JPH0226003A - 耐食性に優れた希土類永久磁石とその製造方法 - Google Patents

耐食性に優れた希土類永久磁石とその製造方法

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JPH0226003A
JPH0226003A JP63175214A JP17521488A JPH0226003A JP H0226003 A JPH0226003 A JP H0226003A JP 63175214 A JP63175214 A JP 63175214A JP 17521488 A JP17521488 A JP 17521488A JP H0226003 A JPH0226003 A JP H0226003A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、R,Fe、Bを主成分とする永久磁石合金に
係り、特に耐食性に優れ、磁石特性を改善した希土類永
久磁石合金とその製造方法に関するものである。
[従来の技術〕 一般に、R−Fe−B系永久磁石合金は、所定の組織か
ら成るインゴットを粉砕し粉末冶金法によ・り焼結して
得られる。従来の希土類磁石であるSm−Co系磁石に
比較して高い磁気特性を有する。
しかしながら、R−Fe−B系磁石合金は、この金属組
成中に極めて酸化し易いNd−Fe固溶体相を含有して
いる為、磁気回路等の装置に組み込んだ場合、通常の環
境条件下でもSm−Co系磁石に比べ磁石の酸化による
特性の劣化、及びそのばらつきも大きい、更に、磁石か
ら発生した酸化物の飛散による周辺部への影響も引き起
こす。
このため得られた磁石にめっきを施し耐食性を向上させ
る試みが、特開昭49−86896号公報、あるいは特
開昭60−63901号公報などに提案されているが、
この場合磁石製造中に発生ずる酸化を防ぐことは困難で
ある。
従来、水溶性めっき浴にて電解めっきを行うと、素地で
あるNd−Fe−B磁石表面にめっきは可能であるが、
めっき膜と素地との間が密着性が不十分であり、ふくれ
、剥離等の欠陥をしばしば生ずることがあり、金属組織
中で極めて酸化され易いNd−Fe固溶体相より使用中
に錆が発生し耐食性に優れためっき膜を得ることが出来
ない問題点を有している。
又、本系磁石合金は、加工された製品が小物とか薄物(
例えば厚みが3rm以下)のようなものの場合磁石特性
が著しく劣化する現象が生、しる。
これは加工された磁石表面でR2Fe+4B相が、保磁
力発生のために不可欠なN d −rich相に包まれ
ていない状態になっているため、表面に露出しているR
2Fe+、B相の磁化は低い磁場で反転するために生じ
ると考えられる。即ち磁石表面層では保磁力が著しく低
下した状態となっている故に、磁石製品が小物あるいは
薄物の場合にはこの磁石表面の保磁力低下か磁石体全体
の特性に著しく影響し、減磁曲線の角型等を劣化させる
ことが報告されている(特開昭61−281850号公
報)。
この対策として加工したR−Fe−B磁石表面へR又は
R−T合金をスパッタ、蒸着等により磁石表面にコーテ
ィングしなり、さらに熱処理を加えることにより表面の
保磁力の回復を図る方策も報告されている。(特開昭6
1−281850号公報、特開昭62−192566号
公報)。
[発明が解決しようとする課題] しかし、これらスパッタ等の方法では量産性が著しく低
く、しかもコスト高となる問題点を有している。
さらにこのスパッタ方法により表面の保磁力を回復させ
ても、磁石表面は大気中で極めて活性であるRを主成分
としているため、その上に耐酸化性の被膜をコーティン
グする必要がある。
この耐酸化性の被膜を形成するにも前述の様に磁石表面
がRを主成分とする大気中にて極めて活性な層であるた
め、その取り扱いが困難であり、通常のコーティングで
は、その工程中に磁石表面が酸化してしまうため、コー
ティング被膜が剥離し、耐食性が悪くなり、さらには磁
石特性の劣化を生じる。即ち、磁石特性の改善と耐食性
を向上させる方策としては適していないものであった。
そこで本発明は、上記した欠点を、解決するためのもの
でありその技術課題は、あらかじめRイオン又はFeイ
オンを加えためっき液中にて電解めっきを行うことによ
り磁石表面のめっき膜中にR1Fe元索が含有し、めっ
き膜内の表面と内部との間にR及びFeの濃度分布をも
っためっき膜が形成され素地との密着性の良いかつ耐食
性に優れ、又めっき後熱処理することにより特に小物、
薄物等での保磁力の向上した希土類永久磁石合金及びそ
の製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明によれば、R−Fe−B(但しRはYを含む希土
類元素)系磁石合金表面に金属被膜を有する希土類磁石
において、上記金属被膜は電着により形成した耐食性を
付与する金属よりなる電解めっき膜を含み、上記電解め
っき膜はR又はFeを含むことを特徴とする耐食性に優
れた希土類永久磁石が得られる。
