JPH02277780A - 低鉄損一方向性珪素鋼板及びその製造方法 - Google Patents
低鉄損一方向性珪素鋼板及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH02277780A JPH02277780A JP1027578A JP2757889A JPH02277780A JP H02277780 A JPH02277780 A JP H02277780A JP 1027578 A JP1027578 A JP 1027578A JP 2757889 A JP2757889 A JP 2757889A JP H02277780 A JPH02277780 A JP H02277780A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steel sheet
- silicon steel
- press
- steel plate
- unidirectional silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 54
- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 32
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 54
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 54
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 32
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims description 7
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 abstract description 9
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 9
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003966 growth inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000000520 microinjection Methods 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、鉄損の低い一方向性珪素鋼板に関し、とく
に鋼板表面上の被膜を地鉄に圧入することによって磁区
の細分化をはかり、鉄…を低減しようとするものである
。
に鋼板表面上の被膜を地鉄に圧入することによって磁区
の細分化をはかり、鉄…を低減しようとするものである
。
(従来の技術)
一方向性珪素鋼板は製品の2次再結晶粒をゴス方位に高
度に集積させ、また鋼板表面上にはフォルステライト質
被膜を形成し、さらにその上に熱膨張係数の小さい絶縁
被膜を被成したもので、厳格な制御を必要とする複雑、
多岐にわたる工程を経て製造される。
度に集積させ、また鋼板表面上にはフォルステライト質
被膜を形成し、さらにその上に熱膨張係数の小さい絶縁
被膜を被成したもので、厳格な制御を必要とする複雑、
多岐にわたる工程を経て製造される。
このような一方向性珪素鋼板は、主として変圧器、その
他電気機器の鉄心として使用されており、磁気特性とし
て製品の磁束密度(Bl。値で代表される)が高く、鉄
損(Wlff/S。値で代表される)が低いこと、さら
に表面性状が良好な絶縁被膜を有することが要求されて
いる。
他電気機器の鉄心として使用されており、磁気特性とし
て製品の磁束密度(Bl。値で代表される)が高く、鉄
損(Wlff/S。値で代表される)が低いこと、さら
に表面性状が良好な絶縁被膜を有することが要求されて
いる。
とくにエネルギー危機を境にして電力損失の低減を特徴
とする請が著しく強まり、変圧器用鉄心材料としての鉄
損のより低い一方向性珪素鋼板の必要性は増々重要なも
のとなってきている。
とする請が著しく強まり、変圧器用鉄心材料としての鉄
損のより低い一方向性珪素鋼板の必要性は増々重要なも
のとなってきている。
さて一方向性珪素鋼板の鉄損改善の歴史は、ゴス方位2
次再結晶集合組織の改善の歴史であると言っても過言で
はない。このような2次再結晶粒を制御する方法として
、AIN、MnS及びMnSe等の1次再結晶粒成長抑
制剤、いわゆるインヒビターを用いてゴス方位2次再結
晶粒を優先成長させる方法が実施されている。
次再結晶集合組織の改善の歴史であると言っても過言で
はない。このような2次再結晶粒を制御する方法として
、AIN、MnS及びMnSe等の1次再結晶粒成長抑
制剤、いわゆるインヒビターを用いてゴス方位2次再結
晶粒を優先成長させる方法が実施されている。
一方これら2次再結晶集合組織を制御する方法とは全く
異なる方法、すなわち鋼板表面にレーザー照射(布巾
