JPH0292684A - 光学記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、レーザ光特に半導体レーザによる古き込み記
録に適した光学的記録媒体に関し、詳しくは光ディスク
および光カート技術に用いつる新規な光学的記録媒体に
関するものである。
録に適した光学的記録媒体に関し、詳しくは光ディスク
および光カート技術に用いつる新規な光学的記録媒体に
関するものである。
[従来の技術]
一般に、光ディスクおよび光カートは、基板の上に設け
た薄い記録層に形成された光学的に検出可能な小さな(
例えば、約IIL)ピットをらせん状又は円形のトラッ
ク形態にして高密度情報を記憶することがてきる。
た薄い記録層に形成された光学的に検出可能な小さな(
例えば、約IIL)ピットをらせん状又は円形のトラッ
ク形態にして高密度情報を記憶することがてきる。
この様なディスクに情報を書込むには、レーザ感応層(
記録層)の表面に集束したレーザを走査し、このレーザ
光線か照射された表面のみにピットを形成し、このピッ
トをらせん状、円形または直線状トラ・ンクの形態で形
成する。レーザ感応層(記録層)は、レーザ・エネルギ
ーを吸収して光学的に検出可能なピットを形成てきる。
記録層)の表面に集束したレーザを走査し、このレーザ
光線か照射された表面のみにピットを形成し、このピッ
トをらせん状、円形または直線状トラ・ンクの形態で形
成する。レーザ感応層(記録層)は、レーザ・エネルギ
ーを吸収して光学的に検出可能なピットを形成てきる。
例えば、ヒートモート記録方式ては、レーザ感応層(記
録層)は熟エネルギーを吸収し、その個所に蒸発又は融
解により小さな凹部(ピット)を形成できる。また、別
のヒートモート記録方式ては、照射されたレーザ・エネ
ルギーの吸収により、その個所に光学的に検出0[能な
濃度差を有するピットな形成てきる。
録層)は熟エネルギーを吸収し、その個所に蒸発又は融
解により小さな凹部(ピット)を形成できる。また、別
のヒートモート記録方式ては、照射されたレーザ・エネ
ルギーの吸収により、その個所に光学的に検出0[能な
濃度差を有するピットな形成てきる。
この光ディスクおよび光カートに記録された情報は、レ
ーザ光をトラックに沿って走査し、ピットか形成された
部分とピットか形成されていない部分の光学的変化を読
み増ることによって検出される。例えば、レーザ光かト
ラックに沿って走査され、ディスクにより反射されたエ
ネルギーかフォトディテクターによってモニターされる
。ピットトか形成されている部分は、レーザ光の反射は
低くなりフォトディテクターの出力(よ低下する。
ーザ光をトラックに沿って走査し、ピットか形成された
部分とピットか形成されていない部分の光学的変化を読
み増ることによって検出される。例えば、レーザ光かト
ラックに沿って走査され、ディスクにより反射されたエ
ネルギーかフォトディテクターによってモニターされる
。ピットトか形成されている部分は、レーザ光の反射は
低くなりフォトディテクターの出力(よ低下する。
方、ピットか形成されていない部分は、レーザ光は充分
に反射されフォトディテクターの出力は大きくなる。
に反射されフォトディテクターの出力は大きくなる。
この様な光ディスクおよび光カートに用いる光学的記録
媒体として、これまてアルミニウム蒸着膜などの金属薄
膜、ビスマス薄膜、酸化テルル薄膜やカルコゲナイド系
非晶質ガラス膜などの無機物質を主に用いたものか提案
されている。これらの薄膜は、一般に350〜800n
m付近の波長光で感応性であるとともに、レーザ光に対
する反射率か高いため、レーザ光の利用率が低い等の欠
点かある。
媒体として、これまてアルミニウム蒸着膜などの金属薄
膜、ビスマス薄膜、酸化テルル薄膜やカルコゲナイド系
非晶質ガラス膜などの無機物質を主に用いたものか提案
されている。これらの薄膜は、一般に350〜800n
m付近の波長光で感応性であるとともに、レーザ光に対
する反射率か高いため、レーザ光の利用率が低い等の欠
点かある。
この様なことから、近年比較的長波長(例えば、780
ns以上)の光エネルギーで光学的な物性変化可能な有
機薄膜の研究がなされている。この様な有* 61膜は
、例えば発振波長か780ns又は830 n臘付近の
半導体レーザによりピットを形成てきる点で有効なもの
である。
ns以上)の光エネルギーで光学的な物性変化可能な有
機薄膜の研究がなされている。この様な有* 61膜は
、例えば発振波長か780ns又は830 n臘付近の
半導体レーザによりピットを形成てきる点で有効なもの
である。
しかし、一般に長波長側に吸収特性をもつ有機化合物は
、熱に対して不安定な問題がある。
、熱に対して不安定な問題がある。
例えば、光学記録媒体の取扱いは必ずしも空調設備の整
ったオフィスでのみ使用されるわけてはなく、運送倉庫
ての保管、ドライブ装置の機内昇温等を考慮する必要か
あり高温における安定性により優れた媒体か望まれてい
る。特に、光学記録媒体か光カートである場合はカート
としての厚み及び強度の点て中空構造(エアーサントイ
・ンチ構造)を取ることは困難で、記録層上に直接接着
剤て対向基板を貼合せる貼合せ構造となる。その際に用
いる接着剤としては記録層の書き込み感度゛を落さず作
業性に優れるホットメルト系の接着剤が有効である。し
かし、ホットメルト系の接着剤ては貼合わせ時に短時間
ではあるか100℃位になる為、記録層はより耐熱性に
優れたものが望まれている。さらに、光カードは個人で
の持ち運びによる取扱いとなる場合か多く、粗雑に扱わ
れる可能性か高い為、耐熱性を始めとする環境安定性に
