JPH03153662A - ビス(4―ヒドロキシー3,5―ジブロモフェニル)スルホンの製造方法 - Google Patents
ビス(4―ヒドロキシー3,5―ジブロモフェニル)スルホンの製造方法Info
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- JPH03153662A JPH03153662A JP29249789A JP29249789A JPH03153662A JP H03153662 A JPH03153662 A JP H03153662A JP 29249789 A JP29249789 A JP 29249789A JP 29249789 A JP29249789 A JP 29249789A JP H03153662 A JPH03153662 A JP H03153662A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
- C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C317/22—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフ
ェニル)スルホン(以下、TBSと略記する)を高収率
かつ高純度で得るための製造方法に関するものである。
ェニル)スルホン(以下、TBSと略記する)を高収率
かつ高純度で得るための製造方法に関するものである。
TBSは、ポリオレフィン樹脂等の難燃剤及び難燃剤の
中間体として有用なものであり、特に水酸基をアリルエ
ーテル化し、ついでそのアリル基を臭素化して得られる
ビス(3,5−ジブロモ−4−ジブロモプロポキシフェ
ニル)スルホンは、ポリプロピレン等の難燃剤として極
めて有用であることが特公昭50−35103号、特公
昭5゜−23693号などに述べられている。
中間体として有用なものであり、特に水酸基をアリルエ
ーテル化し、ついでそのアリル基を臭素化して得られる
ビス(3,5−ジブロモ−4−ジブロモプロポキシフェ
ニル)スルホンは、ポリプロピレン等の難燃剤として極
めて有用であることが特公昭50−35103号、特公
昭5゜−23693号などに述べられている。
従来、TBSを製造する方法としては、水/アルコール
等の混合溶媒中でビス(4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン(以下、BPSと略記する)を臭素で臭素化して製
造する方法が知られている。
等の混合溶媒中でビス(4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン(以下、BPSと略記する)を臭素で臭素化して製
造する方法が知られている。
しかし、この方法は反応系中に副生する臭化水素が多量
に蓄積するため、BPSの臭素化反応速度が極端に低下
し、TBSが低純度なものしか得られないといった問題
を有していた。
に蓄積するため、BPSの臭素化反応速度が極端に低下
し、TBSが低純度なものしか得られないといった問題
を有していた。
この臭化水素の除去方法には、過酸化水素、塩素、次亜
塩素酸ナトリウム等の酸化剤を添加して、臭化水素を遊
離臭素として回収する方法が知られている(特開昭54
−39044号)。しかしながら、この方法に於いても
以下に示す様な問題点を存するため、工業的規模のプロ
セスとしては必ずしも未だ満足出来るものではなかった
。
塩素酸ナトリウム等の酸化剤を添加して、臭化水素を遊
離臭素として回収する方法が知られている(特開昭54
−39044号)。しかしながら、この方法に於いても
以下に示す様な問題点を存するため、工業的規模のプロ
セスとしては必ずしも未だ満足出来るものではなかった
。
■過酸化水素による除去:工業的に高価格であり、また
毒性、危険性が高い。
毒性、危険性が高い。
■塩素による除去:塩素置換体が生成しやすいため、目
的物が低純度となる。
的物が低純度となる。
■次亜塩素酸ナトリウムによる除去:非常に不安定なた
め、工業的に用いるには困難を要する。
め、工業的に用いるには困難を要する。
本発明の目的は、酸化剤の添加を必要としないで高純度
かつ高収率にTBSを製造する工業的な方法を提供する
ことにある。
かつ高収率にTBSを製造する工業的な方法を提供する
ことにある。
本発明者らは、この様な従来技術において工業的に未だ
満足できなかった問題点を解消すべく鋭意検討を行った
。その結果、BPSを水/アル−コール混合溶媒中、臭
素で臭素化する方法に於(1て、臭素と無機金属塩基を
BPSに対して一定量の範囲で添加して反応を行うと、
著しい反応加速が見られ、従来の方法よりも高純度なT
BSを高収率で得られることを見出だし、本発明を完成
する1こ至った。
満足できなかった問題点を解消すべく鋭意検討を行った
。その結果、BPSを水/アル−コール混合溶媒中、臭
素で臭素化する方法に於(1て、臭素と無機金属塩基を
BPSに対して一定量の範囲で添加して反応を行うと、
著しい反応加速が見られ、従来の方法よりも高純度なT
BSを高収率で得られることを見出だし、本発明を完成
する1こ至った。
すなわち、本発明の要旨は、BPSを、臭素により臭素
化しTBSを製造する方法に於いて、BPSを含むアル
コール/水混合溶媒中にBPS 1モル当り4.0〜5
.0モルの臭素と2.0〜4.0グラム当量の無機金属
塩基を添加し反応させることを特徴とするTBSの製造
方法にある。
化しTBSを製造する方法に於いて、BPSを含むアル
コール/水混合溶媒中にBPS 1モル当り4.0〜5
