JPH0211611A - 樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料 - Google Patents
樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料Info
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- JPH0211611A JPH0211611A JP63159380A JP15938088A JPH0211611A JP H0211611 A JPH0211611 A JP H0211611A JP 63159380 A JP63159380 A JP 63159380A JP 15938088 A JP15938088 A JP 15938088A JP H0211611 A JPH0211611 A JP H0211611A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、樹脂組成物、特に光伝送用の光学ガラスファ
イバを被覆するのに適する被覆材料に関する。
イバを被覆するのに適する被覆材料に関する。
(従来の技術)
光ファイバは、もろ(傷がつきやすい上に可と5性にと
ぼしく、わずか−な外力によって容易に破断し、又力学
的側圧が加わるとマイクロベンディングにより伝送され
る光は弱められ、伝送損失を生ずる。このためガラス表
面には、マイクロベンディングを最低に抑えるためにき
わめて低い弾性率を有する材料で1次被覆を行ったのち
、可と5性を有しかつ高い弾性率を有する材料で2次被
覆が行われており、い(つかの提案もなされている。例
えば、特開昭58−223638、特開昭59−170
154など。
ぼしく、わずか−な外力によって容易に破断し、又力学
的側圧が加わるとマイクロベンディングにより伝送され
る光は弱められ、伝送損失を生ずる。このためガラス表
面には、マイクロベンディングを最低に抑えるためにき
わめて低い弾性率を有する材料で1次被覆を行ったのち
、可と5性を有しかつ高い弾性率を有する材料で2次被
覆が行われており、い(つかの提案もなされている。例
えば、特開昭58−223638、特開昭59−170
154など。
(発明が解決しようとする課題)
伝送損失を生ずる原因としては、前記のマイクロベンデ
ィングと水素ガス等が挙げられる。
ィングと水素ガス等が挙げられる。
マイクロベンディングは、低い弾性率を有する杓科で被
覆を行うことによって、抑えることができるが水素の問
題は、十分に解決されていない。従来の紫外線硬化型被
覆材料でも高温下におし・た場合や螢光灯の下に長期間
貯蔵後、高温下におし・た場合等に多量に発生し、伝送
損失の原因となって見・る。この発明は、螢光灯の下に
長期間貯蔵しても、水素の発生量が小さく、硬fヒ性に
すぐれた光学ガラスファイバ用被覆材料に適する樹脂組
成物を提供しようとするもである。
覆を行うことによって、抑えることができるが水素の問
題は、十分に解決されていない。従来の紫外線硬化型被
覆材料でも高温下におし・た場合や螢光灯の下に長期間
貯蔵後、高温下におし・た場合等に多量に発生し、伝送
損失の原因となって見・る。この発明は、螢光灯の下に
長期間貯蔵しても、水素の発生量が小さく、硬fヒ性に
すぐれた光学ガラスファイバ用被覆材料に適する樹脂組
成物を提供しようとするもである。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討し
た結果、特定のアクリレート化合物(■3)と酸化防止
剤(Clを添加することによって、水素の発生量が小さ
く、硬化速度が速し・光学ガラスファイバ用被覆材料に
適する樹脂組成物を提供することに成功し本発明を完成
した。
た結果、特定のアクリレート化合物(■3)と酸化防止
剤(Clを添加することによって、水素の発生量が小さ
く、硬化速度が速し・光学ガラスファイバ用被覆材料に
適する樹脂組成物を提供することに成功し本発明を完成
した。
すなわち、本発明は(1)エチレン性不飽和基を有する
化合物G〜)と−数式El) (式中、R1はH又はCFLを、R2はI−1又は低級
アルキル基を、R3,It、l、 R5+ Rsはそれ
ぞれ、メチル基、エチル基、プロピル基等の低級アルキ
ル基を示す。) を有する化合物(Blと酸化防止剤(C)を含むことを
特徴とする樹脂組成物、及び に) エチレン性不飽和基を有する化合物置と一般式〔