優れたものが望まれている。
ったオフィスでのみ使用されるわけてはなく、運送倉庫
ての保管、ドライブ装置の機内昇温等を考慮する必要か
あり高温における安定性により優れた媒体か望まれてい
る。特に、光学記録媒体か光カートである場合はカート
としての厚み及び強度の点て中空構造(エアーサントイ
・ンチ構造)を取ることは困難で、記録層上に直接接着
剤て対向基板を貼合せる貼合せ構造となる。その際に用
いる接着剤としては記録層の書き込み感度゛を落さず作
業性に優れるホットメルト系の接着剤が有効である。し
かし、ホットメルト系の接着剤ては貼合わせ時に短時間
ではあるか100℃位になる為、記録層はより耐熱性に
優れたものが望まれている。さらに、光カードは個人で
の持ち運びによる取扱いとなる場合か多く、粗雑に扱わ
れる可能性か高い為、耐熱性を始めとする環境安定性に
優れたものが望まれている。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、この様な現状に鑑みてなされたものてあり、
その目的は、長波長側に吸収帯をもつ有機薄膜からなる
記録層を有する光学記録媒体を提供することにある。
その目的は、長波長側に吸収帯をもつ有機薄膜からなる
記録層を有する光学記録媒体を提供することにある。
本発明の別の目的は、高温高湿の環境条件下においても
より安定性の向上した色素薄膜からなる記録層を有する
光学記録媒体を提供することにある。
より安定性の向上した色素薄膜からなる記録層を有する
光学記録媒体を提供することにある。
本発明の別の目的は感度および記録に伴う光学特性の変
化を向上させた光学記録媒体を提供することにある、 本発明の別の目的は塗工法による製造か可能な光学記録
媒体を提供することにある。
化を向上させた光学記録媒体を提供することにある、 本発明の別の目的は塗工法による製造か可能な光学記録
媒体を提供することにある。
[課題を解決するための手段]および[作用]即ち、本
発明は、下記一般式[II、[II]。
発明は、下記一般式[II、[II]。
[ml、[171または[V]で表わされるアザアズレ
ニウム塩化合物を一種または二種以上含有する記録層を
有することを特徴とする光学記録媒体である。
ニウム塩化合物を一種または二種以上含有する記録層を
有することを特徴とする光学記録媒体である。
一般式[II
一般式[II ]
一般式[V]
一般式[ml
■
(但し、一般式[I]〜[V]において、AはXθ
一般式[IV]
を表わす。R1”’−R2?は水素原子、ハロゲン原子
又は1価の有機残基を表わし、又はRI6とR87゜R
1?とR1a+ R111とL9+ 1119とR
20* f12aとR23+ R23とR24+
R2’sとR26およびR26とRoの組合せのうち少
なくとも1つの組合せで置換又は未置換の縮合環を形成
してもよい、Yは置換又は未置換の5t1環もしくは6
員環を形成する2価の炭化水素基を示す、Ilは1.2
又は3、mは0又は1、nはO又はt、pはl又は2.
qはl又は2の整数を示す、xoはアニオン残基を示す
、) 以下、本発明の詳細な説明する。
又は1価の有機残基を表わし、又はRI6とR87゜R
1?とR1a+ R111とL9+ 1119とR
20* f12aとR23+ R23とR24+
R2’sとR26およびR26とRoの組合せのうち少
なくとも1つの組合せで置換又は未置換の縮合環を形成
してもよい、Yは置換又は未置換の5t1環もしくは6
員環を形成する2価の炭化水素基を示す、Ilは1.2
又は3、mは0又は1、nはO又はt、pはl又は2.
qはl又は2の整数を示す、xoはアニオン残基を示す
、) 以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の光学記録媒体は、電磁放射線を吸収して熱作用
を受け、かかる熱作用によって光学変化を生じる萌記一
般式日」〜[V]て示されるアザアズレニウム塩化合物
を含有する薄膜からなる記録層を有することに特徴かあ
る。
を受け、かかる熱作用によって光学変化を生じる萌記一
般式日」〜[V]て示されるアザアズレニウム塩化合物
を含有する薄膜からなる記録層を有することに特徴かあ
る。
一般式[Il 〜[V]におイテ、 R+ 〜R2t
は水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、沃素原子)又は1価の有機残基な表わす。
は水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭
素原子、沃素原子)又は1価の有機残基な表わす。
1価の有機残基としては、広範なものから選択すること
かできるか、特にアルキル基(メチル。
かできるか、特にアルキル基(メチル。
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t
−ブチル、n−アミル、n−ヘキシル、n−オクチル、
2−エチルヘキシル、t−オクチルなど)、アルコキシ
基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど)
1M換もしくは未置換のアリール基(フェニル、トリル
、キシリル、エチルフェニル、メトキシフェニル、エト
キシフェニル、クロロフェニル、ニトロフェニル、ジメ
チルアミノフェニル、α−ナフチル、β−ナフチルなど
)、置換もしくは未置換の複素環基(ピリジル、キノリ
ル、カルバゾリル、フリル、チエニル、ピラゾリルなど
)置換もしくは未置換のアラルキル基(ベンジル、2−
フェニルエチル、2−フェニル−1−メチルエチル、ブ