正:鉄と鋼、 69(1983)、P、895、特公昭
57−2252号、同57−53419号、同58−2
4605号、同58−24606号各公報参照)又はプ
ラズマ照射(特開昭62−96617号、同62−15
1511号、同62151516号および同62−15
1517号各公報参照)により局部微小歪を導入して磁
区を細分化し、もって鉄損を低下する画期的な方法が提
案された。しかしながらこれらの方法により得られた鋼
板は、高温域まで加熱すると微小歪が消失するため、高
温の歪取り焼鈍を施す巻鉄心トランス用材料には使用で
きないという欠点がある。
異なる方法、すなわち鋼板表面にレーザー照射(布巾
正:鉄と鋼、 69(1983)、P、895、特公昭
57−2252号、同57−53419号、同58−2
4605号、同58−24606号各公報参照)又はプ
ラズマ照射(特開昭62−96617号、同62−15
1511号、同62151516号および同62−15
1517号各公報参照)により局部微小歪を導入して磁
区を細分化し、もって鉄損を低下する画期的な方法が提
案された。しかしながらこれらの方法により得られた鋼
板は、高温域まで加熱すると微小歪が消失するため、高
温の歪取り焼鈍を施す巻鉄心トランス用材料には使用で
きないという欠点がある。
このような高温の歪取り焼鈍を施しても鉄損が劣化しな
い方法が提案されている。例えば、仕上焼鈍板の表面に
溝もしくはセレーションを形成する方法(特公昭50−
35679号、特開昭59−28525号及び同59−
197520号各公報参照)、仕上焼鈍板の表面に微再
結晶粒領域を形成する方法(特開昭56−130454
号公報参照)、フォルステライト質被膜に異厚或いは欠
損領域を形成する方法(特開昭60−92479号、同
60−92480号、同60−92481号及び同60
−258479号各公報参照)、地鉄中、フォルステラ
イト質被膜中又は張力絶縁被膜中に異組成領域を形成す
る方法(特開昭60−103124号及び同60−10
3182号各公報参照)、等である。
い方法が提案されている。例えば、仕上焼鈍板の表面に
溝もしくはセレーションを形成する方法(特公昭50−
35679号、特開昭59−28525号及び同59−
197520号各公報参照)、仕上焼鈍板の表面に微再
結晶粒領域を形成する方法(特開昭56−130454
号公報参照)、フォルステライト質被膜に異厚或いは欠
損領域を形成する方法(特開昭60−92479号、同
60−92480号、同60−92481号及び同60
−258479号各公報参照)、地鉄中、フォルステラ
イト質被膜中又は張力絶縁被膜中に異組成領域を形成す
る方法(特開昭60−103124号及び同60−10
3182号各公報参照)、等である。
しかしながらこれらの方法はいずれも工程が複雑となる
わりには鉄損の低減効果は少なく、また製造コストが高
いこともあって、工業的に採用されるには至っていない
。
わりには鉄損の低減効果は少なく、また製造コストが高
いこともあって、工業的に採用されるには至っていない
。
(発明が解決しようとする課題)
この発盟は、磁区細分化によって低減された鉄損が歪取
り焼鈍を施しても劣化することのない、そして安定した
製造が可能な低鉄損一方向性珪素鋼板、さらにこの鋼板
を有利に製造する方法について提案することを目的とす
る。
り焼鈍を施しても劣化することのない、そして安定した
製造が可能な低鉄損一方向性珪素鋼板、さらにこの鋼板
を有利に製造する方法について提案することを目的とす
る。
(課題を解決するための手段)
この発明は、仕上焼鈍を施したフォルステライト質被膜
付、又はフォルステライト質被膜上にさらに絶縁被膜を
形成した一方向性珪素鋼板にして、鋼板表面のフォルス
テライト質被膜、又はフォルステライト質被膜及び絶縁
被膜ゐ(地鉄に圧入された微小圧入領域を、鋼板の圧延
方向と直交する向きへ局所的に導入してなる低鉄損一方
向性珪素鋼板である。
付、又はフォルステライト質被膜上にさらに絶縁被膜を
形成した一方向性珪素鋼板にして、鋼板表面のフォルス
テライト質被膜、又はフォルステライト質被膜及び絶縁
被膜ゐ(地鉄に圧入された微小圧入領域を、鋼板の圧延
方向と直交する向きへ局所的に導入してなる低鉄損一方
向性珪素鋼板である。
とぐに微小圧入領域は、鋼板表面の圧入部が地鉄を通っ
て鋼板裏面の被膜にまで及ぶものであることが有利で、
このような微小圧入領域を導入した鋼板の裏面には鋼板
表面の圧入部に対応した微小な凸部が形成されることに
なる。
て鋼板裏面の被膜にまで及ぶものであることが有利で、
このような微小圧入領域を導入した鋼板の裏面には鋼板
表面の圧入部に対応した微小な凸部が形成されることに
なる。
またこの発明に従う鋼板は、仕上焼鈍を経た一方向性珪
素鋼板につき、その表面上に、高電圧、低電流にて発生
させた電子ビームを、圧延方向と直交する向きへ局所的
に照射し、鋼板表面上の被膜を地鉄に圧入するか、さら
に地鉄を鋼板裏面の被膜に圧入することによって有利に
製造することができる。
素鋼板につき、その表面上に、高電圧、低電流にて発生
