JPH0562962A - 板状物処理治具およびそれが使用された板状物処理方法 - Google Patents
板状物処理治具およびそれが使用された板状物処理方法Info
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- JPH0562962A JPH0562962A JP24441591A JP24441591A JPH0562962A JP H0562962 A JPH0562962 A JP H0562962A JP 24441591 A JP24441591 A JP 24441591A JP 24441591 A JP24441591 A JP 24441591A JP H0562962 A JPH0562962 A JP H0562962A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハの洗浄時における異物の再付着を防止
する。 【構成】 複数枚のウエハ1を治具10によりスクリュ
ー形状に保持した状態で、純水24中に浸漬して回転さ
せることにより、純水24中に斜め上方に流れる水流3
4を発生させる。 【効果】 ウエハ1に付着した異物4を強制的に洗い落
とすことができるとともに、洗い落とした異物4を水流
34に乗せて斜め上方に迅速に排出させることができ、
きわめて高い洗浄効果を得ることができる。しかも、洗
い落とした異物を水流34によって斜め上方に運ぶこと
により、異物4をオーバフロー流35によって直ちに槽
外に排出することができるため、純水24の水面に浮遊
した異物が水中から引き上げ途中のウエハ1に再付着す
るのを防止することができ、前記洗浄効果をより一層高
めることができる。
する。 【構成】 複数枚のウエハ1を治具10によりスクリュ
ー形状に保持した状態で、純水24中に浸漬して回転さ
せることにより、純水24中に斜め上方に流れる水流3
4を発生させる。 【効果】 ウエハ1に付着した異物4を強制的に洗い落
とすことができるとともに、洗い落とした異物4を水流
34に乗せて斜め上方に迅速に排出させることができ、
きわめて高い洗浄効果を得ることができる。しかも、洗
い落とした異物を水流34によって斜め上方に運ぶこと
により、異物4をオーバフロー流35によって直ちに槽
外に排出することができるため、純水24の水面に浮遊
した異物が水中から引き上げ途中のウエハ1に再付着す
るのを防止することができ、前記洗浄効果をより一層高
めることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、板状物の処理技術、特
に、複数枚の半導体ウエハ(以下、単に、ウエハとい
う。)を一度に回転させる技術に関し、例えば、半導体
装置の製造工程において、ウエハを洗浄処理し、かつ、
回転乾燥処理するのに利用して有効な技術に関する。
に、複数枚の半導体ウエハ(以下、単に、ウエハとい
う。)を一度に回転させる技術に関し、例えば、半導体
装置の製造工程において、ウエハを洗浄処理し、かつ、
回転乾燥処理するのに利用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程において、ウエハ
を洗浄する方法として、オーバフロー槽にオーバフロー
状態で貯留されている純水中に、複数枚のウエハが互い
に平行に配された状態で洗浄治具に収納されて浸漬さ
れ、ウエハに付着した異物等を洗い流す方法、がある。
を洗浄する方法として、オーバフロー槽にオーバフロー
状態で貯留されている純水中に、複数枚のウエハが互い
に平行に配された状態で洗浄治具に収納されて浸漬さ
れ、ウエハに付着した異物等を洗い流す方法、がある。
【0003】なお、このようなウエハの洗浄処理方法を
述べてある例としては、特開昭62−45126号公報
がある。
述べてある例としては、特開昭62−45126号公報
がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ようなウエハの洗浄処理方法においては、ウエハから洗
い落とされた異物がオーバフローによりオーバフロー槽
から排出されるのに時間がかかるため、水中からウエハ
が引き上げられる際に、水面上に浮いている異物が引き
上げ途中のウエハの表面に再付着してしまうという問題
点があることが、本発明者によって明らかにされた。
ようなウエハの洗浄処理方法においては、ウエハから洗
い落とされた異物がオーバフローによりオーバフロー槽
から排出されるのに時間がかかるため、水中からウエハ
が引き上げられる際に、水面上に浮いている異物が引き
上げ途中のウエハの表面に再付着してしまうという問題
点があることが、本発明者によって明らかにされた。
【0005】本発明の目的は、ウエハの水洗時における
異物の再付着を防止することができるウエハの洗浄処理
方法を提供することにある。
異物の再付着を防止することができるウエハの洗浄処理
方法を提供することにある。
【0006】本発明の第2の目的は、このウエハの洗浄
処理方法を合理的に実施することができるウエハの処理
治具を提供することにある。
処理方法を合理的に実施することができるウエハの処理
治具を提供することにある。
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
【0009】すなわち、板状物の外径以上の半径を有す
