JPH029168A - 完全密着型光センサー - Google Patents
完全密着型光センサーInfo
- Publication number
- JPH029168A JPH029168A JP63159734A JP15973488A JPH029168A JP H029168 A JPH029168 A JP H029168A JP 63159734 A JP63159734 A JP 63159734A JP 15973488 A JP15973488 A JP 15973488A JP H029168 A JPH029168 A JP H029168A
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- light
- electrode
- film
- contact type
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- Pending
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はファクシミリ等において原稿の読取りに使用さ
れる完全密着型の等倍光センサーに関する。
れる完全密着型の等倍光センサーに関する。
[従来技術]
レンズ系を用いない完全密着型の等倍光センサーの例と
して第1図(a)及び(b) ((a)は断面図、(b
)は平面図で、1は透明基板、2は採光窓3を有する遮
光膜兼下部電極、4は5in2透明絶縁膜、5は光電変
換層、6は上部電極、7は原稿、8はブロック間遮光膜
で、上部透明電極は省略。〕で示すものが知られている
。この種の完全密着型光センサーでは透明基板1側から
採光窓3を通って入射した光は原稿7面で反射され、光
電変換部、即ちセンサ一部A上の受光部に達し、ここで
反射光はその照度に応じて電気信号に変換され、ついで
この信号電荷は容量部Bに一時的に蓄えられるが、第1
図(b)からも明らかなように、受光部(大きさは通常
100μm2)は採光窓1個(大きさは通常90μm2
)当り副走査方向の片側即ち1カ所しかないので、大き
な信号出力が得られず、このためS/Nは18〜25d
b 程度で、濃度階調性の読取りは困難であった。ま
たブロック間遮光膜は下部電極の更に下に絶縁膜を介し
て形成したり、或いは上部電極形成後、絶縁膜を介して
形成する等、上部電極とは別途に形成するため、光セン
サーの製造工程が複雑化して歩留まりが悪い上、コスト
アップになるという点もあった。
して第1図(a)及び(b) ((a)は断面図、(b
)は平面図で、1は透明基板、2は採光窓3を有する遮
光膜兼下部電極、4は5in2透明絶縁膜、5は光電変
換層、6は上部電極、7は原稿、8はブロック間遮光膜
で、上部透明電極は省略。〕で示すものが知られている
。この種の完全密着型光センサーでは透明基板1側から
採光窓3を通って入射した光は原稿7面で反射され、光
電変換部、即ちセンサ一部A上の受光部に達し、ここで
反射光はその照度に応じて電気信号に変換され、ついで
この信号電荷は容量部Bに一時的に蓄えられるが、第1
図(b)からも明らかなように、受光部(大きさは通常
100μm2)は採光窓1個(大きさは通常90μm2
)当り副走査方向の片側即ち1カ所しかないので、大き
な信号出力が得られず、このためS/Nは18〜25d
b 程度で、濃度階調性の読取りは困難であった。ま
たブロック間遮光膜は下部電極の更に下に絶縁膜を介し
て形成したり、或いは上部電極形成後、絶縁膜を介して
形成する等、上部電極とは別途に形成するため、光セン
サーの製造工程が複雑化して歩留まりが悪い上、コスト
アップになるという点もあった。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は従来技術における以上のような欠点を解
決し、信号出力を増大せしめて濃度階調性の読取りを可
能にすると共に、製造工程を簡略化して歩留まりの向上
及びコストダウンを計った完全密着型光センサーを提供
することである。
決し、信号出力を増大せしめて濃度階調性の読取りを可
能にすると共に、製造工程を簡略化して歩留まりの向上
及びコストダウンを計った完全密着型光センサーを提供
することである。
[発明の構成・動作]
本発明の光センサーは透明基板上に採光窓を有する遮光
膜と下部電極と光電変換層と透明絶縁膜と上部電極とを
有する各センサーブロックをブロック間遮光膜で連結し
た構造を有する完全密着型光センサーにおいて、光電変
換部上の受光部を採光窓の副主査方向の両側に設けると
共に、ブロック間遮光膜を上部電極と兼用したことを特
徴とするものである。
膜と下部電極と光電変換層と透明絶縁膜と上部電極とを
有する各センサーブロックをブロック間遮光膜で連結し
た構造を有する完全密着型光センサーにおいて、光電変
換部上の受光部を採光窓の副主査方向の両側に設けると
共に、ブロック間遮光膜を上部電極と兼用したことを特
徴とするものである。
以下、本発明の実施例を第2〜4図によって説明する。
第2図(a)及び(b)は夫々容量部Bが1個の場合の
本発明光センサーの一例の概略断面図及び平面図である
。また第3図は容量部Bが2個の場合の本発明光センサ
ーの他の一例の概略断面図である。両光センサーともセ
ンサ一部A上の受光部は採光窓3の副主査方向(第4図
参照。
本発明光センサーの一例の概略断面図及び平面図である
。また第3図は容量部Bが2個の場合の本発明光センサ
ーの他の一例の概略断面図である。両光センサーともセ
ンサ一部A上の受光部は採光窓3の副主査方向(第4図
参照。
Cは受光部)の両側に存在する。このため採光窓3から
の入射光による信号量は従来の約2倍となる。例えば8
ビット/mの光センサーの場合、従来のように受光部が
1カ所のものでは信号量は0.6〜088vであるが、
本発明のように受光部が2カ所のものでは1.2〜1.
