JPH024705A - 光硬化性組成物用チタナート開始剤 - Google Patents
光硬化性組成物用チタナート開始剤Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/884—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
- A61K6/887—Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、遊離基重合、とくに可視光線の作用で硬化す
る歯科用組成物に使用する開始剤に関するものである。
る歯科用組成物に使用する開始剤に関するものである。
より詳しくは、1成分系歯科用複合材配合物およびウレ
タン印象材配合物と共に使用する開始剤を開示する。
タン印象材配合物と共に使用する開始剤を開示する。
歯科用修復材が歯の充填、修復、補充の使用に適するた
めには、ある種の必須の物理的ならびに化学的特性を備
えている必要がある。
めには、ある種の必須の物理的ならびに化学的特性を備
えている必要がある。
従って、歯科用修復材としては、凝集強さ、熱膨張係数
および摩耗性のような構造上の性質に関して自然の歯に
近い性質を有している必要がある。また、色安定性、屈
折率、歯垢防止性、研磨性および不透明性のような審美
的配慮も、歯科用修復材として使用に適するかどうかを
決定するうえで重要な因子となる。
および摩耗性のような構造上の性質に関して自然の歯に
近い性質を有している必要がある。また、色安定性、屈
折率、歯垢防止性、研磨性および不透明性のような審美
的配慮も、歯科用修復材として使用に適するかどうかを
決定するうえで重要な因子となる。
現在まで、歯科用複合材または修復材として満足して使
用できる材料を見出すため、各種混合物や混合比率の異
なった多数の組成物が試験されて来た6通常これら組成
物は、ある種の樹脂を含有しており、開業医が医院内で
、顔料、触媒、風合い剤(handling agen
t)および不透明化剤のような他の材料とこの樹脂とを
予備配合するか混合するようになっている。修復材用と
しては、一般にこのような材料は、「充填」されている
、すなわち無機微粒子材料、場合によっては有機微粒子
材料を含有している。充填されていない場合には、同じ
樹脂が予防的歯科処置に使用するコーティング剤、とく
に小窩や裂溝の封鎖材として使用されている。
用できる材料を見出すため、各種混合物や混合比率の異
なった多数の組成物が試験されて来た6通常これら組成
物は、ある種の樹脂を含有しており、開業医が医院内で
、顔料、触媒、風合い剤(handling agen
t)および不透明化剤のような他の材料とこの樹脂とを
予備配合するか混合するようになっている。修復材用と
しては、一般にこのような材料は、「充填」されている
、すなわち無機微粒子材料、場合によっては有機微粒子
材料を含有している。充填されていない場合には、同じ
樹脂が予防的歯科処置に使用するコーティング剤、とく
に小窩や裂溝の封鎖材として使用されている。
このような重合性樹脂は、1987年4月21日出願の
共出願中の米国特許出願番号筒040.636号に例示
され、また米国特許第4,514,174号にその使用
が記載され、また類似の樹脂は当業者にとって既知であ
り、これら文献に記載されている。これら樹脂は硬質材
料にも弾性材料にもすることができ、歯科用分野では広
範囲に利用されているものである。
共出願中の米国特許出願番号筒040.636号に例示
され、また米国特許第4,514,174号にその使用
が記載され、また類似の樹脂は当業者にとって既知であ
り、これら文献に記載されている。これら樹脂は硬質材
料にも弾性材料にもすることができ、歯科用分野では広
範囲に利用されているものである。
このような樹脂としてはウレタンジアクリレートがあり
、歯科印象材、歯科充填材、小窩および裂溝封鎖科、架
工材、義歯構造材、薬剤供給系、および口腔内包帯とし
て使用される0本質的にこれら組成物は、遊離基重合性
樹脂を含有し、重合開始剤、促進剤、必要に応じて充填
剤と安定剤を含むものである。
、歯科印象材、歯科充填材、小窩および裂溝封鎖科、架
工材、義歯構造材、薬剤供給系、および口腔内包帯とし
て使用される0本質的にこれら組成物は、遊離基重合性
樹脂を含有し、重合開始剤、促進剤、必要に応じて充填
剤と安定剤を含むものである。
混合することなくすぐ使用できるようになっている1成
分系光活性材料は、光開始重合を使用することにより診
療時間が増加することから、従来の熱化学触媒組成物ま
たはレドックス活性化組成物よりも好ましいことは、当
業者にとっては十分認識できるところである。2成分触
媒系またはレドックス系にあっては、触媒を樹脂成分に
添加した時の反応時間によって診療時間が左右される。
分系光活性材料は、光開始重合を使用することにより診
療時間が増加することから、従来の熱化学触媒組成物ま
たはレドックス活性化組成物よりも好ましいことは、当
業者にとっては十分認識できるところである。2成分触
媒系またはレドックス系にあっては、触媒を樹脂成分に
添加した時の反応時間によって診療時間が左右される。
1成分光硬化系では、歯科医としては、歯の構造に歯科
印象材または修復材を形成するか成形するに必要ないか
なる時間でも利用することができ、ついで光硬化性材料
に適当な波長の電磁線を照射して極めて迅速に硬化を行
うことができる。さらに、1成分光硬化系では、歯科医
は、硬化して得られる組成物が確実に適切な物性になる
よう適切に計量し混合することにわずられされることも
ない6 従来から約3,600人ないし約6,000人の波長の
可視光線に感光性の光開始剤を使用した歯科材料がある
。可視光線は歯の構造による減衰が紫外線より少ないた
め、このような材料は一般に紫外線で硬化する材料より
好ましい。しかし、可視光線硬化配合物を使用した歯科
配合材を開発するため多くの試みがなされて来たが、希
望するような性能を有するものがなかった。
印象材または修復材を形成するか成形するに必要ないか
なる時間でも利用することができ、ついで光硬化性材料
に適当な波長の電磁線を照射して極めて迅速に硬化を行
うことができる。さらに、1成分光硬化系では、歯科医
は、硬化して得られる組成物が確実に適切な物性になる
よう適切に計量し混合することにわずられされることも
ない6 従来から約3,600人ないし約6,000人の波長の
可視光線に感光性の光開始剤を使用した歯科材料がある
。可視光線は歯の構造による減衰が紫外線より少ないた
め、このような材料は一般に紫外線で硬化する材料より
好ましい。しかし、可視光線硬化配合物を使用した歯科
配合材を開発するため多くの試みがなされて来たが、希
望するような性能を有するものがなかった。
従って本発明の主な目的は、歯科用として有用な光硬化
性組成物を提供するところにある。
性組成物を提供するところにある。
本発明のもう一つの目的は、高い強度の生成物を形成し
、硬化時間が速く、シかも硬化前の作業性が良い歯科組
成物を提供するところにある。
、硬化時間が速く、シかも硬化前の作業性が良い歯科組
成物を提供するところにある。
・本発明のその他の目的および利点は、本発明の以下の
記載で明らかとなるであろう。
記載で明らかとなるであろう。
本発明は、オレフィン系不飽和単量体と、1種類もしく
は2種類のカルボキシルまたは複素環式芳香族環が金属
原子に結合しているビス−ペンタフルオロベンゼン置換
基を含むシクロペンタジェニルチタノセンを含有する光
開始剤とを含む光重合性歯科用組成物を提供するもので
ある0本発明組成物は、好ましくは少なくとも1種類の
アクリルまたはメタクリルエステルを含み、さらに第三
級アミンおよび/またはベンゾイルペルオキシド、クメ
ンヒドロペルオキシド、t−ブチル−ペルベンゾエート
等のような酸化剤を含むものである。
は2種類のカルボキシルまたは複素環式芳香族環が金属
原子に結合しているビス−ペンタフルオロベンゼン置換
基を含むシクロペンタジェニルチタノセンを含有する光
開始剤とを含む光重合性歯科用組成物を提供するもので
ある0本発明組成物は、好ましくは少なくとも1種類の
アクリルまたはメタクリルエステルを含み、さらに第三
級アミンおよび/またはベンゾイルペルオキシド、クメ
ンヒドロペルオキシド、t−ブチル−ペルベンゾエート
等のような酸化剤を含むものである。
重合体材料への転換率を高めるため、必要があれば組成
物にプロトン供与化合物を添加することができる。
物にプロトン供与化合物を添加することができる。
本発明はまた修復準備した歯に、前記組成物を適用して
歯を処置する前記組成物の使用法を提供するものである
。
歯を処置する前記組成物の使用法を提供するものである
。
本発明の開始剤は、従来技術の開始剤より速く、より深
部を硬化することを見出した。
部を硬化することを見出した。
一般に、歯科用として使用される樹脂、とくに複合材の
成分として使用される樹脂の性質は、単量体が高転換す
る(すなわち単量体が架橋してほぼ完全に重合体となる
)と向上する。
成分として使用される樹脂の性質は、単量体が高転換す
る(すなわち単量体が架橋してほぼ完全に重合体となる
)と向上する。
従来技術のある種の光硬化性組成物においては1表面で
は単量体の転換率は非常に良いが、樹脂または複合材料
の深部になると単量体の転換率が低下する。(転換率は
、樹脂内の炭素−炭素不飽和に相当する分光写真のピー
クの強さを計量することにより測定される。)深部にお
ける光の分散および反射、それと遊離基を捕捉し光源に
より開始される遊離基連鎖反応を妨げまたは抑制する遊
離基スカベンジャーである酸素の存在とが組合わされる
ために、樹脂深部にあっては転換率が低下すると理論づ
けられて来た。
は単量体の転換率は非常に良いが、樹脂または複合材料
の深部になると単量体の転換率が低下する。(転換率は
、樹脂内の炭素−炭素不飽和に相当する分光写真のピー
クの強さを計量することにより測定される。)深部にお
ける光の分散および反射、それと遊離基を捕捉し光源に
より開始される遊離基連鎖反応を妨げまたは抑制する遊
離基スカベンジャーである酸素の存在とが組合わされる
ために、樹脂深部にあっては転換率が低下すると理論づ
けられて来た。
本発明のチタナート開始剤は、深部硬化が達成でき、重
合体深部における転換率が向上するものである。
合体深部における転換率が向上するものである。
従って本発明は、式(I)で表わされるチタナートに関
するものである。
するものである。
■
式中、Mは4価のチタン原子、R工はそれぞれが独立的
に非置換または置換シクロペンタジェニル基、インデニ
ル基、あるいはR1はいっしょになって式(n)で表わ
される置換されていない基または置換された基であり、
[式中、又は(CR2)−(nは 1,2または3)、
C2〜C工2アルキリデン基、5 ないし7員環の炭素
原子を含むシクロアルキリデン基、5L(R4)z ま
たはS n (R4)2. (R,はC0〜C12アル
キル基、05〜C1□シクロアルキル基、C6〜C16
アリール基または07〜C15アラルキル基)] R2は、金属−炭素結合に対する2個のオルト位のうち
少なくとも1個がフッ素原子で置換されており、またさ
らに置換基を有することのできる6員炭素環あるいは5
員または6員の芳香族環あるいは複素芳香族環であるか
、あるいはR2およびR1はいっしょになって式(II
I)で表わされる基であり、−Q−Y−Q− (m) [式中、Qは炭素環式または複素環式の5員または6員
芳香族環であり、その2個の結合はY基に対してそれぞ
れオルト位にあり、かつY基に対してメタ位はそれぞれ
フッ素原子で置換されており、またQはさらに置換され
てもよく、YはCH,、C,〜C□2アルキリデン基、
5ないし7貝環炭素原子を含有するシクロアルキリデン
基、直接結合鎖、NRい0、 S、 SO,SO2,C
o、 Si (R4)2またはS n (R4)2であ
り。
に非置換または置換シクロペンタジェニル基、インデニ
ル基、あるいはR1はいっしょになって式(n)で表わ
される置換されていない基または置換された基であり、
[式中、又は(CR2)−(nは 1,2または3)、
C2〜C工2アルキリデン基、5 ないし7員環の炭素
原子を含むシクロアルキリデン基、5L(R4)z ま
たはS n (R4)2. (R,はC0〜C12アル
キル基、05〜C1□シクロアルキル基、C6〜C16
アリール基または07〜C15アラルキル基)] R2は、金属−炭素結合に対する2個のオルト位のうち
少なくとも1個がフッ素原子で置換されており、またさ
らに置換基を有することのできる6員炭素環あるいは5
員または6員の芳香族環あるいは複素芳香族環であるか
、あるいはR2およびR1はいっしょになって式(II
I)で表わされる基であり、−Q−Y−Q− (m) [式中、Qは炭素環式または複素環式の5員または6員
芳香族環であり、その2個の結合はY基に対してそれぞ
れオルト位にあり、かつY基に対してメタ位はそれぞれ
フッ素原子で置換されており、またQはさらに置換され
てもよく、YはCH,、C,〜C□2アルキリデン基、
5ないし7貝環炭素原子を含有するシクロアルキリデン
基、直接結合鎖、NRい0、 S、 SO,SO2,C
o、 Si (R4)2またはS n (R4)2であ
り。
R1はアルキニル基、置換または非置換フェニルアルキ
ニル基、N、、CN基、5i(R,)。
ニル基、N、、CN基、5i(R,)。
または5n(R,)3もしくはR2と同一定義を有して
いるものである。
いるものである。
R1基は同一であることが好ましい。R1の置換基とし
て適しているものは、好ましくは炭素数が1ないし18
、と(に1ないし12、最も好ましくは1ないし6の直
鎖または枝分れ鎖のアルキル基、アルコキシ基およびア
ル。
て適しているものは、好ましくは炭素数が1ないし18
、と(に1ないし12、最も好ましくは1ないし6の直
鎖または枝分れ鎖のアルキル基、アルコキシ基およびア
ル。
ケニル基で、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、L−ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基
、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基お
よびこれらに相当するアルケニル基およびアルコキシ基
であり;好ましくは5ないし8員環炭素原子を含むシク
ロアルキル基およびシクロアルケニル基で、例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、
メチルペンチル基およびメチルシクロヘキシル基であり
;好ましくは炭素数が6ないし16であるアリール基お
よび好ましくは炭素数が7ないし16であるアラルキル
基で、例えばフェニル基、ナフチル基、ピリジニル基、
ベンジル基およびフェニルエチル基であり;好ましくは
フッ素、塩素および臭素であるニトロハロゲン基、およ
びアミノ基、好ましくは、炭素数が1ないし12、好ま
しくは1ないし6である直鎖または枝分れ鎖のアルキル
基、とくにメチル基、またはエチル基、あるいはフェニ
ル基およびベンジル基を含む第三級アミノ基で、そのア
ミノ基はまた好ましくは工ないし12個の炭素原子を含
む直鎖または枝分れ鎖のハロゲン化アルキル基、好まし
くはハロゲン化メチルまたはエチルで第四級化されるこ
ともできる基であり;直鎖または枝分れ鎖のアミノアル
キル基、好ましくは、とくにハロゲン化アルキルで第四
級化することのできる第三級アミノアルキル基で、かつ
そのアミノアルキル基中のアルキレン基が直鎖または枝
分れ鎖であって、好ましくは1ないし12個、最も好ま
しくは工ないし6個の炭素原子を含み、最も好ましくは
C0〜C12アルキル基で置換することのできるメチレ
ン基である。
イソプロピル基、n−ブチル基、L−ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基
、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基お
