JPH02146133A - 光磁気ディスク媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 コンピュータシステムにおけるファイル装置として使用
される、光磁気ディスク装置の、光磁気ディスク媒体に
関し、 光磁気ディスク同士の接着とハブ接着を同時に行なえる
ようにすることによって、組み立て作業時間を短縮する
と共に、仮止め跡の残らない、光磁気ディスク媒体を実
現することを目的とし、光磁気ディスクを、駆動軸が挿
入されるハブで挟んで成る光磁気ディスク媒体において
、ハブの光磁気ディスクと対向する面に、接着剤溝と、
はみ出し吸収溝を設けた構成とする。

〔産業上の利用分野］ コンピュータシステムにおけるファイル装置として使用
される、光磁気ディスク装置の、光磁気ディスク媒体、
特に光磁気ディスクとハブとの固定構造に関する。

〔光磁気ディスク媒体の概要〕

第５図は、光磁気ディスク媒体の全容を示す斜視図であ
る。

光磁気ディスク媒体は、記録媒体である光磁気ディスク
１７と、光磁気ディスク装置に該光磁気ディスク媒体を
取り付けた際に、該光磁気ディスク媒体の駆動軸が挿入
される２つのハブ２２ａと２３ａから構成されている。

光磁気ディスク１７は、ディスク面の上下面を記録画と
して使用できるように、２枚の光磁気ディスクを貼り合
わせてあり、更に２個のハブ２２ａ。

２３ａで挟み込んで成るものである。

次に、この光磁気ディスク媒体の製造プロセスを説明す
る。

第６図は、光磁気ディスク媒体の製造プロセスを説明す
る工程図である。製造プロセスは、大別して３つのプロ
セスから成り、基板プロセス、成膜プロセス、組み立て
プロセス、を経て光磁気ディスク媒体が完成する。

第７図は、２　Ｐ　（ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）転
写法による、基板プロセスを説明する図である。第６図
の工程図に沿って、該基板プロセスを説明する。

まず、強化ガラス基板１の表面に、ポリッシュ工程２で
ポリッシュを行い、その後、該強化ガラス基板を洗浄工
程３で洗浄する。

次に、スタンバ−４と強化ガラス基板１の間に、２　Ｐ
　（ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）樹脂５を充填して成
型し、紫外線１５を照射する。２Ｐ樹脂は、紫外線が照
射されると、硬化する性質の樹脂であるので、２Ｐ樹脂
硬化後にスタンバ−４を引き離すと、２Ｐ転写工程６が
完了し、強化ガラス基板１に２Ｐ樹脂層５が形成された
、基板１６が完成する。このとき、スタンバ−４によっ
て、スパイラル状の案内溝１８ａが基板１６に形成され
る。基板１６の厚さは、１．２閣程度である。

このようにして製造された基Ｆｉ１６に、記録膜を形成
するプロセスが成膜プロセスである。第８図は、成膜プ
ロセスによって記録膜が形成された光磁気ディスク１７
を、部分的に切断した斜視図と、切断部端面の拡大図で
ある。

成膜プロセスは、下地膜スバツタ工程７、記録膜スバツ
タ工程８、保護膜スバツタ工程９から成り、案内溝１８
ａ上に下地膜１９、記録膜２０、保護膜２１を、順次ス
パッタリングすることによって、形成する。このとき、
各膜の厚さは、０．１　μｍ程度であり、案内溝１８の
幅Ｗは、１μｍ程度、案内溝１８間の間隔Ｐは、０６６
μｍ程度、案内溝１Ｂの深さＨは、０．０７μｍ程度で
ある。

成膜された光磁気ディスクは、組み立てプロセスで、光
磁気ディスク媒体として完成される。第９図は、この組
み立てプロセスを説明する斜視図である。

組み立てプロセスは、２枚の光磁気ディスク１７ａと１
７ｂを接着剤で貼り合わせ、この光磁気ディスクに、２
個のハブ２２ａと２３ａを接着して完了するものである
が、光磁気ディスクは、記録膜初期化工程１０で初期化
してから貼り合わせる。また、組み立て完了後は、該光
磁気ディスク媒体を単体試験工程１３で、試験を行って
から出荷する。

