JPH0234335B2 - - Google Patents

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JPH0234335B2
JPH0234335B2 JP56025308A JP2530881A JPH0234335B2 JP H0234335 B2 JPH0234335 B2 JP H0234335B2 JP 56025308 A JP56025308 A JP 56025308A JP 2530881 A JP2530881 A JP 2530881A JP H0234335 B2 JPH0234335 B2 JP H0234335B2
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JP
Japan
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butadiene
gas
amount
supplied
acetic acid
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JP56025308A
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Masao Kasahara
Hiroshi Yamamoto
Hiroaki Katori
Jun Torya
Akihisa Oono
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Mitsubishi Kasei Corp
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Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はパラジウム系触媒の存在下、ブタジエ
ンからジアセトキシブテンを製造する方法に関す
るものである。
詳しくは、本発明はアセトキシ化反応系、ブタ
ジエン回収系及び排ガス処理系を合理化し、ジア
セトキシブテンを有利に製造する方法の改良方法
を提供するものである。
パラジウム系触媒の存在下、ブタジエン、酢酸
および酸素又は酸素含有ガスを接触反応させ、ジ
アセトキシブテンを製造するにあたり、アセトキ
シ化反応工程から排ガス或いはアセトキシ化反応
物の精製系から放出されるガス中に含まれる有効
成分、特にブタジエンをブタジエン回収塔及びブ
タジエン吸収塔を用いて有利に反応工程にリサイ
クルする方法については特開昭52−151115におい
て既に知られている。
一方、本発明者らは、ブタジエンのアセトキシ
化反応を詳細に検討した結果、ジアセトキシブテ
ンとともに、ブタジエンの酸化生成物であるフラ
ンおよびアクロレインが少量副生し、本反応を連
続的に行なう場合にはフランおよびアクロレイン
が回収使用される反応原料に伴つて反応域に循環
され、反応液中に蓄積すること、および、これら
のフランおよびアクロレインの液中濃度が一定濃
度を越えると触媒活性が極めて速やかに低下する
のでアセトキシ化反応域中のフランおよびアクロ
レインの濃度を一定値以下に保持する必要がある
ことを見い出した(特開昭56−71040)が、かか
る一定値を保持するための工業的有利な方法は末
だ得られていない。
本発明者等は、原料ブタジエンを損失すること
なく、且つアセトキシ化反応域に循環使用し得る
純度で効果的に回収するため、特に、フラン及び
アクロレインの除去方法について鋭意検討した結
果、アセトキシ化反応生成液中に溶存するブタジ
エンを回収するためのブタジエン回収塔におい
て、回収塔に供給されるブタジエン量、供給ガス
量及び留出ガス量とフラン及びアクロレインの挙
動とは密接な関係を有しており、これらの量的関
係をある特定条件下に維持するならば、フランお
よびアクロレインが効率よく未反応ブタジエンか
ら分離され、系外に排出されることを見い出し、
本発明に到達したものである。
即ち、本発明の要旨は、 (1) 担体付パラジウム系触媒の存在下、ブタジエ
ン、酸素含有ガス及び酢酸を20Kg/cm2G以上の
圧力下アセトキシ化反応域で反応させジアセト
キシブテンを製造するにあたり (a) アセトキシ化反応域から得られる反応生成
物を気液分離し、分離気体の一部は反応域に
供給し、 (b) 残部は第1ブタジエン吸収塔に供給してブ
タジエンを酢酸に吸収させ、 (c) 他方、分離液体は減圧後、圧力0〜3Kg/
cm2G、塔頂温度50〜130℃で操作されるブタ