l)を有する化合物fB]と酸化防止剤(C1を含むこ
とを特徴とする光学ガラスファイバ用被覆材料に関する
ものである。
化合物G〜)と−数式El) (式中、R1はH又はCFLを、R2はI−1又は低級
アルキル基を、R3,It、l、 R5+ Rsはそれ
ぞれ、メチル基、エチル基、プロピル基等の低級アルキ
ル基を示す。) を有する化合物(Blと酸化防止剤(C)を含むことを
特徴とする樹脂組成物、及び に) エチレン性不飽和基を有する化合物置と一般式〔
l)を有する化合物fB]と酸化防止剤(C1を含むこ
とを特徴とする光学ガラスファイバ用被覆材料に関する
ものである。
本発明において使用する(A)成分としてのエチレン性
不飽和基を有する化合物としては、例えば、ウレタンア
クリレート〔ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリテトラメチレングリコール等の分子中
にエーテル基を持つポリエーテルポリオール、エチレン
グリコール プロピレングリコール ジエチレングリコ
ール、1,5−ベンタンジオール、1.6−ヘキサンジ
オール等のジオール化合物とコハク酸、アン7ピン酸、
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等の2塩基酸の反応物
あるいは前記ジオール化合物と前記2塩基酸とε−カプ
ロラクトン等のラクトン化合物との反応物あるいは前記
、ジオール化合物とε−カプロラクトンあるいはβ−メ
チル−δ−バレロラクトン等のラクトン化合物との反応
物等の分子中にエステル基を持つポリエステルポリオー
ル、分子中にカーボネート基を持つカーボネートポリオ
ール、分子中にエーテル基及びエステル基の両方を゛も
つポリオール、ポリマーポリオール等のポリオールとポ
リイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイノシアネート、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアネート、ジンクロヘキシルメタンジ
イノシアネ−1・、イノホロンジイソシアメート、ジフ
ェニルメタンジイノシアネート等)とモノヒドロキシ含
有アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシプロピルアクリし・−ト、1−
ヒドロキシブチルアクリレ−1,,2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートのε−カフロラクトン付加物等)とを反
応させて得られろ。〕エポキシアクリレート〔ビスフェ
ノールA 型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂とアク
リル酸との反応物〕、フェノキシエチルアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、N−ビニルピロ
リドン、アクリロイルモルホリン、N−ビニル力グロラ
クタム、テトラヒドロフルフリルアルコールのε−カフ
ロラクトン付加物のアクリレート、ノニルフェノールの
エチレンオキザイド付加物のアクリレート、ノニルフェ
ノールのエチレンオキサイド付加物のε−カプロラクト
ン付加物のアクリレート、トリシクロデカノールのアク
リレート、イソボルニルアクリレート、アダマンチルア
クリレート、トリシクロデカンジメチロールのジアクリ
レート、ジオキサングリコールジアクリレート(日本化
薬■製、KAYARAD R−604)、トリスアク
リロイルオキシエチルインシアネート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(又はへキサ)アクリレート等を挙げることができ
る。エチレン性不飽和基を有する化合動因の使用量は、
樹脂組成物又は被覆材料中好ましくは75〜99重景%
、重量好ましくは90〜98重量%である。
不飽和基を有する化合物としては、例えば、ウレタンア
クリレート〔ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ポリテトラメチレングリコール等の分子中
にエーテル基を持つポリエーテルポリオール、エチレン
グリコール プロピレングリコール ジエチレングリコ
ール、1,5−ベンタンジオール、1.6−ヘキサンジ
オール等のジオール化合物とコハク酸、アン7ピン酸、
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等の2塩基酸の反応物