本発明によれば、R−Fe−B(但しRはYを含む希土
類元素)系表面に、耐食性を付与するための電解めっき
膜をアルカリ性浴又は酸性浴より電着させる耐食性に優
れた希土類永久磁石のIl!遣方法において、上記アル
カリ性浴又は酸性浴は、Rイオン又はFeイオンの少く
とも1種を含むことを特徴とする耐食性に優れた希土類
永久磁石の製造方法が得られる。
ここで、本発明においては、上記Rイオン又はFeイオ
ンの少くとも1種は、0 、01  not/J〜1 
、 Omol/Jの範囲内の濃度であることが望ましい
ここで、本発明の耐食性に優れた希土預永久磁石の製造
方法において、上記電解めっき膜を電着した後、400
℃〜1100℃にて熱処理することが望ましい。
通常は金属塩を溶解した水溶液めっき浴にて電解めっき
を行うと、素地であるNd−Fe−B磁石合金とめつき
膜との密着性があまり良くない。
この場合ふくれ剥離等の欠陥がしばしば生じ、金属組織
中で極めて酸化され易いNd−Fe固溶体相より使用中
に錆が発生し、通常の環境条件下でもその部分より酸化
が進行する。
この様に素地とめつき膜との密着性の悪い事が大きな問
題となっている0通常密着性を向上させるために、表面
状態、前処理工程、めっき条件等の検討を行っているが
その効果は十分とは言えない、又、小物や薄物に加工し
た場合の磁石特性の劣化も大きな問題であった。そこで
本発明では使用するめつき液中にあらかじめRイオン又
はFeイオンを含有しておくと、電解めっき中にめっき
用金属イオンはもちろんのこと溶液中のR,Feイオン
もカソード上に析出し、めっき膜中に含有される。この
時、めっき液中のR,Feイオンは消費され、アノード
側より補給されないめで、溶液のイオン濃度は減少して
くる。その結果、R9Fe元素が磁石表面から、めっき
層表面に向ってしだいに減少する濃度分布をもっためっ
き膜の形成が可能となり、このめっき膜は素地との密着
性が非常に良く、R,Feイオン添加の効果が顕著に見
られた。
R,Feイオンを含む水溶液電解めっきに用いられる金
属は磁石中に含まれる希土類金属より酸化されにくい金
属であれば何でもよく、一般的に酸性電解めっき浴とし
てN1めつきではワット浴、Cuめっきでは硫酸銅浴、
Snめっきでは硫酸浴等が考えられる。一方アルカリ性
電解めっき浴として、Cuめっきではビロリン酸銅めっ
き浴、Snめっきではナトリウム浴あるいはカリウム浴
等があげられる。
これら水溶液電解めっき洛中に含まれているRイオン又
はFeイオンの量は0.01  mot/j〜i  n
of/jの範囲が望ましく、0.01 1ol/J以下
では、めっき膜中にR,Fe元素が含有する址が少ない
為、上記の効果が見られない、又11ol/j以上では
Ndがめつき層中に多く含有する為、めっき層そのもの
の耐食性が悪くなる為、0.01〜10 nof/jの
範囲が望ましい。
めっき膜の厚さは、0.1(μm)以下ではめっきが十
分に行なわれない為、磁石表面での酸化が進行し、また
10(μm)以上では、磁石の単位体積当りに含まれる
非磁性部分が多くなり、磁石の磁気性能が低下する為、
めっき膜の厚さは0.1〜10(μm)の範囲が望まし
い。
電解めっきを行う時、通常、試料をめっき液に浸漬した
後、電圧を印加して電解めっきを行うのが常である。し
かしながらNd−Fe−B磁石試片をめっき浴に浸漬し
、そのままにしておくと、Nd−Fe固溶体相が溶は出
し腐食してしまう。
そこで最初から所定の電流密度となるよ、うに電圧を印
加しながら、めっき液に浸漬し電解めっきを行うと密着
性の良いきれいなめつき膜が形成される。
さらに本発明においてめっき後熱処理を施ずと、磁石表
面とめつき膜との密着性が良くなったり、磁石特性が向
上することができる。これは熱処理により原子の拡散が
起きる為である。熱処理温度は400℃〜1100℃の
範囲が望ましく、400℃より低い温度では拡散が十分
に起こらず、1100℃以上では焼結体中の粒成長が起
こり磁石特性の劣化を招く為である。
本発明によれば、あらかじめRイオン又はFeイオンを
含んだめっき浴を用いて電解めっきを行う事により磁石
表面に密着性の良く且つ耐食性に優れためっき膜が形成
される。さらに熱処理を加える事により磁気特性の向上
した実用上非常に有益な磁石を得ることが可能となった
以下本発明の実施例について説明する。
[実施例] 実施例1 粉末冶金法によって得られた33wt%Nd−1、Ow
t%B−Febalの組成をもつ焼結体をlX7X10
(+m+)の大きさに加工し試料とした。
第1表に示ずビロリン酸銀めっき浴(ストライク浴)に
、Q、 l  lot/、11のNdイオン、Feイオ
> ’/8 ?rf、 t 、?+“7′・     
   以下依日以下余日 アノード側にCu板、カソード側にNd−FeB焼結体
試片とし、25℃の浴温中にて電流密度1 、 OA/
dn”で30分間Cuめっきを行った。
上記条件下で約10μmの厚みをもったCuめっき膜が
Nd−Fe−B磁石表面にめっきされた。
この時素地とC’uめっきとの密着性も非常に良く、の