る円板形状に形成されている保持板と、円柱形状に形成
され、保持板に同心に配されて一体回転するように突設
されている保持柱とを備えており、前記保持板の上面に
板状物の外周辺部を嵌入自在の第1保持溝が複数条、周
方向に等間隔に配されて法線に対してそれぞれ傾斜する
ように放射状に刻設されているとともに、前記保持柱の
外周に板状物の周辺部を嵌入自在の第2保持溝が複数
条、各第1保持溝にそれぞれ一連となるように配され
て、中心線に対してそれぞれ傾斜するように刻設されて
おり、さらに、前記保持柱に回転駆動装置に係合自在な
係合部が形成されている板状物処理治具が用意され、こ
の板状物処理治具に複数枚の板状物が、前記第1保持溝
および第2保持溝に外周辺部をそれぞれ嵌入されて前記
保持板上にて保持柱に立て掛けられた状態で、保持され
る工程と、オーバフロー槽にオーバフロー状態で貯留さ
れている洗浄液中に、前記板状物群を保持した板状物処
理治具が浸漬される工程と、この浸漬された板状物処理
治具が洗浄液中で、保持柱を中心にして水平に回転され
る洗浄工程とを備えていることを特徴とする。
る円板形状に形成されている保持板と、円柱形状に形成
され、保持板に同心に配されて一体回転するように突設
されている保持柱とを備えており、前記保持板の上面に
板状物の外周辺部を嵌入自在の第1保持溝が複数条、周
方向に等間隔に配されて法線に対してそれぞれ傾斜する
ように放射状に刻設されているとともに、前記保持柱の
外周に板状物の周辺部を嵌入自在の第2保持溝が複数
条、各第1保持溝にそれぞれ一連となるように配され
て、中心線に対してそれぞれ傾斜するように刻設されて
おり、さらに、前記保持柱に回転駆動装置に係合自在な
係合部が形成されている板状物処理治具が用意され、こ
の板状物処理治具に複数枚の板状物が、前記第1保持溝
および第2保持溝に外周辺部をそれぞれ嵌入されて前記
保持板上にて保持柱に立て掛けられた状態で、保持され
る工程と、オーバフロー槽にオーバフロー状態で貯留さ
れている洗浄液中に、前記板状物群を保持した板状物処
理治具が浸漬される工程と、この浸漬された板状物処理
治具が洗浄液中で、保持柱を中心にして水平に回転され
る洗浄工程とを備えていることを特徴とする。
【0010】
【作用】前記した手段によれば、板状物を保持した治具
が洗浄液中で回転されると、板状物に接触した洗浄液は
遠心力によって径方向外向きで、斜め上方に流れるた
め、径方向外向きで斜め上方の水流が発生される。この
水流により、板状物の表面に付着した異物は板状物の表
面から強制的に洗い落とされるとともに、洗浄槽中の周
辺部へ排出される。
が洗浄液中で回転されると、板状物に接触した洗浄液は
遠心力によって径方向外向きで、斜め上方に流れるた
め、径方向外向きで斜め上方の水流が発生される。この
水流により、板状物の表面に付着した異物は板状物の表
面から強制的に洗い落とされるとともに、洗浄槽中の周
辺部へ排出される。
【0011】そして、洗浄槽の水中の周辺部へ押しやら
れた異物は、遠心力が作用している水流れに乗って洗浄
槽からそのまま直ちにオーバフローされる。したがっ
て、板状物から洗い落とされた異物が水面に浮遊するこ
とにより、板状物が洗浄液中から引き上げられる際に、
引き上げ途中の板状物に再付着することは防止されるこ
とになる。
れた異物は、遠心力が作用している水流れに乗って洗浄
槽からそのまま直ちにオーバフローされる。したがっ
て、板状物から洗い落とされた異物が水面に浮遊するこ
とにより、板状物が洗浄液中から引き上げられる際に、
引き上げ途中の板状物に再付着することは防止されるこ
とになる。
【0012】
【実施例】図1は本発明の一実施例であるウエハの洗浄
処理治具を示す斜視図、図2はそれを使用したウエハの
洗浄処理方法を示す縦断面図、図3はその平面断面図、
図4は同じくウエハの乾燥処理方法を示す一部切断正面
図である。
処理治具を示す斜視図、図2はそれを使用したウエハの
洗浄処理方法を示す縦断面図、図3はその平面断面図、
図4は同じくウエハの乾燥処理方法を示す一部切断正面
図である。
【0013】本実施例において、本発明に係る板状物処
理治具は、板状物としてのウエハ1についての洗浄処理
を実施する際に使用されるウエハ保持治具(以下、治具
という。)10として構成されており、この治具10は
保持板11と保持柱12とを備えている。保持板11は
ウエハ1の直径よりも大きい半径を有し、適当な厚さの
円板形状に形成されており、保持柱12は適当な直径を
有する円柱形状に形成されている。保持柱12は保持板
11の中心線上において一主面(以下、上面とする。)
方向に延びるように固定的に突設されており、保持板1
1と保持柱12とは一体回転するようになっている。
理治具は、板状物としてのウエハ1についての洗浄処理
を実施する際に使用されるウエハ保持治具(以下、治具
という。)10として構成されており、この治具10は
保持板11と保持柱12とを備えている。保持板11は
ウエハ1の直径よりも大きい半径を有し、適当な厚さの
円板形状に形成されており、保持柱12は適当な直径を
有する円柱形状に形成されている。保持柱12は保持板
11の中心線上において一主面(以下、上面とする。)
方向に延びるように固定的に突設されており、保持板1
1と保持柱12とは一体回転するようになっている。
【0014】保持板11の上面には小幅で深さの浅い細
溝から成る第1保持溝13が複数条、周方向に等間隔に