.0モルの臭素と2.0〜4.0グラム当量の無機金属
塩基を添加し反応させることを特徴とするTBSの製造
方法にある。
以下その詳細について説明する。
本発明の方法は、次の反応式を用いて説明することが出
来る。
来る。
BPSを水/アルコール混合溶媒中、臭素を用いて臭素
化した場合、上述した様に反応系中に副生する臭化水素
が多量に蓄積するため、BPSの臭素化速度が極端に低
下し、低純度なTBSL、か得られない。
化した場合、上述した様に反応系中に副生する臭化水素
が多量に蓄積するため、BPSの臭素化速度が極端に低
下し、低純度なTBSL、か得られない。
しかしながら、臭素と無機塩基をBPSに対して一定の
範囲で添加して臭素化反応を行う本発明の方法では、酸
化剤を添加しなくとも特異的に臭素化速度が加速され、
高純度なTBSを高収率で得ることが出来る。
範囲で添加して臭素化反応を行う本発明の方法では、酸
化剤を添加しなくとも特異的に臭素化速度が加速され、
高純度なTBSを高収率で得ることが出来る。
この理由は必ずしも明確ではないが、副生ずる臭化水素
をアルカリで中和除去することにより、BPSの水酸基
の解離が著しく促進され、その結果、芳香族環の電子密
度が高まり、ブロモカチオンの親電子置換反応がより加
速されるためと考えられる。
をアルカリで中和除去することにより、BPSの水酸基
の解離が著しく促進され、その結果、芳香族環の電子密
度が高まり、ブロモカチオンの親電子置換反応がより加
速されるためと考えられる。
本発明の方法において使用される溶媒は、通常、水/ア
ルコールの混合溶媒が選ばれる。アルコールとしては、
例えば、メタノール、エタノール、n−プロパツール、
i−プロパツール、n−ブタノール、5ee−ブタノー
ル、t−ブタノール等が挙げられるが、これらの中でも
、メタノール、エタノール、i−プロパツールが特に好
ましい。
ルコールの混合溶媒が選ばれる。アルコールとしては、
例えば、メタノール、エタノール、n−プロパツール、
i−プロパツール、n−ブタノール、5ee−ブタノー
ル、t−ブタノール等が挙げられるが、これらの中でも
、メタノール、エタノール、i−プロパツールが特に好
ましい。
尚、溶媒中のBPSの基質濃度は、格別の限定はないが
、通常、約10〜30重量%程度のものを用いる。
、通常、約10〜30重量%程度のものを用いる。
本発明の方法において使用される臭素の使用量は、BP
SIモルに対して4.0〜5.0モルであり、好ましく
は4.1〜4.5モルである。
SIモルに対して4.0〜5.0モルであり、好ましく
は4.1〜4.5モルである。
4.0モル未満ではTBSの収率が低く、5,0モル以
上加えても反応速度の向上は認められない。
上加えても反応速度の向上は認められない。
臭素の添加は滴下により行うが、その滴下速度はBPS
Iモル当たり5モル/時間以下であり、好ましくは1〜
2モル/時間程度が選ばれる。臭素の滴下速度が5モル
/時間以上の場合、反応時の発熱が激しくなるため好ま
しくない。
Iモル当たり5モル/時間以下であり、好ましくは1〜
2モル/時間程度が選ばれる。臭素の滴下速度が5モル
/時間以上の場合、反応時の発熱が激しくなるため好ま
しくない。
本発明の方法において使用される無機金属塩基は、アル
カリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩
または炭酸水素塩であり、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等挙げることが出来る。これらの中でも
、工業的に安価な水酸化ナトリウムが特に好ましい。
カリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩
または炭酸水素塩であり、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等挙げることが出来る。これらの中でも
、工業的に安価な水酸化ナトリウムが特に好ましい。
この無機金属塩基の使用量については、8281モルに
対して2.0〜4゜0グラム当量であり、好ましくは3
.5〜4,0グラム当量である。
対して2.0〜4゜0グラム当量であり、好ましくは3
.5〜4,0グラム当量である。
2.0グラム当量未満ではTBSの収率が低く、4.0
グラム当量以上加えた場合、純度低下及び着色の原因と
なるため、好ましくない。
グラム当量以上加えた場合、純度低下及び着色の原因と
なるため、好ましくない。
無機金属塩基の添加方法は、特に限定はなく、反応の初
期に一括して添加する方法、臭素と交互に滴下または臭
素と同時に滴下する方法等が挙げられる。尚、これらの
添加方法の中でも臭素と交互に滴下または臭素と滴下速
度を合わせて同時に滴下する方法は反応成績の高さ等か
ら、特に好ましいものである。尚、無機金属塩基の滴下
速度は、中和熱の蓄積を防ぐために、BPS 1モル当
たり10モル/時m1以下程度が選ばれる。
期に一括して添加する方法、臭素と交互に滴下または臭
素と同時に滴下する方法等が挙げられる。尚、これらの
添加方法の中でも臭素と交互に滴下または臭素と滴下速
度を合わせて同時に滴下する方法は反応成績の高さ等か
ら、特に好ましいものである。尚、無機金属塩基の滴下
速度は、中和熱の蓄積を防ぐために、BPS 1モル当
たり10モル/時m1以下程度が選ばれる。
反応温度は、臭素と無機金属塩基の添加時に0m4ol
程度であることが選ばれる。0℃未満では反応が極端に
遅く、40℃以上の場合、結晶の着色の原因となるため
好ましくない。
程度であることが選ばれる。0℃未満では反応が極端に
遅く、40℃以上の場合、結晶の着色の原因となるため