ジエン回収塔の塔頂部に供給し、 (d) かつブタジエン回収塔の下部に酸素含有ガ
スを供給し、 (e) 回収塔よりブタジエン含有ガスを留出さ
せ、次いで該留出ガスを第2ブタジエン吸収
塔に供給してブタジエンを酢酸に吸収させ、
その際、該留出ガス量と(c)に於いて分離液体
と共に供給されるガス量との割合(モル比)
を下記の範囲内に保持し、 M×0.95<留出ガス量/供給ガス量<M×
1.1 (但しMは留出ガス量/供給ガス量(モル
比)の最適値を表わし、供給ブタジエン量/
供給ガス量(モル比)=Fとしたとき、関数
M=6.6×F+0.8から求められる。) (f) 回収塔底部よりフラン及びアクロレインを
含有する缶出液を抜き出し、 (g) 第1及び第2ブタジエン吸収塔塔底部より
流出するブタジエン含有酢酸をアセトキシ化
反応域に供給することを特徴とするジアセト
キシブテンの製造方法 に存する。
次に本発明を更に詳細に説明する。
本反応に用いられる原料のブタジエンは高純度
のものが望ましいが必ずしも純粋なものである必
要はなく、工業規格を満足するもののほか窒素、
アルゴン等の不活性ガスやメタン、エタンを含有
していても良い。他の反応原料である酢酸は、特
に制限されず品質的にはJIS規格を満足するもの
であれば充分であるが、反応の選択率を考慮した
場合、含水量は20(重量)%以下であることが望
ましく、又反応器の材質の観点からは酢酸中に含
まれる蟻酸は出来るだけ1.0(重量)%以下とする
のが好ましい。酢酸の供給源としては、新たもの
は勿論のこと、本発明方法に従い、第1及び第2
のブタジエン吸収塔においてブタジエンを吸収し
た酢酸が使用される。酢酸の使用量は、ブタジエ
ン1モルに対し化学量論量以上60モル以下の範囲
で適用される。
アセトキシ化反応に供する酸素は、酸素含有ガ
スとして用いるが窒素、アルゴン等の不活性ガス
で稀釈されたものが良く、好ましくは空気が用い
られる。いかなる場合も、反応器内で実質的に爆
発混合物を形成しないようにすることが必要であ
り、通常酸素含有ガス中の酸素濃度は0.1〜15(容
量)%、好ましくは1〜10(容量)%の範囲で選
ばれる。
本反応に使用される固体触媒としては、パラジ
ウム金属単独或はパラジウム金属とビスマス、セ
レン、アンチモン及びテルルから選ばれた少くと
も1種の助触媒金属とを担体に担持した触媒が好
適である。この触媒担体としては、任意のものが
選ばれるが、具体的には、具体的には、活性炭、
シリカゲル、シリカアルミナ、アルミナ、粘土、
ボーキサイト、マグネシア、ケイソウ土、軽石な
どが挙げられる。
触媒中の触媒金属の担持量は、通常パラジウム
金属は0.1〜20(重量)%、他の助触媒金属は0.01
〜30(重量)%の範囲で選ばれる。反応は、種合
の態様で実施されるが、固定床で実施するのが好
ましい。
アセトキシ化反応は、圧力20Kg/cm2G以上で実
施する必要がある。かかる圧力を超えてあまりに
低い圧力下では、充分な反応速度が得られず工業
的に好ましくない。また、300Kg/cm2G以上では
装置の耐圧性および安全性から好ましくなく、通
常、40〜150Kg/cm2Gの範囲から選ばれる。
反応温度は通常40〜180℃、好ましくは60〜120
℃の範囲から選ばれる。
本発明方法においては、アセトキシ化反応で得
られる反応生成物を気液分離し、得られた該分離
気体の一部はアセトキシ化反応域に循環し、残部
は20Kg/cm2G以上、好ましくは20〜300Kg/cm2
更に好ましくは40〜150Kg/cm2Gの圧力で操作さ
れる第1ブタジエン吸収塔に供給して酢酸でブタ
ジエンを吸収処理する。第1吸収塔の操作温度は
10〜50℃、好ましくは20〜40℃とする。
他方、前記気体を分離した後の反応生成液は、
減圧後ブタジエン回収塔に供給し、蒸留又は放散
により溶存しているブタジエンを塔頂よりガス状
で留出させる。しかして、本発明方法においては
該回収塔は操作圧力0〜3Kg/cm2G、好ましくは
0.01〜2Kg/cm2G、塔頂温度50〜/30℃、好まし
くは70〜120℃の条件下操作し、又、反応液はブ
タジエン回収塔塔頂部から供給する。
尚、反応生成液は、ブタジエン回収塔に供給す
る前にブタジエン回収塔操作圧より若干高い圧力
下フラツシユ蒸発を行ない、発生したガスを第2
ブタジエン吸収塔(後述)の底部に供給し、流出
した液をブタジエン回収塔に供給しても良い。
更に又、本発明方法においては、ブタジエン回
収塔の下部に酸素含有ガスを供給する。
その場合、回収塔に供給される酸素含有ガス
は、回収塔の操作条件下アセトキシ化反応生成物