配されて、かつ、法線に対して適度に傾斜するように放
射状にそれぞれ刻設されている。各第1保持溝13は被
保持物であるウエハ1の周辺部の極一部を嵌入可能な深
さおよび幅に形成されており、ウエハ1の周辺部を嵌入
することにより、後記する第2保持溝と協働してウエハ
1を立てた状態で保持するようになっている。
溝から成る第1保持溝13が複数条、周方向に等間隔に
配されて、かつ、法線に対して適度に傾斜するように放
射状にそれぞれ刻設されている。各第1保持溝13は被
保持物であるウエハ1の周辺部の極一部を嵌入可能な深
さおよび幅に形成されており、ウエハ1の周辺部を嵌入
することにより、後記する第2保持溝と協働してウエハ
1を立てた状態で保持するようになっている。
【0015】また、保持板11には透孔14が同心円に
配されて上下方向に貫通するように開設されている。さ
らに、保持板11の下面には短尺円柱形状の凸部15が
同心に配されて垂直下向きに突設されている。
配されて上下方向に貫通するように開設されている。さ
らに、保持板11の下面には短尺円柱形状の凸部15が
同心に配されて垂直下向きに突設されている。
【0016】保持柱12の円周面には小幅で深さの浅い
細溝から成る第2保持溝16が第1保持13と同数、周
方向に等間隔に配されて、かつ、保持柱12の中心線に
対して適度に傾斜するようにそれぞれ刻設されている。
各第2保持溝16は第1保持溝13と同様な深さおよび
幅に形成されているとともに、その下端が第1保持溝1
3の内側端に接続して一連に連続するようになってい
る。
細溝から成る第2保持溝16が第1保持13と同数、周
方向に等間隔に配されて、かつ、保持柱12の中心線に
対して適度に傾斜するようにそれぞれ刻設されている。
各第2保持溝16は第1保持溝13と同様な深さおよび
幅に形成されているとともに、その下端が第1保持溝1
3の内側端に接続して一連に連続するようになってい
る。
【0017】保持柱12の上部にはジャーナル部17が
形成されており、このジャーナル部17はこの治具10
が回転される際に軸受によって適宜支承されることによ
り、回転振れを防止するようになっている。また、保持
柱12の上端部には係合部としての係合孔18が開設さ
れており、この係合孔18により、この治具10に回転
駆動装置(図示せず)が連結されるようになっている。
形成されており、このジャーナル部17はこの治具10
が回転される際に軸受によって適宜支承されることによ
り、回転振れを防止するようになっている。また、保持
柱12の上端部には係合部としての係合孔18が開設さ
れており、この係合孔18により、この治具10に回転
駆動装置(図示せず)が連結されるようになっている。
【0018】この治具10が使用されて、ウエハの洗浄
処理が実施される際、図2および図3に示されている洗
浄装置20が使用される。次に、この洗浄装置20につ
いて説明する。
処理が実施される際、図2および図3に示されている洗
浄装置20が使用される。次に、この洗浄装置20につ
いて説明する。
【0019】図2および図3に示されているように、こ
の洗浄装置20は内外二重槽に構成されている処理槽2
1を備えており、内外槽は同心円の円筒形状に形成され
ている。外槽22は石英ガラスが用いられて形成されて
おり、内槽23はステンレス等が用いられて形成されて
いるとともに、弗素樹脂により表面がコーティングされ
ている。
の洗浄装置20は内外二重槽に構成されている処理槽2
1を備えており、内外槽は同心円の円筒形状に形成され
ている。外槽22は石英ガラスが用いられて形成されて
おり、内槽23はステンレス等が用いられて形成されて
いるとともに、弗素樹脂により表面がコーティングされ
ている。
【0020】洗浄槽21には洗浄液としての純水24が
貯留されており、この純水24は外槽22および内槽2
3を循環するようになっている。すなわち、外槽22の
底部にはポンプ25が設備されており、このポンプ25
は外槽22の純水24を内槽23に圧送するように構成
されている。ポンプ25の吸入側にはプレフィルタ26
が介設されており、ポンプ25の排出側である内槽23
の底部にはメインフィルタ27が介設されている。ま
た、内槽23のメインフィルタ27の上方には多孔質の
整流板28が介設されており、この整流板28により純
水24が内槽23を層流となって上昇して行くようにな
っている。そして、内槽23において、純水24は常時
オーバフローして外槽22側へ循環して行くようになっ
ている。したがって、内槽23はオーバフロー槽を構成
していることになる。
貯留されており、この純水24は外槽22および内槽2
3を循環するようになっている。すなわち、外槽22の
底部にはポンプ25が設備されており、このポンプ25
は外槽22の純水24を内槽23に圧送するように構成
されている。ポンプ25の吸入側にはプレフィルタ26
が介設されており、ポンプ25の排出側である内槽23
の底部にはメインフィルタ27が介設されている。ま
た、内槽23のメインフィルタ27の上方には多孔質の
整流板28が介設されており、この整流板28により純
水24が内槽23を層流となって上昇して行くようにな
っている。そして、内槽23において、純水24は常時
オーバフローして外槽22側へ循環して行くようになっ
ている。したがって、内槽23はオーバフロー槽を構成
していることになる。
【0021】なお、図示しないが、洗浄装置20には純
水24を適宜補給するための給水系、および、純水24
を適宜排出するための排水系が設備されている。
水24を適宜補給するための給水系、および、純水24
を適宜排出するための排水系が設備されている。
【0022】この洗浄装置20はハンドラ29を備えて
おり、ハンドラ29は洗浄槽21と、例えば、後述する
乾燥装置、その他の場所との間を適宜移動するように構
成されている。ハンドラ29にはサーボモータ等から成
る回転駆動装置30が設備されており、回転駆動装置3
0の回転軸31には係合部32が取り付けられている。
この係合部32は治具10の係合孔18に係合自在にな
っており、この係合部32と係合孔18との係合によ
り、治具10がハンドラ29に吊持されるとともに、回
転駆動装置30に連結された状態になる。
おり、ハンドラ29は洗浄槽21と、例えば、後述する
乾燥装置、その他の場所との間を適宜移動するように構
成されている。ハンドラ29にはサーボモータ等から成
る回転駆動装置30が設備されており、回転駆動装置3
0の回転軸31には係合部32が取り付けられている。
この係合部32は治具10の係合孔18に係合自在にな
っており、この係合部32と係合孔18との係合によ
り、治具10がハンドラ29に吊持されるとともに、回
転駆動装置30に連結された状態になる。
【0023】次に、前記構成に係る治具10および洗浄
装置30が使用された場合について、本発明の一実施例
であるウエハの洗浄処理方法を説明する。
装置30が使用された場合について、本発明の一実施例
であるウエハの洗浄処理方法を説明する。
【0024】洗浄すべきウエハ1は複数枚が、治具30
にスクリュー形状になるようにセットされる。すなわ
ち、1枚のウエハ1は第1保持溝13および第2保持溝
16に嵌入されて、保持板11上において保持柱12に
立て掛けられた状態に保持される。この状態において、
第1保持溝13が法線に対して傾斜しているため、ウエ
ハ1は水平面内において法線に対して傾斜した状態にな
り、かつまた、第2保持溝16が保持柱12の中心線に
対して傾斜しているため、ウエハ1は垂直面内において
傾斜した状態になっている。このとき、ウエハ1は、集
積回路を作り込まれる側の主面(以下、第1主面とい
う。)2が垂直面内の傾斜において上側になるように、
第1保持溝13および第2保持溝16に嵌入される。
にスクリュー形状になるようにセットされる。すなわ
ち、1枚のウエハ1は第1保持溝13および第2保持溝
16に嵌入されて、保持板11上において保持柱12に
立て掛けられた状態に保持される。この状態において、
第1保持溝13が法線に対して傾斜しているため、ウエ
ハ1は水平面内において法線に対して傾斜した状態にな
り、かつまた、第2保持溝16が保持柱12の中心線に
対して傾斜しているため、ウエハ1は垂直面内において
傾斜した状態になっている。このとき、ウエハ1は、集
積回路を作り込まれる側の主面(以下、第1主面とい
う。)2が垂直面内の傾斜において上側になるように、
第1保持溝13および第2保持溝16に嵌入される。
【0025】ウエハ1が複数枚スクリュー形状にセット
された治具10は、ハンドラ29の係合部32が治具1
0の係合孔18に係合されることにより、ハンドラ19
に吊持される。ハンドラ29に吊持された治具10はハ
ンドラ29により洗浄槽21に搬送されて下降され、内
槽22の純水24中に浸漬される。
された治具10は、ハンドラ29の係合部32が治具1
0の係合孔18に係合されることにより、ハンドラ19
に吊持される。ハンドラ29に吊持された治具10はハ
ンドラ29により洗浄槽21に搬送されて下降され、内
槽22の純水24中に浸漬される。
【0026】治具10が純水24中に浸漬されると、回
転駆動装置30が運転され、回転軸31、係合部32お
よび係合孔18を介して治具10は純水24中で緩やか
に回転される。このとき、図2および図3に矢印33で
示されている通り、ウエハ1の第1主面2側、かつ、ウ
エハ1の保持柱12側端部が回転方向の前側になるよう
に、治具10は回転駆動装置30により回転される。こ
のとき、必要に応じて、治具10のジャーナル部17が
軸受19(図2の想像線参照)により支承され、回転振
れが防止される。
転駆動装置30が運転され、回転軸31、係合部32お
よび係合孔18を介して治具10は純水24中で緩やか
に回転される。このとき、図2および図3に矢印33で
示されている通り、ウエハ1の第1主面2側、かつ、ウ
エハ1の保持柱12側端部が回転方向の前側になるよう
に、治具10は回転駆動装置30により回転される。こ
のとき、必要に応じて、治具10のジャーナル部17が
軸受19(図2の想像線参照)により支承され、回転振
れが防止される。
【0027】この治具10の回転に伴って、治具10に
保持されたウエハ1群は保持柱12の中心線の周りを緩
やかに公転する。このウエハ1の公転により、ウエハ1
の第1主面2に接触した純水24はウエハ1に押される
ため、第1保持溝13および第2保持溝16に保持され
たウエハ1の傾斜に従って、径方向外向きで、かつ、斜
め上方に向かう水流34(以下、斜め上方水流というこ
とがある。)が発生する。
保持されたウエハ1群は保持柱12の中心線の周りを緩
やかに公転する。このウエハ1の公転により、ウエハ1
の第1主面2に接触した純水24はウエハ1に押される
ため、第1保持溝13および第2保持溝16に保持され
