JPH026306Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH026306Y2 JPH026306Y2 JP3633783U JP3633783U JPH026306Y2 JP H026306 Y2 JPH026306 Y2 JP H026306Y2 JP 3633783 U JP3633783 U JP 3633783U JP 3633783 U JP3633783 U JP 3633783U JP H026306 Y2 JPH026306 Y2 JP H026306Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve body
- valve
- valve seat
- flow rate
- conical surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 11
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 8
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Sliding Valves (AREA)
- Taps Or Cocks (AREA)
- Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
- Magnetically Actuated Valves (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔技術分野〕
本考案は流量制御弁の改良に関し、特に弁座と
弁体とのクリアランスを調整する装置に関する。
弁体とのクリアランスを調整する装置に関する。
たとえば内燃機関のアイドリング運転時におけ
る機関回転速度の制御は、機関吸気通路の吸気弁
上流と吸気弁下流とを連通するバイパス通路を通
過する吸入空気流量を制御することにより行われ
る。この種の流量制御を行う流量制御弁(アイド
ルスピードコントロールバルブと称されている)
の従来例としてはたとえば第1図に示すものがあ
る。
る機関回転速度の制御は、機関吸気通路の吸気弁
上流と吸気弁下流とを連通するバイパス通路を通
過する吸入空気流量を制御することにより行われ
る。この種の流量制御を行う流量制御弁(アイド
ルスピードコントロールバルブと称されている)
の従来例としてはたとえば第1図に示すものがあ
る。
すなわち、図示しないバイパス通路に接続する
流体通路1を有する弁箱2に円筒面をシール面3
aとする弁座3が設けられ、前記流体通路1がこ
の弁座3のシール面3aに開口する。そして、こ
の弁座3に対応する円筒面の一部をシール面4a
とする弁体4が、前記弁座3とあるクリアランス
を介して対向される。そして、この弁体4が軸着
された中空軸5は、その内部に両端が固定された
固定軸6が挿通され、該固定軸6に軸受7,8に
より回動自由に支持されている。このため、弁体
4は前記円筒の中心軸の回りに自由に回動可能と
なり、この弁体4の回動に伴う前記弁座3に開口
する流体通路1の開口面積の変化により流量が制
御される。
流体通路1を有する弁箱2に円筒面をシール面3
aとする弁座3が設けられ、前記流体通路1がこ
の弁座3のシール面3aに開口する。そして、こ
の弁座3に対応する円筒面の一部をシール面4a
とする弁体4が、前記弁座3とあるクリアランス
を介して対向される。そして、この弁体4が軸着
された中空軸5は、その内部に両端が固定された
固定軸6が挿通され、該固定軸6に軸受7,8に
より回動自由に支持されている。このため、弁体
4は前記円筒の中心軸の回りに自由に回動可能と
なり、この弁体4の回動に伴う前記弁座3に開口
する流体通路1の開口面積の変化により流量が制
御される。
さらに、中空軸5には磁気絶縁スリーブ9を介
してアーマチユア10が固定されており、このア
ーマチユア10はその外周近傍に設けられた永久
磁石11,12との作用によりそれぞれ開弁方向
および閉弁方向のトルクを発生するような磁力を
得るための開弁用コイルと閉弁用コイルとの2種
類のコイル13を備えて形成されている。
してアーマチユア10が固定されており、このア
ーマチユア10はその外周近傍に設けられた永久
磁石11,12との作用によりそれぞれ開弁方向
および閉弁方向のトルクを発生するような磁力を
得るための開弁用コイルと閉弁用コイルとの2種
類のコイル13を備えて形成されている。
また、アーマチユア10の反弁体4側の中空軸
5にはコンミテータ14が装着されており、この
コンミテータ14の外周面には前記2種類のコイ
ル13のそれぞれに通電させるための接点15が
設けられている。したがつて、弁体4、アーマチ
ユア10、コンミテータ14は中空軸5の回転に
つれて一体的に固定軸6のまわりを回転すること
になる。
5にはコンミテータ14が装着されており、この
コンミテータ14の外周面には前記2種類のコイ
ル13のそれぞれに通電させるための接点15が
設けられている。したがつて、弁体4、アーマチ
ユア10、コンミテータ14は中空軸5の回転に
つれて一体的に固定軸6のまわりを回転すること
になる。
なお、中空軸5の軸方向の運動は止め輪16に
より抑制されている。
より抑制されている。
また、これらアーマチユア10とコンミテータ
14とを覆う円筒状のケース17が弁箱2に接続
され、このケース17側部には前記固定軸6の一
端を支持するコネクタ18が取付けられている。
14とを覆う円筒状のケース17が弁箱2に接続
され、このケース17側部には前記固定軸6の一
端を支持するコネクタ18が取付けられている。
そして、前記閉弁用および開弁用のコイル13
にそれぞれ所定のデユーテイ比をもつパルス信号
を交互に入力することにより、アーマチユア10
を所定の回転位置すなわち弁体4の所定開度位置
に保持させ、流体通路1を通過する吸入空気量を
制御するようにしている。
にそれぞれ所定のデユーテイ比をもつパルス信号
を交互に入力することにより、アーマチユア10
を所定の回転位置すなわち弁体4の所定開度位置
に保持させ、流体通路1を通過する吸入空気量を
制御するようにしている。
なお、19は弁体4の全閉および全開位置を規
定するために弁箱2の規定位置に当接するゴム製
ストツパである。
定するために弁箱2の規定位置に当接するゴム製
ストツパである。
このような従来の流量制御弁にあつては全閉時
の弁座3と弁体4との隙間からの漏れ流量は弁座
3と弁体4とのクリアランスの大きさにより決定
され、このクリアランスの大きさは部品の組み付
け公差および弁座3と弁体4の仕上がり寸法によ
つて定まる。しかし、部品の組み付け公差および
製品の仕上がり寸法は製品毎に差があつて必ずし
も一定にならず、このため前記弁座3と弁体4と
の作るクリアランスの大きさは寸法公差の範囲内
でバラツクこととなり、これに対応して制御弁全
閉時の漏れ流量値も製品によつてバラツキを生じ
る。この漏れ流量値のバラツキを抑え、各製品の
漏れ流量値を一様にするには弁座3、弁体4およ
びその他の周辺部品の高精度加工が必要となり製
品のコスト上昇を招くという不都合があつた。
の弁座3と弁体4との隙間からの漏れ流量は弁座
3と弁体4とのクリアランスの大きさにより決定
され、このクリアランスの大きさは部品の組み付
け公差および弁座3と弁体4の仕上がり寸法によ
つて定まる。しかし、部品の組み付け公差および
製品の仕上がり寸法は製品毎に差があつて必ずし
も一定にならず、このため前記弁座3と弁体4と
の作るクリアランスの大きさは寸法公差の範囲内
でバラツクこととなり、これに対応して制御弁全
閉時の漏れ流量値も製品によつてバラツキを生じ
る。この漏れ流量値のバラツキを抑え、各製品の
漏れ流量値を一様にするには弁座3、弁体4およ
びその他の周辺部品の高精度加工が必要となり製
品のコスト上昇を招くという不都合があつた。
本考案はこのような従来の問題点に注目してな
されたもので、高精度加工を必要とせず、安価に
各製品の全閉時漏れ流量値を一様にできるような
流量制御弁を構成することを目的とする。
されたもので、高精度加工を必要とせず、安価に
各製品の全閉時漏れ流量値を一様にできるような
流量制御弁を構成することを目的とする。
このために、流体通路が開口する弁座のシール
面を円錐とし、該円錐面と等しい円錐面の一部を
シール面とする弁体と、該弁体を前記円錐面の中
心軸の回りに回転自由に支持する支持機構と、該
弁体の前記中心軸方向の位置決めを図る弁***置
調節装置とを有する流量制御弁を構成し、この弁
の全閉時における弁座と弁体とのクリアランスの
大きさを調整可能とする。
面を円錐とし、該円錐面と等しい円錐面の一部を
シール面とする弁体と、該弁体を前記円錐面の中
心軸の回りに回転自由に支持する支持機構と、該
弁体の前記中心軸方向の位置決めを図る弁***置
調節装置とを有する流量制御弁を構成し、この弁
の全閉時における弁座と弁体とのクリアランスの
大きさを調整可能とする。
〔実施例〕
以下に本考案を第2図に示す一実施例に基づい
て説明する。なお、従来例と同一要素については
第1図と同一符号を付して説明を省略する。
て説明する。なお、従来例と同一要素については
第1図と同一符号を付して説明を省略する。
構 成
図において弁箱2に円錐面の一部をシール面2
1aとする弁座21を設け、この円錐面と等しい
円錐面の一部をシール面22aとする弁体22を
前記円錐面の中心軸方向に延びる中空軸5に固定
する。
1aとする弁座21を設け、この円錐面と等しい
円錐面の一部をシール面22aとする弁体22を
前記円錐面の中心軸方向に延びる中空軸5に固定
する。
そして、中空軸5は支持機構としての軸受7,
8により固定軸6に回転自由に支持される。この
中空軸5は固定軸6方向にも摺動可能であり、弁
体22側の固定軸6に挿入されたスプリング23
により弁体22とともに固定軸6方向に付勢され
る。なお、この中空軸5に弁体22とともにアー
マチユア10およびコンミテータ14が固定され
ることは従来と同様である。
8により固定軸6に回転自由に支持される。この
中空軸5は固定軸6方向にも摺動可能であり、弁
体22側の固定軸6に挿入されたスプリング23
により弁体22とともに固定軸6方向に付勢され
る。なお、この中空軸5に弁体22とともにアー
マチユア10およびコンミテータ14が固定され
ることは従来と同様である。
一方、固定軸6の反弁箱2側の端部にネジ部2
4を設け、クリアランス調整ナツト25を螺合す
る。ここで前記中空軸5はスプリング23により
固定軸6方向に付勢されているから、中空軸5の
反スプリング23側の端面およびコンミテータ1
4は摩擦低減用のワツシヤ26を介してクリアラ
ンス調整ナツト25に圧接することになる。すな
わち、スプリング23およびクリアランス調整ナ
ツト25により弁***置調整装置が構成されるこ
とになる。
4を設け、クリアランス調整ナツト25を螺合す
る。ここで前記中空軸5はスプリング23により
固定軸6方向に付勢されているから、中空軸5の
反スプリング23側の端面およびコンミテータ1
4は摩擦低減用のワツシヤ26を介してクリアラ
ンス調整ナツト25に圧接することになる。すな
わち、スプリング23およびクリアランス調整ナ
ツト25により弁***置調整装置が構成されるこ
とになる。
作 用
次に作用を説明する。
かかる構成を有する流量制御弁にあつては固定
軸6のネジ部24に螺合されたクリアランス調整
ナツト25を回転しその位置を変化することによ
り、該ナツト25にスプリング23の付勢力によ
りワツシヤ25を介して圧接されている中空軸5
の位置、すなわち中空軸5に固定されている弁体
22の固定軸6方向の位置が変化する。ここで弁
体22および弁座21はこの固定軸6を中心軸と
する円錐面により構成されているから、弁体22
の固定軸6方向の移動により弁体22のシール面
22aと弁座21とのクリアランスの大きさが変
化する。
軸6のネジ部24に螺合されたクリアランス調整
ナツト25を回転しその位置を変化することによ
り、該ナツト25にスプリング23の付勢力によ
りワツシヤ25を介して圧接されている中空軸5
の位置、すなわち中空軸5に固定されている弁体
22の固定軸6方向の位置が変化する。ここで弁
体22および弁座21はこの固定軸6を中心軸と
する円錐面により構成されているから、弁体22
の固定軸6方向の移動により弁体22のシール面
22aと弁座21とのクリアランスの大きさが変
化する。
これにより制御弁全閉時の漏れ流量値をクリア
ランス調整ナツト25を回転することにより調節
することが可能となり、各製品の漏れ流量値を一
様に所定値に保つことができる。
ランス調整ナツト25を回転することにより調節
することが可能となり、各製品の漏れ流量値を一
様に所定値に保つことができる。
なお、この流量制御弁を所定の開度に保つ操作
は従来と同様にアーマチユア10に設けられた開
弁用、閉弁用2つのコイルにそれぞれ所定のデユ
ーテイ比を持つパルス信号を交互に入力すること
によりなされる。
は従来と同様にアーマチユア10に設けられた開
弁用、閉弁用2つのコイルにそれぞれ所定のデユ
ーテイ比を持つパルス信号を交互に入力すること
によりなされる。
本実施例では弁座21と弁体22とを引き離す
向きに弁体22をスプリング23により付勢し、
クリアランス調整ナツト25により弁体22の固
定軸6方向の位置の調節をしたが、逆に弁座21
と弁体22とが接触する向きに付勢して弁体22
位置の調節を図つてもよい。
向きに弁体22をスプリング23により付勢し、
クリアランス調整ナツト25により弁体22の固
定軸6方向の位置の調節をしたが、逆に弁座21
と弁体22とが接触する向きに付勢して弁体22
位置の調節を図つてもよい。
また、本実施例では弁体22位置調節後、カバ
ー17を装着するようになつているが、カバー1
7にクリアランス調整ナツト25回転用の孔を設
ければ、カバー17装着後も弁体22の位置の調
整が可能である。
ー17を装着するようになつているが、カバー1
7にクリアランス調整ナツト25回転用の孔を設
ければ、カバー17装着後も弁体22の位置の調
整が可能である。
以上説明したように本考案では弁座と弁体のシ
ール面相互のクリアランスの大きさを調節できる
ようにしたから、流量制御弁全閉時の漏れ流量値
を調整することが可能となり、各製品の漏れ流量
値が一様に所定値に保たれる。また、本考案の流
量制御弁は部品の組み付け公差および弁体と弁座
の加工精度のバラツキを弁***置調整装置により
補正するものであるから、特に高精度の加工およ
び複雑な加工を必要とする部分はなく、安価、確
実に所期の目的を果すことができるものである。
ール面相互のクリアランスの大きさを調節できる
ようにしたから、流量制御弁全閉時の漏れ流量値
を調整することが可能となり、各製品の漏れ流量
値が一様に所定値に保たれる。また、本考案の流
量制御弁は部品の組み付け公差および弁体と弁座
の加工精度のバラツキを弁***置調整装置により
補正するものであるから、特に高精度の加工およ
び複雑な加工を必要とする部分はなく、安価、確
実に所期の目的を果すことができるものである。
第1図は従来の流量制御弁の一例を示す縦断面
図、第2図は本考案の一実施例を示す縦断面図で
ある。 1……流体通路、5……中空軸(支持機構)、
6……固定軸(支持機構)、7,8……軸受(支
持機構)、21……弁座、21a……シール面、
22……弁体、22a……シール面、23……ス
プリング(弁***置調整装置)、25……クリア
ランス調整ナツト(弁***置調整装置)。
図、第2図は本考案の一実施例を示す縦断面図で
ある。 1……流体通路、5……中空軸(支持機構)、
6……固定軸(支持機構)、7,8……軸受(支
持機構)、21……弁座、21a……シール面、
22……弁体、22a……シール面、23……ス
プリング(弁***置調整装置)、25……クリア
ランス調整ナツト(弁***置調整装置)。
Claims (1)
- 円錐面の一部をシール面とする弁座に開口する
流体通路と、前記円錐面と等しい円錐面の一部を
シール面とする弁体と、該弁体を前記円錐面の中
心軸の回りに回転自由に支持する支持機構とを有
し、前記弁体の回動に伴う前記弁座に開口する流
体通路の開口面積の変化により流量制御を行う流
量制御弁において、前記弁体の前記中心軸方向の
位置を調整して前記弁座と弁体のシール面相互の
クリアランスを決める弁***置調整装置を設けた
ことを特徴とする流量制御弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3633783U JPS59142573U (ja) | 1983-03-15 | 1983-03-15 | 流量制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3633783U JPS59142573U (ja) | 1983-03-15 | 1983-03-15 | 流量制御弁 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59142573U JPS59142573U (ja) | 1984-09-22 |
JPH026306Y2 true JPH026306Y2 (ja) | 1990-02-15 |
Family
ID=30167016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3633783U Granted JPS59142573U (ja) | 1983-03-15 | 1983-03-15 | 流量制御弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59142573U (ja) |
-
1983
- 1983-03-15 JP JP3633783U patent/JPS59142573U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59142573U (ja) | 1984-09-22 |
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