りの良いCuめっき膜が得られた。
このめっき膜内の断面をE、D、X (エネルギー分散
型X線分析装置)により組成分析を行った。
その結果を第2表に示す。
第   2   表  (wt%) 果を第3表に示した。
以下余日 Nd−Fe−B磁石表面近くのめつき膜にはNd、Fe
が曲より多く、めっき膜内にはNd。
Feの濃度分布が見られる。
密着力試験として試片に外力(摩擦、折り曲げ。
衝撃等)を加えた時の影響を定性的に確かめた結次にめ
っきした試料を400〜b 0.511rの条件下で熱処理を施した。その時の磁気
特性(IHc)の結果を第4表に示した。
第   4   表 500℃〜800℃X0.511rの熱処理条件下で磁
気特性(IHc)の向上が見られ、特に600℃xo、
5Hrの時 IHc   12 、  O(kOe)得
られた。
さらにNd−Fe−B磁石表面にCu下地めっき後電解
Niめつき処理を施した。これら試験片を60℃×95
%湿度の恒温恒温の条件下で1500時間耐食性試験を
行った時の結果を第5表に示す。
本発明による試験片は赤さび、剥離、ふくれ等の欠陥を
生ずることなく、非常に耐食性に優れていることが判明
した。
実緒例2 第6表に示すワット浴にッケルめっき浴)に0、1  
l1al/flのNdイオン、Feイオン溶液を加えた
アノード側にNi板、カソード側にNd−FeB焼結体
試片とし50℃の浴温中にて電流密度4.0^/ dm
”で10分間Niめっきを行った。
上記条件下で約10μmの厚みをもったNiめつき膜が
Nd−Fe−B磁石表面にめっきされた。
素地とNiめっきとの密着性は非常に良く、密着力試験
でもふくれ、剥離等の欠陥は無かった。
このめっき膜内の断面をE、D、Xにより組成分析を行
った。その結果を第7表に示す。
第   7   表  (wt%) Nd−Fe−B磁石表面近くのめつき膜にはNd、Fe
が他より多く、めっき膜内にNd。
Feの濃度分布が見られた。
次にめっきした試料を600℃xo、511rの条件で
熱処理を施した。その結果r Hcが8 (kOe)か
ら11 、5  (koe)へ向上した。
又、60°CX95%湿度の恒温恒温の条件下で150
0時間爾食性試験を行ワたところ、赤さび、ふくれ、剥
離等の変化は何ら観察されなかった。
[発明の効果] 以上説明した様に、本発明の耐食性を有する希土類永久
磁石及びその製造方法においては、あらかじめRイオン
又はFeイオンを含んだめっき浴を用いて水溶液電解め
っきを行うことにより磁石表面のめっき膜中に、R,F
e元素が含有し、めっき膜内の内部と表面との間にR,
Feの濃度分布をもっためっき膜が形成される。このめ
っき膜は素地との密着性が良く、かつ耐食性に優れた磁
石を得ることが可能となった。更にめっき後熱処理を總
すことにより、磁石特性の回復を図ることができ特に小
物、薄物での保磁力の向上を促すことができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.R−Fe−B(但しRはYを含む希土類元素)系磁
    石合金表面に金属被膜を有する希土類永久磁石において
    、 上記金属被膜は電着により形成した耐食性を付与する金
    属よりなる電解めっき膜を含み、上記電解めっき膜はR
    又はFeを含むことを特徴とする耐食性に優れた希土類
    永久磁石。
  2. 2.R−Fe−B(但しRはYを含む希土類元素)系磁
    石合金表面に、電解めっき膜をアルカリ性浴又は酸性浴
    より電着させて、耐食性を付与する耐食性に優れた永久
    磁石の製造方法において、上記アルカリ性浴又は酸性浴
    は、Rイオン又はFeイオンの少くとも1種を含むこと
    を特徴とする耐食性に優れた希土類永久磁石の製造方法
JP63175214A 1988-07-15 1988-07-15 耐食性に優れた希土類永久磁石とその製造方法 Expired - Fee Related JP2617118B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1081390A2 (en) 1999-09-03 2001-03-07 Amiteq Co., Ltd. Self-induction-type stroke sensor
US6512360B1 (en) 1999-03-15 2003-01-28 Amiteq Co., Ltd Self-induction-type stroke sensor
US7473343B2 (en) 2003-03-05 2009-01-06 Tdk Corporation Method of manufacturing rare-earth magnet, and plating bath
JP2011205022A (ja) * 2010-03-26 2011-10-13 Tdk Corp 希土類焼結磁石及びその製造方法、並びに回転機

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