たウエハ1の傾斜に従って、径方向外向きで、かつ、斜
め上方に向かう水流34(以下、斜め上方水流というこ
とがある。)が発生する。
【0028】この水流により、ウエハ1の第1主面2お
よび第1主面2と反対側の主面(以下、第2主面とい
う。)3に付着した異物4は強制的に洗い流される。か
つまた、洗い流された異物4は、径方向外向きで斜め上
方に向かう水流34に乗って、内槽23の純水24中に
おける上部に強制的に運ばれる。この内槽23の上部に
おいては、純水24の常時オーバフロー流35が形成さ
れているため、水流34に乗って上部に運ばれた異物4
は、このオーバフロー流35に乗ってそのまま直ちに外
槽22に排出されることになる。したがって、内槽23
の純水24中には異物4が浮遊することは、殆どない状
態になる。
よび第1主面2と反対側の主面(以下、第2主面とい
う。)3に付着した異物4は強制的に洗い流される。か
つまた、洗い流された異物4は、径方向外向きで斜め上
方に向かう水流34に乗って、内槽23の純水24中に
おける上部に強制的に運ばれる。この内槽23の上部に
おいては、純水24の常時オーバフロー流35が形成さ
れているため、水流34に乗って上部に運ばれた異物4
は、このオーバフロー流35に乗ってそのまま直ちに外
槽22に排出されることになる。したがって、内槽23
の純水24中には異物4が浮遊することは、殆どない状
態になる。
【0029】他方、ウエハ1の公転に伴う斜め上方水流
34の発生によって相対的に、ウエハ1には第1保持溝
13および第2保持溝16に嵌入させる方向の押力36
が作用するため、ウエハ1が斜め上方水流34によって
第1保持溝13および第2保持溝16から外されること
は防止される。なお、ウエハ1は第1保持溝13および
第2保持溝16によって充分に抜け止めされることはい
うまでもない。
34の発生によって相対的に、ウエハ1には第1保持溝
13および第2保持溝16に嵌入させる方向の押力36
が作用するため、ウエハ1が斜め上方水流34によって
第1保持溝13および第2保持溝16から外されること
は防止される。なお、ウエハ1は第1保持溝13および
第2保持溝16によって充分に抜け止めされることはい
うまでもない。
【0030】このようにして、ウエハ1が洗浄された
後、治具10は緩やかに回転されながら、純水24中か
ら引き上げられる。このとき、純水24の水面に異物4
が浮遊していることがないため、引き上げ途中で、異物
4がウエハ1の表面に再付着することはない。したがっ
て、洗浄の効果はそのまま維持され、その結果、露光工
程等の後の工程における処理精度を高めることができ
る。
後、治具10は緩やかに回転されながら、純水24中か
ら引き上げられる。このとき、純水24の水面に異物4
が浮遊していることがないため、引き上げ途中で、異物
4がウエハ1の表面に再付着することはない。したがっ
て、洗浄の効果はそのまま維持され、その結果、露光工
程等の後の工程における処理精度を高めることができ
る。
【0031】これに対して、治具10の回転に伴う斜め
上方への水流34が形成されない従来例の場合には、純
水24の表面にオーバフローされずに浮遊している異物
4が、引き上げ途中のウエハ1の表面に再付着する事態
が発生する。この引き上げ途中で異物4が再付着したウ
エハ1は、以後、洗浄される機会がないため、そのま
ま、露光工程等の後工程に供給されてしまい、処理精度
の低下や不良発生の原因になってしまう。
上方への水流34が形成されない従来例の場合には、純
水24の表面にオーバフローされずに浮遊している異物
4が、引き上げ途中のウエハ1の表面に再付着する事態
が発生する。この引き上げ途中で異物4が再付着したウ
エハ1は、以後、洗浄される機会がないため、そのま
ま、露光工程等の後工程に供給されてしまい、処理精度
の低下や不良発生の原因になってしまう。
【0032】本実施例において、純水24中から引き上
げられた治具10は、湿潤したウエハ1群がセットされ
たままの状態で、図4に示されている回転乾燥装置40
にハンドラ29により直ちに搬送される。そして、湿潤
したウエハ1群は図4に示されているように、回転乾燥
装置40により乾燥処理が実施される。
げられた治具10は、湿潤したウエハ1群がセットされ
たままの状態で、図4に示されている回転乾燥装置40
にハンドラ29により直ちに搬送される。そして、湿潤
したウエハ1群は図4に示されているように、回転乾燥
装置40により乾燥処理が実施される。
【0033】図4に示されている回転乾燥装置40は、
乾燥槽41を備えており、この乾燥槽41は治具10を
収容可能な大きさの上面が開口した円筒形状に形成され
ている。図示しないが、乾燥槽41にはドライエア給気
系および排気系がそれぞれ接続されており、乾燥槽41
内には清浄なドライエアが常時循環されるようになって
いる。乾燥槽41の底面上には軸受装置42が設備され
ており、この軸受装置42は治具10の保持板11およ
びその下面に突設された凸部15を受けて回転自在に支
承するように構成されている。
乾燥槽41を備えており、この乾燥槽41は治具10を
収容可能な大きさの上面が開口した円筒形状に形成され
ている。図示しないが、乾燥槽41にはドライエア給気
系および排気系がそれぞれ接続されており、乾燥槽41
内には清浄なドライエアが常時循環されるようになって
いる。乾燥槽41の底面上には軸受装置42が設備され