本発明は、上記組み立てプロセスを容易に行なえるよう
にした、光磁気ディスク媒体に関するものである。

〔従来の技術〕

そこで、まず従来の組み立てプロセスを、詳しく説明す
る。第１０図は、従来の組み立てプロセスを説明する図
で、説明を分かりやすくするために、光磁気ディスク媒
体を、その中央から軸方向に切断した、切断部の端面図
で示しである。

工程■ 光磁気ディスク１７ａを、記録膜を上向きにして、図に
示されないステージにセットし、該光磁気ディスク１７
ａの、案内溝の回転中心点をステージの回転中心点に合
わせる。

このとき、光磁気ディスクの案内溝の中心点は、該ステ
ージを回転させて、該光磁気ディスク案内溝を、光ピツ
クアップによってトレースし、案内溝の偏心量を測定す
ることによって求める。（以後、案内溝の中心点は、同
様にして求める。）工程■ 光磁気ディスク１７ａに、接着剤２４ａを塗布し、もう
１枚の光磁気ディスク１７ｂを、記録膜を下向きにして
、貼り合わせる。このとき使用される接着剤は、たとえ
ば、エポキシ系の接着剤である。

工程■ 貼り合わせた光磁気ディスク１７ｂの、案内溝の中心点
を、光磁気ディスク１７ａの、案内溝の中心点に合わせ
る。

工程■ 光磁気ディスク１７ａと１７ｂの側面外周に、ＵＶ樹脂
２５ａを数個所塗布し、ＵＶ光を照射してＵＶ樹脂を硬
化させる。このとき、ＵＶ樹脂はＵＶ光を照射すると、
数秒で硬化する。

この工程で、ＵＶ樹脂を光磁気ディスク１７ａと１７ｂ
の側面外周に使用する理由は、工程■で使用した接着剤
の硬化時間が長いため、硬化時間中に、貼り合わせた光
磁気ディスク１７ａと１７ｂの案内溝の中心点に、ズレ
が生じないようにするためである。すなわち、仮止めで
ある。

工程■ 内側のハブ２２ａを、図に示されないステージにセット
して、光磁気ディスクとの接着面に接着剤２４ｂを塗布
する。その後、工程■で製造した光磁気ディスクを、ハ
ブ２２ａに貼り合わす。

工程■ 光磁気ディスクの案内溝の中心点を、ハブ２２ａの中心
点に合わせる。

工程■ ハブ２２ａと光磁気ディスク間に、ＵＶ樹脂２５ｂを数
個所塗布し、ＵＶ光を照射してＵＶ樹脂を硬化させ、仮
止めする。

工程■ 光磁気ディスクとの接着面に接着剤２４ｃを塗布した外
側のハブ２３ａを、ハブ２２ａの外側に挿入する。次に
、ハブ２２ａと２３ａの間にＵＶ樹脂２５ｃを数個所塗
布し、ＵＶ光を照射して、ＵＶ樹脂を硬化させ、仮止め
する。

以上の工程によって、光磁気ディスク媒体の組み立てが
完了する。

〔発明が解決しようとする課題〕

光磁気ディスク媒体に対して、情報を読み書きするとき
は、該光磁気ディスク媒体を回転させ、案内溝を光ピツ
クアップによってトレースすることによって行なう。

したがって、該光磁気ディスク媒体を光磁気ディスク装
置で使用したときに、案内溝の回転中心点に偏心がない
ことが重要である。

そのため、光磁気ディスク媒体においては、光磁気ディ
スク１７ａの案内溝の回転中心点、光磁気ディスク１７
ｂの案内溝の回転中心点、ハブ２２ａの回転中心点を一
致させる必要がある。

