JPH02222557A - 真空ピンセット - Google Patents

真空ピンセット

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Publication number
JPH02222557A
JPH02222557A JP1044310A JP4431089A JPH02222557A JP H02222557 A JPH02222557 A JP H02222557A JP 1044310 A JP1044310 A JP 1044310A JP 4431089 A JP4431089 A JP 4431089A JP H02222557 A JPH02222557 A JP H02222557A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
switch
vacuum
handle
suction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1044310A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinya Soeda
真也 添田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP1044310A priority Critical patent/JPH02222557A/ja
Publication of JPH02222557A publication Critical patent/JPH02222557A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体ウェハの吸着、離脱を行う真空ピン
セットの改良に関するものである。
〔従来の技術〕
従来のこの種の真空ピンセットの構造を第4図を用いて
説明する0図において、1は真空ピンセットをつかむ取
手、2はこの取手の適宜個所(操作し易い個所)に配置
された真空の0N−OFF切換え用のスイッチ、3はウ
ェハ裏面に密着する吸着部で、その表面には吸着溝4が
めぐらされており、この吸着部3と上記取手1とはアー
ム5で連結されている。なお上記吸着部3及びアーム部
5は、ウェハカセット内に並べられた間隔の狭いウェハ
の隙間に挿入するために取手部1より細く形成されてい
る。6は吸着溝にて真空引きを行うための真空チューブ
である。
次に第5図を用いてウェハの吸着動作について説明する
上記スイッチ2は、スイッチを押したままの状態が真空
ON状態であり、スイッチを離すとOFFとなり、吸着
が切れる仕組になっている。従って図のようにスイッチ
を押したまま吸着部3をウェハ7の裏面に密着させるこ
とでウェハを吸着し、そのままウェハを持ちあげ、次に
ウェハ離脱時にはスイッチを離すものである。
ウェハの吸着炭は、吸着部の大きさあるいは吸着溝の面
積に関係し、重量の大きいウェハを吸着させるには、吸
着部を大きくし、真空度を増やさねばならない0通常6
″φウェハでは、吸着部が39s X 26mで、真空
度10cmHHの場合、保持力は250gであり、これ
が8″φウエハに対応するには、吸着部が35m X 
32Mで、真空度も40cmHg必要となる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の真空ピンセットは以上のように構成されており、
ウェハの大きさが小さい(5″φまで)場合は良いが、
ウェハが大口径(8″φ等)で重量が重い場合、吸着部
が1点であるため、ウェハ吸着後、非常に不安定で、吸
着中にウェハを落下させる恐れがある。また吸着部を大
きくし、吸着炭を増やそうとしても、形状が大きく操作
性が悪くなるとともに、ウェハへの吸着時の接触が困難
になるという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、吸着時は従来と同様の操作性を有し、しかも
吸着後は安定してウェハを移動できる真空ピンセットを
得ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係る真空ピンセットは、1つの取手及びスイ
ッチに対し、複数の吸着部を具備したものである。
〔作用〕
この発明における真空ピンセットは、吸着部が複数ある
ため、1度にウェハを吸着する接触部、つまり支点が複
数あることになるので、面積、重量が大きいウェハでも
安定して吸着し移動ができる。
〔実施例〕
以下この発明の一実施例を図について説明する。
第1図において、1.2.6は第4図のものと同様であ
るが、取手1に連結されるアームが取手1の付は根より
二叉5a、5bの複数に分岐されており、その各々の先
端に吸着溝4a、4bを有する吸着部3a。
3bが設けられている。またスイッチ2は従来同様1つ
で、スイッチを押した状態で上記の吸着部3a。
3bが同時に吸引し、スイッチを離すと、真空がOFF
になるようになっている。
次にウェハの吸着動作を第2図を用いて説明する。ウェ
ハ7への接触動作、離脱動作及びスイッチの使い方等は
従来の真空ピンセットと同じであるが、本実施例の場合
、図のように吸着部のウェハへの接触箇所が2個所であ
り、双方の吸着部がウェハ裏面に密着した時のみウェハ
を吸着でき、その場合、従来の真空ピンセットと同じ大
きさの吸着部であっても、より安定してウェハを移動す
ることができる。
なお上記実施例では、アーム部及び吸着部が2つの場合
を示したが、それ以上の吸着部をもつようにしても良い
また上記実施例では、2本のアームを二叉の形状にし、
その各々の先端に吸着部を設けたが、第3図に示したよ
うに、1本のアームに複数の吸着部を設けた形状にして
も良い。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、1つの取手とスイッチ
に対し、複数の吸着部を設けたので、大きなウェハを取
扱う場合でも、吸着部の形状を大きくする必要がなく、
操作性も良く、しがち吸着後非常に安定してウェハを移
動できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例に係る真空ピンセットを
示す外!lI図、第2図はその動作説明図、第3図はこ
の発明の他の実施例に係る真空ピンセットを示す外a図
、第4図は従来の真空ピンセットを示す外観図、第5図
はその動作説明図である。 図中、1は取手、2はスイッチ、3a、3bは吸着部、
4a、4bは吸着溝、5a、5bはアーム、6は真空チ
ューブである。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体ウェハの吸着及び離脱を行う真空ピンセットにお
    いて、1つの取手及びスイッチに対して複数の真空吸着
    部を有することを特徴とする真空ピンセット。
JP1044310A 1989-02-23 1989-02-23 真空ピンセット Pending JPH02222557A (ja)

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JP1044310A JPH02222557A (ja) 1989-02-23 1989-02-23 真空ピンセット

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5833288A (en) * 1996-07-16 1998-11-10 Nec Corporation Vacuum suction forceps
GB2470035A (en) * 2009-05-06 2010-11-10 Belron Hungary Kft Zug Branch Elongate Suction Lifting Device
JP2012043974A (ja) * 2010-08-19 2012-03-01 Sumco Corp 半導体ウェーハ吸着保持装置

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