ており、この軸受装置42は治具10の保持板11およ
びその下面に突設された凸部15を受けて回転自在に支
承するように構成されている。
【0034】この回転乾燥装置40が使用されて回転乾
燥される際、洗浄装置20により洗浄処理されたウエハ
1群は、治具10にセットされた状態のままでハンドラ
29により直ちに乾燥槽41内に搬入される。この際、
治具10の凸部15が乾燥槽41の軸受装置42に嵌合
されて回転自在に支承される。
燥される際、洗浄装置20により洗浄処理されたウエハ
1群は、治具10にセットされた状態のままでハンドラ
29により直ちに乾燥槽41内に搬入される。この際、
治具10の凸部15が乾燥槽41の軸受装置42に嵌合
されて回転自在に支承される。
【0035】続いて、回転駆動装置30により、治具1
0が回転される。この際、回転は当初低速度で、次第に
高速度になるように制御される。この治具10の回転に
伴ってウエハ1群は回転中心線周りを公転するため、ウ
エハ1の表面に付着した水分は遠心力により飛散し、相
対的に、ウエハ1は乾燥されることになる。
0が回転される。この際、回転は当初低速度で、次第に
高速度になるように制御される。この治具10の回転に
伴ってウエハ1群は回転中心線周りを公転するため、ウ
エハ1の表面に付着した水分は遠心力により飛散し、相
対的に、ウエハ1は乾燥されることになる。
【0036】前記実施例によれば次の効果が得られる。
複数枚のウエハを治具10によりスクリュー形状に
保持した状態で、純水中に浸漬して回転させることによ
り、純水中に斜め上方に流れる水流34を発生させるこ
とができるため、ウエハに付着した異物を強制的に洗い
落とすことができるとともに、洗い落とした異物を水流
34に乗せて斜め上方に迅速に排出させることができ、
きわめて高い洗浄効果を得ることができる。
複数枚のウエハを治具10によりスクリュー形状に
保持した状態で、純水中に浸漬して回転させることによ
り、純水中に斜め上方に流れる水流34を発生させるこ
とができるため、ウエハに付着した異物を強制的に洗い
落とすことができるとともに、洗い落とした異物を水流
34に乗せて斜め上方に迅速に排出させることができ、
きわめて高い洗浄効果を得ることができる。
【0037】 洗い落とした異物を水流34によって
斜め上方に運ぶことにより、異物4をオーバフロー流3
5によって直ちに槽外に排出することができるため、純
水の水面に浮遊した異物4が水中から引き上げ途中のウ
エハに再付着するのを防止することができ、前記洗浄効
果をより一層高めることができる。
斜め上方に運ぶことにより、異物4をオーバフロー流3
5によって直ちに槽外に排出することができるため、純
水の水面に浮遊した異物4が水中から引き上げ途中のウ
エハに再付着するのを防止することができ、前記洗浄効
果をより一層高めることができる。
【0038】 洗浄により湿潤したウエハを治具10
にセットしたまま直ちに回転させることにより、回転乾
燥処理を直ちに実施することができるため、湿潤したウ
エハの自然乾燥に伴うウオータマークの発生等を防止す
ることができる。なお、ウオータマークはウエハに付着
した水分に空気中の塵埃等が付着したり、水分に酸素が
溶けてウエハが酸化されたりすることにより、発生する
ものであり、洗浄後、直ちに乾燥することにより、防止
することができる。
にセットしたまま直ちに回転させることにより、回転乾
燥処理を直ちに実施することができるため、湿潤したウ
エハの自然乾燥に伴うウオータマークの発生等を防止す
ることができる。なお、ウオータマークはウエハに付着
した水分に空気中の塵埃等が付着したり、水分に酸素が
溶けてウエハが酸化されたりすることにより、発生する
ものであり、洗浄後、直ちに乾燥することにより、防止
することができる。
【0039】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【0040】例えば、前記実施例では洗浄処理および回
転乾燥処理に治具が用いられる場合につき説明したが、
治具は縦形処理装置による場合には、酸化処理や、アニ
ール処理、CVD処理等に際して、ウエハ群を保持する
治具としても使用することができる。
転乾燥処理に治具が用いられる場合につき説明したが、
治具は縦形処理装置による場合には、酸化処理や、アニ
ール処理、CVD処理等に際して、ウエハ群を保持する
治具としても使用することができる。
【0041】治具を構成する材料は、処理の条件に応じ
て、最適のものを選定することが望ましい。
て、最適のものを選定することが望ましい。
【0042】また、保持溝の条数や傾斜角、洗浄および
乾燥処理、その他の処理中の治具の回転速度や、処理時
間等は、実験やコンピュータによるシュミレーション等
の経験的解析手法により、最適値を求めることが望まし
い。
乾燥処理、その他の処理中の治具の回転速度や、処理時
間等は、実験やコンピュータによるシュミレーション等
の経験的解析手法により、最適値を求めることが望まし
い。
【0043】洗浄液としては、純水を使用するに限ら
ず、強酸や弗酸等のエッチング液を使用してもよい。
ず、強酸や弗酸等のエッチング液を使用してもよい。
【0044】洗浄装置や回転乾燥装置の具体的構成は前
記実施例に限らず、処理条件に応じて適宜選定すること
が望ましい。
記実施例に限らず、処理条件に応じて適宜選定すること
が望ましい。