ロモベンジル、2−ブロモフェニルエチル、メチルベン
ジル、メトキシベンジル、ニトロベンジル)、アシル基
(アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ベン
ゾイル、トリオイル、ナフトイル、フタロイル、フロイ
ルなど)、置換もしくは未置換アミノ基(アミノ、ジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、アセ
チルアミノ、ベンゾイルアミノなど)、5!i換もしく
は未置換スチリル基(スチリル、ジメチルアミノスチリ
ル、ジエチルアミノスチリル、ジプロピルアミノスチリ
ル。
−ブチル、n−アミル、n−ヘキシル、n−オクチル、
2−エチルヘキシル、t−オクチルなど)、アルコキシ
基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど)
1M換もしくは未置換のアリール基(フェニル、トリル
、キシリル、エチルフェニル、メトキシフェニル、エト
キシフェニル、クロロフェニル、ニトロフェニル、ジメ
チルアミノフェニル、α−ナフチル、β−ナフチルなど
)、置換もしくは未置換の複素環基(ピリジル、キノリ
ル、カルバゾリル、フリル、チエニル、ピラゾリルなど
)置換もしくは未置換のアラルキル基(ベンジル、2−
フェニルエチル、2−フェニル−1−メチルエチル、ブ
ロモベンジル、2−ブロモフェニルエチル、メチルベン
ジル、メトキシベンジル、ニトロベンジル)、アシル基
(アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ベン
ゾイル、トリオイル、ナフトイル、フタロイル、フロイ
ルなど)、置換もしくは未置換アミノ基(アミノ、ジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、アセ
チルアミノ、ベンゾイルアミノなど)、5!i換もしく
は未置換スチリル基(スチリル、ジメチルアミノスチリ
ル、ジエチルアミノスチリル、ジプロピルアミノスチリ
ル。
メチルスチリル、エトキシスチリル、メチルスチリルな
ど)、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、チオ−
エーテル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、カ
ルボン酸アミド、シアノ基又は置換もしくは未置換アリ
ールアゾ基(フェニルアゾ、α−ナフチルアゾ、β−ナ
フチルアゾ、ジメチルアミノフェニルアゾ、クロロフェ
ニルアゾ、ニトロフェニルアゾ、メトキシフェニルアゾ
、トリルアゾなど)を挙げることができる。
ど)、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、チオ−
エーテル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、カ
ルボン酸アミド、シアノ基又は置換もしくは未置換アリ
ールアゾ基(フェニルアゾ、α−ナフチルアゾ、β−ナ
フチルアゾ、ジメチルアミノフェニルアゾ、クロロフェ
ニルアゾ、ニトロフェニルアゾ、メトキシフェニルアゾ
、トリルアゾなど)を挙げることができる。
また、 1116とR1?+ R17とR111+
RIJIとn19+ 1119とR2,、R2□
とk F<23とR24t LsとR21i およびR
2GとR2?の組合せのうら少なくとも1つの組合せで
置換又は未置換の縮合環を形成してもよい、縮合環とし
ては、5員、60.または7負環の縮合環であり、芳香
族環(ベンゼン、ナフタレン、クロロベンゼン、ブロモ
ベンゼン、メチルベンゼン、エチルベンゼン、メトキシ
ベンゼン、エトキシベンゼンなど)、複素環(フラン環
、ベンゾフラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジ
ン環、キノリン環、チアゾール環など)、脂肪族環(ジ
メチレン、トリメチレン、テトラメチレンなど)か挙げ
られる。
RIJIとn19+ 1119とR2,、R2□
とk F<23とR24t LsとR21i およびR
2GとR2?の組合せのうら少なくとも1つの組合せで
置換又は未置換の縮合環を形成してもよい、縮合環とし
ては、5員、60.または7負環の縮合環であり、芳香
族環(ベンゼン、ナフタレン、クロロベンゼン、ブロモ
ベンゼン、メチルベンゼン、エチルベンゼン、メトキシ
ベンゼン、エトキシベンゼンなど)、複素環(フラン環
、ベンゾフラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジ
ン環、キノリン環、チアゾール環など)、脂肪族環(ジ
メチレン、トリメチレン、テトラメチレンなど)か挙げ
られる。
Yは、置換又は未置換の5員環もしくは6員環を形成す
る2価の炭化水素基(−C[2−C112−CIl、
C113 示し、これらの5員環または6員環は、ベンゼン環、ナ
フタレン環などと縮合されていてもよい。
る2価の炭化水素基(−C[2−C112−CIl、
C113 示し、これらの5員環または6員環は、ベンゼン環、ナ
フタレン環などと縮合されていてもよい。
また1式中のアニオン残2&X0は、塩素イオン、臭素
イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、硝酸塩イオ
ン、ベンゼンスルホン酸塩イオン、p−トルエンスルホ
ン酸塩イオン、メチル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオ
ン、プロピル硫酸塩イオン、テトラフルオロホウ酸塩イ
オン、テトラフェニルホウ醜塩イオン、ヘキサフルオロ
リン酸塩イオン、ベンゼンスルフィン酸塩イオン、酢酸
塩イオン、トリフルオロ酢酸塩イオン、プロピオン酢酸
塩イオン、安息香酸塩イオン、シュウ酸塩イオン、コハ
ク酸塩イオン、マロン酸塩イオン、オレイン醜塩イオン
、ステアリン酸塩イオン、クエン酸塩イオン、−木素二
リン酸塩イオン、二水素−リン酸塩イオン、ペンタクロ
ロスズ耐塩イオン、クロロスルホン酸塩イオン、フルオ
ロスルホン酸塩イオン、トリフルオロメタンスルホン酸
塩イオン、ヘキサフルオロヒ醜塩イオン、ヘキサフルオ
ロアンチモン酸塩イオン、七すツデン酸塩イオン、タン
グステン酸塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン酸塩
イオンなどの陰イオンを示す。
イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、硝酸塩イオ
ン、ベンゼンスルホン酸塩イオン、p−トルエンスルホ
ン酸塩イオン、メチル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオ
ン、プロピル硫酸塩イオン、テトラフルオロホウ酸塩イ
オン、テトラフェニルホウ醜塩イオン、ヘキサフルオロ
リン酸塩イオン、ベンゼンスルフィン酸塩イオン、酢酸
塩イオン、トリフルオロ酢酸塩イオン、プロピオン酢酸
塩イオン、安息香酸塩イオン、シュウ酸塩イオン、コハ
ク酸塩イオン、マロン酸塩イオン、オレイン醜塩イオン
、ステアリン酸塩イオン、クエン酸塩イオン、−木素二
リン酸塩イオン、二水素−リン酸塩イオン、ペンタクロ
ロスズ耐塩イオン、クロロスルホン酸塩イオン、フルオ
ロスルホン酸塩イオン、トリフルオロメタンスルホン酸
塩イオン、ヘキサフルオロヒ醜塩イオン、ヘキサフルオ
ロアンチモン酸塩イオン、七すツデン酸塩イオン、タン
グステン酸塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン酸塩
イオンなどの陰イオンを示す。
eは1.2又は3、mはO又は1.nは0又はt、pは
l又は2、qはl又は2の整数である。
l又は2、qはl又は2の整数である。
以下1本発明て用いられるアザアズレニウム塩化合物の
具体例を下記に列挙するが、これらに制限されるものて
はない。
具体例を下記に列挙するが、これらに制限されるものて
はない。
前記一般式[I]で表わされる化合物の例[I ]−(
1) cf!o4゜ I 1−(2) し1■コ [ ■ ]−(4) [I ]−(6) B F 4F> [ ■ ]−(5) ]−(7) [ ■ ]−(8) [ ■ ]−(9) [ 工 ]−(10) [ [ 111−(:1) FSO,−SbF。
1) cf!o4゜ I 1−(2) し1■コ [ ■ ]−(4) [I ]−(6) B F 4F> [ ■ ]−(5) ]−(7) [ ■ ]−(8) [ ■ ]−(9) [ 工 ]−(10) [ [ 111−(:1) FSO,−SbF。
CF35O:10
n目1
[
1、]−(11)
前記一般式
[
]
%式%](1)
[
](4)
[
で表わされる化合物の例
前記一般式[In]
て表わされる化合物の例
[III ]−(1)
p
cpo、e
C1(3
[I11]−(2)
[m ]−(5)
前記一般式[IVi
で表わされる化合物の例
[IV ]−(1)
(I l; It :+
υL;11:1
[111]
[ml−(4)
[IVi
[IVi−(3)
[I]−(4)
[V ]−(2)
[V ]−(3)
前記一般式[V]で表わされる化合物の例[V ]−(
1) [V ]−(4) 前記一般式[1F〜[m]で表わされる化合物は、シャ
ナル オフ ザ ケミカル ソサイエティ(Jouna
l of the Chemical 5ociet
y ) 。
1) [V ]−(4) 前記一般式[1F〜[m]で表わされる化合物は、シャ
ナル オフ ザ ケミカル ソサイエティ(Jouna
l of the Chemical 5ociet
y ) 。
3591〜3592頁(1961年)に記載されている
合成方法と同様に、アザアズレン化合物またはアザアズ
レン化合物誘導体と、中間銅を形成する例えばマロンジ
アルデヒド類又はグルタコンジアルデヒド類、2−クロ
ロ−1−ホルミル−3−ヒドロキシメチレンシクロヘキ
センイソホロンの様なヒドロキシ化合物、ジヒドロキシ
化合物、カルボニル化合物、ジアミノ化合物あるいはト
リメトキシ化合物等を強酸存在下で反応させることによ
って合成することができる。
合成方法と同様に、アザアズレン化合物またはアザアズ
レン化合物誘導体と、中間銅を形成する例えばマロンジ
アルデヒド類又はグルタコンジアルデヒド類、2−クロ
ロ−1−ホルミル−3−ヒドロキシメチレンシクロヘキ
センイソホロンの様なヒドロキシ化合物、ジヒドロキシ
化合物、カルボニル化合物、ジアミノ化合物あるいはト
リメトキシ化合物等を強酸存在下で反応させることによ
って合成することができる。
あるいは、前記一般式[IV]および[V]で表わされ
る化合物は、アンゲハンテ ケミ−(Angewand
te Chemie) 78巻、 No、211.
937頁(1966年)に記載されている様に、アザ
アズレン化合物またはアザアズレン化合物誘導体と、ス
クワリック酸又はクロコン酸と適当な溶媒中で反応させ
ることによって容易に得ることができる。
る化合物は、アンゲハンテ ケミ−(Angewand
te Chemie) 78巻、 No、211.