好ましくない。
また、滴下終了後、反応を完結するために更に約40〜
60℃程度で少なくとも1時間以上熟成を行うことが必
要である。
60℃程度で少なくとも1時間以上熟成を行うことが必
要である。
本発明において得られるTBSの結晶を含む反応液は、
濾過を行い、水洗を行った後、乾燥して製品をiする。
濾過を行い、水洗を行った後、乾燥して製品をiする。
得られたTBSの結晶は、高純度なものであり、そのま
ま特別な精製工程なしでポリオレフィン樹脂等の難燃剤
及び難燃剤の原料として使用できる。
ま特別な精製工程なしでポリオレフィン樹脂等の難燃剤
及び難燃剤の原料として使用できる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、臭素と
無機塩基をBPSに対して一定の範囲で添加して臭素化
反応を行うことにより、従来の方法よりも短時間のうち
に高純度なTBSを高収率で製造することが出来る。
無機塩基をBPSに対して一定の範囲で添加して臭素化
反応を行うことにより、従来の方法よりも短時間のうち
に高純度なTBSを高収率で製造することが出来る。
以下実施例によりさらに説明するが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
(実施例1)
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量300m1の四
つロフラスコに、メタノール110g、水9gを仕込み
、さら+、:BPS25.Og (100■ol)を加
えて溶解した。溶媒中のBPSの基質濃度は、21重量
%に相当する。
つロフラスコに、メタノール110g、水9gを仕込み
、さら+、:BPS25.Og (100■ol)を加
えて溶解した。溶媒中のBPSの基質濃度は、21重量
%に相当する。
次に、臭素33. 6 g (210m1ol)を室温
下、1.5時間かけて滴下し、滴下後10分間そのまま
の;8度で攪拌を行った。次いで48%NaOH水溶液
15.0g (180■ol)を同様に室温下、30分
かけて滴下した。
下、1.5時間かけて滴下し、滴下後10分間そのまま
の;8度で攪拌を行った。次いで48%NaOH水溶液
15.0g (180■ol)を同様に室温下、30分
かけて滴下した。
その後、再度臭素33.6 g (210■ol) 及
び48%NaOH水溶液15. 0g (18t)mm
ol)を先と同様の滴下条件で滴下した。
び48%NaOH水溶液15. 0g (18t)mm
ol)を先と同様の滴下条件で滴下した。
尚、臭素及びNaOHの合計の仕込み量は、8281モ
ルに対してそれぞれ4.2モル、3.5グラム当量に相
当する。
ルに対してそれぞれ4.2モル、3.5グラム当量に相
当する。
滴下終了後、更に約45℃で2時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.9gを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.9gを
得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は
10096、TBSの単離結晶純度は93,5%、TB
S収率は純分計算で92.3%であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は
10096、TBSの単離結晶純度は93,5%、TB
S収率は純分計算で92.3%であった。
尚、濾液中には目的物であるTBSはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表1に示す。
(実施例2〜4)
実施例1に準じて、300m1の四つロフラスコに表1
に示した組成で原料を仕込み、表1の反応条件で反応を
行った。実施例1と同様の後処理を実施し、TBSを得
た。得られた結果を表1に示す。
に示した組成で原料を仕込み、表1の反応条件で反応を
行った。実施例1と同様の後処理を実施し、TBSを得
た。得られた結果を表1に示す。
(実施例5)
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量300m1の四
つロフラスコに、メタノール110g、水9gを仕込み
、さらにBPS25、Og (100+uol)を加え
て溶解した。溶媒中のBPSの基質濃度は、21重量%
に相当する。
つロフラスコに、メタノール110g、水9gを仕込み
、さらにBPS25、Og (100+uol)を加え
て溶解した。溶媒中のBPSの基質濃度は、21重量%
に相当する。
次に、臭素67. 2 g (420ml1lol)及
び48%NaOH水溶液30.0g (360mmol
)を、室温下、同時に3時間かけて滴下した。
び48%NaOH水溶液30.0g (360mmol
)を、室温下、同時に3時間かけて滴下した。
尚、臭素及びNaOHの合計の仕込み量は、BPSIモ
ルに対してそれぞれ4.2モル、3.6グラム当量に相
当する。
ルに対してそれぞれ4.2モル、3.6グラム当量に相
当する。
滴下終了後、更に約45℃で2時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.5gを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.5gを
得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は
100%、TBSの単離結晶純度は93.9%、TBS