よびこれらに相当するアルケニル基およびアルコキシ基
であり;好ましくは5ないし8員環炭素原子を含むシク
ロアルキル基およびシクロアルケニル基で、例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、
メチルペンチル基およびメチルシクロヘキシル基であり
;好ましくは炭素数が6ないし16であるアリール基お
よび好ましくは炭素数が7ないし16であるアラルキル
基で、例えばフェニル基、ナフチル基、ピリジニル基、
ベンジル基およびフェニルエチル基であり;好ましくは
フッ素、塩素および臭素であるニトロハロゲン基、およ
びアミノ基、好ましくは、炭素数が1ないし12、好ま
しくは1ないし6である直鎖または枝分れ鎖のアルキル
基、とくにメチル基、またはエチル基、あるいはフェニ
ル基およびベンジル基を含む第三級アミノ基で、そのア
ミノ基はまた好ましくは工ないし12個の炭素原子を含
む直鎖または枝分れ鎖のハロゲン化アルキル基、好まし
くはハロゲン化メチルまたはエチルで第四級化されるこ
ともできる基であり;直鎖または枝分れ鎖のアミノアル
キル基、好ましくは、とくにハロゲン化アルキルで第四
級化することのできる第三級アミノアルキル基で、かつ
そのアミノアルキル基中のアルキレン基が直鎖または枝
分れ鎖であって、好ましくは1ないし12個、最も好ま
しくは工ないし6個の炭素原子を含み、最も好ましくは
C0〜C12アルキル基で置換することのできるメチレ
ン基である。
R1基は置換基を3個まで持つことができるが、好まし
くは1個の置換基を持つものである。置換基R1がとも
にシクロペンタジェニル基またはメチルシクロペンタジ
ェニル基であるのが好ましい。
くは1個の置換基を持つものである。置換基R1がとも
にシクロペンタジェニル基またはメチルシクロペンタジ
ェニル基であるのが好ましい。
式(II)中の又は、好ましくは炭素数が2ないし6で
あるアルキリデン基である。アルキリデン基およびシク
ロヘキシル基の例としては、エチリデン基、プロピリデ
ン基、ブチリデン基、ヘキシリデン基、フェニルメチレ
ン基、ジフェニルメチレン基、シクロペンチリデン基お
よびシクロへキシリデン基が挙げられる。X基中のR4
がアルキル基の場合は、好ましくは炭素数が1ないし6
であるアルキル基で、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基またはヘキシル基であり;シクロヘキ
シル基の場合は好ましくはシクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基であり;アリール基の場合は好ましくはフ
ェニル基であり;アラルキル基の場合は好ましくはベン
ジル基である。Xで最も好ましいものはメチレン基であ
る。
あるアルキリデン基である。アルキリデン基およびシク
ロヘキシル基の例としては、エチリデン基、プロピリデ
ン基、ブチリデン基、ヘキシリデン基、フェニルメチレ
ン基、ジフェニルメチレン基、シクロペンチリデン基お
よびシクロへキシリデン基が挙げられる。X基中のR4
がアルキル基の場合は、好ましくは炭素数が1ないし6
であるアルキル基で、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基またはヘキシル基であり;シクロヘキ
シル基の場合は好ましくはシクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基であり;アリール基の場合は好ましくはフ
ェニル基であり;アラルキル基の場合は好ましくはベン
ジル基である。Xで最も好ましいものはメチレン基であ
る。
R2が6員の炭素環芳香族でフッ素置換された基は、イ
ンデン基、インダン基、フルオレン基、ナフタレン基お
よび好ましくはフェニル基である。オルト位がともにフ
ッ素で置換されたものが好ましい。例としては4,6−
ジフルオロインデニル(−5)基、5,7−ジフルオロ
インダニル(−6)基、2,4−ジフルオロフルオレニ
ル(−3)基、1,3−ジフルオロナフチル(−2)基
および好ましくは2.6−ジフルオロフェニル(−1)
基が挙げられる。
ンデン基、インダン基、フルオレン基、ナフタレン基お
よび好ましくはフェニル基である。オルト位がともにフ
ッ素で置換されたものが好ましい。例としては4,6−
ジフルオロインデニル(−5)基、5,7−ジフルオロ
インダニル(−6)基、2,4−ジフルオロフルオレニ
ル(−3)基、1,3−ジフルオロナフチル(−2)基
および好ましくは2.6−ジフルオロフェニル(−1)
基が挙げられる。
R2が5貝の複素環芳香族基の場合は1個のへテロ原子
を含むものが好ましく、6員の複素環芳香族基の場合は
、1または2個のへテロ原子を含むものが好ましい。こ
れらの基で2個のフッ素により置換された基の例として
は、2,4−ジフルオロピロリル(−3)基、2,4−
ジフルオロフリル(−3)基、2.4−ジフルオロチオ
フェニル(−3)基、2.4−ジフルオロチオフェニル
(−3)基、2.4−ジフルオロピリジル(−3)基、
3゜5−ジフルオロピリジル(−4)基および4゜6−
ジフルオロピリミジニル(−5)基が挙げられる。
を含むものが好ましく、6員の複素環芳香族基の場合は
、1または2個のへテロ原子を含むものが好ましい。こ
れらの基で2個のフッ素により置換された基の例として
は、2,4−ジフルオロピロリル(−3)基、2,4−
ジフルオロフリル(−3)基、2.4−ジフルオロチオ
フェニル(−3)基、2.4−ジフルオロチオフェニル
(−3)基、2.4−ジフルオロピリジル(−3)基、
3゜5−ジフルオロピリジル(−4)基および4゜6−
ジフルオロピリミジニル(−5)基が挙げられる。
R2およびR1かいっしょになって式(m)で表わされ
る基の場合は、例えば、下記の基が挙げられる。
る基の場合は、例えば、下記の基が挙げられる。
式中、EはOlSまたはNH基基或式nu)および前記
の式中のYは、好ましくはメチレン基、エチリデン基、
プロピリデン基、直接結合、Sまたは0である。
の式中のYは、好ましくはメチレン基、エチリデン基、
プロピリデン基、直接結合、Sまたは0である。
R2基は一部または全部がさらに置換されることもでき
る。このための置換基として適当なものは、炭素数が1
ないし18、好ましくは1ないし6である直鎖または枝
分かれ鎖のアルキル基またはアルコキシ基、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基およびこれらに対応するアルコキシ基である
が、好ましくはメチル基およびメトキシ基であり;好ま
しくは5員または6員環炭素原子を含むシクロアルキル
基、好ましくは炭素数が6ないし16であるアリール基
および好ましくは炭素数が7ないし16であるアラルキ
ル基、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、フ
ェニル基またはベンジル基であり;ヒドロキシル基、カ
ルボキシル基、CN基、フッ素、塩素または臭素のよう
なハロゲン原子、およびアミノ基、好ましくは塩素メチ
ル、臭化メチルまたはヨウ化メチルのようなハロゲン化
アルキルで第四級化できる第三級アミノ基で、アミノ基
の例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジル基、ヒペ
リジル基、ピペラジル基、モルホルニル基、N−メチル
ピペラジル基であり;アルコキシ部分の炭素数が好まし
くは工ないし18、最も好ましくは1ないし6であるア
ルコキシカルボニル基、アミノ基中に1個または2個の
C1〜C02アルキル基を含むアミノカルボニル基、ま
たはピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、N−メチル
ピペラジンおよびホルホリンのような複素環アミンを含
むアミノカルボニル基であり;アミノアルキル基、とく
に好ましくは01〜CGアルキル基を含みかつハロゲン
化アルキルで第四級化できるアミノアルキル基、最も好
ましくはC4〜C12アルキル基で置換できる第三級ア
ミノアルキル基で、例えばジメチルアミノメチル基およ
びヨウ化トリメチルアンモニウムメチル基である。
る。このための置換基として適当なものは、炭素数が1
ないし18、好ましくは1ないし6である直鎖または枝
分かれ鎖のアルキル基またはアルコキシ基、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基およびこれらに対応するアルコキシ基である
が、好ましくはメチル基およびメトキシ基であり;好ま
しくは5員または6員環炭素原子を含むシクロアルキル
基、好ましくは炭素数が6ないし16であるアリール基
および好ましくは炭素数が7ないし16であるアラルキ
ル基、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、フ
ェニル基またはベンジル基であり;ヒドロキシル基、カ
ルボキシル基、CN基、フッ素、塩素または臭素のよう
なハロゲン原子、およびアミノ基、好ましくは塩素メチ
ル、臭化メチルまたはヨウ化メチルのようなハロゲン化
アルキルで第四級化できる第三級アミノ基で、アミノ基
の例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジル基、ヒペ
リジル基、ピペラジル基、モルホルニル基、N−メチル
ピペラジル基であり;アルコキシ部分の炭素数が好まし
くは工ないし18、最も好ましくは1ないし6であるア
ルコキシカルボニル基、アミノ基中に1個または2個の
C1〜C02アルキル基を含むアミノカルボニル基、ま
たはピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、N−メチル
ピペラジンおよびホルホリンのような複素環アミンを含
むアミノカルボニル基であり;アミノアルキル基、とく
に好ましくは01〜CGアルキル基を含みかつハロゲン
化アルキルで第四級化できるアミノアルキル基、最も好
ましくはC4〜C12アルキル基で置換できる第三級ア
ミノアルキル基で、例えばジメチルアミノメチル基およ
びヨウ化トリメチルアンモニウムメチル基である。
R3がフェニルアルキニル基の場合の置換基の例として
は、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲン原子、第
三級アミノ基、C0〜CGアルキル基およびC1〜C6
アルコキシ基、カルボキシル基、OH基およびCN基で
ある。
は、フッ素、塩素または臭素のようなハロゲン原子、第
三級アミノ基、C0〜CGアルキル基およびC1〜C6
アルコキシ基、カルボキシル基、OH基およびCN基で
ある。
R1は好ましくはR2と同じ定義を有するものである。
かかる化合物は、参考としてここに組み入れた米国特許
筒4,590,287号に記載されている。
筒4,590,287号に記載されている。
下記の構造式を有するビス−ペンタフルオロフェニルビ
ス−シクロペンタジェニルチタナート が同じ目的のためのカンファーキノンより反応性の高い
、光硬化性歯科用組成物の非常に反応性の開始剤である
ことを見出した。ビス−ペンタフルオロフェニルビス−
シクロペンタジェニルチタナートは深部硬化性を増大す
る漂白効果を有し、すなわちビス−ペンタフルオロフェ
ニルビス−シクロペンタジェニルチタナート(PFT)
は、360〜600nmの波長の光線で照射されると漂
白される黄/橙色を有し、これが透明になることによっ
て深部硬化を高めるものである。
ス−シクロペンタジェニルチタナート が同じ目的のためのカンファーキノンより反応性の高い
、光硬化性歯科用組成物の非常に反応性の開始剤である
ことを見出した。ビス−ペンタフルオロフェニルビス−
シクロペンタジェニルチタナートは深部硬化性を増大す
る漂白効果を有し、すなわちビス−ペンタフルオロフェ
ニルビス−シクロペンタジェニルチタナート(PFT)
は、360〜600nmの波長の光線で照射されると漂
白される黄/橙色を有し、これが透明になることによっ
て深部硬化を高めるものである。
ビス−ペンタフルオロフェニルビス−シクロペンタジェ
ニルチタナート(PFT)はチバガイギー社からMR−
97として市販されている。ビス−ペンタフルオロフェ
ニルビスペンタジェニルチタナートはアミン促進剤と併
用し、あるいは併用することなく約360〜600nm
で光開始剤として作用することを見出した。
ニルチタナート(PFT)はチバガイギー社からMR−
97として市販されている。ビス−ペンタフルオロフェ
ニルビスペンタジェニルチタナートはアミン促進剤と併
用し、あるいは併用することなく約360〜600nm
で光開始剤として作用することを見出した。
歯科分野で通常使用される樹脂系を光重合させるための
可視光線照射に対するPFTの活性はカンファーキノン
(CQ)より大きい。
可視光線照射に対するPFTの活性はカンファーキノン
(CQ)より大きい。
PFTの組成物に対する添加量を種々に変えて試験した
が、PFTの添加量が0.15重量%のときの硬化深さ
は約7mmであったが、樹脂系が非常に黄色になること
がわかった。−般に組成物を硬化するのにCQが0.0
375重量%使用されているので、PFTの濃度を僅か
0.05重量%(これはCQの使用モル量に対し約27
5に当る)に減少させると、僅かに黄色の安定な組成物
が得られ、この組成物は、プリスメチック ライト(P
RISMETICLight) (商標)装置で照射し
た場合、CQを単独で用いたと匹敵する系より遥かに優
れた深部硬化性を示した(いずれの系もアミン還元剤は
使用しなかった)、すなわち、 PFTO105重量%
の硬化深さは3〜5mmであるが、CQo、0375重
量%の硬化深さは僅か1〜2mmである。共出願中のA
ttorneyDocketの1590号(参照するこ
とによってここにその内容を組み入れた)に記載されて
いる過酸化物やホスホナート開始剤のような別の光硬化
開始剤と併用すると、PFTは、0.0125重量%と
いう低濃度でも効果のあることがわかった。
が、PFTの添加量が0.15重量%のときの硬化深さ
は約7mmであったが、樹脂系が非常に黄色になること
がわかった。−般に組成物を硬化するのにCQが0.0
375重量%使用されているので、PFTの濃度を僅か
0.05重量%(これはCQの使用モル量に対し約27
5に当る)に減少させると、僅かに黄色の安定な組成物
が得られ、この組成物は、プリスメチック ライト(P
RISMETICLight) (商標)装置で照射し
た場合、CQを単独で用いたと匹敵する系より遥かに優
れた深部硬化性を示した(いずれの系もアミン還元剤は
使用しなかった)、すなわち、 PFTO105重量%
の硬化深さは3〜5mmであるが、CQo、0375重
量%の硬化深さは僅か1〜2mmである。共出願中のA
ttorneyDocketの1590号(参照するこ
とによってここにその内容を組み入れた)に記載されて
いる過酸化物やホスホナート開始剤のような別の光硬化
開始剤と併用すると、PFTは、0.0125重量%と
いう低濃度でも効果のあることがわかった。
PFTと過酸化物を併用することにより、後硬化系が得
られることを見出した。すなわち、可視光線で初期照射
を行なうと、初期硬化が行なわれるが、光源を取り去っ
てからも深部での硬化が続くものである。例えば、微粉
末バリウム無機ガラス75重量%とPFTO115重量
%およびクメンヒドロペルオキシド0.25重量% を
含む樹脂25重量%を含む複合系に、プリスメチックラ
イト装置で10秒間照射すると初期硬化の深さは4.9
mmとなる。この試験片を24時間以後に試験すると、
硬化深さは12mmであった。過酸化ベンゾイル(直接
添加しても無機ガラス充填材に被覆くしてもいずれでも
よい)、過安息香酸t−ブチル、過マレイン酸(過エス
テル)等のようなその他の過酸化物も同じく効果がある
と思われる。別の実施例としてPPT 0.2重量%
、ベンゾインメチルエーテル0.8重量%および過酸化
ベンゾイル(BPO)1%で被覆したバリウムガラスを
