JPH0311286A - セラミック焼成炉 - Google Patents

セラミック焼成炉

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JPH0311286A
JPH0311286A JP14776789A JP14776789A JPH0311286A JP H0311286 A JPH0311286 A JP H0311286A JP 14776789 A JP14776789 A JP 14776789A JP 14776789 A JP14776789 A JP 14776789A JP H0311286 A JPH0311286 A JP H0311286A
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ceramic
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Katsu Seno
闊 瀬野
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はマンガン・亜鉛系の電子セラミック材料などの
焼成に使用されるセラミック焼成炉に関する。
[従来の技術1 一般に、マンガン・亜鉛系の電子セラミック材料などの
焼成は、600°Cないし800°Cまでの昇温過程に
は、酸化反応に必要な空気(酸素)を多量に要し、60
0°Cないし800℃以降においては、化合物生成のた
めに、酸素分圧がO,1パーセントないし0.Olパー
セントとなるように制御しなければならない。
従来、このような熱処理を必要とするマンガン・亜鉛系
の電子セラミック材料の焼成には、炉本体がトンネル形
状を有する、いわゆるトンネル式の連続焼成炉が使用さ
れていt:。この連続焼成炉は、セラミックの被焼成物
の昇温過程で多量の空気(酸素)を投入する領域と、セ
ラミックの被焼成物の焼成過程で雰囲気ガス(窒素)を
投入する領域とに分割されており、熱源としては、電気
ヒータが使用されている。この電気ヒータは炉本体内に
設置され、炉本体の一端開口から他端開口に向かって連
続的にプソノユされて炉本体内を連続的Jこ移動する、
セラミックの被焼成物を加熱する。
[発明が解決しようとする課題] ところで、上記従来のセラミック焼成炉では、600°
Cないし800℃までの昇温過程で空気(酸素)が供給
されるので、この空気の加熱のために多量の熱を電気ヒ
ータから供給しなければならない。また、上記セラミッ
ク焼成炉はトンネル式のものであるので、炉本体の内部
空間が炉本体の両端の開口にて外部に開放されており、
a o o ”cないし800’C以降で酸素分圧を低
く制御するためには、多量の窒素を必要とする。このた
め、上記従来のセラミック焼成炉は、使用電気量および
使用ガス量が大きく、非常にランニングコストが高(゛
という問題があった。
また、上記従来のセラミック焼成炉は、連続式のもので
あるので、少量多品種のセラミンク製品の製造には不向
きであり、しかも、炉本体が両端に開口を有するトンネ
ル状のものであるので、雰囲気制御が難しいという問題
もあった。
本発明の目的は、少量多品種のセラミック製品の製造に
適したランニングコストの低い、省エネルギー型のセラ
ミック焼成炉を提供することである。
[課題を解決するだめの手段] このため、本発明は、炉床部もしくは側壁部からセラミ
ックの被焼成物を出し入れするようfこした竪型の炉本
体を有し、この炉本体内に収容された上記セラミ・yり
の被焼成物の昇温過程では酸素を炉本体内に多量に投入
しつつ上記セラミックの被焼成物を加熱する一方、上記
セラミックの被焼成物の焼成過程では雰囲気ガスを炉本
体内に投入して酸素分圧を制御しつつ上記セラミックの
被焼成物を焼成する焼成炉において、 上記昇温過程で炉本体内に燃焼ガスを供給してセラミッ
クの被焼成物を加熱するガス熱源と、上記焼成過程でセ
ラミックの被焼成物を加熱する電気ヒータ熱源とを備え
たことを特徴としている。
[作用1 セラミックの被焼成物の上記昇温および焼成が、閉じた
竪型の炉本体内にて行なわれる。そして、昇温過程にお
いてセラミックの被焼成物の酸化のため供給される多量
の空気(酸素)の加熱に要するエネルギーは、電気より
もエネルギーコストの低い燃焼ガスが使用される。一方
、エネルギー消費が格段に少ない上記焼成過程では、精
密な温度制御が容易な電気ヒータ熱源によりセラミック
の被焼成物の焼成が行なわれる。
[発明の効果1 本発明によれば、セラミンクの被焼成物が閉じた炉本体
内にて焼成され、しかも、多量のエネルギーを必要とす
る昇温過程では、エネルギーコストの低いガス熱源によ
り加熱され、エネルギー消費が少ない焼成過程では、精
密な温度制御が容易な電気ヒータ熱源により加熱される
ので、昇温過程ではセラミックの被焼成物の酸化に必要
な酸素量と加熱に必要な熱量とが安価に迅速かつ均一に
炉本体内に供給することができ、また、焼成過程では、
精密な酸素分圧雰囲気に迅速に精度よく切換ができる。
また、本発明は、パンチ式のものであるので、セラミッ
ク製品の多品種少量生産にも対応することができる。
[実施例1 以下、添付の図面を参照して本発明の詳細な説明する。
本発明に係るセラミンク焼成炉の一実施例の縦断面を図
に示す。
上記セラミック焼成炉は、中空の支持台1上に支持され
