JPH03116859A - 混成集積回路装置 - Google Patents

混成集積回路装置

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JPH03116859A
JPH03116859A JP1254006A JP25400689A JPH03116859A JP H03116859 A JPH03116859 A JP H03116859A JP 1254006 A JP1254006 A JP 1254006A JP 25400689 A JP25400689 A JP 25400689A JP H03116859 A JPH03116859 A JP H03116859A
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JP
Japan
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heat sink
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JP1254006A
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Kuniyuki Hayama
葉山 訓幸
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は混成集積回路装置に関し、特に発熱の大きい高
周波用あるいは大電力用の混成集積回路装置に関する。
(従来の技術) 従来、パワートドランシスターの如く発熱の大きい半導
体チップを搭載した混成集積回路装置としては、例えば
第3図及び第4図に示すものが知られている。但し、第
4図は第3図のX−X線に沿う断面図である。
図中の1は、Cu、Fe等からなる放熱板である。この
放熱板1上には半田層2及び裏メタライズ層3を介して
Al 20j、AI N、S i C等からなる集積回
路基板4が設けられている。である。
この基板4上には、表メタライズ層5を介して発熱部材
としてのチップ部品6やコイル7などが搭載されている
。なお、図中の8は部品間を接続するボンディングワイ
ヤである。又、図示しないが、前記部品等は樹脂製ある
いは金属製のの外囲器により封止される場合がある。
このように、従来の混成集積回路装置においては集積回
路基板4の裏メタライズ層3と放熱板1とを半田層2を
介して全面接合していた。これにより、集積回路基板4
上のチップ部品6などの発熱部材からの熱拡散を良好に
行っていた。しかし、基板面積が大きくなるに従い、放
熱板1と集積回路基板4との熱膨張の相違から生じる応
力に前記基板4が耐えきれず、基板割れ等が多々発生し
ていた。 そこで、こうした基板割れを解決する目的で
、半田レジストなどを用いて基板の一部のみを放熱板と
接合する方法が提案されている(特開平l− 151444号公報)。しかし、この方法によれば、基
板割れを多少は軽減できるが、接合部以外では基板と放
熱板との接触が不十分なため、期待される放熱効果が得
られなかった。また、基板上の高発熱部位が2個所以上
に分散されているような回路基板構成の場合には、基板
割れについても満足な結果を得るのは困難であった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、メタライズ
層と放熱板間の一部を前記半田の融点より高い耐熱性を
もつ弾性伝熱樹脂で充填することにより、放熱板と集積
回路基板との熱膨張の相違から生じる応力に起因して前
記基板に割れ等の不具合が発生するのを防止しえる放熱
性の良い混成集積回路装置を提供することを目的とする
[発明の構成] (課題を解決するための手段と作用) 本発明は、上部に発熱性を有する素子が載置される集積
回路基板裏面のメタライズ層と放熱板とを半田にて接合
する混成集積回路装置において、上記メタライズ層と放
熱板間の一部を前記半田の融点より高い耐熱性をもつ弾
性伝熱樹脂で充填したことを特徴とする混成集積回路装
置集積回路である。
本発明によれば、裏メタライズ層と放熱板間の一部を前
記半田の融点より高い耐熱性をもつ弾性伝熱樹脂で充填
し、その他のパワートランジスタなどの高発熱部品の搭
載個所に対応する部分に半田層を形成することにより、
放熱板と集積回路基板との熱膨張の相違から生じる応力
に起因する前記基板の割れを回避し、更に放熱性の良好
な混成集積回路装置をiuる事ができる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例に係るパワーモジュールを第1
図及び第2図を参照して説明する。但し、第2図は第1
図の放熱板と弾性伝熱樹脂の平面図である。