そのため、従来の組み立てプロセスにおいては、前記説
明のように、光磁気ディスク同士の貼り合わせと、ハブ
接着を、別々に行なっていた。

しかし、この方法では、次のような問題点かある。

（イ）回転中心点合わせか、３回必要であり、作業時間
が長くなる。

すなわち、工程■で光磁気ディスク１７ａの案内溝の回
転中心点を求めた後に、工程■で前記回転中心点に、光
磁気ディスク１７ｂの案内溝の回転中心点を合わせ、さ
らにその後、工程■で前記光磁気ディスクとハブ２２ａ
の回転中心点を合わせるために、回転中心点合わせか、
合計３回必要である。

（ロ）工程■と工程■の間に、接着剤２４ａの硬化時間
が必要であり、この間、次の作業に移れない。

すなわち、接着剤２４ａが完全に硬化した後でないと、
該光磁気ディスク相互の案内溝の回転中心点に、ズレを
生じる恐れがあるからであり、接着強度などの点から、
接着剤２４ａの、硬化時間を短かくできないからである
。

（ハ）工程■で、光磁気ディスク１７ａと１７ｂの側面
外周に、仮止めをするため、工程■で、接着剤２４ａが
、光磁気ディスク側面外周にはみ出した場合は、その接
着剤を除去する必要がある。

これは、光磁気ディスク側面内周で仮止めを行う場合も
、同様である。

（ニ）光磁気ディスク１７ａと１７ｂの側面外周に、仮
止めをするため、媒体完成後に仮止めの跡が残り、外観
上好ましくない。

（ホ）仮止め作業が３回必要であり、作業時間が長くな
る。

すなわち、工程■で光磁気ディスク１７ａと光磁気ディ
スク１７ｂを仮止めし、工程■でハブ２２ａと光磁気デ
ィスクを仮止めし、工程■でハブ２２ａとハブ２３ａの
仮止めをする。

本発明の技術的課題は、光磁気ディスク媒体の、組み立
てプロセスにおける、このような問題を解消し、光磁気
ディスク同士の接着とハブ接着を同時に行なえるように
することによって、組み立て作業時間を短縮すると共に
、仮止め跡の残らない、光磁気ディスク媒体を実現する
ことにある。

〔課題を解決するための手段〕

第１図は、本発明の基本原理を説明する図で、光磁気デ
ィスク媒体を、その中心から回転軸方向に切断した斜視
図である。

光磁気ディスク１７を、駆動軸が挿入されるハブ２２ｂ
とハブ２３ｂとで挟んで固定することにより光磁気ディ
スク媒体が構成される。前記ハブ２２ｂの光磁気ディス
ク１７と対向する面に、接着剤溝２６ａ、２６ｂと、は
み出し吸収溝２７ａを設けである。

（作用） 第２図は、本発明による、接着剤溝とはみ出し吸収溝の
作用を説明する図で、光磁気ディスク媒体を、その中心
から回転軸方向に切断した切断部端面図である。

この場合、ハブ２２ｂに設けた接着剤溝２６ａ１２６ｂ
と、はみ出し吸収溝２７ａは、次のように作用する。

すなわち、接着剤溝２６ａには、仮止め用接着剤である
接着剤２４ａを塗布し、接着剤溝２６ｂには、本止め用
接着剤である接着剤２５ｄを塗布する９次に、このハブ
２２ｂに光磁気ディスク１７をのせ、仮止め接着と本接
着を同時に行なう。このとき、はみ出した接着剤は、は
み出し吸収溝２７ａに流れ込み、接着剤　２４ｄと接着
剤２５ｄが、混じり合うことがない。そのため、ハブ２
２ｂと光磁気ディスク１７の中心点を合わせた後に、Ｕ
Ｖ光を照射して、直ちに仮止めを完了することができる
。

したがって従来のように、中心点の位置合わせ後に、更
にもう一度、仮止め用接着剤を塗布する作業が不要とな
り、仮止め接着剤の塗布作業にともなう中心点のズレが
なくなる。そのため、光磁気ディスクの貼り合わせと、
ハブ接着を同時に行なっても、中心点のズレが発生しに
くくなり、従来側々に行っていた、光磁気ディスクの貼
り合わせと、ハブ接着を同時に行なうことができるよう
になる。

