JPH0217603A - チップ部品及びその製造方法 - Google Patents

チップ部品及びその製造方法

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JPH0217603A
JPH0217603A JP63168246A JP16824688A JPH0217603A JP H0217603 A JPH0217603 A JP H0217603A JP 63168246 A JP63168246 A JP 63168246A JP 16824688 A JP16824688 A JP 16824688A JP H0217603 A JPH0217603 A JP H0217603A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
electrode
nickel
tin
heat treatment
Prior art date
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Pending
Application number
JP63168246A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Shindo
泰宏 進藤
Seiji Tsuda
清二 津田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH0217603A publication Critical patent/JPH0217603A/ja
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  • Details Of Resistors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電子機器の軽量化、薄形化、小型化に寄与する
電子回路部品の一種であるチップ部品及びその製造方法
に関するものである。
従来の技術 従来この種のチップ部品は、第6図に示すような構成で
あった。第6図は従来例として角形チップ抵抗器の断面
図を示しており、1はガラス被覆膜、2はアルミナ系絶
縁基板、3は抵抗体、4は銀または銀系合金電極膜、5
は電気メッキ法で析出させたニッケル膜、6は電気メッ
キ法で析出させたスズまたはスズ/鉛系はんだ膜であり
、特開昭63−15401号公報にも関連技術が記載さ
れている。
発明が解決しようとする課題 このような従来の構成では、第3図の中間電極である電
気メッキ法で析出させ友ニッケル膜6が電気メッキ処理
後の熱処理が実施されていない構造になっている。この
ため、電気メッキ法で析出させたニッケル膜は一般に歪
を持っていることが常識になっており、従来のチップ部
品はメッキ時に発生した歪を保持したままになっている
。当該チップ部品全はんだ付は等で急激に熱を加えた場
合、上記ニッケル膜に応力が働きニッケル膜と銀系合金
膜および銀系合金膜とアルミナ系絶縁基板との間に密着
性全阻害する力が働き、電極強度の劣化全まねき、はん
だ付は信頼性を落すという問題点があった。
本発明は、このような問題点を解決するもので、チップ
部品の電極部のニッケルメッキ層の歪を除去し、電極密
着強度を向上させ、はんだ付は信頼性を確保することを
目的とするものである。
課題を解決するための手段 この問題を解決するために本発明は、チップ部品の電極
部のニッケルメッキ膜を熱処理するため、二、ケルメッ
キ処理後または全電極部の形成が完了してからそれらの
チップ部品を100℃〜550°Cで熱処理を行いニッ
ケルメッキ膜の歪を除去した構造を有するものである。
作用 この構成によれば、チップ部品の電極部のニッケルメッ
キ膜が100℃〜tstso℃で熱処理され、メッキ時
の歪が除去されているため、はんだ付は等急激な熱が加
えられても歪のための応力が発生せず電極の密着強度が
劣化することなく、しかもはんだ付は後の長期にわたる
端子強度およびはんだ付は信頼性の向上につながること
となる。
実施例 以下、本発明の一実施例について添付図面を参照しなが
ら説明する。
第1図は本発明の一実施例による角形チップ抵抗器の斜
視図であり、第2図は第1図のA−B線より見た断面図
である。これら第1図および第2図において従来例と同
一箇所には同一番号を付して説明は省略する。
第1図および第2図において、6はスズまたはスズ/鉛
系はんだ膜で7は銀系合金下地電極膜4上に電気メッキ
法で析出させたニッケルメッキ膜でしかも熱処理をほど
こしたニッケル膜である。
このように本発明のチップ抵抗器が従来例と異なるとこ
ろは、熱処理がほどこされた中間電極であるニッケル膜
を有し、電極部の最外層電極膜にスズまたはスズ/鉛系
はんだ膜で被覆された構造を有する点である。
次に上記チップ抵抗器の具体的な作成手段について一例
を説明する。
今、銀系合金電極膜4を備えたアルミナ系絶縁基板2上
に抵抗体3として導電性グレーズ膜を2071m、該抵
抗体を保護するためのガラス被覆膜1を3Qμm1電気
メッキニッケル膜5を6μm1最外層膜としてスズ:鉛
=90 : 10の電気メッキスズ/鉛系はんだ膜7μ
mのものを試作し、それを120°C30分間、160
℃10分間、および190°C,240℃、300℃で
それぞれ3秒間還元雰囲気中で熱処理を行い、また熱処
理温度は300℃一定に保ち熱処理時間を0秒、3秒。
6秒、9秒とそれぞれ変化させ上記と同じく還元雰囲気
中で熱処理を行った。これにより電極部の中間電極であ
る電気ニッケル膜の熱処理かほどこされ、第2図の中間
電極である熱処理済の電気メ、キによるニッケルメッキ
膜7を形成することができた。
このようにして得られたチップ抵抗器を第3図に示す引
張り強度試験機を使用して電極の引張り強度を測定した
なお、上記試験機の使用方法は、チップ抵抗器を固定電
極8と可動電極9に橋渡し状に置きチップ抵抗器の両端