937頁(1966年)に記載されている様に、アザ
アズレン化合物またはアザアズレン化合物誘導体と、ス
クワリック酸又はクロコン酸と適当な溶媒中で反応させ
ることによって容易に得ることができる。
本発明の光学記録媒体は、第1図に示す様に、基板lの
上に前記一般式[I]〜[V]で示されるアザアズレニ
ウム塩化合物を含有する記録層2を設けることにより形
成することかできる。
上に前記一般式[I]〜[V]で示されるアザアズレニ
ウム塩化合物を含有する記録層2を設けることにより形
成することかできる。
基板lとしては、ポリカーボネート、ポリエステル、ア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミドなどのプラスチッ
ク、ガラスあるいは金属類などを用いることかできる。
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミドなどのプラスチッ
ク、ガラスあるいは金属類などを用いることかできる。
記録層2の形成にあたって、前記一般式[I]〜[V]
で示されるアザアズレニウム塩化合物を1種または2種
以−L組合せて用いることがてき。
で示されるアザアズレニウム塩化合物を1種または2種
以−L組合せて用いることがてき。
さらに他の染料、例えば、前記一般式[I]〜[V]の
化合物以外のアザアズレン系、ポリメチン系、アズレン
系、ビリリウム系、スクアリウム系、クロコニウム系、
トリフェニルメタン系、キサンチン系、アントラキノン
系、シアニン系、フタロシアニン系、ジオキサジン系、
テトラヒドロコリン系、トリフエッチアジン系、フェナ
ンスレン系、アミニウム塩・ジイモニウム塩基、金属キ
レート錯体系染料など、あるいは金属および金属化合物
など1例えばAl、 Te、 lli、 Sn、 In
、 Se。
化合物以外のアザアズレン系、ポリメチン系、アズレン
系、ビリリウム系、スクアリウム系、クロコニウム系、
トリフェニルメタン系、キサンチン系、アントラキノン
系、シアニン系、フタロシアニン系、ジオキサジン系、
テトラヒドロコリン系、トリフエッチアジン系、フェナ
ンスレン系、アミニウム塩・ジイモニウム塩基、金属キ
レート錯体系染料など、あるいは金属および金属化合物
など1例えばAl、 Te、 lli、 Sn、 In
、 Se。
Sho、 TeO□、 As、 Cdなど、あるいは紫
外線吸収剤などと混合分散あるいは積層してもよい。
外線吸収剤などと混合分散あるいは積層してもよい。
記録層2は塗布法あるいは蒸着法等の種々の方法により
基板l上に形成される。塗布法を用いる場合には、アザ
アズレニウム塩化合物を有機溶媒中に溶解あるいは分散
した溶液を基板l上に塗布することによって形成するこ
とかてきる。また必要に応して成膜性および塗膜安定性
を考慮してバインターを記録層中に混合して成膜するこ
ともてきる。
基板l上に形成される。塗布法を用いる場合には、アザ
アズレニウム塩化合物を有機溶媒中に溶解あるいは分散
した溶液を基板l上に塗布することによって形成するこ
とかてきる。また必要に応して成膜性および塗膜安定性
を考慮してバインターを記録層中に混合して成膜するこ
ともてきる。
塗布の際に使用てきる有機溶媒は、前述のアザアズレニ
ウム塩化合物を分散状!島とするか、或いは溶解状態と
するかによって異なるか、一般にはアルコール系、ケト
ン系、アミド系、エーテル系、エステル系、脂肪族ハロ
ゲン化炭化水素系、芳香族系、脂肪族炭化水素系などの
溶媒を用いることがてきる。
ウム塩化合物を分散状!島とするか、或いは溶解状態と
するかによって異なるか、一般にはアルコール系、ケト
ン系、アミド系、エーテル系、エステル系、脂肪族ハロ
ゲン化炭化水素系、芳香族系、脂肪族炭化水素系などの
溶媒を用いることがてきる。
また、バインダーとしては、例えばニトロセルロース、
エチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルピロリド
ン、ポリメチルメタクリレート。
エチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルピロリド
ン、ポリメチルメタクリレート。
ポリアミドなどが挙げられる。また、必要により、ワッ
クス、高級脂肪酸、アミド類(例えば、オレイルアミド
)を添加剤として用いる。
クス、高級脂肪酸、アミド類(例えば、オレイルアミド
)を添加剤として用いる。
以上のバインダーにジオクチルフタレート、ジツチルフ
タレート、トリクレジルフォスフェート笠の可塑剤、鉱
油、植物油等の油剤、更にアルキルベンゼンスルホン酸
ソーダ、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
等の分散剤及びその他の添加剤を適宜混合させ記録層の
成膜性、塗膜安定性を高めることかてきる。
タレート、トリクレジルフォスフェート笠の可塑剤、鉱
油、植物油等の油剤、更にアルキルベンゼンスルホン酸
ソーダ、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
等の分散剤及びその他の添加剤を適宜混合させ記録層の
成膜性、塗膜安定性を高めることかてきる。
塗膜は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法
、スピンナーコーティング法、ビートコーティング法、
マイヤーバーコーティング法。
、スピンナーコーティング法、ビートコーティング法、
マイヤーバーコーティング法。
フレートコーティング法、ローラーコーチインク法、グ
ラビアコーティング法などのコーティング法を用いて行
うことがてきる。
ラビアコーティング法などのコーティング法を用いて行
うことがてきる。
記録層2中のアザアズレニウム塩化合物の含有¥は通常
40〜100重量%、好ましくは50〜100重量%が
9ましい。40重量%未満では記録層の十分な光吸収性
と再生レーザー光に対して十分な光反射率を得ることか
できない。
40〜100重量%、好ましくは50〜100重量%が
9ましい。40重量%未満では記録層の十分な光吸収性
と再生レーザー光に対して十分な光反射率を得ることか
できない。
また、記録層2の膜厚は100人〜20終1、好ましく
は200人〜lpmが適当である。なお、記録レーザー
光に対して十分な光反射性を有する薄膜を安定に形成で
き得るならば可能な限り薄いほうかよい。
は200人〜lpmが適当である。なお、記録レーザー
光に対して十分な光反射性を有する薄膜を安定に形成で
き得るならば可能な限り薄いほうかよい。