させた電子ビームを、圧延方向と直交する向きへ局所的
に照射し、鋼板表面上の被膜を地鉄に圧入するか、さら
に地鉄を鋼板裏面の被膜に圧入することによって有利に
製造することができる。
さらに電子ビームの照射径および照射間隔を変化させ、
微小圧入領域同士の間隔を狭めることによって、磁区細
分化を促進することができる。
微小圧入領域同士の間隔を狭めることによって、磁区細
分化を促進することができる。
(作 用)
次にこの発明について実験例に基いて詳細に述べる。
C: 0.043 wt%(以下単に%と示す)+ S
t : 3.45%、 Mn : 0.068%、 S
e : 0.022%、 Sb : 0.025%Mo
: 0.013%を含有する珪素鋼スラブを1380
°Cで4時間加熱後、熱間圧延して2.2mm厚の熱延
板とした後、980°Cで120分の中間焼鈍をはさむ
2回の冷間圧延を施して0 、20mm厚の最終冷延板
とした。
t : 3.45%、 Mn : 0.068%、 S
e : 0.022%、 Sb : 0.025%Mo
: 0.013%を含有する珪素鋼スラブを1380
°Cで4時間加熱後、熱間圧延して2.2mm厚の熱延
板とした後、980°Cで120分の中間焼鈍をはさむ
2回の冷間圧延を施して0 、20mm厚の最終冷延板
とした。
ついで820°Cの湿水素中で脱炭1次再結晶焼鈍を施
した後、鋼板表面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤
をスラリー塗布し、その後850°Cで50時間の2次
再結晶焼鈍を行ってゴス方位2次再結晶粒を優先成長さ
せた後、1200’Cの軟水素中で5時間の純化焼鈍を
施し試料(八)とした。また試料(A)の一部は、鋼板
表面上にリン酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶
縁被膜を被成し試料(B)とした。その後試料(A)お
よび(B)に次の(1)〜(3)の手段にて圧延方向と
直角方向にのびる微小歪を8mm間隔で導入した。
した後、鋼板表面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤
をスラリー塗布し、その後850°Cで50時間の2次
再結晶焼鈍を行ってゴス方位2次再結晶粒を優先成長さ
せた後、1200’Cの軟水素中で5時間の純化焼鈍を
施し試料(八)とした。また試料(A)の一部は、鋼板
表面上にリン酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶
縁被膜を被成し試料(B)とした。その後試料(A)お
よび(B)に次の(1)〜(3)の手段にて圧延方向と
直角方向にのびる微小歪を8mm間隔で導入した。
(1)ナイフ
(2) Y A Gレーザー照射
(照射条件ニスポット当りのエネルギー4 Xl0−:
IJ。
IJ。
スポット直径0.15mm、スポットの中心間隔0.3
mm。
mm。
走査間隔8 mm)
(3)電子ビーム(以下EBと示す)照射(照射条件:
加速電圧100kV、電流0.7mA、スポット直径1
、0mm 、スポットの中心間隔0 、3mm 、
走査間隔8 mm) (4)EB照射 (照射条件:加速電圧100kV、電流3.0mA、ス
ポット直径0.15mm、 スポットの中心間隔0.3
mm、 走査間隔8 mm) 上記の処理を行った後各試料に800″Cで2時間の歪
取り焼鈍を施した。歪取り焼鈍後の試料の磁気特性を、
第1表に示す。
加速電圧100kV、電流0.7mA、スポット直径1
、0mm 、スポットの中心間隔0 、3mm 、
走査間隔8 mm) (4)EB照射 (照射条件:加速電圧100kV、電流3.0mA、ス
ポット直径0.15mm、 スポットの中心間隔0.3
mm、 走査間隔8 mm) 上記の処理を行った後各試料に800″Cで2時間の歪
取り焼鈍を施した。歪取り焼鈍後の試料の磁気特性を、
第1表に示す。
また比較のため無処理材(歪導入なし、歪取り焼鈍あり
)の特性も同表に併記した。
)の特性も同表に併記した。
第1表
同表から明らかなように、試料(A) 、 (B)共に
(3)および(4)の条件での処理において鉄損が0.
05〜0.08 W/kgと大幅に向上していることが
わかる。
(3)および(4)の条件での処理において鉄損が0.
05〜0.08 W/kgと大幅に向上していることが
わかる。
なお条件(4)で処理した鋼板はその裏面に微小な凸部
がみとめられたところから、微小圧入領域が鋼板の裏面
にまで導入されていた。
がみとめられたところから、微小圧入領域が鋼板の裏面
にまで導入されていた。
さて処理条件(3)で処理した試料の鉄損が他のものに
比して向上する理由は、第1図(a)に示すように、鋼
板表面のフォルステライト質被膜1および絶縁被膜2が
地鉄3(ゴス方位を有する2次再結晶粒)へ微小領域に
おいて深さ方向に圧入されたことによって、歪取り焼鈍
を施しても有効な磁区細分化核として作用し、磁区細分
化が可能となったことによる。
比して向上する理由は、第1図(a)に示すように、鋼
