）スルホン誘導体の製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2785391B2 (ja) | 1998-08-13 |
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