含む系は、初期硬化の深さが7.7mmで、後硬化の深
さが11.2mm(硬化深さを測定するための型の最大
深さ)となった。
られることを見出した。すなわち、可視光線で初期照射
を行なうと、初期硬化が行なわれるが、光源を取り去っ
てからも深部での硬化が続くものである。例えば、微粉
末バリウム無機ガラス75重量%とPFTO115重量
%およびクメンヒドロペルオキシド0.25重量% を
含む樹脂25重量%を含む複合系に、プリスメチックラ
イト装置で10秒間照射すると初期硬化の深さは4.9
mmとなる。この試験片を24時間以後に試験すると、
硬化深さは12mmであった。過酸化ベンゾイル(直接
添加しても無機ガラス充填材に被覆くしてもいずれでも
よい)、過安息香酸t−ブチル、過マレイン酸(過エス
テル)等のようなその他の過酸化物も同じく効果がある
と思われる。別の実施例としてPPT 0.2重量%
、ベンゾインメチルエーテル0.8重量%および過酸化
ベンゾイル(BPO)1%で被覆したバリウムガラスを
含む系は、初期硬化の深さが7.7mmで、後硬化の深
さが11.2mm(硬化深さを測定するための型の最大
深さ)となった。
さらにアシルフェニルホスホナート[すなわち共出願1
590号のルセリン型(Lucerin−type)材
料]も前記の組成物と両立することができ、さらに効果
的である。例えば、1%のBPOを被覆したバリウムボ
ロアルミニウムシリカガラス75%、樹脂23.4%、
PFTo、6%、ルセリン(Lucerin 、ルシフ
ェリン(Luciferine) ) 1%を含む複合
系は、ブリスメチックライト装置で10秒間照射すると
初期の硬化深さは5.0mmであったが、−度反応が開
始すると照射光線を取り除いても硬化を続け、後硬化で
硬化深さ 9 、0 m mとなった(24時間後測定
)。
590号のルセリン型(Lucerin−type)材
料]も前記の組成物と両立することができ、さらに効果
的である。例えば、1%のBPOを被覆したバリウムボ
ロアルミニウムシリカガラス75%、樹脂23.4%、
PFTo、6%、ルセリン(Lucerin 、ルシフ
ェリン(Luciferine) ) 1%を含む複合
系は、ブリスメチックライト装置で10秒間照射すると
初期の硬化深さは5.0mmであったが、−度反応が開
始すると照射光線を取り除いても硬化を続け、後硬化で
硬化深さ 9 、0 m mとなった(24時間後測定
)。
硬化深さと後硬化を増進させるためアミン還元剤も有効
である。組成物にジケト開始剤を使用した場合、とくに
アミンが有用である。
である。組成物にジケト開始剤を使用した場合、とくに
アミンが有用である。
複合組成物にプロトン供与化合物を添加すると、開始剤
としてPFTのみ使用した同様の組成物や開始剤系とし
てPFTとLRとを併用した組成物と比較すると硬化深
さが向上する。組成物に添加使用することができる好ま
しいプロトン供与化合物のうちには酸があリ、より好ま
しいものは有機酸である。組成物に使用することができ
る有機酸の例としては、3.5−ビス−(トリフルオロ
ミメル)安息香酸(BFA)およびp−トルエンスルホ
ン酸(PTSA)がある。
としてPFTのみ使用した同様の組成物や開始剤系とし
てPFTとLRとを併用した組成物と比較すると硬化深
さが向上する。組成物に添加使用することができる好ま
しいプロトン供与化合物のうちには酸があリ、より好ま
しいものは有機酸である。組成物に使用することができ
る有機酸の例としては、3.5−ビス−(トリフルオロ
ミメル)安息香酸(BFA)およびp−トルエンスルホ
ン酸(PTSA)がある。
その他のプロトン供与化合物の適当なものは当業者にと
って明らかであろう。
って明らかであろう。
PFTは、NCO/ TEGMA樹脂混合物を使用した
場合にとくにその効果が明らかとなる。NCO// T
EGMAは共出願中の出願番号040.636に記載さ
れ、米国特許第4,514,174号にその使用が説明
されている樹脂混合物であり、NGOlすなわちヘキサ
メチレンジイソシアナート(HMDI)と、ビス−〇M
Aすなわちとの反応生成物と、トリエチレングリコール
ジメタクリレート(TEGDM)の混合物を含むもので
ある。PFTは単独で開始剤として有効であるが、カン
ファーキノンおよびアミンを併用した場合は、開始剤と
してカンファーキノンおよび促進剤としてアミノのみを
使用する匹敵する系よりも、深部硬化ならびに転換率が
相乗的に向上することがわかった。
場合にとくにその効果が明らかとなる。NCO// T
EGMAは共出願中の出願番号040.636に記載さ
れ、米国特許第4,514,174号にその使用が説明
されている樹脂混合物であり、NGOlすなわちヘキサ
メチレンジイソシアナート(HMDI)と、ビス−〇M
Aすなわちとの反応生成物と、トリエチレングリコール
ジメタクリレート(TEGDM)の混合物を含むもので
ある。PFTは単独で開始剤として有効であるが、カン
ファーキノンおよびアミンを併用した場合は、開始剤と
してカンファーキノンおよび促進剤としてアミノのみを
使用する匹敵する系よりも、深部硬化ならびに転換率が
相乗的に向上することがわかった。
ここに使用されるアミンは、光硬化性組成物の促進剤と
して使用される当該分野で既知の任意のアミンであるこ
とができる。このようなアミンで好ましいものは1ない
し3個の置換基を有し、さらに好ましいものは、低級ア
ルキル基、アシル基、アリール基、エステル基または低
級アルキルエステル基から選ばれた置換基を有する第三
級アミンである。
して使用される当該分野で既知の任意のアミンであるこ
とができる。このようなアミンで好ましいものは1ない
し3個の置換基を有し、さらに好ましいものは、低級ア
ルキル基、アシル基、アリール基、エステル基または低
級アルキルエステル基から選ばれた置換基を有する第三
級アミンである。
ここに使用される低級アルキル基とは炭素数が1ないし
12である飽和または不飽和炭素鎖のものであり、アリ
ール基は炭素数が6ないし12のものであり、アシル基
およびエステル基は炭素数が1ないし12であり、アリ
ール置換基を有することができる。
12である飽和または不飽和炭素鎖のものであり、アリ
ール基は炭素数が6ないし12のものであり、アシル基
およびエステル基は炭素数が1ないし12であり、アリ
ール置換基を有することができる。
ここに使用されているr複素環」基とは、Cと、N、○
、S、Si、Seおよびこれら混合物から選ばれたベテ
ロ原子とを有する5ないし7員芳香族環または非芳香族
環を示すものである。より好ましいものは炭素と、N。
、S、Si、Seおよびこれら混合物から選ばれたベテ
ロ原子とを有する5ないし7員芳香族環または非芳香族
環を示すものである。より好ましいものは炭素と、N。
O9Sまたはこれらの混合物を含む環である。
より硬化度の高いベンゾイルPFTを含む樹脂および複
合材は、ヌープ硬度が大で1曲げ強さが向上し、溶解パ
ラメータを変化させて耐溶剤性が良好になる。PFTを
用いた組成物は、優れた深部硬化性を示し、これにより
複合樹脂が改善されて、希望する性質を充たすようにな
る。
合材は、ヌープ硬度が大で1曲げ強さが向上し、溶解パ
ラメータを変化させて耐溶剤性が良好になる。PFTを
用いた組成物は、優れた深部硬化性を示し、これにより
複合樹脂が改善されて、希望する性質を充たすようにな
る。
これら性質を下記の表で説明する。
第1表は、バリウムガラス75重量%を充填した前記の
樹脂(NGO/TEGMA)25重量%を含む複合材に
、PFTの添加モル量を変化させて得られた硬化深さ(
D OC)と、開始剤としてカンファーキノン(CQ)
を用いた同じ複合材とを比較するものである。複合材の
各試料はプリスメチックライトを用いて10秒問および
40秒間照射して後試験した。
樹脂(NGO/TEGMA)25重量%を含む複合材に
、PFTの添加モル量を変化させて得られた硬化深さ(
D OC)と、開始剤としてカンファーキノン(CQ)
を用いた同じ複合材とを比較するものである。複合材の
各試料はプリスメチックライトを用いて10秒問および
40秒間照射して後試験した。
第1表によれば、カンファーキノンと比較するとPFT
は遥かに少ないモル量で、開始剤として有効であること
を示している。
は遥かに少ないモル量で、開始剤として有効であること
を示している。
硬化深さ(DOC)は、直方体の型(2,5X3.5X
10mm)内に詰めた複合材をプリスメチックライトで
40秒間照射して測定した。
10mm)内に詰めた複合材をプリスメチックライトで
40秒間照射して測定した。
硬化深さを調べるために、試験を型から脱型する。直方
体試験片の下部から未硬化複合材を取り除き、底面の硬
さを測定する。この底面の硬さが、はぼ許容される硬化
を示す値である70になるまでさらに下部の未硬化の軟
かい複合材を取り除く。
体試験片の下部から未硬化複合材を取り除き、底面の硬
さを測定する。この底面の硬さが、はぼ許容される硬化
を示す値である70になるまでさらに下部の未硬化の軟
かい複合材を取り除く。
複合材中の
PFTの重量%
第1表
モル量
硬化の深さ(mm)
10秒後
40秒後
0.025
0.05
0.1
0.15
0.04849 0
0.09765 3.8
0.1953 4.3
0.29295 4.0
3.5
5.9
5.9
5.0
cqの重量2
0.0375
0.2259 0 1.5
(光活性24時間後に測定) 第2表はPFTの量を変えたときの転換率と、CQによ
る転換率とを比較したものである。第2表によると、P
FTで得た転換率%と等しい転換率をCQで得るには、
約5倍のモル量が必要なことを示している。第2表はま
たPFTとBP○、PFTとルセリン(LR)およびP
FTとEDABを併用すると転換率が向上することも示
している。
(光活性24時間後に測定) 第2表はPFTの量を変えたときの転換率と、CQによ
る転換率とを比較したものである。第2表によると、P
FTで得た転換率%と等しい転換率をCQで得るには、
約5倍のモル量が必要なことを示している。第2表はま
たPFTとBP○、PFTとルセリン(LR)およびP
FTとEDABを併用すると転換率が向上することも示
している。
転換率は樹脂薄膜についてフーリエ変換赤外分光(FT
IR)を用いて測定した。薄膜をマイラー(Mylar
)シート間に形成させ、プリスメチックライトで10秒
間照射し、照射後乾燥炉に24時間放置して後硬化を完
全に行なわせて後赤外分光測定を行なった。
IR)を用いて測定した。薄膜をマイラー(Mylar
)シート間に形成させ、プリスメチックライトで10秒
間照射し、照射後乾燥炉に24時間放置して後硬化を完
全に行なわせて後赤外分光測定を行なった。
二重結合転換率を計算する際、1637波数におけるビ
ニル吸収の減少を検量するため、内部基準として約33
50波数におけるウレタン吸収を用いた。
ニル吸収の減少を検量するため、内部基準として約33
50波数におけるウレタン吸収を用いた。
エチル−4−(N、N−ジメチルアミノベンゾエート)
(EDAB) を促進剤として使用した。百分率は重量%である。試験
結果によれば、アミン促進剤を使用すると単量体の転換
率が向上していることを示している。
(EDAB) を促進剤として使用した。百分率は重量%である。試験
結果によれば、アミン促進剤を使用すると単量体の転換
率が向上していることを示している。
第2表
CQ単独
0.0375
0.075
PFT
0.05
0.05 + B P○ガラス 65(
ガラス上に1%BPO 複合材中に0.75%) 0.05 +LR1% 75(複合材
中に0.25%) 0.05 +EDAB 0.8% 66
(複合材中に0.20%) 測定不能 0.2259 0.4518 0.09765 第2表の結果から、継続中の米国特許出願第1590号
(参照することによってその内容をここに組み入れた)
で説明したようにPFTとルセリンとを併用すると転換
率を向上させ得ることを示唆している。
ガラス上に1%BPO 複合材中に0.75%) 0.05 +LR1% 75(複合材
中に0.25%) 0.05 +EDAB 0.8% 66
(複合材中に0.20%) 測定不能 0.2259 0.4518 0.09765 第2表の結果から、継続中の米国特許出願第1590号
(参照することによってその内容をここに組み入れた)
で説明したようにPFTとルセリンとを併用すると転換
率を向上させ得ることを示唆している。
第3表は、表中に説明したように2種類の異なった複合
組成物のヌープ硬度(KHN)を示すものである。第3
表によれば、従来のカンファーキノン/アミン系にPF
Tを添加すると、試料のより深いところまでヌープ硬度
が向上していることを示している。
組成物のヌープ硬度(KHN)を示すものである。第3
表によれば、従来のカンファーキノン/アミン系にPF
Tを添加すると、試料のより深いところまでヌープ硬度
が向上していることを示している。
ヌープ硬度とは、前記のように長方形の型内で硬化させ
た試験片表面に沿って各0.5mm毎にケントロンミク
ロ(Kentron Micro)硬度計によってヌー
プ硬度を測定して得たものである。ヌープ硬度は硬化の
深さ副室法と同様にしているいろな深さで測定される。
た試験片表面に沿って各0.5mm毎にケントロンミク
ロ(Kentron Micro)硬度計によってヌー
プ硬度を測定して得たものである。ヌープ硬度は硬化の
深さ副室法と同様にしているいろな深さで測定される。
プリスマ(PRISMA)ライト(商標)およびプリス
メチックスライト(PRISMETIC3Lights
)を使用して硬化を行なった。両者ともデンツプライ
インターナショナル社(D entsplyInter
national Inc、)のり、D、コーク(Ca
ulk)の製品である。
メチックスライト(PRISMETIC3Lights
)を使用して硬化を行なった。両者ともデンツプライ
インターナショナル社(D entsplyInter
national Inc、)のり、D、コーク(Ca
ulk)の製品である。
第
NGO/TE GDMA
充填材(ガラス)
PFT(樹脂部分として)
CQ(樹脂部分として)
HDAf3 (樹脂部分として)
深さ(Q、5mm毎)
0.5
1.0
1.5
2.0
2.5
3.0
3.5
4.0
4.5
5.0
3表
o、os o、。
O,03750,0375
0,2000,200
」刃■違力]工LKH恒遣/cm’σ
本発明組成物に微量の金属イオンを添加すると硬化効率
を助けることも見出した6例えば、+2状態の銅または
その他のレドックス金属イオンも有用である。
を助けることも見出した6例えば、+2状態の銅または
その他のレドックス金属イオンも有用である。
第4表は、PFT、PFTとLR,およびPFTとLR
に過酸化物、アミンおよびブチル化ヒドロキシトルエン
(BHT)をそれぞれ併用した組成物と、同様の組成物
に酸を加えた組成物との硬化の深さを比較したもので、
酸添加により硬化がより深くなっていることを示してい
る。試験した各組成物のヌープ硬度は、複合材の表面か
ら 0.5ないし5mmの深さで測定し、測定結果を第
4表の右側の行に示しである。複合材の樹脂、充填材、
その他の成分は第4表左側の縦の列に示しである。
に過酸化物、アミンおよびブチル化ヒドロキシトルエン
(BHT)をそれぞれ併用した組成物と、同様の組成物
に酸を加えた組成物との硬化の深さを比較したもので、
酸添加により硬化がより深くなっていることを示してい
る。試験した各組成物のヌープ硬度は、複合材の表面か
ら 0.5ないし5mmの深さで測定し、測定結果を第
4表の右側の行に示しである。複合材の樹脂、充填材、
その他の成分は第4表左側の縦の列に示しである。
微粉のレイソーブ(Raysorb)は、3〜5μmに
微粉砕したバリウムボロンアルミニウム石英ガラスであ
る。
微粉砕したバリウムボロンアルミニウム石英ガラスであ
る。
表中BMEはベンゾインメチルエーテルである。
BPO
BPO
,00
第
表
(続)
4.4
15.0
14.0
49.6
40.3
10.3
51.6
33.8
11.4
5.0
49.4
38.6
19.6
11.1
(続)
15.2
13.3
11.1
10.9
FT
HT
R
,07
,002
、OO
6,70
5,20
5,40
FT
HT
R
,002
,2午
PO
45,2
41,4
18,4
17,9
17,1
FT
HT
R
HP
45.2
22.3
15.0
9.7
FT
R
PO
(続)
32.0
35.0−
41.0
42.0
43.0
FT
R
FA
HP
39.6
24.0
11.0
5.0
FT
ME
R
BP○
22.0
16.0
11.0
8.5
FT
ME
−EDAB
43.8
43.8
18.4
FT
R
HT
ブチル化ヒドロキシトルエン
開始剤としてPFTを単独使用したものは、複合材のヌ
ープ硬度は測定不能であった(実施例1および2)。こ
れに対し、ペンタおよびPTSAを使用し、その他は同
様の複合材では、2,3および4 m mでの深さの硬
化が進んでいる(実施例4および5)。同様の結果が、
実施例10および11(酸を含む)と実施例7および8
(酸を含まない組成)との比較;さらに実施例12およ
び13(酸を含む)と実施例7および8(酸がBHTに
置き代えられている)との比較でも見られる。
ープ硬度は測定不能であった(実施例1および2)。こ
れに対し、ペンタおよびPTSAを使用し、その他は同
様の複合材では、2,3および4 m mでの深さの硬
化が進んでいる(実施例4および5)。同様の結果が、
実施例10および11(酸を含む)と実施例7および8
(酸を含まない組成)との比較;さらに実施例12およ
び13(酸を含む)と実施例7および8(酸がBHTに
置き代えられている)との比較でも見られる。
本発明の実施態様および本発明を実施する方法を説明し
記載したが、本発明の特許請求の範囲内で、当業者は本
発明を別の種々の方式で具体化し実施しうろことを認識
するであろう。
記載したが、本発明の特許請求の範囲内で、当業者は本
発明を別の種々の方式で具体化し実施しうろことを認識
するであろう。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも1種類のオレフィン系不飽和単量体と式
( I )で表わされるチタナートを含む触媒とを含んで
いる歯科用光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Mはチタン原子、R_1はシクロペンタジエニ
ル基、インデニル基または炭素数が1ないし6であるア
ルキル基で置換されたシクロペンタジエニル基、R_2
およびR_3はそれぞれが同一基であり、それぞれが金
属−炭素結合に対して2個のオルト位のうち少なくとも
1個はフッ素原子により置換されているフェニル基であ
るか、またはR_2およびR_3はいっしよになって式
(III) −Q−Y−Q−(III) で表わされる基であって、Qはフェニレン環で、その2
個の結合はY基に対してそれぞれオルト位にあり、かつ
Y基に対してメタ位はそれぞれフッ素原子で置換されて
いるか;あるいはR_2およびR_3の前記のフェニル
環およびQのフェニレン環はさらにハロゲン原子;非置
換アミノ基または炭素数が1ないし2であるアルキル基
で置換されたアミノ基もしくは炭素数が12までのハロ
ゲン化アルキルで第四級化されたアミノ基;ピロリジノ
基;ピペリジノ基;ピペラジノ基;モルホリノ基;N−
メチルピペラジノ基;またはアミノ基が、非置換アミノ
基か、炭素数が12までのアルキル基で置換されたアミ
ノ基か、炭素数が12までのハロゲン化アルキルで第四
級化されたアミノ基である炭素数が6までのアミノアル
キル基によって置換されており、Yは、メチレン基、エ
チリデン基、プロピリデン基、直接結合、酸素または硫
黄原子であるが、R_2およびR_3がいずれもペンタ
フルオロフェニル基の場合は、R_1は炭素数が1ない
し6であるアルキル基で置換されたシクロペンタジエニ
ル基である。) 2、前記式( I )中のR_2およびR_3が、非置換
または置換2,6−ジフルオロフェニル基であるか、ま
たはR_2およびR_3は、いっしょになって式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる非置換または置換された基である請求項1
記載の組成物。 3、前記式( I )中のR_2およびR_3が、同一の
基を有する請求項1記載の組成物。 4、前記式( I )中のR_2およびR_3が、さらに
1ないし3個の置換基を有する2,6−ジフルオロフェ
ニル基である請求項3記載の組成物。 5、前記式( I )中のR_1が、シクロペンタジエニ
ル基か、C_1〜C_4アルキル基置換シクロペンタジ
エニル基であり、R_2およびR_3が式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_5、R_6およびR_7は、それぞれが独
立的に水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、第
三級アミノ基、第三級アミノアルキル基、第四級アンモ
ニウム基または第四級アンモニウムアルキル基であり、
ただし、フッ素原子の場合は、R_5、R_6およびR
_7のうちの2個のみである。) で表わされる基である請求項1記載の組成物。 6、前記式( I )中のR_6がフッ素原子でR_6が
水素原子、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子であ
って、R_7が水素原子、塩素原子、または臭素原子で
あるか、あるいはR_5およびR_7が水素原子、フッ
素原子、塩素原子、または臭素原子であり、R_6が水
素原子、塩素原子、臭素原子、第三級アミノ基、第三級
アミノアルキル基、第四級アンモニウム基または第四級
アンモニウムアルキル基である請求項5記載の組成物。 7、前記のチタナートが、ビス−ペンタフルオロフェニ
ル−ビス−シクロペンタジエニルチタナートである請求
項1記載の組成物。 8、過酸化物を含む請求項1記載の組成物。 9、前記単量体が、少なくとも1種類のアクリル酸エス
テルまたはメタアクリル酸エステルを含む請求項1記載
の組成物。 10、第三級アミノを含む請求項1記載の組成物。 11、前記の組成物が微粉の無機充填剤を含む請求項1
記載の組成物。 12、修復準備した歯に適用することにより歯を処置す
る請求項1記載の組成物の使用。13、ビシナルジケト
ンとアミンとを含む触媒系を含んでいる請求項1記載の
組成物。 14、前記のビシナルジケトンがカンファーキノンであ
る請求項13記載の組成物。 15、アシルフェニルホスフェートを含む請求項1記載
の組成物。 16、歯科用樹脂材料を硬化する方法において、 (a)少なくとも1種類のオレフィン系不飽和単量体と
式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Mは4価のチタン原子、R_1はシクロペンタ
ジエニル基、インデニル基または炭素数が1ないし6で
あるアルキル基で置換されたシクロペンタジエニル基、
R_2およびR_3はそれぞれが同一基であり、それぞ
れが金属−炭素結合に対して2個のオルト位のうち少な
くとも1個はフッ素原子により置換されているフェニル
基であるか、または R_2およびR_3はともに式(
III) −Q−Y−Q(III) で表わされる基であって、Qはフェニレン環で、その2
個の結合は、Y基に対してそれぞれオルト位にあり、か
つYに対してメタ位はそれぞれフッ素原子で置換されて
いるか;あるいはR_2およびR_3のフェニル環およ
びQのフェニレン環はさらにハロゲン原子;非置換アミ
ノ基または炭素数が1ないし2であるアルキル基で置換
されたアミノ基もしくは炭素数が12までのハロゲン化
アルキルで第四級化されたアミノ基;ピロリジノ基;ピ
ペリジノ基;ピペラジノ基;モルホリノ基;N−メチル
ピペラジノ基;またはアミノ基 が、非置換アミノ基か、炭素数が12までのアルキル基
で置換されたアミノ基か、炭素数が12までのハロゲン
化アルキルで第四級化されたアミノ基である炭素数が6
までのアミノアルキル基によって置換されており、Yは
、メチレン基、エチリデン基、プロピリデン基、直接結
合、酸素または硫黄原子であるが、R_2とR_3がい
ずれもペンタフルオロフェニル基の場合は、R_1は炭
素数が1ないし6であるアルキル基により置換されたシ
クロペンタジエニル基である。)で表わされるチタナー
トを含む触媒との有効量を前記樹脂材料に含め、 (b)前記樹脂材料に可視波長範囲の光化学作用をもつ
光を適用することを特徴とする方法。 17、開始剤としてビス−ペンタフルオロフェニルビス
−シクロペンタジエニルチタナートを使用する工程を含
む請求項16記載の方法。 18、共開始剤として、過酸化物を使用する工程を含む
請求項17記載の方法。 19、共開始剤として、アシルフェニルホスホナートを
使用する工程を含む請求項17記載の方法。 20、共開始剤として、ビシナルジケトンを使用する工
程を含む請求項17記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17338888A | 1988-03-24 | 1988-03-24 | |
US173,388 | 1988-03-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH024705A true JPH024705A (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=22631784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1070726A Pending JPH024705A (ja) | 1988-03-24 | 1989-03-24 | 光硬化性組成物用チタナート開始剤 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0334338A3 (ja) |
JP (1) | JPH024705A (ja) |
Cited By (134)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0726498A1 (en) | 1995-02-10 | 1996-08-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
JP2001316416A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-13 | Nippon Paint Co Ltd | 光重合性組成物および光重合性パテ組成物 |
EP1614537A1 (en) | 2004-07-07 | 2006-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
EP1621341A2 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1621338A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1630618A2 (en) | 2004-08-24 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1630602A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor |
EP1637324A2 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color image-forming material and lithographic printing plate precursor |
EP1669195A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing method |
EP1685957A2 (en) | 2005-01-26 | 2006-08-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors |
EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
EP1728838A1 (en) | 2005-05-31 | 2006-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same |
EP1755002A2 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate |
EP1754597A2 (en) | 2005-08-19 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process |
EP1829683A2 (en) | 2006-03-01 | 2007-09-05 | FUJIFILM Corporation | On-press development and printing method and printing apparatus |
WO2007105404A1 (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corporation | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
WO2007108367A1 (ja) | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Fujifilm Corporation | 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法 |
WO2007116565A1 (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corporation | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
EP1939244A2 (en) | 2006-12-27 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Laser-decomposable resin composition, and pattern-forming material and laser-engravable flexographic printing plate precursor using the same |
EP1939687A2 (en) | 2006-12-26 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1955858A1 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
EP1956428A2 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes |
EP1955850A2 (en) | 2007-02-07 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
EP1964893A1 (en) | 2007-02-26 | 2008-09-03 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set |
EP1973000A2 (en) | 2007-03-22 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Dipping-type automatic developing apparatus and method for lithographic printing plates |