【0045】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるウエハ
の処理技術に適用した場合について説明したが、それに
限定されるものではなく、ホトマスクや磁気ディスク、
コンパクトディスク、液晶パネル等の板状物についての
洗浄、乾燥、その他の処理技術全般に適用することがで
きる。
なされた発明をその背景となった利用分野であるウエハ
の処理技術に適用した場合について説明したが、それに
限定されるものではなく、ホトマスクや磁気ディスク、
コンパクトディスク、液晶パネル等の板状物についての
洗浄、乾燥、その他の処理技術全般に適用することがで
きる。
【0046】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
【0047】複数枚の板状物を治具によりスクリュー形
状に保持した状態で、洗浄液中に浸漬して回転させるこ
とにより、洗浄液中に斜め上方に流れる流れを発生させ
ることができるため、板状物に付着した異物を強制的に
洗い落とすことができるとともに、洗い落とした異物を
流れに乗せて斜め上方に迅速に排出させることができ、
きわめて高い洗浄効果を得ることができる。
状に保持した状態で、洗浄液中に浸漬して回転させるこ
とにより、洗浄液中に斜め上方に流れる流れを発生させ
ることができるため、板状物に付着した異物を強制的に
洗い落とすことができるとともに、洗い落とした異物を
流れに乗せて斜め上方に迅速に排出させることができ、
きわめて高い洗浄効果を得ることができる。
【0048】そして、洗い落とした異物を流れによって
斜め上方に運ぶことにより、異物4をオーバフロー流に
よって直ちに槽外に排出することができるため、洗浄液
の水面に浮遊した異物が液中から引き上げ途中の板状物
に再付着するのを防止することができ、前記洗浄効果を
より一層高めることができる。
斜め上方に運ぶことにより、異物4をオーバフロー流に
よって直ちに槽外に排出することができるため、洗浄液
の水面に浮遊した異物が液中から引き上げ途中の板状物
に再付着するのを防止することができ、前記洗浄効果を
より一層高めることができる。
【図1】本発明の一実施例であるウエハの洗浄処理治具
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図2】それを使用したウエハの洗浄処理方法を示す縦
断面図である。
断面図である。
【図3】その平面断面図である。
【図4】同じくウエハの乾燥処理方法を示す縦断面図で
ある。
ある。
1…ウエハ(板状物)、2…第1主面、3…第2主面、
4…異物、10…治具、11…保持板、12…保持柱、
13…第1保持溝、14…透孔、15…凸部、16…第
2保持溝、17…ジャーナル部、18…係合部、19…
軸受部、20…洗浄装置、21…洗浄槽、22…外槽、
23…内槽、24…純水(洗浄液)、25…ポンプ、2
6…プリフィルタ、27…メインフィルタ、28…整流
板、29…ハンドラ、30…回転駆動装置、31…回転
軸、32…係合部、33…回転方向、34…斜め上方水
流、35…オーバフロー流、36…押力、40…回転乾
燥装置、41…乾燥槽、42…軸受装置。
4…異物、10…治具、11…保持板、12…保持柱、
13…第1保持溝、14…透孔、15…凸部、16…第
2保持溝、17…ジャーナル部、18…係合部、19…
軸受部、20…洗浄装置、21…洗浄槽、22…外槽、
23…内槽、24…純水(洗浄液)、25…ポンプ、2
6…プリフィルタ、27…メインフィルタ、28…整流
板、29…ハンドラ、30…回転駆動装置、31…回転
軸、32…係合部、33…回転方向、34…斜め上方水
流、35…オーバフロー流、36…押力、40…回転乾
燥装置、41…乾燥槽、42…軸受装置。
Claims (4)
- 【請求項1】 板状物の外径以上の半径を有する円板形
状に形成されている保持板と、円柱形状に形成され、保
持板に同心に配されて一体回転するように突設されてい
る保持柱とを備えており、 前記保持板の上面に板状物の外周辺部を嵌入自在の第1
保持溝が複数条、周方向に等間隔に配されて法線に対し
てそれぞれ傾斜するように放射状に刻設されているとと
もに、 前記保持柱の外周に板状物の周辺部を嵌入自在の第2保
持溝が複数条、各第1保持溝にそれぞれ一連となるよう
に配されて、中心線に対してそれぞれ傾斜するように刻
設されており、 さらに、前記保持柱に回転駆動装置に係合自在な係合部
が形成されていることを特徴とする板状物処理治具。 - 【請求項2】 請求項1に記載の板状物処理治具に複数
枚の板状物が、前記第1保持溝および第2保持溝に外周
辺部をそれぞれ嵌入されて前記保持板上にて保持柱に立
て掛けられた状態で、保持される工程と、 オーバフロー槽にオーバフロー状態で貯留されている洗
浄液中に、前記板状物群を保持した板状物処理治具が浸
漬される工程と、 この浸漬された板状物処理治具が洗浄液中で、保持柱を
中心にして水平に回転される洗浄工程とを備えているこ
とを特徴とする板状物処理方法。 - 【請求項3】 請求項2に記載の板状物処理方法におい
て、洗浄工程後、板状物処理治具が洗浄液中から引き上
げられ、気相中で、保持柱を中心にして水平に回転され
る乾燥工程を備えていることを特徴とする板状物処理方
法。 - 【請求項4】 請求項1に記載の板状物処理治具に複数
枚の板状物が、前記第1保持溝および第2保持溝に外周
