JPH03105857A - 電極の製造法 - Google Patents
電極の製造法Info
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- JPH03105857A JPH03105857A JP1244687A JP24468789A JPH03105857A JP H03105857 A JPH03105857 A JP H03105857A JP 1244687 A JP1244687 A JP 1244687A JP 24468789 A JP24468789 A JP 24468789A JP H03105857 A JPH03105857 A JP H03105857A
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Classifications
-
- Y02E60/12—
Landscapes
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、7イ〃ム状の超薄形電池に用いる電極の製造
法に関するものである。
法に関するものである。
従来技術とその問題点
従来の薄形電池の正橋としては、導電材、結着剤、正極
作用物質を混合し%F−}状の薄膜としていた。
作用物質を混合し%F−}状の薄膜としていた。
この場合、V一トの厚さは正極作用物質の粒径または、
充填率に依存している。
充填率に依存している。
前者はサブミクロンサイズの製造が困難であり、後者で
は充填率を上げることが困難であるという点で、10P
IH以下の厚みの薄膜正極を製造することは容易ではな
かった。
は充填率を上げることが困難であるという点で、10P
IH以下の厚みの薄膜正極を製造することは容易ではな
かった。
発明の目的
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであり
、生産性に優れた、均一な厚みの超薄膜の電極を提供す
ることを目的とするものである。
、生産性に優れた、均一な厚みの超薄膜の電極を提供す
ることを目的とするものである。
発明の構或
本発明は、上記目的を達或するべく、
ガス中蒸発法で生或した金属の微粒子を気流に乗せて基
板に吹きつけ、電極を形或する製造法で蒸発源に純金属
を用い、ガス中に金JIK蒸気と反応するガスを混合さ
せて作用物質を生或することを特徴とする電極の製造法
である。
板に吹きつけ、電極を形或する製造法で蒸発源に純金属
を用い、ガス中に金JIK蒸気と反応するガスを混合さ
せて作用物質を生或することを特徴とする電極の製造法
である。
又1金属蒸気と反応するガスが酸素である前紀の電極の
製造法である。
製造法である。
又、純金属がマンガンである前記の電極の製造法である
。
。
又、純金属がバナジウムである前記のW極の製造法であ
る。
る。
突施例
以下、本発明の詳細について実施例により説明する。
第1図は本発明の製造装置の概略図である。
ここで1は蒸発室、2はpツボ、3は高周波誘導加熱器
、4は差動排気室、5はノズμ、6はデポジF,冫室、
7は真空ポンプ、8は基板、9は供給ガス流入口である
。
、4は差動排気室、5はノズμ、6はデポジF,冫室、
7は真空ポンプ、8は基板、9は供給ガス流入口である
。
蒸発室において、〃ツボの中に金属マンガンを入れて、
高周波誘導加熱器により加熱溶融し、気化させ微粒子化
マンガンを形戒する。供給ガス(H6/02混合ガス)
ノ圧力を1 00torr ト1,、デボジV曹冫室の
圧力を真空ポンプにより0.12torrとするo 0
.8tsx10mのノズ〃を用いて、微粒子化二酸化マ
ンガンなデボジV奮冫室のステンレス箔上に、ガス気流
に乗せて吹きつける。
高周波誘導加熱器により加熱溶融し、気化させ微粒子化
マンガンを形戒する。供給ガス(H6/02混合ガス)
ノ圧力を1 00torr ト1,、デボジV曹冫室の
圧力を真空ポンプにより0.12torrとするo 0
.8tsx10mのノズ〃を用いて、微粒子化二酸化マ
ンガンなデボジV奮冫室のステンレス箔上に、ガス気流
に乗せて吹きつける。
これによって、10ll11巾で長さ10鴎、厚さ10
pI11のコー・ディング層が形成された。コーティ冫
グされた部分を、X線回折法によって測定し出 たとこる無定形のMn02と固定された●ステンレス箔
の基板上に噴射堆積により、強固な堆積体が形或された
。(ガスデボジV一冫法と称する。) 尚〜微粒子化マンガンがガス中の酸素と反応し、微粒子
化二酸化マンガンが形成されたものである。
pI11のコー・ディング層が形成された。コーティ冫
グされた部分を、X線回折法によって測定し出 たとこる無定形のMn02と固定された●ステンレス箔
の基板上に噴射堆積により、強固な堆積体が形或された
。(ガスデボジV一冫法と称する。) 尚〜微粒子化マンガンがガス中の酸素と反応し、微粒子
化二酸化マンガンが形成されたものである。
こ覧で得られた堆積体は、通常の溶解、凝固方法では得
ることのできないものであり、結合剤(バインダー)を
必要としないので、乾式で清浄な製造法である。
ることのできないものであり、結合剤(バインダー)を
必要としないので、乾式で清浄な製造法である。
しかも生産性に優れ、均一な超薄形の電極を得ることが
出来る。
出来る。
上起寮施例では、純金属の材料としてマンガ冫について
記したが、パナジウ▲、モリブデン、チタン等を用いて
も同様な電極を得ることが出来る。
記したが、パナジウ▲、モリブデン、チタン等を用いて
も同様な電極を得ることが出来る。
発明の効果
上述した如く、本発明は生産性に優れた1均一な厚みの
超薄膜の電極を提供することが出来るので、その工業的
価値は極めて大である。
超薄膜の電極を提供することが出来るので、その工業的
価値は極めて大である。
1・・・蒸発室 2・・・μツボ5・・・
高周波誘導加熱器 4・・・差動排気室5・・・ノズ
lv 6・・・デボジVwy室7・・・真
空ボンプ 8・・・基板9・・・供給ガス流入
口
高周波誘導加熱器 4・・・差動排気室5・・・ノズ
lv 6・・・デボジVwy室7・・・真
空ボンプ 8・・・基板9・・・供給ガス流入
口
Claims (4)
- (1)ガス中蒸発法で生成した金属の微粒子を気流に乗
せて基板に吹きつけ、電極を形成する製造法で蒸発源に
純金属を用い、ガス中に金属蒸気と反応するガスを混合
させて作用物質を生成することを特徴とする電極の製造
法。 - (2)金属蒸気と反応するガスが酸素である請求項1記
載の電極の製造法。 - (3)純金属がマンガンである請求項1又は2記載の電
極の製造法。 - (4)純金属がバナジウムである請求項1又は2記載の
電極の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1244687A JPH03105857A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 電極の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1244687A JPH03105857A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 電極の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03105857A true JPH03105857A (ja) | 1991-05-02 |
Family
ID=17122449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1244687A Pending JPH03105857A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 電極の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03105857A (ja) |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP1244687A patent/JPH03105857A/ja active Pending
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