さらに、本発明の光学記録媒体は、第2図に示すように
、記録層2上に記録及び再生レーザー光に対して透明な
保護層3を設けることかてきる。
、記録層2上に記録及び再生レーザー光に対して透明な
保護層3を設けることかてきる。
該保護層3は、基板l側から光を照射する場合は不透明
ても差支えない。
ても差支えない。
また、第3図に示すように、基板lと記録層2の間に下
引層4を設けても良い。
引層4を設けても良い。
また、第4図に示す様に、保護層3及び下引層4を共に
用いることも可能である。
用いることも可能である。
下引き層は(a)接着性の向上、(b)水またはガスな
どのバリヤー、(C)記録層の保存安定性の向上、(d
)反射率の向上、(e)溶剤からの基板の保護および(
「)プレグルーブの形成などを目的として設けられる。
どのバリヤー、(C)記録層の保存安定性の向上、(d
)反射率の向上、(e)溶剤からの基板の保護および(
「)プレグルーブの形成などを目的として設けられる。
(a)の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマ
ー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子
、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料もしくはシラ
ンカップリング剤なとの種々の物質を用いることがてき
、(b)、(c)の目的に対しては上記高分子材料以外
に無機化合物1例えばSin□、 Mgl”2. si
o、 Tio2. ZnO、TiN、 SiNなど、金
属または半金属、例えばzll。
ー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子
、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料もしくはシラ
ンカップリング剤なとの種々の物質を用いることがてき
、(b)、(c)の目的に対しては上記高分子材料以外
に無機化合物1例えばSin□、 Mgl”2. si
o、 Tio2. ZnO、TiN、 SiNなど、金
属または半金属、例えばzll。
Cu、 S、 Ni、 Cr、 Ge、 Se、 Cd
、八g、 Ai)なと′を用し\ることかできる。(d
)の目的に対しては金属、例えばAl、 Agなと、ま
たは金属光沢を有する有機薄膜、例えばシアニン染料、
メチン染料などを用いることかできる。そして(e)、
mのn的に対しては紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、
熱可塑性樹脂などを用いることができる。下引き層の膜
厚は50人〜100g重、好ましくは200人〜30μ
−が適当である。
、八g、 Ai)なと′を用し\ることかできる。(d
)の目的に対しては金属、例えばAl、 Agなと、ま
たは金属光沢を有する有機薄膜、例えばシアニン染料、
メチン染料などを用いることかできる。そして(e)、
mのn的に対しては紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、
熱可塑性樹脂などを用いることができる。下引き層の膜
厚は50人〜100g重、好ましくは200人〜30μ
−が適当である。
また、保護層は、キズ、ホコリ、汚れなどからの保護お
よび記録層の保存安定性の向上および反射率の向上を目
的として設けられ、その材料としては下引き層と同じ材
料を使用することかできる。保護層の膜厚は100Å以
上、好ましくは1000Å以上が適当である。
よび記録層の保存安定性の向上および反射率の向上を目
的として設けられ、その材料としては下引き層と同じ材
料を使用することかできる。保護層の膜厚は100Å以
上、好ましくは1000Å以上が適当である。
この際、下引き層および/または保護層中には本発明の
一般式[I]〜[V]のアザアズレニウム塩化合物が含
有されていてもよい、また、下引き層または保!!層に
は安定剤1分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活
性剤、可塑剤などが含有されていてもよい。
一般式[I]〜[V]のアザアズレニウム塩化合物が含
有されていてもよい、また、下引き層または保!!層に
は安定剤1分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活
性剤、可塑剤などが含有されていてもよい。
さらに1本発明による光学記録媒体の別の構成としては
、第1図から第4図に示した同一構成の2枚の記録媒体
(場合によりその1枚を基板のみとして)を用い記録M
2を内側にfi!Mして密封したいわゆるエアーサンド
イッチ構造にしてもよいし、保護層3を介して接着した
いわゆる密着構造(貼り合せ構造)にしてもよい。
、第1図から第4図に示した同一構成の2枚の記録媒体
(場合によりその1枚を基板のみとして)を用い記録M
2を内側にfi!Mして密封したいわゆるエアーサンド
イッチ構造にしてもよいし、保護層3を介して接着した
いわゆる密着構造(貼り合せ構造)にしてもよい。
本発明の光学記録媒体は、ヘリウムーネ°オンレーザ(
発振波長6:13nm)などのガスレーザの照射によっ
て記録することも可能であるが、好ましくは750n−
以上の波長を有するレーザ、特にガリウムーアルミニウ
ムーヒ素半導体レーザ(発振波長830nm)などの近
赤外あるいは赤外領域に発振波長を有するレーザ光線の
照射によって記録する方法が適している。また、読み出
しのためには、前述のレーザ光線を用いることかできる
。この際、占込みと読み出しを同一波長のレーザで行な
うことができ、また異なる波長のレーザで行なうことも
できる。
発振波長6:13nm)などのガスレーザの照射によっ
て記録することも可能であるが、好ましくは750n−
以上の波長を有するレーザ、特にガリウムーアルミニウ
ムーヒ素半導体レーザ(発振波長830nm)などの近
赤外あるいは赤外領域に発振波長を有するレーザ光線の
照射によって記録する方法が適している。また、読み出
しのためには、前述のレーザ光線を用いることかできる
。この際、占込みと読み出しを同一波長のレーザで行な
うことができ、また異なる波長のレーザで行なうことも
できる。
[実施例]
以下、本発明を実施例に従って詳細に説明するか、これ
らに限定されるものではない。
らに限定されるものではない。
実施例1
直513h−φ、厚さ1.2s+aのインジェクション
