JPH0282143A - スリット光照明装置 - Google Patents

スリット光照明装置

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Publication number
JPH0282143A
JPH0282143A JP23416288A JP23416288A JPH0282143A JP H0282143 A JPH0282143 A JP H0282143A JP 23416288 A JP23416288 A JP 23416288A JP 23416288 A JP23416288 A JP 23416288A JP H0282143 A JPH0282143 A JP H0282143A
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JP
Japan
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light
parallel
slit
area
slit light
Prior art date
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Pending
Application number
JP23416288A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Tsukahara
博之 塚原
Masahito Nakajima
雅人 中島
Tetsuo Hizuka
哲男 肥塚
Noriyuki Hiraoka
平岡 規之
Giichi Kakigi
柿木 義一
Yoshinori Sudo
嘉規 須藤
Yoshitaka Oshima
美隆 大嶋
Shinji Hashinami
伸治 橋波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 基板上に形成されたパターン等物体のサイズを検査する
光切断法によるスリット光照明装置に関し、 立体形状を効率的に且つ正確に検知することを目的とし
、 一面に斜め入射する1個のスリット光を複数の平行で且
つ略同じ強さのスリット光に分離して該入射面と平行な
他面から該入射光の入射角と等しい出射角で射出し、物
体を照射するスリット光照明装置であって、平行な透明
基板の両面所定位置に、反射防止膜と全反射膜およびそ
れぞれ異なる透過率を持つ複数の半透膜を選択的に被着
形成せしめて構成する。
または、前記スリット光照明装置の複数個を光軸を合わ
せて添着固定し一体化して構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、画像処理技術による物体形状検査装置に使用
する照明装置に係り、特に光切断法における光源として
のスリット光照明装置に関する。
近年、画像処理技術の進歩によって物体の外観。
形状検査等を同技術によって自動的に行う試みが多くな
されているが、この際に物体の三次元情報を得るのに光
切断法を用いることが多い。
〔従来の技術〕
第3図は従来の光切断法の例を示した図であり、(A)
はスリット光が1個の場合をまた(B)はスリット光が
複数の場合をそれぞれ表わしたものである。
図(八)で、1は基板2上に形成されている厚さが数μ
m程度のパターンである。
従来、このようなパターン1の厚さや断面形状(プロフ
ィール)等を検知するには、通常光切断法と呼ばれる方
法によることが多い。
すなわち、スリット光の例えばレーザ光3を該パターン
1に対して斜め方向く図の場合には水平面に対して角度
θの方向)から照射し、該レーザ光3がパターン1を切
断する部分の反射光を切断線Cとして該レーザ光3のパ
ターン照射部のほぼ鉛直方向上方に設置しているTVカ
メラ4で撮像する。
この場合液パターンからの反射光は、基底面2aからの
反射位置とパターン上面1aからの反射位置にズレが生
ずることから、該TVカメラの撮像は円内図(八“)に
示す如(パターン1のレーザ光切断線Cに対応した形と
なる。
ここで該パターン1の厚さをhとし、また円内図(八゛
)における厚さ方向のズレをdとすると厚さhは、 h=dtanθ で求めることができる。
しかしこの場合には、照射光が1個であるため1ライン
分の情報しか得ることができず、パターンの長さ方向に
沿った領域での高さや形状の情報を得ることができない
図(B)は図(A)と同様のパターン1に回折格子4を
用いてレーザ光をマルチスリット化して照射したもので
ある。
この場合には図(A) と同様のシート状のレーザ光3
は、該回折格子4を通過した後はぼ直進する0次の回折
光3aを中心とする上下両側に±1次の回折光3b、 
 ±2次の回折光3c、  ±3次の回折光3d・・・
・となるため、シート状スリット光がマルチ化し複数の
スリット光として該パターン上を照射することができる
しかしかかる場合には、高次の回折光はどそのパワーが
弱くなると共に、各スリット光がレーザ光3の該回折格
子4の入射位置を中心として上下に放射状に拡がるため
パターン1上におけるスリット光の間隔やスリット光の
数を制御する必要があるがこの制御に困難を伴っている
従ってパターン長手方向に沿う所要領域のパターンの高
さや形状を正確に検知することに難点がある。
も正確に得ることができないと云う問題があった。
〔課題を解決するための手段〕
上記問題点は、一面に斜め入射する1個のスリット光を
複数の平行で且つ略同じ強さのスリット光に分離して該
入射面と平行な他面から該入射光の入射角と等しい出射
角で射出し、物体を照射するスリット光照明装置であっ
て、 平行な透明基板の両面所定位置に、反射防止膜と全反射
膜およびそれぞれ異なる透過率を持つ複数の半透膜を選
択的に被着形成せしめてなるスリット光照明装置によっ
て解決される。
る。
または、前記スリット光照明装置の複数個を光軸を合わ
せて添着固定し一体化してなるスリット光照明装置によ
って解決される。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の照明方法では、パターン等物体の拡がりを持つ領
域全体の高さや形状の情報を同時にしか〔作 用〕 基板上のパターン等物体の拡がりを持つ領域全体の高さ
や形状を同時に且つ正確に検知するには、間隔や数が容
易に制御できると共に総てが平行に射出するマルチ化さ
れたスリット光を使用することが望ましい。
本発明になる照明装置では、反射防止膜2反射膜、半透
過膜をその両面若しくは片面の所定位置に選択的に塗布
した少なくとも1個の平行な透明基板よりなる照明装置
の所定位置に、光源となるスリット光を斜め照射するこ
とによって、複数の平行且つ同じ強さのスリット光を容
易に射出させるようにしている。
従って、基板上のパターン等物体の拡がりを持つ領域全
体の高さや形状を同時にしかも正確に効率よく検知する
ことができる。
〔実施例〕
第1図は本発明を説明する構成図であり、第2図は本発
明の適用例を示す図である。
なおいずれも理解し易くするために、射出するスリット
光が3個の場合について説明する。
断面を示す第1図で、(A)は一実施例をまた(B)は
他の実施例を示している。
第1図(A)で、10は例えばBK−7等の光学ガラス