板表面のフォルステライト質被膜1および絶縁被膜2が
地鉄3(ゴス方位を有する2次再結晶粒)へ微小領域に
おいて深さ方向に圧入されたことによって、歪取り焼鈍
を施しても有効な磁区細分化核として作用し、磁区細分
化が可能となったことによる。
また処理条件(4)で処理した試料の鉄損が他のものに
比して大幅に向上する理由は、第1図(b)に示すよう
に微小圧入領域がさらに地鉄の奥深くにまで侵入し鋼板
裏面上の被膜にまで及んでいるため、より強固な磁区細
分化核として作用するわけである。
比して大幅に向上する理由は、第1図(b)に示すよう
に微小圧入領域がさらに地鉄の奥深くにまで侵入し鋼板
裏面上の被膜にまで及んでいるため、より強固な磁区細
分化核として作用するわけである。
なお下地被膜および絶縁被膜を微小領域において鋼板の
幅方向へ地鉄内部の奥深くまで圧入するためには、高電
圧および低電流のEBを使用してはじめて可能になる。
幅方向へ地鉄内部の奥深くまで圧入するためには、高電
圧および低電流のEBを使用してはじめて可能になる。
すなわち、特に高電圧および低電流のEBを使用した場
合には、第2図に示すように、他の方法(レーザー、プ
ラズマ、メカニカルな手法等)にくらべ、深さ方向への
透過力が強く、しかも最も狭い幅で浸透するため、下地
被膜および絶縁被膜を消失することなく、地鉄へ押込め
ることが可能となる。
合には、第2図に示すように、他の方法(レーザー、プ
ラズマ、メカニカルな手法等)にくらべ、深さ方向への
透過力が強く、しかも最も狭い幅で浸透するため、下地
被膜および絶縁被膜を消失することなく、地鉄へ押込め
ることが可能となる。
さらにEBの照射条件に関して行った実験について説明
する。
する。
C: 0.042%、St’:3.42%、 Mn :
0.072%、Se:0.021%、 Sb : 0
.023%、 Mo : 0.013%を含有する珪素
鋼スラブを1370°Cで4時間加熱後、熱間圧延して
2.2mm厚の熱延板とした後、980°Cで120分
の中間焼鈍をはさむ2回の冷間圧延を施して0.20m
m厚の最終冷延板とした。ついで820°Cの湿水素中
で脱炭1次再結晶焼鈍を施した後、鋼板表面上にMgO
を主成分とする焼鈍分離剤をスラリー塗布し、その後8
50°Cで50時間の2次再結晶焼鈍を行ってゴス方位
2次再結晶粒を優先成長させた後、1200°Cの飽水
素中で5時間の純化焼鈍を施し試料(Δ)とした。また
試料(A)の一部は、鋼板表面上にリン酸塩とコロイダ
ルシリカを主成分とする絶縁被膜を被成し試料(B)と
した。その後試料(A)および(B)に次の(1)〜(
3)の手段にて圧延方向と直角方向にのびる微小歪を8
mm間隔で導入した。
0.072%、Se:0.021%、 Sb : 0
.023%、 Mo : 0.013%を含有する珪素
鋼スラブを1370°Cで4時間加熱後、熱間圧延して
2.2mm厚の熱延板とした後、980°Cで120分
の中間焼鈍をはさむ2回の冷間圧延を施して0.20m
m厚の最終冷延板とした。ついで820°Cの湿水素中
で脱炭1次再結晶焼鈍を施した後、鋼板表面上にMgO
を主成分とする焼鈍分離剤をスラリー塗布し、その後8
50°Cで50時間の2次再結晶焼鈍を行ってゴス方位
2次再結晶粒を優先成長させた後、1200°Cの飽水
素中で5時間の純化焼鈍を施し試料(Δ)とした。また
試料(A)の一部は、鋼板表面上にリン酸塩とコロイダ
ルシリカを主成分とする絶縁被膜を被成し試料(B)と
した。その後試料(A)および(B)に次の(1)〜(
3)の手段にて圧延方向と直角方向にのびる微小歪を8
mm間隔で導入した。
(1)EB照射
(照射条件:加速電圧150kV、電流1.5mA、ス
ポット直径0.12mm、スポットの中心間隔0.3m
m、走査問隔8 mm) 鋼板表面上へのEB照射は第3図(a)に示すように、
各スポットでの照射径およびスポット間の照射間隔とも
に均一とした。なお同図(b)は各スポットでのEBの
強さを三角形の高さとして、また同図(C)は横軸にE
B走査時間を縦軸にEB走査位置の変位をそれぞれ示す
。
ポット直径0.12mm、スポットの中心間隔0.3m
m、走査問隔8 mm) 鋼板表面上へのEB照射は第3図(a)に示すように、
各スポットでの照射径およびスポット間の照射間隔とも
に均一とした。なお同図(b)は各スポットでのEBの
強さを三角形の高さとして、また同図(C)は横軸にE
B走査時間を縦軸にEB走査位置の変位をそれぞれ示す
。
(2) E B照射
(照射条件:加速電圧150にシ、電流1.5mAまた
は0.75mA、スポット直径0.12mmまたは0.
80mm、 スポットの中心間隔0.3mm、走査問隔
8 mm)鋼板表面上へのEB照射は、電流を1.5
mAと0、75mAとに交互に変化させながら行って照
射径および照射間隔を変化させ、第4図(a)に示すよ
うな照射痕を付与した。なお同図(b)および(C)は
第3図と同様にそれぞれEB強さおよびEBの走査時間
の変化に対するEBの照射位置の変化を示す。
は0.75mA、スポット直径0.12mmまたは0.