成形によりプレグルーブを設けたポリカーボネートC以
下、PCと略記する)基板上に、#J記アザアズレニウ
ム塩化合物No、 [I ]−(1)のアザアズレニウ
ム塩化合物3重量部をジアセトンアルコール97重量部
に溶解させた液をスピナーコーティング法により塗布し
た後、乾燥して800人の有a#SJ膜記録層を得た。
成形によりプレグルーブを設けたポリカーボネートC以
下、PCと略記する)基板上に、#J記アザアズレニウ
ム塩化合物No、 [I ]−(1)のアザアズレニウ
ム塩化合物3重量部をジアセトンアルコール97重量部
に溶解させた液をスピナーコーティング法により塗布し
た後、乾燥して800人の有a#SJ膜記録層を得た。
この様にして作成した光学記録媒体をターンテーブル上
に取り付け、ターンテーブルをモーターで1800rp
−に回転させて、発振波長8]Onsの半導体レーザな
用いて、基板側より記録層にスポットサイズ1.5p−
φ、記録パワー61宥、記録周波数311+1zで情報
を書き込み、読み出しパワー0.8 鳳111で再生し
、その再生波形をスペクトル解析(スキャニングフィル
ター、バンド幅’1OKllz ) L/てC/N比を
測定した。
に取り付け、ターンテーブルをモーターで1800rp
−に回転させて、発振波長8]Onsの半導体レーザな
用いて、基板側より記録層にスポットサイズ1.5p−
φ、記録パワー61宥、記録周波数311+1zで情報
を書き込み、読み出しパワー0.8 鳳111で再生し
、その再生波形をスペクトル解析(スキャニングフィル
ター、バンド幅’1OKllz ) L/てC/N比を
測定した。
次に、回じ記録媒体を、前記測定条件で記録した部分を
、繰り返し105回読み出し後のC/N比を測定した。
、繰り返し105回読み出し後のC/N比を測定した。
さらに、前記条件で作製した同一の記録媒体を60℃、
90%旧1の条件下に2000時間放置して、環境保存
安定性試験を行なった後の透過率(830nm 測定)
およびC/N比を測定した。その結果を表1に示す。
90%旧1の条件下に2000時間放置して、環境保存
安定性試験を行なった後の透過率(830nm 測定)
およびC/N比を測定した。その結果を表1に示す。
表 1
実施例2〜9
実施例1で用いたアザアズレニウム塩化合物No、 [
I 1−(1)の化合物をNo、 [1]−(2)−[
I ]−(9)、 [111−(2)、 [II]
−(5)、 [ml−(1)、 [IV]−(2)
。
I 1−(1)の化合物をNo、 [1]−(2)−[
I ]−(9)、 [111−(2)、 [II]
−(5)、 [ml−(1)、 [IV]−(2)
。
[IV]−(4)、 [V]−(2) ニかえて、実施
例1と同様の方法で記録媒体を作製し、それぞれ実施例
2〜9の光学記録媒体を作製した。
例1と同様の方法で記録媒体を作製し、それぞれ実施例
2〜9の光学記録媒体を作製した。
上記実施例2〜9の光学記録媒体を実施例1と同様の方
法て測定した。その結果を表2に示す。
法て測定した。その結果を表2に示す。
実施例10.11
前記アザアズレニウム塩化合物No、 [I 1(1)
と [I ]−(2) 、 No、 [I ]−(2
)と [111−(S)とをそれぞれl:1の重量比で
ジアセトンアルコールに混合し、実施例1と同様の方法
で塗布し、実施例10. IIの光学記録媒体を作製し
た。
と [I ]−(2) 、 No、 [I ]−(2
)と [111−(S)とをそれぞれl:1の重量比で
ジアセトンアルコールに混合し、実施例1と同様の方法
で塗布し、実施例10. IIの光学記録媒体を作製し
た。
このようにして作製した実施例10.11の光学記録媒
体を実施例1と同様の方法で測定した。その結果を表2
に示す。
体を実施例1と同様の方法で測定した。その結果を表2
に示す。
実施例12および13
下記化合物No、[VI]および[■]と前記アザアズ
レニウム塩化合物No、 [I ]−(3)とをそれぞ
れl:2の重量比でジアセトンアルコールに混合し、実
施例1と同様の方法で塗布し、乾燥膜厚850人の有機
薄膜記録層を設け、それぞれ実施例+2. l:lの光
学記録媒体を作製した。
レニウム塩化合物No、 [I ]−(3)とをそれぞ
れl:2の重量比でジアセトンアルコールに混合し、実
施例1と同様の方法で塗布し、乾燥膜厚850人の有機
薄膜記録層を設け、それぞれ実施例+2. l:lの光
学記録媒体を作製した。
この様にして作成した実施例12. l:lの光学記録
媒体を実施例1と同様の方法で測定した。その結果を表
3に示す。
媒体を実施例1と同様の方法で測定した。その結果を表
3に示す。
化合5fsNo、[VI]
化合物NO8[■]
CRO,。
比較例1
実施例12て用いた化合物No、 [I ]−(3)を
除いた以外は、実施例12と同様の方法て光学記録媒体
を作製し、同様にΔ一定した。その結果を表3に併示す
る。
除いた以外は、実施例12と同様の方法て光学記録媒体
を作製し、同様にΔ一定した。その結果を表3に併示す
る。
1;211S
しJ’U4”
し2目15
実施例14
前記化合物No、 [I 1−(4)の化合物2重量部
とニトロセルロース樹脂(オーバレスラッカー、ダイセ
ル化学■製)1重量部をジアセトンアルコール97重量
部に混合させた液をスピナー塗布法により、インジェク
ション成形によりプレグルーツを設けた直径 1:lO
+mmφ、厚さ1.2msのPC基板上に塗布し、乾燥
膜厚1000人の有機薄膜記録層を得た。
とニトロセルロース樹脂(オーバレスラッカー、ダイセ
ル化学■製)1重量部をジアセトンアルコール97重量
部に混合させた液をスピナー塗布法により、インジェク
ション成形によりプレグルーツを設けた直径 1:lO
+mmφ、厚さ1.2msのPC基板上に塗布し、乾燥
膜厚1000人の有機薄膜記録層を得た。
この様にして作成した光学記録媒体を実施例1と同様の
方法で測定した。その結果を表4に示す。
方法で測定した。その結果を表4に示す。
実施例15〜17
実施例14て用いた化合物No、 [I 1−(4)を
前記化合物No、 [ll−(8)、 [m]−(5)
、 [V]−(1)にかえて、実施例111と同様の方
法て記録媒体を作製し、それぞれ実施例15〜17の光
学記録媒体を作製した。
前記化合物No、 [ll−(8)、 [m]−(5)
、 [V]−(1)にかえて、実施例111と同様の方
法て記録媒体を作製し、それぞれ実施例15〜17の光
学記録媒体を作製した。
上記実施例15〜17の光学記録媒体を実施例1と同様
の方法で測定した。その結果を表4に示す。