で形成されている厚さtで所要の幅Wを持つ透明な基板
であり、該基板10の片面10aにはその上端S+から
所定の位置S2までの領域■と所定の位置S3から下端
の84までの領域■には全幅Wに亙って通常RDコート
と称されている光反射防止膜11が蒸着形成されており
、S2から83までの領域■にはアルミニウム(A/)
等よりなる全反射膜12が全幅Wに亙って被着形成され
ている。
また他面10bには、その上端S1から所定の位置S5
までの領域■には光の透過率が33%の半透膜13(例
えば誘電体多層膜)をまたS5から所定の位置S6まで
の領域■には透過率が50%の半透膜14を全幅Wに亙
って被着形成し更にS6から下端の84までの領域■に
は10a面における領域■。
■と同様の反射防止膜11を形成している。
ここで10a面の反射防止膜11が形成されている■の
領域に光源としてのスリット光束のレーザ光りを入射角
θ1で投射すると、咳レーザ光りは反射することなく全
光線が屈折角θ2で基板10内に進入し、33%の透過
率を持つ半透膜13が形成されているtob面の領域■
で1/3の光線が透過して入射光りと平行な光L1とな
って10b面から射出し残り2/3の光は液面で反射し
て全反射膜12が形成されている10a面の領域■に到
達する。
この場合レーザ光りの入射点から該領域■の到達点まで
の距離をdとすると、 nl  ・sin θI =rf2  ・sin θ2
(1)d=t−tan θ2(2) が成立する。なおnlは空気の屈折率(・l)でありn
2は基板10の屈折率(#1.52)である。
ついで該領域■で全反射した光量2/3の光は透過率5
0%の半透膜14が形成された領域■で三等分され、一
方は1/3の光量を持ち上記光L1とピッチpの間隔を
持つ平行光L2となって10b面から射出し残りの17
3の光量を持つ光は反射する。
この反射した光11/3の光は全反射膜12で全反射し
た後反射防止膜11が形成された10b面の領域■から
光線L3となって射出するが該光線L3も上記射出光L
2に対してピッチpの間隔を持つ平行光となる。
従ってこれら射出光の前方にパターン等物体を配置する
と、該物体には複数の平行なスリット光が等間隔に照射
されることになる。
この場合10b面からの射出光L+ 、L2.L3間の
ビ・ノチpは、 p=d−sin θ1(3) で表わすことができる。
従って上記式(11〜(3)から、 が成立する。
このことは射出スリット光L+ 、L2.L3の間隔p
が透明基板10の厚さtと投射光りの入射角θ1によっ
て制御できることを示している。
一方、各射出スリット光L+ +  L2 +  L3
の光学的距離を調べてみると、例えばスリ7)光L1と
L2について云へばスリット光L1のP1〜P2間の光
路長とスリット光L2のP1〜P3〜P4〜P5間の光
路長の違いは空気中におけるスリット光L1のΔ11と
基板10内部におけるスリット光L2の21〜23〜2
4間の距離すなわちΔ12との違いである。
ここで、 d/Δ/+=sin θI(5) d/Δ/2=sin θ2(6) d=Δ/+・sinθl=Δ/2・sinθ2から、 Δl+/Δ/2 =sin θI/sin  θ2(7
)となる。
他方、両者の光学的距離の比は、 nl  ’Δ/1/n2 ・Δ12 で表わすことができるから上記(7)式からnl  ・
Δl!/n2 ・Δ12 = n +  0sin θ1 /n2  ・sin 
θ2で表わすことができる。しかし弐(11からnl 
・sin θ1=n1 ・sin θ1なるためnl 
 ・Δ/+/n2 ・Δ/2=1     (8)とな
って液式(8)から両者の光学的距離が等しいことが分
かる。
このことはスリット光L2とL3の間でも同じであり、
結果的に総てのスリット光の光学的距離が等しいことを
表わしている。
なお上記の反射防止膜、半透膜、全反射膜の各被着形成
位置および半透膜の透過率を適当に設定することにより
射出スリット光の数を変えることができる。
また、基板10内での屈折角θ2が41.1°を越える
と全反射を起こして10b面から射出されなくなるがこ
の場合の入射角θ1は式(1)から90°なることは明
らかである。
他の実施例を示す図(B)は、それぞれの所定位置に反
射防止膜と全反射膜および異なる透過率を持つ半透膜を
形成した透明な基板2枚を全反射膜を介在させない状態
で貼り合わせて1個のスリット光照明装置として機能さ
せるように構成したものであるが、この場合には特に上
記基板の貼着面で透過あるいは半透過するレーザ光が確
実に相互に受は渡しできるように各光線の光軸を合わせ
て構成している。
図では、レーザ光りの入射領域■には図(A)同様の反
射防止膜11を形成し、■の領域には33%透過率の半
透過膜13をまた■の領域には50%透過率の半透過膜
14を形成し、更に[相]の領域には全反射膜12を■
[相]の領域にはそれぞれ反射防止膜11を形成してい
る。
この場合、該スリット光照明装置から射出するスリット
光L+、L2.L3は入射レーザ光りの略1/3ずつと
なるため図(A)の場合と同等の効果を得ることができ
る。
特にこの例の如く基板の数を増加させると、基板の厚さ
によってスリット光のピッチ間隔を変えることができる
と共に、使用する基板の枚数によってスリット光の数を
制御することができる。
スリット光照明装置の適用例を示す第2図で、15はレ
ーザ光源、16はビームエキスパンダ、17はシリンド
リカルレンズ、18はスリット光照明装置。
19は例えば基板20の表面に形成されているパターン
、21はパターン19上の所定位置に配置されたT■カ
メラをそれぞれ示している。
この場合、レーザ光源15から射出したレーザ光りはビ
ームエキスパンダ16で拡大されたほぼ円形の平行光束
に整形され、更にシリンドリカルレンズ17でスリット
光となる。
この状態でスリット光照明装置18の所定位置に所定角
度で入射すると、該スリット光照明装置18から射出す
るスリット光Ll、L2.L3 ・・は第1図で説明し
た如く等間隔の平行光となる。そこでパターン19の表
面を複数の平行光で照射することになり、その上部に配
置されたTVカメラ21で拡がりを持つ所要領域の該パ
ターンの厚さや形状が同時にしかも容易に検知される。
〔発明の効果〕
上述の如く本発明により、立体形状が効率的に且つ正確
に検知できる光切断法における光源としてのスリット光
照明装置を容易に提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を説明する構成図であり、第2図は本発
明の適用例を示す図である。 第3図は従来の光切断法の例を示した図、である。図に
おいて、 10.20は基板、   11は反射防止膜、12は全
反射膜、   13.14は半透膜、15ハレーザ光R
116はビームエキスパンダ、17はシリンドリカルレ
ンズ、 1Bはスリット光照明装置、 19はパターン、    21はTVカメラ、をそれぞ
れ表わす。 て)’Ir、? 犬j2 本袷明乞況明7ろ堝魚4刀 第 1 図(’fめ2) 本沁6月6すΔiL用づ夕゛・j乏デi薯Σ[?]第 
2 区 ;14f; eW E gLIQTる不tga第 1 
霞 (くめ1ノ イIt東のt177グ午活のイテIE示しT二m石 3
 霞