あるいは前記ジオール化合物と前記2塩基酸とε−カプ
ロラクトン等のラクトン化合物との反応物あるいは前記
、ジオール化合物とε−カプロラクトンあるいはβ−メ
チル−δ−バレロラクトン等のラクトン化合物との反応
物等の分子中にエステル基を持つポリエステルポリオー
ル、分子中にカーボネート基を持つカーボネートポリオ
ール、分子中にエーテル基及びエステル基の両方を゛も
つポリオール、ポリマーポリオール等のポリオールとポ
リイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート
、ヘキサメチレンジイノシアネート、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアネート、ジンクロヘキシルメタンジ
イノシアネ−1・、イノホロンジイソシアメート、ジフ
ェニルメタンジイノシアネート等)とモノヒドロキシ含
有アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシプロピルアクリし・−ト、1−
ヒドロキシブチルアクリレ−1,,2−ヒドロキシエチ
ルアクリレートのε−カフロラクトン付加物等)とを反
応させて得られろ。〕エポキシアクリレート〔ビスフェ
ノールA 型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂とアク
リル酸との反応物〕、フェノキシエチルアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、N−ビニルピロ
リドン、アクリロイルモルホリン、N−ビニル力グロラ
クタム、テトラヒドロフルフリルアルコールのε−カフ
ロラクトン付加物のアクリレート、ノニルフェノールの
エチレンオキザイド付加物のアクリレート、ノニルフェ
ノールのエチレンオキサイド付加物のε−カプロラクト
ン付加物のアクリレート、トリシクロデカノールのアク
リレート、イソボルニルアクリレート、アダマンチルア
クリレート、トリシクロデカンジメチロールのジアクリ
レート、ジオキサングリコールジアクリレート(日本化
薬■製、KAYARAD R−604)、トリスアク
リロイルオキシエチルインシアネート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(又はへキサ)アクリレート等を挙げることができ
る。エチレン性不飽和基を有する化合動因の使用量は、
樹脂組成物又は被覆材料中好ましくは75〜99重景%
、重量好ましくは90〜98重量%である。
本発明において[F])成分として用いられる一般式(
1)で表わされる化合物(Dは、市場より容易に人手す
ることができる。例えば、日立化成工業■製、ファンク
リルFA−711MA 、 FA −711MM、FA
−712HM、FA−712HA等である。
1)で表わされる化合物(Dは、市場より容易に人手す
ることができる。例えば、日立化成工業■製、ファンク
リルFA−711MA 、 FA −711MM、FA
−712HM、FA−712HA等である。
−数式(1〕で表わされる化合物IBIと酸化防止剤(
0を添加することによって、樹脂組成物及び光学ガラス
ファイバ被覆材料(以後いずれも組成物という。)を螢
光打丁に長期間貯蔵後、高温(100〜150℃)に加
熱しても、水素の発生量を小さくおさえることができる
。化合物(Blの使用量は、組成物中好ましくは0.0
1〜25重量%、特に好ましくは0.05〜10重量%
である。
0を添加することによって、樹脂組成物及び光学ガラス
ファイバ被覆材料(以後いずれも組成物という。)を螢
光打丁に長期間貯蔵後、高温(100〜150℃)に加
熱しても、水素の発生量を小さくおさえることができる
。化合物(Blの使用量は、組成物中好ましくは0.0
1〜25重量%、特に好ましくは0.05〜10重量%
である。
次に酸化防止剤(0としては、例えばフェノール系酸化
防止剤である2、6−ジ−ターシャリ−ブチル−4−フ
ェノールやイオウ系酸化防止剤であるジラウリル−8,
8′−チオジプロピオネート、シミリスチル−8,8′
−チオジプロピオネート、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール等を挙げることができる。その使用量は組成物中
好ましくは0.1〜5重量%、特に好ましくは0.5〜
3重量%である。
防止剤である2、6−ジ−ターシャリ−ブチル−4−フ