の方法で測定した。その結果を表4に示す。
実施例18
ウォーレットサイズの厚さ0.4s+s P CJ5板
トに、熱プレス法によりプレグルーブを設け、そのLに
前記アザアズレニウム塩化合物No、[I](2)の化
合物3重量部をジアセトンアルコール97重量部に混合
させた液をバーコード法により塗jlj L/た後、乾
燥して1000人の有機薄膜記録層を得た。さらに、そ
の上にエチレン−酢ビトライフィJレムを介してウォー
レ・ントサイズの厚さ0.3−膳のPC基板と、熱ロー
ル法により密着し、密着構造の光学記録媒体を作製した
。
トに、熱プレス法によりプレグルーブを設け、そのLに
前記アザアズレニウム塩化合物No、[I](2)の化
合物3重量部をジアセトンアルコール97重量部に混合
させた液をバーコード法により塗jlj L/た後、乾
燥して1000人の有機薄膜記録層を得た。さらに、そ
の上にエチレン−酢ビトライフィJレムを介してウォー
レ・ントサイズの厚さ0.3−膳のPC基板と、熱ロー
ル法により密着し、密着構造の光学記録媒体を作製した
。
この様にして作製した光学記録媒体なX−Y方向に駆動
するステージ上に取り付け1発振波長830口1の半導
体レーザを用いて、厚さ0.4■のPC基板側より、有
機薄膜記録層にスポットサイズ3.0終−φ、記記録パ
ワ−4ロ0 でY軸方向に情報を書き込み、読み出しパワー0、4■
Wて再生し,そのコントラスト比部の信号強度)を測定
した。
するステージ上に取り付け1発振波長830口1の半導
体レーザを用いて、厚さ0.4■のPC基板側より、有
機薄膜記録層にスポットサイズ3.0終−φ、記記録パ
ワ−4ロ0 でY軸方向に情報を書き込み、読み出しパワー0、4■
Wて再生し,そのコントラスト比部の信号強度)を測定
した。
さらに、前記条件で作製した同一記録媒体を実施例1と
同様の条件の環境保存安定性試験を行ない、その後の透
過率およびコントラスト比を測定した。その結果を表5
に示す。
同様の条件の環境保存安定性試験を行ない、その後の透
過率およびコントラスト比を測定した。その結果を表5
に示す。
表 5
また、塗工法による製造が可能て、熱に対する安定性の
良い、保存性に優れた再生劣化の少なI、z光学記録媒
体を提供することができる。
良い、保存性に優れた再生劣化の少なI、z光学記録媒
体を提供することができる。
第1図乃至第4図は各々本発明の光学記録媒体の実施態
様を示す断面図である。 l・・・基板 2・・・記録層 3・・・保護層 4・・・下引層 [発明の効果] 以−L説明した様に、本発明の光学記録媒体によれば、
長波長側に吸収を有し、半導体レーザ等の長波長発振レ
ーザーを用いても高感度に記録か可能であり、良好なビ
ット形状の形成により、高いC/N比か得られる。
様を示す断面図である。 l・・・基板 2・・・記録層 3・・・保護層 4・・・下引層 [発明の効果] 以−L説明した様に、本発明の光学記録媒体によれば、
長波長側に吸収を有し、半導体レーザ等の長波長発振レ
ーザーを用いても高感度に記録か可能であり、良好なビ
ット形状の形成により、高いC/N比か得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式[ I ]、[II]、[III]、[IV]または[
V]で表わされるアザアズレニウム塩化合物を一種また
は二種以上含有する記録層を有することを特徴とする光
学記録媒体。 一般式[ I ]▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式[II]▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式[III]▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式[IV]▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式[V]▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、一般式[ I ]〜[V]において、Aは▲数式
、化学式、表等があります▼ A^1は、▲数式、化学式、表等があります▼ を表わす。R_1〜R_2_7は水素原子、ハロゲン原
子又は1価の有機残基を表わし、又はR_1_6とR_
1_7、R_1_7とR_1_8、R_1_8とR_1
_9、R_1_9とR_2_0、R_2_2とR_2_
3、R_2_3とR_2_4、R_2_5とR_2_6
およびR_2_6とR_2_7の組合せのうち少なくと
も1つの組合せで置換又は未置換の縮合環を形成しても
よい。Yは置換又は未置換の5員環もしくは6員環を形
成する2価の炭化水素基を示す。lは1、2又は3、m
は0又は1、nは0又は1、pは1又は2、qは1又は
2の整数を示す。X^■はアニオン残基を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63244577A JPH0292684A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光学記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63244577A JPH0292684A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光学記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0292684A true JPH0292684A (ja) | 1990-04-03 |
Family
ID=17120792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63244577A Pending JPH0292684A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光学記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0292684A (ja) |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63244577A patent/JPH0292684A/ja active Pending
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