収率は純分計算で92.1%であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は
100%、TBSの単離結晶純度は93.9%、TBS
収率は純分計算で92.1%であった。
尚、濾液中には目的物であるTBSはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表1に示す。
(実施例6)
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量300m1の四
つロフラスコに、メタノール110g、ノ尺9gを仕込
み、さらにBPS25.0g (100■o ! )及
び48%Na、OH水溶液30.0g (36Q 5v
ol)を加えて溶解した。溶媒中のBPSの基7i濃度
は、21重量%に相当する。また、NaOHの仕込み量
は、BPSIモルに対して3゜6グラム当量に相当する
。
つロフラスコに、メタノール110g、ノ尺9gを仕込
み、さらにBPS25.0g (100■o ! )及
び48%Na、OH水溶液30.0g (36Q 5v
ol)を加えて溶解した。溶媒中のBPSの基7i濃度
は、21重量%に相当する。また、NaOHの仕込み量
は、BPSIモルに対して3゜6グラム当量に相当する
。
次に、臭素67. 2 g (420ma+ol)を室
温下、3時間かけて滴下し、滴下終了後、更に約45℃
で2時間熟成反応を行った。尚、臭素の仕込み量は、B
PS 1モルに対して4,2モルに相当する。
温下、3時間かけて滴下し、滴下終了後、更に約45℃
で2時間熟成反応を行った。尚、臭素の仕込み量は、B
PS 1モルに対して4,2モルに相当する。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.5gを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.5gを
得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は
10096、TBSの単離結晶純度は91.9%、TB
S収率は純分計算で90.196であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は
10096、TBSの単離結晶純度は91.9%、TB
S収率は純分計算で90.196であった。
尚、濾液中には目的物であるTBSはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表1に示す。
(比較例1)
温度計、攪拌翼及び冷却管を何する容量300m1の四
つロフラスコに、メタ、ノール110g、水25gを仕
込み、さらにBPS25.Og (100IIlmol
)を加えて溶解した。溶媒中のBPSの基質濃度は、2
1重量%に相当する。
つロフラスコに、メタ、ノール110g、水25gを仕
込み、さらにBPS25.Og (100IIlmol
)を加えて溶解した。溶媒中のBPSの基質濃度は、2
1重量%に相当する。
次に、臭素67. 2 g (420mmol)を室温
下、3時間かけて滴下し、滴下終了後、約45℃で2時
間熟成反応を行った。
下、3時間かけて滴下し、滴下終了後、約45℃で2時
間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.2gを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.2gを
得た。
このtti離されたTBSの結晶について、液体クロマ
トグラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化
率は100%、TBSの単離結晶純度は87,9%、T
BS収率は純分計算で85.7%であっt二。
トグラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化
率は100%、TBSの単離結晶純度は87,9%、T
BS収率は純分計算で85.7%であっt二。
この反応条件及び結果を表1に示す。
(比較例2)
温度計、攪拌翼及び冷却管を有する容量300m1の四
つ目フラスコに、メタノール110g、水16gを仕込
み、さらにBPS25.Og (100 mmol)を
加えて溶解した。溶媒中のBPSのIA質Iり度は、2
1正量%に相当する。
つ目フラスコに、メタノール110g、水16gを仕込
み、さらにBPS25.Og (100 mmol)を
加えて溶解した。溶媒中のBPSのIA質Iり度は、2
1正量%に相当する。
次に、臭素33. 6 g (210mmol)を室温
下、1.5時間かけて滴下し、滴下後10分間そのまま
の温度で攪拌を行った。次いで48%NaOH水溶液7
. 5g (90mmol)を同様に室温下、30分か
けて滴下した。
下、1.5時間かけて滴下し、滴下後10分間そのまま
の温度で攪拌を行った。次いで48%NaOH水溶液7
. 5g (90mmol)を同様に室温下、30分か
けて滴下した。
その後、再度臭素33.6 g (210mIIIol
)および4896 N a OH水溶液7. 5g(9
0II1mol)を先と同様の滴下条件で滴下した。
)および4896 N a OH水溶液7. 5g(9
0II1mol)を先と同様の滴下条件で滴下した。
尚、臭素及びNaOHの合計の仕込み量は、8281モ
ルに対してそれぞれ4.2モル、1.6グラム当量に相
当する。
ルに対してそれぞれ4.2モル、1.6グラム当量に相
当する。
滴下終了後、更に約45℃で2時間熟成反応を行った。