5vに上昇する。
の入射光による信号量は従来の約2倍となる。例えば8
ビット/mの光センサーの場合、従来のように受光部が
1カ所のものでは信号量は0.6〜088vであるが、
本発明のように受光部が2カ所のものでは1.2〜1.
5vに上昇する。
またこのためS/Nは約30〜35dBと大+l]に向
上する。ここで受光部の大きさは8ドツト/I葎の読取
り密度の場合、第4図においてd、eは各々り0−11
0μm、 cは3〜IOμm、 aは90−150
μmで且つbはb/aとして173〜2/3が良好な結
果を与える。これらの範囲以外であると、S/Nが低下
する傾向がある。また読取り密度が16ドツト/m又は
24ドツト/Il!11のように高い場合はb/a比を
除き、前記値にほぼ逆比例させて寸法製法めることがで
きる。この場合b/a比は前記と同じである。
上する。ここで受光部の大きさは8ドツト/I葎の読取
り密度の場合、第4図においてd、eは各々り0−11
0μm、 cは3〜IOμm、 aは90−150
μmで且つbはb/aとして173〜2/3が良好な結
果を与える。これらの範囲以外であると、S/Nが低下
する傾向がある。また読取り密度が16ドツト/m又は
24ドツト/Il!11のように高い場合はb/a比を
除き、前記値にほぼ逆比例させて寸法製法めることがで
きる。この場合b/a比は前記と同じである。
本発明の光センサーを作るには例えば第2図の光センサ
ーの場合は透明基板1上にTi、 Cr。
ーの場合は透明基板1上にTi、 Cr。
AQ等の蒸着膜を形成し、ついでフォトリソエツチング
により採光窓3を設けることにより遮光膜兼下部電極2
を形成する。ついでその上にプラズマCvD法等により
a−3i(アモルファスSL)、CdS、 Ss等の光
電変換層5を形成し、更にその上に、図では省略したが
、ITO1In20.、SnO,等の上部透明電極を形
成し、その上にSin、の透明絶縁膜4を形成し、最後
に上部電極(個別電極)兼ブロック間遮光膜6,8とし
てTi、 Cr、 AQ等の蒸着膜を形成すればよい。
により採光窓3を設けることにより遮光膜兼下部電極2
を形成する。ついでその上にプラズマCvD法等により
a−3i(アモルファスSL)、CdS、 Ss等の光
電変換層5を形成し、更にその上に、図では省略したが
、ITO1In20.、SnO,等の上部透明電極を形
成し、その上にSin、の透明絶縁膜4を形成し、最後
に上部電極(個別電極)兼ブロック間遮光膜6,8とし
てTi、 Cr、 AQ等の蒸着膜を形成すればよい。
なお下部電極は遮光膜とは別個にSiO□層と共に多層
構造にしてもよいし、また上部電極も同様な多層構造に
してもよい。
構造にしてもよいし、また上部電極も同様な多層構造に
してもよい。
以上の実施例ではサンドインチ型光センサーにおいて、
下部電極は各光電変換素子の共通電極となっているが、
いくつかの素子をまとめてセンサーブロックとして駆動
させる場合、本発明の上部電極(個別電極)兼ブロック
間遮光膜はこれらセンサーブロック間の光もれを防止す
ることができる。またこの上部電極は下部電極が素子個
々に分離され、従って素子間全てに光もれがある場合に
も適用できる。なお本発明の上部電極は上方から直接光
照射した場合も、ブロック間の遮光と同時にセンサ一部
の遮光も可能である。
下部電極は各光電変換素子の共通電極となっているが、
いくつかの素子をまとめてセンサーブロックとして駆動
させる場合、本発明の上部電極(個別電極)兼ブロック
間遮光膜はこれらセンサーブロック間の光もれを防止す
ることができる。またこの上部電極は下部電極が素子個
々に分離され、従って素子間全てに光もれがある場合に
も適用できる。なお本発明の上部電極は上方から直接光
照射した場合も、ブロック間の遮光と同時にセンサ一部
の遮光も可能である。
[発明の作用・効果コ
本発明による効果は次の通りである。
1)上部個別’、1!極がブロック間遮光膜を兼用して
いるので、特別にこの遮光膜を形成する工程は不要とな
り、光センサーの製造工程が簡略化される。
いるので、特別にこの遮光膜を形成する工程は不要とな
り、光センサーの製造工程が簡略化される。
2)受光部が2カ所となり、信号量が従来型に比へて2
倍に増大したので、S/Nも30〜35dBと大+lJ
に向上し、このため濃度階調性読取りが可能な光センサ
ーとして利用できる。
倍に増大したので、S/Nも30〜35dBと大+lJ
に向上し、このため濃度階調性読取りが可能な光センサ
ーとして利用できる。
4゜
3) センサービットを16〜32ビット/冊としても
、信号量が大きいため、実装及び回路設計が容易である
。
、信号量が大きいため、実装及び回路設計が容易である
。
第1図(a)及び(b)は夫々従来の完全密着型光セン
サーの一例の概略断面図及び平面図、第2図(a)及び
(b)は夫々本発明完全密着型光センサーの一例の概略
断面図及び平面図、第3図は同じく本発明センサーの他
の例の概略断面図、第4図は本発明センサーの採光窓及
び受光部の大きさを決めるための説明図である。 1・・透明基板 2・・・遮光膜兼下部電極3・・・
採 光 窓 4・・・透明絶縁膜5・・光電変換層
6・・・上部電極7・・・原 稿 8・
・・ブロック間遮光膜A・・・センサ一部 B・・
・容 量 部C・受光部
サーの一例の概略断面図及び平面図、第2図(a)及び
(b)は夫々本発明完全密着型光センサーの一例の概略
断面図及び平面図、第3図は同じく本発明センサーの他
の例の概略断面図、第4図は本発明センサーの採光窓及
び受光部の大きさを決めるための説明図である。 1・・透明基板 2・・・遮光膜兼下部電極3・・・
採 光 窓 4・・・透明絶縁膜5・・光電変換層
6・・・上部電極7・・・原 稿 8・
・・ブロック間遮光膜A・・・センサ一部 B・・
・容 量 部C・受光部
Claims (1)
- 1、透明基板上に採光窓を有する遮光膜と下部電極と光
電変換層と透明絶縁膜と上部電極とを有する各センサー
ブロックをブロック間遮光膜で連結した構造を有する完
全密着型光センサーにおいて、光電変換部上の受光部を
採光窓の副主査方向の両側に設けると共に、ブロック間
遮光膜を上部電極と兼用したことを特徴とする完全密着
型光センサー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63159734A JPH029168A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 完全密着型光センサー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63159734A JPH029168A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 完全密着型光センサー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH029168A true JPH029168A (ja) | 1990-01-12 |
Family
ID=15700106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63159734A Pending JPH029168A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 完全密着型光センサー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH029168A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5820212A (en) * | 1996-04-10 | 1998-10-13 | Ikeda Bussan Co., Ltd. | Automotive seat |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6091759A (ja) * | 1983-10-25 | 1985-05-23 | Kyocera Corp | 読取り装置 |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP63159734A patent/JPH029168A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6091759A (ja) * | 1983-10-25 | 1985-05-23 | Kyocera Corp | 読取り装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5820212A (en) * | 1996-04-10 | 1998-10-13 | Ikeda Bussan Co., Ltd. | Automotive seat |
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