ェノールやイオウ系酸化防止剤であるジラウリル−8,
8′−チオジプロピオネート、シミリスチル−8,8′
−チオジプロピオネート、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール等を挙げることができる。その使用量は組成物中
好ましくは0.1〜5重量%、特に好ましくは0.5〜
3重量%である。
本発明の組成物は、紫外線で硬化するのが好ましく、そ
の場合、光重合開始剤を添加するのが好ましい。光重合
開始剤としては1例えば、1−ヒドロキシシクロへキシ
ルフェニルケトン、2、4.6− )リメチルベンゾイ
ルージフエノイルフォスフィンオキシド(BASF製、
ルシリンLR8728)、ベンジルジエチルケタール、
ジクロロアセトフェノン、ジェトキシアセトフェノン、
ベンゾフェノン等が挙げられる。光重合開始剤を使用す
る場合、その使用量は組成物中0.1〜10重量%が好
ましく、特に1〜5重量%が好ましい。更に必要に応じ
て、シランカップリング剤、ノ・クリ剤、酸化防止剤、
重合禁止剤等を配合することができる。
の場合、光重合開始剤を添加するのが好ましい。光重合
開始剤としては1例えば、1−ヒドロキシシクロへキシ
ルフェニルケトン、2、4.6− )リメチルベンゾイ
ルージフエノイルフォスフィンオキシド(BASF製、
ルシリンLR8728)、ベンジルジエチルケタール、
ジクロロアセトフェノン、ジェトキシアセトフェノン、
ベンゾフェノン等が挙げられる。光重合開始剤を使用す
る場合、その使用量は組成物中0.1〜10重量%が好
ましく、特に1〜5重量%が好ましい。更に必要に応じ
て、シランカップリング剤、ノ・クリ剤、酸化防止剤、
重合禁止剤等を配合することができる。
本発明の光学ガラスファイバ用被覆材料を用いて光学ガ
ラスファイバを被覆する場合、光学ガラス母材を例えば
1〜5m/秒の速度で線弓きし、被覆材料(1次被覆用
)を被覆し、紫外線照射により硬化し、次いで、被覆材
料(2次被覆用)を被覆する。被覆材料を被覆する場合
のコーティング法としては、ダイスコーティング法が適
当である。
ラスファイバを被覆する場合、光学ガラス母材を例えば
1〜5m/秒の速度で線弓きし、被覆材料(1次被覆用
)を被覆し、紫外線照射により硬化し、次いで、被覆材
料(2次被覆用)を被覆する。被覆材料を被覆する場合
のコーティング法としては、ダイスコーティング法が適
当である。
本発明の被覆材料は、紫外線照射により容易に硬化する
。本発明の被覆材料の紫外線照射による硬化は常法によ
り行うことができる。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キ
セノン灯を用い紫外線を照射すればよい。本発明の樹脂
組成物は光学ガラスファイバ用被覆材料として有用であ
るが、その他に、プラスチック、ガラス、セラミック等
の被覆材料としても使用できる。
。本発明の被覆材料の紫外線照射による硬化は常法によ
り行うことができる。例えば、低圧又は高圧水銀灯、キ
セノン灯を用い紫外線を照射すればよい。本発明の樹脂
組成物は光学ガラスファイバ用被覆材料として有用であ
るが、その他に、プラスチック、ガラス、セラミック等
の被覆材料としても使用できる。
(実施例)
以下本発明を実施例によって更に詳細忙説明するが、本
発明は、実施例に限定されるものでない。
発明は、実施例に限定されるものでない。
実施例1゜
平均分子12oooのポリプロピレングリコール200
g、平均分子量2000のε−カプロラクトン変性ポリ
エステルジオール(ダイセル化学工業■、プラクセルL
−220AL (200g。
g、平均分子量2000のε−カプロラクトン変性ポリ
エステルジオール(ダイセル化学工業■、プラクセルL
−220AL (200g。
インホロンジイノシアネート66.7gとを仕込み80
℃で8時間反応させたのち、2−ヒドロキシエチルアク
リレ−)23.9gを加え80°Cで10時間反応させ
冷却後490gのウレタンアクリレートを得た。得られ
たウレタンアクリレート47g、テトラヒドロフルフリ
ルアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレー
ト(日本化薬■製、KAYARAD TC−11O8
)50g、構造式 (日立化成工業■、ファンクリルF A −711MA
)で表わされる化合物05g、2,6−ジ−ターシャリ
−ブチル−4−メチルフェノール2g、2゜46−ドリ
メチルベンゾイルジフエノイルフオスフインオキシド(