反応終了後、室温まで冷却し、過剰の残存臭素をヒドラ
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.4gを
得た。
ジンで還元し、析出している結晶を濾別した後、さらに
水洗を行い、乾燥させて白色結晶のTBS55.4gを
得た。
この単離されたTBSの結晶について、液体クロマトグ
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は
100%、TBSの単離結晶純度は87,8%、TBS
収率は純分計算で85.9%であった。
ラフィーによる分析を行ったところ、BPSの転化率は
100%、TBSの単離結晶純度は87,8%、TBS
収率は純分計算で85.9%であった。
尚、濾液中には目的物であるTBSはまったく溶解して
いなかった。
いなかった。
この反応条件及び結果を表1に示す。
(比較例3)
比較例2に阜して、300m1の四つロフラスコに表1
に示した組成で原料を仕込み、表1の反応条件で反応を
行った。実施例1と同様の後処理を実施し、TBSを得
た。得られた結果を表1に示す。
に示した組成で原料を仕込み、表1の反応条件で反応を
行った。実施例1と同様の後処理を実施し、TBSを得
た。得られた結果を表1に示す。
Claims (1)
- (1)ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンを、臭
素により臭素化しビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブ
ロモフェニル)スルホンを製造する方法に於いて、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホンを含むアルコール
/水混合溶媒中にビス(4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン1モル当り4.0〜5.0モルの臭素と2.0〜4
.0グラム当量の無機金属塩基を添加し反応させること
を特徴とするビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモ
フェニル)スルホンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1292497A JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス(4―ヒドロキシー3,5―ジブロモフェニル)スルホンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1292497A JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス(4―ヒドロキシー3,5―ジブロモフェニル)スルホンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03153662A true JPH03153662A (ja) | 1991-07-01 |
JP2785391B2 JP2785391B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=17782588
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1292497A Expired - Lifetime JP2785391B2 (ja) | 1989-11-13 | 1989-11-13 | ビス(4―ヒドロキシー3,5―ジブロモフェニル)スルホンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2785391B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54119430A (en) * | 1978-03-07 | 1979-09-17 | Asahi Glass Co Ltd | Preparation of tetrabromobisphenol s |
JPS6210058A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-19 | Marubishi Yuka Kogyo Kk | ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフエニル)スルホン誘導体の製法 |
-
1989
- 1989-11-13 JP JP1292497A patent/JP2785391B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54119430A (en) * | 1978-03-07 | 1979-09-17 | Asahi Glass Co Ltd | Preparation of tetrabromobisphenol s |
JPS6210058A (ja) * | 1985-07-09 | 1987-01-19 | Marubishi Yuka Kogyo Kk | ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフエニル)スルホン誘導体の製法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2785391B2 (ja) | 1998-08-13 |
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