80mm、 スポットの中心間隔0.3mm、走査問隔
8 mm)鋼板表面上へのEB照射は、電流を1.5
mAと0、75mAとに交互に変化させながら行って照
射径および照射間隔を変化させ、第4図(a)に示すよ
うな照射痕を付与した。なお同図(b)および(C)は
第3図と同様にそれぞれEB強さおよびEBの走査時間
の変化に対するEBの照射位置の変化を示す。
(3) E B照射
(照射条件:加速電圧150kV、電流1.5 mAま
たは0.75mA、スポット直径0.12mmまたは0
.80mm、スポットの中心間隔0.3mm、走査問隔
8 mm)鋼板表面上へのEB照射は、電流を1.5
mAと0.75mAとに交互に変化させながら行って照
射径および照射間隔を変化させ、第5図(a)に示すよ
うな照射痕を付与した。なお同図(ハ)および(C)は
第3図と同様にそれぞれEB強さおよびEBの時間変化
に対するEBの照射位置の変化を示す。
たは0.75mA、スポット直径0.12mmまたは0
.80mm、スポットの中心間隔0.3mm、走査問隔
8 mm)鋼板表面上へのEB照射は、電流を1.5
mAと0.75mAとに交互に変化させながら行って照
射径および照射間隔を変化させ、第5図(a)に示すよ
うな照射痕を付与した。なお同図(ハ)および(C)は
第3図と同様にそれぞれEB強さおよびEBの時間変化
に対するEBの照射位置の変化を示す。
上記の処理を行った後各試料に800″Cで2時間の歪
取り焼鈍を施した。歪取り焼鈍後の試料の磁気特性を、
第2表に示す。
取り焼鈍を施した。歪取り焼鈍後の試料の磁気特性を、
第2表に示す。
また比較のため無処理材(歪導入なし、歪取り焼鈍あり
)の特性も同表に併記した。
)の特性も同表に併記した。
第2表
同表から明らかなように、試料(A) 、 (B)共に
EBによる処理において、比較材に比べ鉄損が0.05
〜0.11 W/kg向上し、どくに(2)および(3
)の処理は鉄損が0.10〜0.11 W/kgと大幅
に向上していることがわかる。さらに製品の占積率は9
6.6〜96.8%と良好であった。
EBによる処理において、比較材に比べ鉄損が0.05
〜0.11 W/kg向上し、どくに(2)および(3
)の処理は鉄損が0.10〜0.11 W/kgと大幅
に向上していることがわかる。さらに製品の占積率は9
6.6〜96.8%と良好であった。
また珪素鋼板の板厚方向(深さ方向)におけるEBの透
過力は、通常X線が大量発生する65kV以上の加速電
圧において増大することも見出した。
過力は、通常X線が大量発生する65kV以上の加速電
圧において増大することも見出した。
通常、溶接用に大量使用されているEBの加速電圧は6
0kV以下のため、その透過力はきわめて小さく、した
がって従来この効果を見出すこともできず、また利用も
できなかった。そこでこの発明の効果を最大限に生かす
には加速電圧を高<(65〜500kV)、加速電流を
小さく (0,0O1〜5 mA)設定して用いること
が重要であり、それにより珪素鋼板の板厚方向への透過
力が強くなる。さらに、磁区細分化を効率よく行うため
細いEBを用いることによって照射領域を0.5mmφ
以下の大きさにすることが好ましい。さらにこのEB照
射した後その上に絶縁被膜を施して、EB照射痕跡上の
絶縁性をより強くしてもよいが、コストアップとなるた
め、通常は施さなくても充分絶縁効果を発揮できる。
0kV以下のため、その透過力はきわめて小さく、した
がって従来この効果を見出すこともできず、また利用も
できなかった。そこでこの発明の効果を最大限に生かす
には加速電圧を高<(65〜500kV)、加速電流を
小さく (0,0O1〜5 mA)設定して用いること
が重要であり、それにより珪素鋼板の板厚方向への透過
力が強くなる。さらに、磁区細分化を効率よく行うため
細いEBを用いることによって照射領域を0.5mmφ
以下の大きさにすることが好ましい。さらにこのEB照
射した後その上に絶縁被膜を施して、EB照射痕跡上の