EP1972440A2 (en) | 2007-03-23 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
EP1975706A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP1975160A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method |
EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
EP1975702A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device |
EP1975211A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and image recording method and image recorded matter using same |
EP1975701A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Color filter and method for producing the same |
EP1975213A1 (en) | 2006-07-03 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate |
EP1974914A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP1975710A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
EP1988136A1 (en) | 2007-03-01 | 2008-11-05 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
EP1992989A1 (en) | 2004-12-27 | 2008-11-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2006738A2 (en) | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP2006091A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-24 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method |
EP2036957A2 (en) | 2007-07-13 | 2009-03-18 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter, produced using the same, and solid state imaging device |
EP2039509A1 (en) | 2007-09-18 | 2009-03-25 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor |
EP2042312A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Processing method of lithographic printing plate precursor |
EP2042923A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Image-forming method and lithographic printing plate precursor |
EP2042311A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
EP2042243A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Coater and ink-jet recording device using the same |
EP2042335A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method |
EP2042928A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
EP2042924A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate |
EP2042572A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
EP2045662A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-08 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2048000A2 (en) | 2007-09-18 | 2009-04-15 | FUJIFILM Corporation | Plate making method of lithographic printing plate precursor |
EP2055476A2 (en) | 2007-10-29 | 2009-05-06 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2058123A2 (en) | 2007-11-08 | 2009-05-13 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate |
EP2070696A1 (en) | 2007-12-10 | 2009-06-17 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2078985A1 (en) | 2008-01-09 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Method for developing lithographic printing plate |
EP2078984A1 (en) | 2008-01-11 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
EP2082874A1 (en) | 2008-01-25 | 2009-07-29 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing relief printing plate and printing plate precursor for laser engraving |
EP2082875A1 (en) | 2008-01-22 | 2009-07-29 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
EP2085220A2 (en) | 2008-01-29 | 2009-08-05 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method of producing the same |
WO2009096452A1 (ja) | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Fujifilm Corporation | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタ及びその製造方法 |
EP2088176A1 (en) | 2008-02-07 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material |
EP2088468A1 (en) | 2008-02-06 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2090933A1 (en) | 2008-02-05 | 2009-08-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method |
EP2093265A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-26 | FUJIFILM Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
EP2095970A1 (en) | 2008-02-29 | 2009-09-02 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate |
EP2095947A1 (en) | 2008-02-28 | 2009-09-02 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
EP2100925A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative |
EP2101218A1 (en) | 2008-03-10 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2100731A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing |
WO2009113447A1 (ja) | 2008-03-10 | 2009-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
EP2103994A1 (en) | 2008-03-21 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Automatic processing apparatus for making lithographic printing plate |
EP2103993A1 (en) | 2008-03-21 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Automatic processing for making lithographic printing plate |
WO2009116434A1 (ja) | 2008-03-17 | 2009-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
EP2105478A1 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method and inkjet recording system |
EP2105800A2 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor |
EP2105298A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
EP2105795A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, image forming material, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
EP2105793A2 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Green curable composition, color filter and method of producing same |
WO2009119430A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
WO2009119687A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法 |
EP2106906A1 (en) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | FUJIFILM Corporation | Relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
WO2009123050A1 (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
WO2009122789A1 (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよび固体撮像素子 |
EP2109000A1 (en) | 2004-09-10 | 2009-10-14 | FUJIFILM Corporation | Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same |
EP2110261A2 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-21 | FUJIFILM Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP2112182A1 (en) | 2008-04-25 | 2009-10-28 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device |
EP2130881A1 (en) | 2008-06-02 | 2009-12-09 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion and ink composition using the same |
EP2145772A2 (en) | 2008-07-16 | 2010-01-20 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate |
EP2165829A1 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
EP2165830A1 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method using the same |
EP2166049A1 (en) | 2008-09-19 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article |
EP2169463A2 (en) | 2008-09-29 | 2010-03-31 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, color filter and method for producing the same |
EP2169021A1 (en) | 2008-09-25 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, and printed material |
EP2168767A1 (en) | 2008-09-24 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
DE112008000778T5 (de) | 2007-03-23 | 2010-04-08 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Wasserentwickelbares photoempfindliches Lithographiedruckplattenmaterial |