〔実施例〕

次に、本発明による光磁気ディスク媒体が、実際上どの
ように具体化されるかを、実施例で説明する。

第３図は、本発明による光磁気ディスク媒体における、
ハブの平面図と切断部端面図である。

同図の、（ａ）　（ｂ）　（ｃ）いずれの実施例も、接
着剤溝とはみ出し吸収溝を有しており、仮止め用接着剤
と本止め用接着剤とが、混ざり合わないように構成され
ている。

（ａ）図のハブ２２ｃにおいては、接着剤溝２６ｃに仮
止め接着剤を塗布し、その周囲にはみ出し吸収溝２７ｂ
を設けたものである。また、本止め用接着剤は、接着剤
塗布域２８に塗布し、はみ出した接着剤は、はみ出し吸
収溝２７ｃに吸収される。

（ｂ）図のハブ２２ｄにおいては、接着剤溝２６ｄに仮
止め用接着剤を塗布し、その内側と外側の同心円上に、
はみ出し吸収溝２７ｄを設けたものである。

また、本止め用接着剤は、接着削溝塗布域２９に塗布し
、はみ出した接着剤は、はみ出し吸収溝２７ｄに吸収さ
れる。

（ｃ）図のハブ２２ｅは、接着剤溝２６ｅに本止め用接
着剤を塗布し、接着剤溝２６ｆに仮止め用接着剤を塗布
するようにしたものである。また、両接着剤溝間に、は
み出し吸収溝２７ｅを設け、はみ出した接着剤を吸収す
るようにしたものである。

次に、このハブ２２ｅを用いた、光磁気ディスク媒体の
組み立てプロセスを説明する。第４図は、該組み立てプ
ロセスを説明する図で、光磁気ディスク媒体を、その中
央から軸方向に切断した、切断部の端面図である。

工程■ ハブ２２ｅを図に示されないステージにセットし、接着
剤２４ｅとＵＶ樹脂２５ｅを塗布する。

工程■ 光磁気ディスク１７ａをハブ２２ｅに貼り合わせ、光磁
気ディスク１７ａに接着剤２４ｆを塗布する。

工程■ 光磁気ディスク１７ａの案内溝の中心点を、ハブ２２ｅ
の中心点に合わせ、ＵＶ光を照射してＵＶ樹脂を硬化さ
せ、ハブ２２ｅと光磁気ディスク１７ａを仮止めする。

工程■ 光磁気ディスク１７ａの上に、光磁気ディスク１７ｂを
貼り合わせ、該光磁気ディスク１７ｂの案内溝の中心点
を、ハブ２２ｅの中心点にあわせる。

工程■ 光磁気ディスクとの接着面に接着剤を塗布したハブ２３
ｂを、前記ハブ２２ｅの外側に挿入する。次に、ハブ２
３ｂと光磁気ディスク１７ｂとの間にＵＶ樹脂２５ｆを
数個所塗布し、また同時に、ハブ２３ｂとハブ２２ｅと
の間にもＵＶ樹脂２５ｆを数個所塗布し、ＵＶ光を照射
して、ＵＶ樹脂を硬化させ、仮止めする。

以上の工程によって、光磁気ディスク媒体の組み立てが
完了し、ハブと光磁気ディスク同士の接着を、同時に行
なうことができるようになる。

ちなみに、本実施例における中心点のズレは、５〜８．
５μ鋼で、従来の、光磁気ディスク接着とハブ接着を別
々に行なった場合と、同程度である。

〔発明の効果〕

本願発明の光磁気ディスク媒体は、ハブと光磁気ディス
ク同士の接着を、同時に行なうことにより、次の効果が
ある。

（イ）回転中心点合わせが２回で済み、作業時間が短縮
される。

すなわち、工程■で光磁気ディスク１７ａとハブ２２ｅ
の中心点を合わせ、工程■で光磁気ディスク１７ｂとハ
ブ２２ｅの中心点を合わせるだけでよい。

（ロ）光磁気ディスク同士の、単独の貼り合わせが不要
であるので、従来のように、光磁気ディスク同士の接着
硬化時間が不要となり、作業時間が短縮される。

（ハ）光磁気ディスク同士の貼り合わせにともなう、光
磁気ディスク側面外周の仮止めが不要となり、該光磁気
ディスク同士の貼り合わせにともなう、接着剤のはみ出
しを拭き取る作業が容易となる。