図中の11は、2ケの貫通穴12が開口された例えばC
u、Fe等からなる放熱板である。この放熱板1上には
シリコーンを主体とした枠状の弾性電熱樹脂13が塗布
され、この樹脂13の空洞部分に半田層■4が形成され
ている。ここで、前記樹脂は13は、高発熱部品の搭載
位置に当たる個所を残して塗布されている。前記樹脂1
8及び半田層14上には、裏メタライズ層15を介して
AN z 03 、 AI N。
SiC等からなる集積回路基板1Bが設けられている。
この基板1Bの所定の位置には表メタライズ層17が形
成され、この表メタライズ層17を介して高発熱部品と
しての半導体チップ18やチップ部品19゜及びコイル
20等が形成されている。前記半導体チップ18と表メ
タライズ層17等は、ボンディングワイヤ21により電
気的に接続されている。また、前記半導体チップ18も
しくは集積回路基板16の裏面は、樹脂製の外囲器22
により封止されている。
上記実施例に係るパワーモジュールによれば、集積回路
基板16の裏面メタライズ層15と放熱板11間に枠状
の弾性伝熱樹脂13を塗布し、かつ前記裏面メタライズ
層I5と放熱板11間でかつ高発熱部品の搭載個所に対
応する位置に半田層14を形成した構成になっているた
め、高発熱部品による放熱を裏メクライズ層18.及び
高発熱部品の搭載個所に形成した+田層14を介して放
熱板11により行い、基板16と放熱板の熱膨張差に起
因する基板割れを回避できる。また、従来の発熱部位の
みを半[11接合した場合と比べ、高発熱部品の搭載個
所以外には弾性伝熱樹脂13が塗布されておりしかも半
田の融点は200℃前後であるため、用いた樹脂13は
変化を受けず、前記半田層14以外の個所でも十分な放
熱を行う事ができる。なお、発熱部位が2個所以上離れ
ている場合でも、良好な放熱を行う事ができる。
なお、上記実施例ではパワーモジュールについて説明し
たが、これに限らず、発熱性を有する素子が搭載される
混成集積回路装置全てに適用できる。
上記実施例では、弾性断熱樹脂がシリコーンを主体とす
る樹脂である場合について述べたが、これに限らず、例
えばBNコンポジット樹脂等半田融点より高い耐熱性を
もつ樹脂であればなんでもよい。
[発明の効果] 以上詳述した如く本発明によれば、メタライズ層と放熱
板間の一部を前記半田の融点より高い耐熱性をもつ弾性
伝熱樹脂で充填し、その他の高発熱部品の搭載個所に対
応する部分に半田層を形成することにより、放熱板と集
積回路基板との熱膨張の相違から生じる応力に起因する
前記基板の割れを回避しえる放熱性の良好なる混成集積
回路装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る混成集積回路装置の略
眩面図、第2図は第1図の要部の平面図、第3図は従来
の混成集積回路vt置の略平面図、第4図はX−X線に
沿う断面図である。 11・・・放熱板、13・・・弾性伝熱樹脂、14・・
・半田層、15・・・裏メタライズ層、16・・・集積
回路基板、17・・・表メクライズ層、 18・・・半導体チップ、 19・・・チップ部 口 叩N 20・・・コイル、 21・・・ボンディングワイヤ、 22・・・ 外囲器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 上部に発熱性を有する素子が載置される集積回路基板裏
    面のメタライズ層と放熱板とを半田にて接合する混成集
    積回路装置において、上記メタライズ層と放熱板間の一
    部を前記半田の融点より高い耐熱性をもつ弾性伝熱樹脂
    で充填したことを特徴とする混成集積回路装置。
JP1254006A 1989-09-29 1989-09-29 混成集積回路装置 Pending JPH03116859A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5552637A (en) * 1993-06-14 1996-09-03 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device
US6037659A (en) * 1997-04-28 2000-03-14 Hewlett-Packard Company Composite thermal interface pad
US6464144B1 (en) * 2000-05-18 2002-10-15 Symbol Technologies, Inc. Hand held terminal with an odor sensor

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