辺部をそれぞれ嵌入されて前記保持板上にて保持柱に立
て掛けられた状態で、保持される工程と、 縦形の処理室に上方または下方から前記板状物群を保持
した板状物処理治具が収容される工程と、 この収容された板状物処理治具が処理室内で、保持柱を
中心にして水平に回転される処理工程とを備えているこ
とを特徴とする板状物処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24441591A JPH0562962A (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 板状物処理治具およびそれが使用された板状物処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24441591A JPH0562962A (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 板状物処理治具およびそれが使用された板状物処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0562962A true JPH0562962A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=17118327
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24441591A Pending JPH0562962A (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 板状物処理治具およびそれが使用された板状物処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0562962A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5743280A (en) * | 1995-12-19 | 1998-04-28 | Lg Semicon Co., Ltd. | Apparatus for cleansing semiconductor wafer |
US5778911A (en) * | 1994-10-13 | 1998-07-14 | Sony Disc Technology Inc. | Liquid supplying apparatus |
US6962630B2 (en) | 2001-11-09 | 2005-11-08 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Lift-off method and chemical liquid tank |
JP2014033222A (ja) * | 2006-11-15 | 2014-02-20 | Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh | 環状に配置されているワークピースストッカ |
CN113787049A (zh) * | 2021-09-15 | 2021-12-14 | 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 | 一种用于单片湿处理制程的槽式工艺方法 |
-
1991
- 1991-08-29 JP JP24441591A patent/JPH0562962A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5778911A (en) * | 1994-10-13 | 1998-07-14 | Sony Disc Technology Inc. | Liquid supplying apparatus |
US5743280A (en) * | 1995-12-19 | 1998-04-28 | Lg Semicon Co., Ltd. | Apparatus for cleansing semiconductor wafer |
US6962630B2 (en) | 2001-11-09 | 2005-11-08 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Lift-off method and chemical liquid tank |
US7235141B2 (en) | 2001-11-09 | 2007-06-26 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Lift-off method and chemical liquid tank |
JP2014033222A (ja) * | 2006-11-15 | 2014-02-20 | Dynamic Microsystems Semiconductor Equipment Gmbh | 環状に配置されているワークピースストッカ |
CN113787049A (zh) * | 2021-09-15 | 2021-12-14 | 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 | 一种用于单片湿处理制程的槽式工艺方法 |
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