との望ましくない副反応などを生起しないために
も酸素濃度のあまり高くないガスが使用され、通
常酸素0.01〜21%、好ましくは0.1〜11%であり、
その他の不活性成分として窒素、アルゴン等の不
活性ガスを含むものが使用される。
更に、本発明方法においては、第1ブタジエン
吸収塔から排出されるガスは、通常、酸素、窒
素、炭酸ガス等を含有しており、その含有割合は
アセトキシ化反応条件によつて異なるが、ガス中
の酸素濃度は、ほぼ1〜10%程度である。それ
故、回収塔に供給する酸素含有ガスとして、第1
ブタジエン吸収塔から排出されるガスの一部を、
ガス中の酸素濃度を調整した後供給するならば、
より一層効率化される。いずれの場合に於ても、
回収塔内で爆発混合物を形成しないようにするこ
とは勿論である。
供給するガスの量は回収塔で処理されるブタジ
エンの量の30容量倍以下、好ましくは20容量倍以
下とする。
本発明方法においては、気液分離後の反応生成
液を必要に応じフラツシユ蒸発を行つた後ブタジ
エン回収塔に供給されるが、その際、ブタジエン
回収塔から留出するガス(以下「留出ガス」と称
する)量と反応生成液と共に供給されるガス量と
を以下に示す特定の割合の範囲(モル比)に保持
することが必要である。
(尚、本願明細書中、反応生成液と共に供給され
るガスとは、ブタジエン酸素、窒素、炭酸ガス等
の常温常圧下、気体の物質で、反応生成液に溶存
して供給されるもの並びに必要に応じて供給され
る酸素含有ガスの総称であり、以下「供給ガス」
と称する。又、「供給ガス」中のブタジエン以外
のガスを「イナートガス」と総称する。) M×0.95<留出ガス量/供給ガス量<M×1.1 但しMは未反応ブタジエンを100%回収し、か
つフラン及びアクロレインの除去を好適に行なう
ための(留出ガス量)/(供給ガス量)とのモル
比の最適値を表わし、供給ブタジエン量/供給ガ
ス量(モル比)=Fとしたときこ、関数M=6.6×
F+0.8から求められる。これを横軸をF値、縦
軸をM値としてグラフで示すと図−1のようにな
る。
かかる範囲を超えて(留出ガス)/(供給ガス
量)の値が大きいとブタジエンは100%回収でき
るものの留出ガスに含まれるフラン及びアクロレ
インの量が大となり、又、熱効率が悪化するので
好ましくない。又、小さすぎるとブタジエンの回
収が不十分になり好ましくない。
かかる範囲内の値の達成は、ブタジエン回収塔
に加える熱量を微妙に調節することにより行われ
るが、具体的には供給液の温度調節、リボイラー
による加熱量の調節、酸素含有ガスの温度の調節
等を行なう。
以上のような条件下でブタジエン回収塔を操作
することによつて供給液中に含まれるブタジエン
を実質的に100%回収し、同時にフランおよびア
クロレインの80%程度を回収塔缶出液と系外に抜
き出すことができ、触媒の失活を防止することが
できる。
この操作に際して、フラン、アクロレインの除
去率をより向上させる必要が有る場合、即ち、ア
セトキシ化反応条件によつては、フラン、アクロ
レインの生成量が大であるため、80%程度の除去
率では反応器に循環する絶対量が大となり、触媒
を失活させる可能性があるので、そのような場合
には、回収塔からの留出ガスを、分縮器を用いて
40〜70℃に冷却し、凝縮液を回収塔に戻すことに
よつて、除去率を95%程度にまで高めることがで
き、容易に触媒の失活を防止することができる。
尚、ブタジエン回収塔としては一般の蒸留塔を
用いても、リボイラーの無い放散塔を用いても良
い。
ブタジエン回収塔或いは分縮器より留出するブ
タジエン含有ガスは塔頂圧力以下、好ましくは0
〜4Kg/cm2G、更に好ましくは0.2〜1Kg/cm2
の圧力で操作される第2ブタジエン吸収塔に供給
して酢酸にてブタジエンを吸収処理する。第2吸
収塔の操作温度は10〜50℃、好ましくは20〜40℃
とする。
第1及び第2ブタジエン吸収塔において使用さ
れる酢酸は特に制限はなく、市販のものでも製造
工程からの回収酢酸、例えばジアセトキシブテン
製造工程からの回収酢酸或はジアセトキシブテン
の加水分解によつて生成した酢酸など任意のもの
が挙げられる。
ただし、ジアセトキシブテン製造工程からの回
収酢酸にはフラン及びアクロレインが同伴される
ので、これを用いる場合には、事前に、フラン及
びアクロレインを酢酸から蒸発分離しておく必要
がある。
ブタジエン吸収塔としては、通常の吸収操作に
用いられる装置であれば十分適用することが出
来、充填塔、段塔、スプレー塔などが挙げられ
る。
以上、本発明方法に従い、ブタジエンの回収に
必要充分な条件の範囲内で、更に限定された条件
でブタジエン回収塔を操作することによりアセト
キシ化触媒の寿命に致命的な悪影響を与える物質
であるフラン及びアクロレインを新たな設備装置
を設置せずに循環系から除去することができ、安
定かつ経済的有利にジアセトキシブテンを製造す
ることが出来る。
次に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以
下の実施例に限定されるものではない。尚、「部」
は「重量部」を表わす。
実施例 1 ブタジエン、空気、リサイクルガス、リサイク
ル酢酸をそれぞれ1400、2290、63630、25450部/
hr、の割合で圧力93Kg/cm2G、温度50℃でアセト
キシ化反応域に供給する。反応域は内径1800mm、
高さ8000mmのSUS316製反応器を2基板連結した
もので、各反応器の内部にはパラジウムとテルル
を担持した4〜6メツシユのヤシガラ活性炭を
4500部充填した。
該反応域の出口圧力は91Kg/cm2G、温度は80℃
であり、反応器底部でこの条件下で生成物の気液
分離を行つて、主として1,4−ジアセトキシブ
テン(13.7wt%)及び酢酸を含有する流出液
27240部/hr(イナートガス1120部/hr含有)と、
酸素及びブタジエンを含む流出ガス65530部/hr
との得た。
流出液は減圧してブタジエン回収塔の最上段多
孔板トレイ上に供給し、同時に、回収塔塔底には
第1ブタジエン吸収塔(後述)からの留出ガス
179部/hrを供給した。
ブタジエン回収塔は、SUS316製の内径1000
mm、高さ7000mmの多孔板トレイ10段のものであ
り、回収塔供給液を加熱量を調節しながら供給し
て塔頂圧0.3Kg/cm2G、塔頂温度88℃で操作し回
収塔塔頂より、ブタジエン10.0wt%を含む留出ガ
ス2298部/hrを得、塔底から1,4−ジアセトキ
シブテン(14.9wt%)および主として酢酸を含有
する缶出液25121部/hrを得た。
この缶出液はひき続き脱酢酸塔に供給して塔頂
より純度98.5wt%の酢酸を得、塔底より純度
86.5wt%の1,4−ジアセトキシブテンを得た。
一方、アセトキシ化反応域からの流出ガス
65530部/hrは、90Kg/cm2G圧下、第1ブタジエ
ン吸収塔(後述)からのブタジエンを含み、酢酸
を主成分とする流出液2460部/hrと共に45℃に冷
却したのち更に気液分離に付し、酸素4.95wt%を
含む窒素を主成分とする分離ガス65120部/hrと
酢酸を主成分とする分離液2870部/hrとを得た。
この分離液を減圧した後、前述のブタジエン回
収塔からの留出ガス2298部/hrと共に第2ブタジ
エン吸収塔の底部に供給し、一方同時に塔頂より
35℃の酢酸を20971部/hrで供給し、塔内で気液
交流接触させた。第2ブタジエン吸収塔は、内径
1000mm、高さ15000mmのSUS316製で35℃、塔頂
圧0.2Kg/cm2Gで操作し、塔底からブタジエンを
含む酢酸を25450部/hr得た。又、塔頂からは、
ブタジエン含有量が100ppm(容量)の廃ガスを
689部/hrで得、これは水洗塔で洗浄したのち排
出した。
前述の気液分離で得られた圧力90Kg/cm2Gの分
離ガス65120部/hrのうち1490部/hrを第1吸収
塔の底部に供給し、他方吸収塔塔頂から35℃の酢
酸2430部/hrを96Kg/cm2Gで供給し、気液交流接
触させた。塔頂よりブタジエン含有量が100ppm
(容量)の廃ガスを1460部/hrで得、そのうち179
部/hrを回収塔底部に供給した。また、圧力90
Kg/cm2の分離ガスの残部63630部/hrは、アセト
キシ化反応域にリサイクルした。
第1ブタジエン吸収塔の底部からはブタジエン
を含む酢酸が2460部/hrで得られ、これは前述の
如く気液分離器へリサイクルした。第1ブタジエ
ン吸収塔は内径500mm、高さ10000mmのSUS316製
で35℃、96Kg/cm2Gで操作した。
上記の操作条件で、全装置の連続運転を行なつ
たところ、全系が定常状態に達した時点ではブタ
ジエン回収塔供給液中のフラン濃度とアクロレイ
ン濃度の合計は1700wtppmとなり、このうち83
%相当量がブタジエン回収塔の塔底から流出し
た。ブタジエンは実質的に100℃塔頂へ回収され
た。
また、アセトキシ化触媒の活性は約1000時間の
間ほぼ一定であつた。
ここで、ブタジエン回収塔における供給ブタジ
エン量/供給ガス量のモル比(F)は0.101、留出ガ
ス量/供給ガス量のモル比は1.46である。
(但し、ブタジエンの分子量54、イナートガスの