絶縁性をより強くしてもよいが、コストアップとなるた
め、通常は施さなくても充分絶縁効果を発揮できる。
さらにこの発明に従う鋼板は上述のように、積鉄心や巻
鉄心に供することが可能であるが、積鉄心材に供する場
合は巻鉄心材に比較して細い微小歪の導入が必要なので
、EB照射条件は電流を小さく、走査間隔を広くするこ
とが好ましい。一方巻鉄心材に供する場合のEB照射条
件は、歪取り焼鈍を施しても特性の劣化がないように、
電流を若干大きく、走査間隔を狭くして鋼板表面での微
小歪の導入を促進することが好ましい。
鉄心に供することが可能であるが、積鉄心材に供する場
合は巻鉄心材に比較して細い微小歪の導入が必要なので
、EB照射条件は電流を小さく、走査間隔を広くするこ
とが好ましい。一方巻鉄心材に供する場合のEB照射条
件は、歪取り焼鈍を施しても特性の劣化がないように、
電流を若干大きく、走査間隔を狭くして鋼板表面での微
小歪の導入を促進することが好ましい。
(実施例)
尖旌拠工
(A) C: 0.043%、Si: 3.36%、S
e : 0.02%、Sb : 0.025%、Mo
: O,013%又は(B) C: 0.063%、S
t : 3.42%、Af : 0.025%、S :
0.023%、Cu : 0.05%、Sn : 0
.1%をそれぞれ含有した珪素鋼のフォルステライト質
被膜付仕上焼鈍板(0,20mm厚)およびさらにその
表面上に絶縁被膜を塗布した鋼板に、EB装置を用いて
圧延方向と直角方向へのびるEB照射を行った。なおE
B照射条件は加速電圧: 100kV、 加速電流:
0.5mA、スポット直径: 0.1n+m、スポッ
トの中心間隔: 0.3m+mおよび走査間隔:8II
Imで行い、微小圧入領域は鋼板裏面上の被膜にまでは
導入しなかった。
e : 0.02%、Sb : 0.025%、Mo
: O,013%又は(B) C: 0.063%、S
t : 3.42%、Af : 0.025%、S :
0.023%、Cu : 0.05%、Sn : 0
.1%をそれぞれ含有した珪素鋼のフォルステライト質
被膜付仕上焼鈍板(0,20mm厚)およびさらにその
表面上に絶縁被膜を塗布した鋼板に、EB装置を用いて
圧延方向と直角方向へのびるEB照射を行った。なおE
B照射条件は加速電圧: 100kV、 加速電流:
0.5mA、スポット直径: 0.1n+m、スポッ
トの中心間隔: 0.3m+mおよび走査間隔:8II
Imで行い、微小圧入領域は鋼板裏面上の被膜にまでは
導入しなかった。
処理後の製品に800°Cで2時間の歪取り焼鈍を施し
たところ、その磁気特性は第3表に示すように、比較材
(歪導入なし、歪取り焼鈍あり)に比べて鉄損がW+?
1511値で0.08〜0.1w/kg程度低減されて
いた。
たところ、その磁気特性は第3表に示すように、比較材
(歪導入なし、歪取り焼鈍あり)に比べて鉄損がW+?
1511値で0.08〜0.1w/kg程度低減されて
いた。
第3表
実j111
(A) C: 0.042 %、Si : 3.38
%、Se : 0.023 %、Sb : 0.0
26%、Mo : 0.012%又は(B) C:
0.061%、St : 3.44%、At : 0.
026 %、S : 0.028 %、Cu :
0.08%、Sn : 0.15%をそれぞれ含有した
珪素鋼のフォルステライト質被膜付仕上焼鈍板(0,2
0mon厚)およびさらにその表面上に絶縁被膜を塗布
した鋼板に、EB装置を用いて圧延方向と直角方向への
びるEB照射を行った。なおEB照射条件は、第5図に
従う走査にて加速電圧: 150kV、 加速電流:
1.5mA、スポット直径: 0.1mmまたは0
.7鴎−、スポットの中心間隔: 0.3mmおよび走
査間隔=81で行い、微小圧入領域を鋼板裏面上の被膜
にまで導入した。
%、Se : 0.023 %、Sb : 0.0
26%、Mo : 0.012%又は(B) C:
0.061%、St : 3.44%、At : 0.