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一面に斜め入射する1個のスリット光を複数の平
    行で且つ略同じ強さのスリット光に分離して該入射面と
    平行な他面から該入射光の入射角と等しい出射角で射出
    し、物体を照射するスリット光照明装置であって、 平行な透明基板(10)の両面所定位置に、反射防止膜
    (11)と全反射膜(12)およびそれぞれ異なる透過
    率を持つ複数の半透膜(13、14)を選択的に被着形
    成せしめてなることを特徴としたスリット光照明装置。
  2. (2)前記スリット光照明装置の複数個を光軸を合わせ
    て添着固定し一体化することを特徴としたスリット光照
    明装置。
JP23416288A 1988-09-19 1988-09-19 スリット光照明装置 Pending JPH0282143A (ja)

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JP23416288A JPH0282143A (ja) 1988-09-19 1988-09-19 スリット光照明装置

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ID=16966632

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04204358A (ja) * 1990-11-30 1992-07-24 Nissan Motor Co Ltd 塗装表面検査装置
JPH04134868U (ja) * 1991-06-06 1992-12-15 三菱重工業株式会社 パルスレーザ光発生装置
JP2007192623A (ja) * 2006-01-18 2007-08-02 Tani Electronics Corp プリント回路基板のクリーム半田印刷状態の検査装置および検査方法
CN104200726A (zh) * 2014-09-16 2014-12-10 江南大学 一种平行光管狭缝光线调控器

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