平均分子量28.3、留出ガス中のブタジエン及びイ
ナートガス以外の物質(酢酸等)の平均分子量
51.6として算出した。) この時の留出ガス量/供給ガスの最適値Mは関
数M=6.6×F+0.8から1.47であり、本実施例の
留出ガス量/供給ガス量は所定の範囲内の値を維
持している。
比較例 1 ブタジエン回収塔の塔頂温度が98℃となるよう
に供給液を加熱温度を調節しつつ供給し、ブタジ
エン回収塔からの留出ガス量が3033部/hr、第2
吸収塔の供給酢酸量が20236部/hrである以外は
実施例1と同じ装置を用い、同じ条件で操作し
た。その結果、定常状態でのブタジエン回収塔供
給液中のフラン濃度とアクロレイン濃度の合計は
2800wtppmとなり、このうち50%相当量がブタ
ジエン回収塔の塔底から流出したに過ぎなかつ
た。ブタジエンは全量塔頂へ回収された。
アセトキシ化触媒の活性は約100時間の間に大
幅に低下し、ブタジエン回収塔供給液中の1,4
−ジアセトキシブテンの濃度は13.7wt%から
12.6wt%に低下した。
この場合、供給ブタジエン量/供給ガス量のモ
ル比は0.101、留出ガス量/供給ガス量のモル比
は1.80であつた。
【図面の簡単な説明】
図−1はブタジエンを実質的に100%回収し、
かつフラン及びアクロレインの除去を好適に行う
時のブタジエン回収塔における供給ガス量と留出
ガス量とのモル比の値(最適値(M))と供給ブ
タジエン量と供給ガス量とのモル比の値(F)との関
数M=6.6×F+0.8を表わすグラフであり、縦軸
は留出ガス量/供給ガス量の最適値(M)を、横
軸は供給ブタジエン量/供給ガス量(F)を表わす。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 担体付パラジウム系触媒の存在下、ブタジエ
    ン、酸素含有ガス及び酢酸を20Kg/cm2G以上の圧
    力下アセトキシ化反応域で反応させジアセトキシ
    ブテンを製造するにあたり、 (a) アセトキシ化反応域から得られる反応生成物
    を気液分離し、分離気体の一部は反応域に供給
    し、 (b) 分離気体の残部は第1ブタジエン吸収塔に供
    給してブタジエンを酢酸に吸収させ (c) 他方、分離液体は、減圧後、圧力0〜3Kg/
    cm2G、塔頂温度50〜130℃で操作されるブタジ
    エン回収塔の塔頂部に供給し、 (d) かつブタジエン回収塔の下部に酸素含有ガス
    を供給し、 (e) 回収塔よりブタジエン含有ガスを留出させ、
    次いで該留出ガスを第2ブタジエン吸収塔に供
    給してブタジエンを酢酸に吸収させ、その際、
    該留出ガス量と(c)に於いて分離液体と共に供給
    されるガス量との割合(モル比)を下記の範囲
    内に保持し、 M×0.95<留出ガス量/供給ガス量<M×
    1.1(但しMは留出ガス量/供給ガス量(モル
    比)の最適値を表わし、供給ブタジエン量/供
    給ガス量(モル比)=Fとしたとき、関数M=
    6.6×F+0.8から求められる。) (f) 回収塔底部よりフラン及びアクロレインを含
    有する缶出液を抜き出し、 (g) 第1及び第2ブタジエン吸収塔塔底部より流
    出するブタジエン含有酢酸をアセトキシ化反応
    域に供給することを特徴とするジアセトキシブ
    テンの製造方法。 2 特許請求の範囲第1項記載の方法において、
    ブタジエン回収塔より留出するブタジエン含有ガ
    スを分縮器にて40〜70℃に冷却して凝縮液をブタ
    ジエン回収塔に循環することを特徴とするジアセ
    トキシブテンの製造方法。
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JPH03130554U (ja) * 1990-04-13 1991-12-27

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JPS52151115A (en) * 1976-06-10 1977-12-15 Mitsubishi Chem Ind Ltd Preparation of diacetoxybutene

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03130554U (ja) * 1990-04-13 1991-12-27

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