026 %、S : 0.028 %、Cu :
0.08%、Sn : 0.15%をそれぞれ含有した
珪素鋼のフォルステライト質被膜付仕上焼鈍板(0,2
0mon厚)およびさらにその表面上に絶縁被膜を塗布
した鋼板に、EB装置を用いて圧延方向と直角方向への
びるEB照射を行った。なおEB照射条件は、第5図に
従う走査にて加速電圧: 150kV、 加速電流:
1.5mA、スポット直径: 0.1mmまたは0
.7鴎−、スポットの中心間隔: 0.3mmおよび走
査間隔=81で行い、微小圧入領域を鋼板裏面上の被膜
にまで導入した。
次いで処理後の製品に800″Cで2時間の歪取り焼鈍
を施したところ、その磁気特性は第4表に示すように、
比較材(歪導入なし、歪取り焼鈍あり)に比べて鉄損が
wttzs。値で 0.10〜0.14w/kg程度低
減されていた。
を施したところ、その磁気特性は第4表に示すように、
比較材(歪導入なし、歪取り焼鈍あり)に比べて鉄損が
wttzs。値で 0.10〜0.14w/kg程度低
減されていた。
第
表
(発明の効果)
この発明によれば、歪取り焼鈍によっても鉄損の劣化し
ない一方向性珪素鋼板およびこの珪素鋼板を安定して製
造する方法を提J共できる。
ない一方向性珪素鋼板およびこの珪素鋼板を安定して製
造する方法を提J共できる。
第1図(a)および(b)はこの発明の磁気特性向上の
メカニズムを示す模式図、 第2図は珪素鋼板に対する種々の方法による深さ方向の
透過力と幅方向の大きさを示す模式図である。 @1図 (a) 第3〜5図(a)はEB照射痕を示す模式図、第3〜5
図(b)はEB強さを示す模式図、第3〜5図(c)は
EB走査位置と時間の変化を示す模式図である。 ■−・・フォルステライト下地被膜 2−絶縁被膜 3・・・地鉄 特 許 出 願 人
メカニズムを示す模式図、 第2図は珪素鋼板に対する種々の方法による深さ方向の
透過力と幅方向の大きさを示す模式図である。 @1図 (a) 第3〜5図(a)はEB照射痕を示す模式図、第3〜5
図(b)はEB強さを示す模式図、第3〜5図(c)は
EB走査位置と時間の変化を示す模式図である。 ■−・・フォルステライト下地被膜 2−絶縁被膜 3・・・地鉄 特 許 出 願 人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、仕上焼鈍を施したフォルステライト質被膜付の一方
向性珪素鋼板にして、鋼板表面のフォルステライト質被
膜が地鉄に圧入された微小圧入領域を、鋼板の圧延方向
と直交する向きへ局所的に導入してなる低鉄損一方向性
珪素鋼板。 2、仕上焼鈍を施したフォルステライト質被膜上にさら
に絶縁被膜を形成した一方向性珪素鋼板にして、鋼板表
面のフォルステライト質被膜及び絶縁被膜が地鉄に圧入
された微小圧入領域を、鋼板の圧延方向と直交する向き
へ局所的に導入してなる低鉄損一方向性珪素鋼板。 3、微小圧入領域は、鋼板表面の圧入部が地鉄を通って
鋼板裏面上の被膜にまで及ぶものである請求項1または
2に記載の低鉄損一方向性珪素鋼板。 4、仕上焼鈍を経た一方向性珪素鋼板につき、その表面
上に、高電圧、低電流にて発生させた電子ビームを、圧
延方向と直交する向きへ局所的に照射し、鋼板表面上の
被膜を地鉄に圧入することを特徴とする低鉄損一方向性
珪素鋼板の製造方法。 5、仕上焼鈍を経た一方向性珪素鋼板につき、その表面
上に、高電圧、低電流にて発生させた電子ビームを、圧
延方向と直交する向きへ局所的に照射し、鋼板表面上の
被膜を地鉄に圧入するとともに、地鉄を鋼板裏面上の被
膜に圧入することを特徴とする低鉄損一方向性珪素鋼板
の製造方法。 6、電子ビームの照射径および照射間隔を変化させるこ
とを特徴とする請求項4または5に記載の製造方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1027578A JP2638180B2 (ja) | 1988-10-26 | 1989-02-08 | 低鉄損一方向性珪素鋼板及びその製造方法 |
US07/423,851 US5146063A (en) | 1988-10-26 | 1989-10-18 | Low iron loss grain oriented silicon steel sheets and method of producing the same |
EP89310893A EP0367467B1 (en) | 1988-10-26 | 1989-10-23 | Low iron loss grain oriented silicon steel sheets and method of producing the same |
CA002001213A CA2001213C (en) | 1988-10-26 | 1989-10-23 | Low iron loss grain oriented silicon steel sheets and method of producing the same |
DE89310893T DE68909000T2 (de) | 1988-10-26 | 1989-10-23 | Kornorientierte Siliziumstahlbleche mit niedrigen Wattverlusten und Verfahren zur Herstellung derselben. |
KR1019890015458A KR0134088B1 (ko) | 1988-10-26 | 1989-10-26 | 저철손입자방향성실리콘강시이트및그의제조방법 |
US07/636,913 US5223048A (en) | 1988-10-26 | 1991-01-02 | Low iron loss grain oriented silicon steel sheets and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26831988 | 1988-10-26 | ||
JP1-11819 | 1989-01-23 | ||
JP1181989 | 1989-01-23 | ||
JP63-268319 | 1989-01-23 | ||
JP1027578A JP2638180B2 (ja) | 1988-10-26 | 1989-02-08 | 低鉄損一方向性珪素鋼板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02277780A true JPH02277780A (ja) | 1990-11-14 |
JP2638180B2 JP2638180B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=27279596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1027578A Expired - Fee Related JP2638180B2 (ja) | 1988-10-26 | 1989-02-08 | 低鉄損一方向性珪素鋼板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2638180B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012017654A1 (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
WO2012017669A1 (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
WO2013046716A1 (ja) | 2011-09-28 | 2013-04-04 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
WO2013118512A1 (ja) * | 2012-02-08 | 2013-08-15 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板 |
WO2014203464A1 (ja) * | 2013-06-19 | 2014-12-24 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびそれを用いた変圧器鉄心 |
US9837968B2 (en) | 2012-10-22 | 2017-12-05 | Qualcomm Incorporated | Amplifier circuits |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58144424A (ja) * | 1982-02-19 | 1983-08-27 | Kawasaki Steel Corp | 低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法 |
JPS63130747A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-02 | Kawasaki Steel Corp | 磁気特性の優れた一方向性けい素鋼板およびその製造方法 |
JPS63186826A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-02 | Kawasaki Steel Corp | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