た竪型の炉本体2を有し、この炉本体2の炉床3が炉本
体2の下部開口2aに対して上下に昇降する炉床昇降式
のものである。上記炉床3は図示しないスクリュジヤツ
キもしくは油圧式のテーブルリフタにより、図において
実線で示す■の位置(匣詰位置)と、点線で示すHの位
置(匣出し位置)との間で昇降する。
上記炉本体2には、その内部空間4を横断して炉本体2
の内壁間をブリッジするように、複数列の炭化珪素系の
棒状の電気ヒータ5が、上記炉本体2の下から上に間隔
をおいて配置される。そして、上記炉床3がIの位置に
上昇している状態でま、炉床3上にてセラミンクの被焼
成物(図示せず。)が収容されて多段に積み重ねられた
匣lOは、電気ヒータ5の隣り合う列の間に配置される
また、炉本体2の底壁にはシリコンラバー13aが固定
され、炉床3が1の位置に上昇した状態のとき炉床3側
のL字金具13bがこのシリコンラバ 13aと密着し
、炉内の気密性が保たれる。
上記電気ヒータ5の上下方向の間隔dや、水平方向の距
離し、さらには発熱部分の長さは、炉本体2内へのセラ
ミックの被焼成物の充填量により異なる。本実施例では
、直径が30朋−で長さが1000mmないし1800
朋の電気ヒータ5を、炉本体2の上下方向に10本、水
平方向に4列、合計40本使用し、これら電気ヒータ5
を8回路独立制御する構成を有する。
上記炉本体2には、その対向する一対の側壁7の各下部
に2個所、合計4個所バーナロ6が設けられる。これら
バーナ口6は、バーナ11に接続される。そして、上記
炉本体12内には、上記各バーナ口6に対向して隔壁8
が設けられる。上記各バーナ口6から炉本体2内に供給
される燃焼ガスは、上記隔壁8に当たって炉本体2の側
壁7に沿って炉本体2内の炉天井12まで上昇したのち
、多段に積み重ねられた匣IOの各列の間を通過し、上
記炉床3に設けられた排ガス排出口9から、炉本体2外
に排出される。この過程で炉本体2内に供給された空気
が加熱され、上記匣lO内のセラミックの被焼成物に供
給される。
なお、上記バーナ口6は、一対の上記側壁7の各々につ
いて3個所、合計6個所設けて、隔壁8を千鳥状に配置
するようにしてもよい。
セラミックの被焼成物の焼成過程では、上記バナロ6よ
りの燃焼ガスの供給を止め、図示しないガス供給口より
、窒素ガスが炉本体2内に供給される。
上記焼成炉では、600℃ないし800°Cまでの土兄
昇温過程においてセラミックの被焼成物の酸化のため供
給される多量の空気(酸素)の加熱に要するエネルギー
は、電気よりもコストの低い燃焼ガスが使用される。一
方、エネルギー消費が格段jコ少ない一ヒ記焼成過程で
は、精密な温度制御が容易な電気ヒータ5によりセラミ
ンクの被焼成物の焼成が行なわれる。
これにより、昇温過程ではセラミ7りの被焼成物の酸化
反応に必要な酸素量と加熱に必要な熱量とが安価に迅速
かつ均一に炉本体内に供給される。
また、焼成過程では、精密な酸素雰囲気に迅速に精度よ
く切り換えられる。
また、セラミックの被焼成物の昇温過程および焼成過程
が、閉じた竪型の炉本体を有するバッチ炉にて行なわれ
るので、セラミック製品の多品種少量生産も容易に行え
る。
本発明は、炉床昇降式のセラミック焼成炉のほかに、炉
本体の壁面に匣を出し入れするための扉ををするものに
も適用することができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明に係るセラミック焼成炉の一実施例の縦断面
図である。 2・・炉本体、2a開口、3・・炉床、5・・電気ヒー
タ、6・・・バーナ口、7・・・側壁、8・・隔壁、9
・・・排ガス排出口、lO・・・匣、11・・・バーナ
、12・・・炉天井。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)炉床部もしくは側壁部からセラミックの被焼成物
    を出し入れするようにした竪型の炉本体を有し、この炉
    本体内に収容された上記セラミックの被焼成物の昇温過
    程では酸素を炉本体内に多量に投入しつつ上記セラミッ
    クの被焼成物を加熱する一方、上記セラミックの被焼成
    物の焼成過程では雰囲気ガスを炉本体内に投入して酸素
    分圧を制御しつつ上記セラミックの被焼成物を焼成する
    焼成炉において、 上記昇温過程で炉本体内に燃焼ガスを供給してセラミッ
    クの被焼成物を加熱するガス熱源と、上記焼成過程でセ
    ラミックの被焼成物を加熱する電気ヒータ熱源とを備え
    たことを特徴とするセラミック焼成炉。
JP14776789A 1989-06-08 1989-06-08 セラミック焼成炉 Expired - Fee Related JPH0711392B2 (ja)

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JPH0311286A true JPH0311286A (ja) 1991-01-18
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020153978A (ja) * 2019-03-18 2020-09-24 モントレー ブレゲ・エス アー 回転ベゼルを備える時計ケース

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