面電極部分でのみはんだ付け11を行い、可動電極を矢
印方向12にストロングゲージを吹付けて引張り電極部
分が破壊する強度を測定する方法である。
第4図および第5図には電気メッキニッケル膜の熱処理
温度と電極強度の関係および熱処理時間と電極強度の関
係を上記試験方法で測定した値をそれぞれ示している。
これらの結果より熱処理温度は高い方が、また熱処理時
間は長い方が電極強度はより向上する傾向にあることが
解る。
また、上記実施例におけるニッケルメッキ膜以外の電極
部の構成材料は、特に銀、銀系合金、スズおよびスズ/
鉛系はんだに限定されるものではない。
なお、ニッケルメッキ膜の膜厚は1μm〜30μm熱処
理温度は1熱処理−560℃であることが好寸しい。捷
ず、ニッケルメッキ膜が1μm以下であれば、膜の歪応
力が小さくまたニッケルメッキ膜は銀系合金膜4のはん
だくわれ防止のためにあり1μm以下であればはんだく
われ防止の役目をはたさなくなり上記両理由より、無意
味である。
また膜厚が30μmJ−J、上の場合はニッケルメッキ
処理中に歪が累積され、応力が大になりすぎ、熱処理を
実施する以前に電極がはがれることがあり、電極として
の機能を保持できなくなる恐れがある。
また熱処理温度が100℃以下の場合はニッケルメッキ
膜の歪を除去するのに長時間を要し、実際の生産工法と
しては不可能であり、560℃を越える場合は、抵抗体
や被覆膜が破壊されてしまい、チップ部品としての性能
全保持できなくなる恐れがある。この熱処理温度は25
0”C〜350℃で、時間は3〜6秒が実際には使い易
く、効果も大である。
発明の効果 以上のように構成された本発明のチップ部品によれば、
次の通りの効果が得られる。
(1)  ニッケルメッキ膜を熱処理した電極は、熱処
理のない電極よりも、電極密着強度が向上しプリント基
板上への実装およびはんだ付時の熱ストレスに耐え、は
んだ付時の電極破壊が防止できる。
?)ニッケルメッキ膜を熱処理した電極は、ニッケル膜
の歪が除去されているため、はんだ付は後のプリント基
板上の電子回路に対する長期間の電気動作状態において
も電極に応力がかからず電極部とはんだ付は部の長期の
接合信頼性が向上する。
(3)電極最外層部のスズまたはスズ/鉛系はんだをほ
どこした後にニッケルメッキ膜の熱処理を行う場合で、
しかもそれら電極最外層材料の融点以上の温度で還元雰
囲気中で処理を行った場合、スズまたはスズ/鉛系はん
だが溶融し、表面が非常に滑らかになるとともに溶融さ
れた金属内部の不純物も外部に押し出され、きれいな電
極が形成できる。したがって、熱処理後洗浄を行った場
合、表面の酸化、異物の不着およびガス類の吸着が減少
し、長時間の保存に対してもはんだ付信頼性が確保でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である角形チップ抵抗器の斜
視図、第2図は同第1図のムーB線の断面図、第3図は
角形チップ抵抗器の電極引張り強度試験機の概略図、第
4図は電極のニッケルメッキ層の熱処理温度と電極強度
の関係図、第5図は熱処理温度3oo℃一定で処理時間
と電極強度の関係図、第6図は従来の角形チップ抵抗器
の断面図である。 1・・・・・ガラス被覆膜、2・・・・・・アルミナ系
絶縁基板、3・・・・・・抵抗体、4・・・・・・銀系
電極膜、6・・・・・・はんだまたはスズ膜、7・・・
・・・ニッケルメッキ膜。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名第 第 第 図 図 図 ? 6・− 万うスゼ!%1 アルミナ系絶標墓極 七伍体 銀系を松脂 にベア:! 7:tまズス循 舵処理清二ノゲルメッキ噺 第 図 芝処理温贋 (°C) 第 図 臥処 理 時 間 (4u:。)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電極に1μm〜30μmのニッケル系のメッキ膜
    を有し、かつそのニッケルメッキ膜を100℃〜550
    ℃で熱処理を行ったことを特徴とするチップ部品。
  2. (2)電極が銀または銀系合金膜−ニッケル膜,ニッケ
    ル膜−スズ膜,ニッケル膜−スズ/鉛系はんだ膜の順に
    2層構造に構成された請求項1記載のチップ部品。
  3. (3)電極が銀または銀系合金膜−ニッケル膜−スズ/
    鉛系はんだ膜の順に3層構造に構成された請求項1記載
    のチップ部品。
  4. (4)電極の最下層または中間に電極膜厚1μm〜30
    μmのニッケルメッキ膜を形成した後、100〜550
    ℃で熱処理を実施し、引続いて最外層にスズまたはスズ
    /鉛系はんだ膜を施したチップ部品の製造方法。
JP63168246A 1988-07-06 1988-07-06 チップ部品及びその製造方法 Pending JPH0217603A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04147601A (ja) * 1990-10-11 1992-05-21 Mitsubishi Materials Corp 電子部品の電極構造
JPH0582390A (ja) * 1991-03-22 1993-04-02 Vitramon Inc 2端子部品
EP0590989A1 (en) * 1992-10-01 1994-04-06 Ngk Insulators, Ltd. Brazing method using patterned metallic film having high wettability with respect to low-wettability brazing metal between components to be bonded together

Cited By (4)

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