（ニ）光磁気ディスク同士の貼り合わせにともなう、光
磁気ディスク側面外周の仮止めが不要となり、媒体成後
の仮止め跡がなくなり、外観美が向上する。

このように、作業を容易に行なうことができるようにな
り、作業時間を短縮できる。ちなみに、従来は、媒体１
枚につき３０分程度の製造工数を要していたが、本発明
の光磁気ディスク媒体では、１５分程度の製造工数で組
み立てが完了できる。また、該媒体側面外周の美観も向
上できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の基本原理を説明する図で、光磁気デ
ィスク媒体を、中心がら切断した斜視図、第２図は、光
磁気ディスク媒体を、中心から切断した作用説明用の切
断部端面図、 第３図は、各種実施例のハブの、平面図と切断部端面図
、 第４図は、実施例の組み立てプロセスを説明する図、 第５図は、光磁気ディスク媒体の全容を示す斜視図、 第６図は、光磁気ディスク媒体の製造プロセスを説明す
る工程図、 第７図は、２　Ｐ　（ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）転
写法による、基板プロセスを説明する断面図と斜視図、
第８図は、記録膜の構成を説明する、光磁気ディスク媒
体の部分的な切断図と、切断部端面の拡大図、 第９図は、組み立てプロセスを説明する斜視図、第１０
図は、従来の組み立てプロセスを工程順に示す断面図、
である。 図において、１は強化ガラス基板、２はポリッシュ工程
、３は洗浄工程、４はスタンバ−１５は２Ｐ樹脂、６は
２Ｐ転写工程、７は下地膜スバツタ工程、８は記録膜ス
バツタ工程、９は保護膜スバツタ工程、１０は記録膜初
期化工程、１１は単板接着工程、１２はハブ接着工程、
１３は単体試験工程、１４は完成した光磁気ディスク媒
体、１５は紫外線、１６は基板、１７と１７ａおよび１
７ｂは光磁気ディスク、１８は案内溝、１９は下地膜、
２０は記録膜、２１は保護膜、２２ａおよび２２ｂ、２
２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２３ａ、２３ｂはハブ、２４ａ
および２４ｂ、　２４ｃ、　２４ｄ、　２４ｅ、　２４
ｆは本止め用接着剤、２５ａおよび２５ｂ、　２５ｃ、
　２５ｄ、　２５ｅ、　２５ｆは仮止め用接着剤でＵＶ
樹脂、２６ａおよび２６ｂ、２６ｃ、２６ｄ、２６ｅ、
２６ｆは接着剤溝、２７ａおよび２７ｂ、　２７ｃ、　
２７ｄ、　２７ｅははみ出し吸収溝、２８および２９は
接着剤塗布域をそれぞれ示している。 特許出願人　　　　　富士通株式会社 復代理人　弁理士　　福　島　康　文 し＠をＩヨＩＩ”１ｃ２）２】１；１ｊ、２１：（、ノ
テ）耐ｔＷＸ１口 オメ払気デンス’７４体 ￥５閉 第７区 膜構成 グ８凹

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 光磁気ディスク（１７）を、駆動軸が挿入されるハブ（
   ２２ｂ）と他方のハブ（２３ｂ）とで挟んで成る光磁気
   ディスク媒体において、 前記ハブ（２２ｂ）の光磁気ディスク（１７）と対向す
   る面に、接着剤溝（２６ａ）、（２６ｂ）と、はみ出し
   吸収溝（２７ａ）を設けたことを特徴とする光磁気ディ
   スク媒体。