WO2010038836A1 (ja) | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフイルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウエハレベルレンズ、および撮像ユニツト |
WO2010038795A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
WO2010038625A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
EP2177357A2 (en) | 2008-08-29 | 2010-04-21 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
EP2216377A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-11 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
EP2216378A1 (en) | 2009-02-05 | 2010-08-11 | Fujifilm Corporation | Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article |
EP2230284A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
EP2230285A1 (en) | 2009-03-19 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
EP2236570A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method |
EP2246741A1 (en) | 2004-05-19 | 2010-11-03 | Fujifilm Corporation | Image recording method |
EP2298841A1 (en) | 2009-09-18 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
EP2311918A1 (en) | 2009-09-29 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
JP2011098944A (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Tokuyama Dental Corp | 歯科用充填修復材キット |
EP2366748A2 (en) | 2010-03-16 | 2011-09-21 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
WO2011122707A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device |
EP2388146A2 (en) | 2010-05-19 | 2011-11-23 | Fujifilm Corporation | Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition |
DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
WO2013099945A1 (ja) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2013099948A1 (ja) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
EP2618215A1 (en) | 2004-05-31 | 2013-07-24 | Fujifilm Corporation | Method for producing a lithographic printing plate |
EP2644664A1 (en) | 2012-03-29 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
WO2014104136A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2014104137A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2014136923A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法 |
EP2842763A2 (en) | 2013-08-30 | 2015-03-04 | Fujifilm Corporation | Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set |
EP3051349A1 (en) | 2003-07-29 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
EP3086177A1 (en) | 2005-02-28 | 2016-10-26 | Fujifilm Corporation | Method for preparing a lithographic printing place precursor |
EP3284599A1 (en) | 2004-01-09 | 2018-02-21 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
WO2018141644A1 (de) | 2017-01-31 | 2018-08-09 | Flint Group Germany Gmbh | Strahlungshärtbares gemisch enthaltend niedrig funktionalisiertes teilverseiftes polyvinylacetat |
WO2018177500A1 (de) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | Flint Group Germany Gmbh | Verfahren zur herstellung von bildhaften reliefstrukturen |
EP3431544A1 (en) | 2017-07-21 | 2019-01-23 | TSRC Corporation | Composition for preparing a foam, foam, and shoe employing the same |
WO2019110809A1 (de) | 2017-12-08 | 2019-06-13 | Flint Group Germany Gmbh | Verfahren zur kennzeichnung eines reliefvorläufers zur herstellung einer reliefstruktur |
WO2019121605A1 (en) | 2017-12-18 | 2019-06-27 | Xeikon Prepress N.V. | Method for fixing and treating a flexible plate on a drum and flexible plate |
EP3629089A1 (en) | 2018-09-26 | 2020-04-01 | Flint Group Germany GmbH | Method for thermally developing relief precursors |
EP4006639A1 (en) | 2020-11-27 | 2022-06-01 | Flint Group Germany GmbH | Photosensitive composition |
EP4009106A1 (en) | 2020-11-27 | 2022-06-08 | Flint Group Germany GmbH | Photosensitive composition |
US11822246B2 (en) | 2017-10-10 | 2023-11-21 | Flint Group Germany Gmbh | Relief precursor having low cupping and fluting |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1237084B (it) * | 1989-10-03 | 1993-05-18 | Chimia Prodotti E Processi Srl | Sensibilizzazione di composti metallorganici per la polimerizzazione radicalica fotocatalizzata e stabilizzazione dei preparati. |
GB9611291D0 (en) * | 1996-05-30 | 1996-07-31 | Dow Corning | Room temperature curable compositions |
EP1749513B1 (de) | 2005-08-01 | 2009-03-04 | Ivoclar Vivadent AG | Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator |
DE102006050153A1 (de) | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Ivoclar Vivadent Ag | Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien |
CN109843861B (zh) | 2016-10-20 | 2022-05-13 | 3M创新有限公司 | 具有受保护羰基基团的光引发剂 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55137178A (en) * | 1979-04-11 | 1980-10-25 | Kanebo Ltd | Adhesive material for rigid living tissue |
US4590287A (en) * | 1983-02-11 | 1986-05-20 | Ciba-Geigy Corporation | Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same |
-
1989
- 1989-03-22 EP EP89105173A patent/EP0334338A3/en not_active Withdrawn
- 1989-03-24 JP JP1070726A patent/JPH024705A/ja active Pending
Cited By (148)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0726498A1 (en) | 1995-02-10 | 1996-08-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
JP2001316416A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-13 | Nippon Paint Co Ltd | 光重合性組成物および光重合性パテ組成物 |
EP3051349A1 (en) | 2003-07-29 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
EP3284599A1 (en) | 2004-01-09 | 2018-02-21 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
EP2246741A1 (en) | 2004-05-19 | 2010-11-03 | Fujifilm Corporation | Image recording method |
EP2618215A1 (en) | 2004-05-31 | 2013-07-24 | Fujifilm Corporation | Method for producing a lithographic printing plate |
EP1614537A1 (en) | 2004-07-07 | 2006-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
EP1621338A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1621341A2 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1630618A2 (en) | 2004-08-24 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1637324A2 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color image-forming material and lithographic printing plate precursor |
EP1630602A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor |
EP2109000A1 (en) | 2004-09-10 | 2009-10-14 | FUJIFILM Corporation | Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same |
EP3182204A1 (en) | 2004-09-10 | 2017-06-21 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition |
EP1669195A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing method |
EP1992989A1 (en) | 2004-12-27 | 2008-11-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP1685957A2 (en) | 2005-01-26 | 2006-08-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method and packaged body of lithographic printing plate precursors |
EP3086177A1 (en) | 2005-02-28 | 2016-10-26 | Fujifilm Corporation | Method for preparing a lithographic printing place precursor |
EP3086176A1 (en) | 2005-02-28 | 2016-10-26 | Fujifilm Corporation | A lithographic printing method |
EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
EP1728838A1 (en) | 2005-05-31 | 2006-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same |
