JPH0246118B2 - - Google Patents

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JPH0246118B2
JPH0246118B2 JP58036083A JP3608383A JPH0246118B2 JP H0246118 B2 JPH0246118 B2 JP H0246118B2 JP 58036083 A JP58036083 A JP 58036083A JP 3608383 A JP3608383 A JP 3608383A JP H0246118 B2 JPH0246118 B2 JP H0246118B2
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JP
Japan
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waste gas
supply tank
vitrification
solution
purification stage
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JP58036083A
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JPS58168997A (ja
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Kaufuman Furiidoritsuhi
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DOITSUCHE G FUYUURU UIIDERUAUFUARUBAITONGU FUON KERUNBURENSHUTOTSUFUEN MBH
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DOITSUCHE G FUYUURU UIIDERUAUFUARUBAITONGU FUON KERUNBURENSHUTOTSUFUEN MBH
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    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21FPROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F9/00Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
    • G21F9/28Treating solids
    • G21F9/30Processing
    • G21F9/301Processing by fixation in stable solid media
    • G21F9/302Processing by fixation in stable solid media in an inorganic matrix
    • G21F9/305Glass or glass like matrix
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S422/00Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
    • Y10S422/903Radioactive material apparatus

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  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 再生装置の最初の抽出段階から液体形で取出さ
れた放射性***生成物は、通常ガラス化される。
それというのもガラスは機械的に安定な物質を形
成し、放射性原子核種を非常に強固に結合して保
持するからである。
ガラス化装置には、通常供給槽から高放射性分
裂生成物の溶液が配量供給される。同供給槽に
は、放射性***生成物溶液用の受槽から供給が行
われる。
***生成物溶液のガラス化の間ガラス化装置の
熔融炉中で生成する廃ガスから、随伴した塵粒等
を除去しなければならない。そうでないと導管及
び装置部材が閉塞するからである。従つて通常
は、塵粒分離のために廃ガスと廃ガス浄化段階に
導く。廃ガスは同浄化段階中で、向流で洗浄液に
より浄化され、廃ガスから分離した酸、塵粒及び
エーロゾルは洗浄液中に集積する。
放射性二次廃棄物を最少限にするために、洗浄
液は循環給送される。ある一定時間後に、循環洗
浄液は著しく汚染され、交換しなければならな
い。
本発明の課題は、簡単に実施出来、廃ガス浄化
費のより僅少な、***生成物溶液のガラス化法を
開発することである。
この課題は本発明により、洗浄液として、放射
性***生成物の溶液を供給槽から取出し、廃ガス
浄化段階の頭部に供給し、洗浄液として作用する
同***生成物の溶液を廃ガス浄化段階通過後に供
給槽に還流させ、かつガラス化装置からの炉廃ガ
スは向流で廃ガス浄化段階を通過させることを特
徴とする、放射性***生成物のガラス化法により
解決される。
本発明方法によれば、洗浄液として、供給槽中
の***生成物溶液自体を使用する。付加的な二次
廃棄物となる別の洗浄液は不要である。供給槽か
らの***生成物溶液の配量及び廃ガス浄化の2段
階が、本発明により著しく簡単化される。
本発明の有利な実施形式によれば、ガラス化装
置からの廃ガスは、有利に液面の上方で、供給槽
中に導かれる。廃ガスはそこから廃ガス浄化段階
に達する。同形式は、廃ガスが廃ガス浄化段階に
入る前に、供給槽中で予備浄化される利点を有す
る。
本発明は更に、上記の方法を実施するために、
配量吐出装置を介して***生成物溶液の供給槽と
連結している、ガラス溶融炉を備えたガラス化装
置及び、ガラス化装置の炉廃ガス浄化用の、循環
給送の洗浄液を有する向流洗浄器とを装備した、
高放射性***生成物の溶液をガラス化するための
装置にも関する。装置構成要素の数を少なくし、
かつ装置の構成及び管理を簡単化するために、本
発明装置は、向流洗浄器の流出口が供給槽と連結
しており、かつ供給槽と向流洗浄器の頭部との間
に、配量吐出装置を備えた導管が設けられている
ことを特徴とする。
それにより廃ガス浄化段階と***生成物溶液の
供給槽とは有利に一構成要素にまとめられる。本
発明装置は簡単な構成と簡単な作業法ですぐれて
いる。
本発明装置の有利な実施形式においては、炉廃
ガスを導く廃ガス導管が供給槽中に、液面の上方
で、開口している。廃ガスを供給槽中に導入する
ことは、断面がより小さい廃ガス浄化塔中に導入
するよりも、構造上の理由から有利である。
本発明の別の有利な実施形式においては、***
生成物溶液中に浸漬するエアパルス装置が供給槽
中に設けられている。このエアパルス装置によつ
て、供給槽底部への堆積を避けることが出来る。
以下に図面を参照して本発明の一実施例を詳述
する。
自体公知のガラス化装置1には、ガラス溶融炉
(図示せず)が設けられており、これは加熱器2
により溶融温度に加熱される。矢印3は、放射性
***生成物を受容した溶融ガラスの流出を示す。
ガラス化装置1には添加口(矢印4)からガラス
フリツトが添加される。流入口5からは、高放射
性***生成物溶液が配量供給される。
流入口5を供給槽7と連結する導入管6中に、
配量−エアリフト−吐出装置の配量−エアリフト
槽8が設けられている。その種のエアリフト−吐
出装置は、放射性***生成物溶液の配量吐出用に
有用であることが立証された。エアリフト−吐出
装置においては、液体柱中に少量ずつの空気を入
れることにより、吐出運動が行われる。空気導入
は、供給槽7の下部域に設けられている導入管6
の下端の位置で、導管9により行われる。エアリ
フトによる***生成物溶液の吐出は、エアリフト
が可動部分を有さないために、ポンプによるより
も確実である。それにより、ポンプの場合必要で
あるかも知れないポンプ交換が不要である。汚染
したポンプによる二次廃棄物も生ぜず、又ポンプ
交換の間に起り得る作業員の放射線被暴もない。
***生成物溶液は受槽(図示せず)からポンプ
によるか又は更に別のエアリフト装置により、流
入管10を通り供給槽7に供給される。供給槽7
内では液面を常に、2つの一定の限界値の間に保
持される。
供給槽7内にパルセーター管11が突入してお
り、減圧生成により液体がその中に吸込まれる。
過圧を生成させると、液体は再びパルセーター管
11から供給槽7中に圧し出される。このエアパ
ルス装置により、供給槽7中での堆積が避けられ
る。
供給槽7中には洗浄塔12の下端部が突入して
おり、同洗浄塔12の頭部には、洗浄された炉廃
ガス用の導出管13が設けられている。洗浄液は
供給槽7の液体貯蔵部から、エアリフト槽15を
備えた配量導管14を経て取出され、洗浄塔12
の上部域に供給される。エアリフト吐出装置用の
空気導入は導入管16を経て行われる。
ガラス化装置1には廃ガス導管17が設けら
れ、これは液面18の上方で供給槽7中に開口し
ている。
供給槽7は冷却器ないしは加熱器19により冷
却ないし加熱可能に構成されている。
上記の装置の作業は以下の様にして行う。
ガラス化すべき***生成物溶液は、受槽(図示
せず)から供給槽7に供給される。供給槽7中の
液面18は常に2限界値間にある様に監視され
る。導入管6は***生成物溶液の貯蔵部中に浸漬
している。***生成物溶液は、連結している配量
−エアリフト槽8及び導管9からの空気流入によ
つて、導入管6を経てガラス化装置1に配量供給
される。同時にガラスフリツト(矢印4)がガラ
ス化装置1に供給される。ガラスフリツトの溶融
後に、放射性***生成物がガラス中に結合され、
周期的にガラス化装置1から取出される。
ガラス化の間に生成した廃ガスは、放射性塵粒
及びエーロゾルを随伴し、廃ガス導管17を経
て、液面18の上方で供給槽7中に入る。次いで
廃ガスは洗浄塔12中を下方から上方に、上部域
から流入した洗浄液と向流で通過する。同洗浄液
は供給槽7中の***生成物溶液の貯蔵部から取出
される。洗浄塔12を貫流する間に、塵粒、エー
ロゾル及びガラス化の際に揮発した放射性原子核
種の大部分が、洗浄液として使用される***生成
物溶液中に入る。汚染した洗浄液は供給槽7中に
還流する。供給槽7から、その一部が再び洗浄塔
12の頭部に還流し、他は導入管6を経てガラス
化装置1に供給される。
供給槽7中の***生成物溶液中で、継続的なガ
ス洗浄によつて洗出された成分が、ガラス溶融物
により受容され得ない許容限度値以上に集積した
ら、洗浄液の一部を取出し、別の処理に導く。導
入管10を経て、供給槽7が所定の液面まで再び
みたされる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明装置のある実施形式の略示図であ
る。 1……ガラス化装置、2……加熱器、3……矢
印−底面流出口、4……矢印−添加口、5……流
入口、6……導入管、7……供給槽、8……配量
−エアリフト槽、9……導管、10……流入管、
11……パルセーター管(エアパルス装置)、1
2……洗浄器、13……導出管、14……配量導
管、15……エアリフト槽、16……空気導入
管、17……廃ガス導管、18……液面、19…
…加熱器。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ***生成物の溶液を供給槽からガラス化装置
    に配量供給し、ガラス化の際に生成した炉廃ガス
    を廃ガス浄化段階中で洗浄液で浄化することによ
    り、随伴した塵粒等を除去する方法で、溶液中に
    存在する放射性***生成物をガラス化するに当
    り、洗浄液として、放射性***生成物の溶液を供
    給槽から取出し、廃ガス浄化段階の頭部に供給
    し、洗浄液として作用する同***生成物の溶液
    を、廃ガス浄化段階通過後に供給槽中に還流さ
    せ、ガラス化装置からの炉廃ガスは向流で廃ガス
    浄化段階を通過させることを特徴とする、溶液中
    に存在する放射性***生成物をガラス化するため
    の方法。 2 炉廃ガスをガラス化装置から供給槽に導き、
    同供給槽から廃ガス浄化段階に導く、特許請求の
    範囲第1項記載の方法。 3 配量吐出装置を介して***生成物溶液の供給
    槽と連結している、ガラス溶融炉を備えたガラス
    化装置及び、ガラス化装置から廃ガス導管を通し
    て導かれる炉廃ガス浄化用の、循環給送の洗浄液
    を有する向流洗浄器とを装備した、高放射性***
    生成物溶液のガラス化装置において、向流洗浄器
    12の流出口が供給槽7と連結しており、かつ供
    給槽7と向流洗浄器12の頭部との間に、配量吐
    出装置15,16を備えた導管14が設けられて
    いることを特徴とする、溶液中に存在する放射性
    ***生成物をガラス化するための装置。 4 炉廃ガスを導く廃ガス導管17が、液面18
    の上方で、供給槽7中に開口している、特許請求
    の範囲第3項記載の装置。 5 供給槽7中に、***生成物溶液中に浸漬する
    エアパルス装置11が設けられている、特許請求
    の範囲第3項又は第4項記載の装置。
JP58036083A 1982-03-13 1983-03-07 溶液中に存在する放射性***生成物をガラス化するための方法及び装置 Granted JPS58168997A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3209250.4 1982-03-13
DE3209250A DE3209250C2 (de) 1982-03-13 1982-03-13 Verfahren und Einrichtung zur Reinigung des Ofenabgases einer Verglasungsanlage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58168997A JPS58168997A (ja) 1983-10-05
JPH0246118B2 true JPH0246118B2 (ja) 1990-10-12

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ID=6158212

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JP58036083A Granted JPS58168997A (ja) 1982-03-13 1983-03-07 溶液中に存在する放射性***生成物をガラス化するための方法及び装置

Country Status (7)

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US (2) US4592898A (ja)
JP (1) JPS58168997A (ja)
BE (1) BE896046A (ja)
BR (1) BR8301242A (ja)
DE (1) DE3209250C2 (ja)
FR (1) FR2523360B1 (ja)
GB (1) GB2118354B (ja)

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