-
1989
- 1989-02-08 JP JP1027578A patent/JP2638180B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58144424A (ja) * | 1982-02-19 | 1983-08-27 | Kawasaki Steel Corp | 低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法 |
JPS63130747A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-06-02 | Kawasaki Steel Corp | 磁気特性の優れた一方向性けい素鋼板およびその製造方法 |
JPS63186826A (ja) * | 1987-01-28 | 1988-08-02 | Kawasaki Steel Corp | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012017654A1 (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
WO2012017669A1 (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
JP2012036445A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-23 | Jfe Steel Corp | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
JP2012052232A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-03-15 | Jfe Steel Corp | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
US9536658B2 (en) | 2010-08-06 | 2017-01-03 | Jfe Steel Corporation | Grain oriented electrical steel sheet and method for manufacturing the same |
CN103069034A (zh) * | 2010-08-06 | 2013-04-24 | 杰富意钢铁株式会社 | 方向性电磁钢板及其制造方法 |
KR20140061546A (ko) | 2011-09-28 | 2014-05-21 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 방향성 전기 강판 및 그 제조 방법 |
WO2013046716A1 (ja) | 2011-09-28 | 2013-04-04 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
US10011886B2 (en) | 2011-09-28 | 2018-07-03 | Jfe Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and manufacturing method thereof |
JP2013159846A (ja) * | 2012-02-08 | 2013-08-19 | Jfe Steel Corp | 方向性電磁鋼板 |
WO2013118512A1 (ja) * | 2012-02-08 | 2013-08-15 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板 |
CN104105808A (zh) * | 2012-02-08 | 2014-10-15 | 杰富意钢铁株式会社 | 取向性电磁钢板 |
CN104105808B (zh) * | 2012-02-08 | 2017-02-22 | 杰富意钢铁株式会社 | 取向性电磁钢板 |
US9761361B2 (en) | 2012-02-08 | 2017-09-12 | Jfe Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet |
US9837968B2 (en) | 2012-10-22 | 2017-12-05 | Qualcomm Incorporated | Amplifier circuits |
WO2014203464A1 (ja) * | 2013-06-19 | 2014-12-24 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびそれを用いた変圧器鉄心 |
US10559410B2 (en) | 2013-06-19 | 2020-02-11 | Jfe Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and transformer iron core using same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2638180B2 (ja) | 1997-08-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20220170131A1 (en) | Method of manufacturing low iron loss grain oriented electrical steel sheet | |
KR101421387B1 (ko) | 방향성 전기 강판 및 그 제조 방법 | |
EP0202339B1 (en) | Method of manufacturing unidirectional electromagnetic steel plates of low iron loss | |
JP6157360B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP3399991B2 (ja) | 低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
JPH07268474A (ja) | 鉄損の低い方向性電磁鋼板 | |
MX2012015155A (es) | Metodo para la produccion de chapa de acero magnetica de grano orientado. | |
KR0134088B1 (ko) | 저철손입자방향성실리콘강시이트및그의제조방법 | |
JPH07320922A (ja) | 鉄損の低い一方向性電磁鋼板 | |
JP4331900B2 (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法と製造装置 | |
US11459633B2 (en) | Low-iron-loss grain-oriented electrical steel sheet and production method for same | |
JPH02277780A (ja) | 低鉄損一方向性珪素鋼板及びその製造方法 | |
JPH03260020A (ja) | 電子ビーム照射による一方向性けい素鋼板の鉄損低減方法 | |
JPH0432517A (ja) | 低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
JP3463314B2 (ja) | 磁気特性に優れた電磁鋼板の製造方法 | |
JPH03260022A (ja) | 電子ビーム照射による一方向性けい素鋼板の鉄損低減方法 | |
JPH05179355A (ja) | 低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
JPH07320921A (ja) | 鉄損の低い方向性電磁鋼板 | |
JPH0565543A (ja) | 歪取り焼鈍を施しても磁気特性の劣化がなくかつ幅方向に均一の特性を有する低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
JPH03287725A (ja) | 低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
JPH04231415A (ja) | 低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 | |
JPH04214819A (ja) | 歪取り焼鈍を施しても磁気特性が劣化しない低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法及び低鉄損一方向性けい素鋼板の連続製造設備列 | |
JPH05311241A (ja) | 低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法および電子ビーム照射装置 | |
JPH0641640A (ja) | 低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JPH03104823A (ja) | 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |