JPH0251160A - 現像装置 - Google Patents

現像装置

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Publication number
JPH0251160A
JPH0251160A JP20225988A JP20225988A JPH0251160A JP H0251160 A JPH0251160 A JP H0251160A JP 20225988 A JP20225988 A JP 20225988A JP 20225988 A JP20225988 A JP 20225988A JP H0251160 A JPH0251160 A JP H0251160A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
development
wafer
concentration
developer
liquid developer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20225988A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiko Tsuchiya
雅彦 土屋
Masafumi Kobayashi
雅史 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH0251160A publication Critical patent/JPH0251160A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フォトレジストの現像装置の機構に関する。
〔従来の技術〕
従来の現像装置は第２図に示すような構造である。第４
図は前処理に現像液希薄液を用いたときの現像液の流度
の変化を示したものである。
１）ターンテーブル２上にウェハ１を載置し低速で回転
させる。
２）前処理：純水又は現像液希薄溶液をウェハ１上に前
処理用ノズル６より吐出しウェハ１全面に行き渡らせる
。
３）現像処理二　一定時間の前処理の後、現像腋用ノズ
ル５より現像液を吐出し、一定時間現像処理を行う。
４）停止・洗浄処理ニ一定時間の現像処理の後、現像停
止用ノズル４より純水を吐出し、現像の停止及びウェハ
１の洗浄を行い、一定時間の後吐出停止にさせターンテ
ーブル２を高速で回転させウェハ１の乾燥を行う。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、前述の従来の技術では以下に述べる様な課題を
有していた。即ち、フォトレジストが塗布されたウェハ
表面は非常に撥水性が高いために前述の前処理及び現像
処理時に部分的に処理に時間差が生じ、処理が不均一と
なり正常に現像されない箇所が生じていた。前処理液と
して現像液希薄溶液を用いて濡れ性を良くした場合でも
やはり先に吐出された所の現像が速く進むため、現像液
希薄溶液及び現像液を吐出させる時点すなわち第４図の
９及び１０の時点でターンテーブルが１回転する間にレ
ジスト上に部分的濃度差による現像むらが生じ特性の不
拘−及び外観上の問題が発生する。そのために現像工程
の歩留が低下していた。
そこで本発明はこのような課題を解決するもので、その
目的とするところは、現像工程における歩留を向上させ
るところにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の現像装置は、現像対像たるウェハに吐出する現
像液の濃度が連続可変である事を特徴とする。
〔実施例〕
第１図は本発明の実施例における現像装置の断面図であ
る。第３面は第１図における現像液・純水濃度可変ノズ
ル３から出る現像液と純水の割合を示す。本実施例にお
ける現像工程のプロセスは以下のとおりである。
１）ターンテーブル２上にウェハ１を載置し低速で回転
させる。
２）現像処理：現像液・純水酒度可変ノズル３より吐出
させる現像液の濃度を第３図に示すように変化させ従来
の技術における前処理と現像を行う。
３）一定時間現像の後、現像停止用ノズル４より純水を
吐出し、現像の停止及びウェハ１の洗浄を行い、一定時
間の後吐出停止させターンテーブル２を高速で回転させ
ウェハ１の乾燥を行う。
以上に述べた現像工程によりウェハ１の現像を行う場合
、第３図に示すように現像液の濃度が０〔％〕の点すな
わち７の点から８の点まで徐々に濃度を上げて行うため
ターンテーブルが一回転する間には現像液の濃度はほと
んど変化しない。そのことにより現像処理がウェハ１面
内均等に行なわれ現像不良は減少し同工程の歩留が向上
する。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、フォトレジストの現
像において、ウェハに吐出する現像液の濃度を０〔％〕
の点から連続可変させることでこの工程における不良の
発生が減少し歩留が向上するという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明における現像装置の断面図。 第２図は従来の現像装置の断面図。 第３図は本発明の現像装置による現像工程の現像液の濃
度の変化を表わすグラフ。 第４図は従来の現像装置による現像工程の現像液の濃度
の変化を表わすグラフ。 １・・・ウェハ ２・・・ターンテーブル ３・・・現像液・純水濃度可変ノズル ４・・・現像停止用純水ノズル ５・・・現像液用ノズル ６・・・前処理用ノズル ７・・・現像液濃度変化開始点 ８・・・現像液濃度変化開始点 ９・・・現像液希薄溶液吐出点 １０・・・現像液吐出点 以　　上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. フォトレジストを現像する装置において、現像対象たる
    ウェハに吐出する現像液の濃度が、連続可変である事を
    特徴とする現像装置。
JP20225988A 1988-08-12 1988-08-12 現像装置 Pending JPH0251160A (ja)

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JP20225988A JPH0251160A (ja) 1988-08-12 1988-08-12 現像装置

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JPH0251160A true JPH0251160A (ja) 1990-02-21

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JP (1) JPH0251160A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6257778B1 (en) * 1998-02-04 2001-07-10 Tokyo Electron Limited Method for developing front surface of substrate with improved developing function of developing solution and apparatus thereof
KR100530752B1 (ko) * 1997-12-29 2006-01-27 삼성테크윈 주식회사 인라인형 드라이 포토레지스트 현상장치

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