EP2306246A1 (en) | 2005-08-18 | 2011-04-06 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method of lithographic printing plate |
EP1755002A2 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate |
EP1754597A2 (en) | 2005-08-19 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process |
EP1829683A2 (en) | 2006-03-01 | 2007-09-05 | FUJIFILM Corporation | On-press development and printing method and printing apparatus |
WO2007105404A1 (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corporation | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
WO2007108367A1 (ja) | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Fujifilm Corporation | 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法 |
WO2007116565A1 (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corporation | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
EP1975213A1 (en) | 2006-07-03 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, injet recording method, printed material, and process for producing lithographic printing plate |
EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
EP1939687A2 (en) | 2006-12-26 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1939244A2 (en) | 2006-12-27 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Laser-decomposable resin composition, and pattern-forming material and laser-engravable flexographic printing plate precursor using the same |
EP2592475A1 (en) | 2007-02-06 | 2013-05-15 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and novel cyanine dyes |
EP1955858A1 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
EP1956428A2 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes |
EP1955850A2 (en) | 2007-02-07 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method |
EP1964893A1 (en) | 2007-02-26 | 2008-09-03 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set |
EP1988136A1 (en) | 2007-03-01 | 2008-11-05 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method for producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
EP1973000A2 (en) | 2007-03-22 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Dipping-type automatic developing apparatus and method for lithographic printing plates |
EP1972440A2 (en) | 2007-03-23 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
DE112008000778T5 (de) | 2007-03-23 | 2010-04-08 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Wasserentwickelbares photoempfindliches Lithographiedruckplattenmaterial |
EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
EP1975701A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Color filter and method for producing the same |
EP1974914A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP1975702A2 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device |
EP1975710A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
EP1975211A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition and image recording method and image recorded matter using same |
EP1975160A1 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method |
EP1975706A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2006738A2 (en) | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP2006091A2 (en) | 2007-06-22 | 2008-12-24 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method |
EP2036957A2 (en) | 2007-07-13 | 2009-03-18 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion liquid, curable composition, color filter, produced using the same, and solid state imaging device |
EP2039509A1 (en) | 2007-09-18 | 2009-03-25 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor |
EP2048000A2 (en) | 2007-09-18 | 2009-04-15 | FUJIFILM Corporation | Plate making method of lithographic printing plate precursor |
EP2042923A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Image-forming method and lithographic printing plate precursor |
EP2042312A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Processing method of lithographic printing plate precursor |
EP2042335A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method |
EP2042572A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
EP2042243A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Coater and ink-jet recording device using the same |
EP2045662A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-08 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2042311A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
EP2042928A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
EP2042924A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate |
EP3021167A1 (en) | 2007-09-28 | 2016-05-18 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2055476A2 (en) | 2007-10-29 | 2009-05-06 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2380737A1 (en) | 2007-10-29 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2058123A2 (en) | 2007-11-08 | 2009-05-13 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate |
EP2070696A1 (en) | 2007-12-10 | 2009-06-17 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2078985A1 (en) | 2008-01-09 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Method for developing lithographic printing plate |
EP2078984A1 (en) | 2008-01-11 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
EP2082875A1 (en) | 2008-01-22 | 2009-07-29 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
EP2082874A1 (en) | 2008-01-25 | 2009-07-29 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing relief printing plate and printing plate precursor for laser engraving |
EP2085220A2 (en) | 2008-01-29 | 2009-08-05 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method of producing the same |
WO2009096452A1 (ja) | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Fujifilm Corporation | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタ及びその製造方法 |
EP2090933A1 (en) | 2008-02-05 | 2009-08-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method |
EP2088468A1 (en) | 2008-02-06 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2088176A1 (en) | 2008-02-07 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material |
EP2093265A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-26 | FUJIFILM Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
EP2095947A1 (en) | 2008-02-28 | 2009-09-02 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
EP2095970A1 (en) | 2008-02-29 | 2009-09-02 | Fujifilm Corporation | Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate |
WO2009113447A1 (ja) | 2008-03-10 | 2009-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
EP2101218A1 (en) | 2008-03-10 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2100731A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing |
EP2100925A2 (en) | 2008-03-11 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Pigment composition, ink composition, printed article, inkjet recording method and polyallylamine derivative |
WO2009116434A1 (ja) | 2008-03-17 | 2009-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
EP2103993A1 (en) | 2008-03-21 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Automatic processing for making lithographic printing plate |
EP2103994A1 (en) | 2008-03-21 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Automatic processing apparatus for making lithographic printing plate |
WO2009119687A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法 |
EP2105800A2 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor |
WO2009119430A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
EP2105478A1 (en) | 2008-03-26 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Inkjet recording method and inkjet recording system |
EP2105795A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Resin composition for laser engraving, image forming material, relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
EP2105793A2 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Green curable composition, color filter and method of producing same |
EP2105298A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
WO2009123050A1 (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
EP2106906A1 (en) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | FUJIFILM Corporation | Relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate |
WO2009122789A1 (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよび固体撮像素子 |
EP2110261A2 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-21 | FUJIFILM Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP2112182A1 (en) | 2008-04-25 | 2009-10-28 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device |
EP2130881A1 (en) | 2008-06-02 | 2009-12-09 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion and ink composition using the same |
EP2145772A2 (en) | 2008-07-16 | 2010-01-20 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate |
EP2177357A2 (en) | 2008-08-29 | 2010-04-21 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
EP2166049A1 (en) | 2008-09-19 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method and method for producing printed formed article |
EP2165830A1 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method using the same |
EP2165829A1 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
EP2168767A1 (en) | 2008-09-24 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2169021A1 (en) | 2008-09-25 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, and printed material |
EP2169463A2 (en) | 2008-09-29 | 2010-03-31 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, color filter and method for producing the same |
WO2010038625A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
WO2010038795A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
WO2010038836A1 (ja) | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフイルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウエハレベルレンズ、および撮像ユニツト |
EP2216378A1 (en) | 2009-02-05 | 2010-08-11 | Fujifilm Corporation | Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article |
EP2216377A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-11 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
EP2230284A1 (en) | 2009-03-17 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
EP2230285A1 (en) | 2009-03-19 | 2010-09-22 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material |
EP2236570A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition, ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed article obtained by inkjet recording method |
EP2298841A1 (en) | 2009-09-18 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
EP2311918A1 (en) | 2009-09-29 | 2011-04-20 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, and inkjet recording method |
JP2011098944A (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Tokuyama Dental Corp | 歯科用充填修復材キット |
US9321267B2 (en) | 2010-03-16 | 2016-04-26 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
EP2366748A2 (en) | 2010-03-16 | 2011-09-21 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
US8820906B2 (en) | 2010-03-16 | 2014-09-02 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
US9855742B2 (en) | 2010-03-16 | 2018-01-02 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
US9120309B2 (en) | 2010-03-16 | 2015-09-01 | Seiko Epson Corporation | Ink composition and recording method |
DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
WO2011122707A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Fujifilm Corporation | Colored composition, inkjet ink, color filter and method of producing the same, solid-state image sensor and display device |
EP2388146A2 (en) | 2010-05-19 | 2011-11-23 | Fujifilm Corporation | Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition |
WO2013099948A1 (ja) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2013099945A1 (ja) | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
EP2644664A1 (en) | 2012-03-29 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
WO2014104137A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2014104136A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2014136923A1 (ja) | 2013-03-07 | 2014-09-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法 |
EP2842763A2 (en) | 2013-08-30 | 2015-03-04 | Fujifilm Corporation | Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set |
WO2018141644A1 (de) | 2017-01-31 | 2018-08-09 | Flint Group Germany Gmbh | Strahlungshärtbares gemisch enthaltend niedrig funktionalisiertes teilverseiftes polyvinylacetat |
US11914293B2 (en) | 2017-01-31 | 2024-02-27 | Flint Group Germany Gmbh | Radiatioin-curable mixture containing low-functionalised, partially saponified polyvinyl acetate |
WO2018177500A1 (de) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | Flint Group Germany Gmbh | Verfahren zur herstellung von bildhaften reliefstrukturen |
US11325368B2 (en) | 2017-03-27 | 2022-05-10 | Flint Group Germany Gmbh | Method for producing pictorial relief structures |
EP3431544A1 (en) | 2017-07-21 | 2019-01-23 | TSRC Corporation | Composition for preparing a foam, foam, and shoe employing the same |
US11939456B2 (en) | 2017-07-21 | 2024-03-26 | Tsrc Corporation | Composition for preparing a foam, foam, and shoe employing the same |
US11822246B2 (en) | 2017-10-10 | 2023-11-21 | Flint Group Germany Gmbh | Relief precursor having low cupping and fluting |
WO2019110809A1 (de) | 2017-12-08 | 2019-06-13 | Flint Group Germany Gmbh | Verfahren zur kennzeichnung eines reliefvorläufers zur herstellung einer reliefstruktur |
WO2019121605A1 (en) | 2017-12-18 | 2019-06-27 | Xeikon Prepress N.V. | Method for fixing and treating a flexible plate on a drum and flexible plate |
EP3629089A1 (en) | 2018-09-26 | 2020-04-01 | Flint Group Germany GmbH | Method for thermally developing relief precursors |
US11718085B2 (en) | 2018-09-26 | 2023-08-08 | Flint Group Germany Gmbh | Method for thermally developing relief precursors |
EP4009106A1 (en) | 2020-11-27 | 2022-06-08 | Flint Group Germany GmbH | Photosensitive composition |
EP4006639A1 (en) | 2020-11-27 | 2022-06-01 | Flint Group Germany GmbH | Photosensitive composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0334338A3 (en) | 1990-06-20 |
EP0334338A2 (en) | 1989-09-27 |
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