BASF製、ルシリンLR8728)2.5gを溶解、
混合し、目的の被覆材もト(1次被覆用)を得た。この
被覆材料をガラス板上に50μmの厚さで塗布したのち
、80W/CInのメタルハライドランプを用いてコン
ベアスピー ド20m/′分で硬化させた。その硬化皮
膜の物性測定結果を表−1に示す。
℃で8時間反応させたのち、2−ヒドロキシエチルアク
リレ−)23.9gを加え80°Cで10時間反応させ
冷却後490gのウレタンアクリレートを得た。得られ
たウレタンアクリレート47g、テトラヒドロフルフリ
ルアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレー
ト(日本化薬■製、KAYARAD TC−11O8
)50g、構造式 (日立化成工業■、ファンクリルF A −711MA
)で表わされる化合物05g、2,6−ジ−ターシャリ
−ブチル−4−メチルフェノール2g、2゜46−ドリ
メチルベンゾイルジフエノイルフオスフインオキシド(
BASF製、ルシリンLR8728)2.5gを溶解、
混合し、目的の被覆材もト(1次被覆用)を得た。この
被覆材料をガラス板上に50μmの厚さで塗布したのち
、80W/CInのメタルハライドランプを用いてコン
ベアスピー ド20m/′分で硬化させた。その硬化皮
膜の物性測定結果を表−1に示す。
実施例2゜
平均分子[2000のポリテトラメチレンエーテルグリ
コール20g1.エチレンクリコール24.8g、イソ
ホロンジインシアネート222、3 gとを仕込み、8
0℃で8時間反応させたのち、2−ヒドロギシエチルア
クリレート119gを加え、80℃で10時間反応させ
た。
コール20g1.エチレンクリコール24.8g、イソ
ホロンジインシアネート222、3 gとを仕込み、8
0℃で8時間反応させたのち、2−ヒドロギシエチルア
クリレート119gを加え、80℃で10時間反応させ
た。
冷却後566gのウレタンアクリレートを得た。
得られたウレタンアクリレート40g、)リスアクリロ
イルオキシエチルイソシアネート15g、トリシクロデ
カンジメチロールジアクリレ−)15g、アクリロイル
モルホリン10g。
イルオキシエチルイソシアネート15g、トリシクロデ
カンジメチロールジアクリレ−)15g、アクリロイル
モルホリン10g。
インボルニルアクリレート17g及び、構造式(日立化
成工業■製、ファンクリルFA−71211A)で示さ
れる化合物0.5g、2,6−ジ−ターシャリ−ブチル
−4−フェノール2g、2,4.6トリメチルペンゾイ
ルジフエノイルフオスフインオキシド(BASF製、ル
シリンLR8728)2.5gを混合し目的の被覆材料
(2次被覆用)を得た。この被覆材料をガラス板上に5
トタmの厚さで塗布したのち、硬化させた。その硬化皮
膜の物性測定結果を表−1に示す。
成工業■製、ファンクリルFA−71211A)で示さ
れる化合物0.5g、2,6−ジ−ターシャリ−ブチル
−4−フェノール2g、2,4.6トリメチルペンゾイ
ルジフエノイルフオスフインオキシド(BASF製、ル
シリンLR8728)2.5gを混合し目的の被覆材料
(2次被覆用)を得た。この被覆材料をガラス板上に5
トタmの厚さで塗布したのち、硬化させた。その硬化皮
膜の物性測定結果を表−1に示す。
実施例3゜
実施例1の中で、構造式
で示される化合物と変えた以外は、実施例1と同様にし
て被覆材料を作り、同様にして、硬化皮膜の物性測定結
果を表−1に示す。
て被覆材料を作り、同様にして、硬化皮膜の物性測定結
果を表−1に示す。
比較例1゜
実施例1の中で、構造式
で示される化合物を、構造式
で示される化合物0.5gをのぞいて被覆材料を作り同
様にして、硬化皮膜の物性測定結果を表−1に示す。
様にして、硬化皮膜の物性測定結果を表−1に示す。
比較例2゜
実施例1の中で、2,6−ジ−ターシャリ−フチルー4
−メチルフェノール2gをのぞいて被覆材料を作り、同
様にして、硬化皮膜の物性測定結果を表−1に示す。
−メチルフェノール2gをのぞいて被覆材料を作り、同
様にして、硬化皮膜の物性測定結果を表−1に示す。
(、’l13CH3
上記衣−1において、
水素発生量(cc/g”)の測定:硬化皮膜を螢光打丁
3 Q cmの所に室温で10日間放置し、次いでヘッ
ドスペースボトルに入れ120’GK加熱し、24時間
放置後、ガスクロマトグラフィーで測定した。
3 Q cmの所に室温で10日間放置し、次いでヘッ
ドスペースボトルに入れ120’GK加熱し、24時間
放置後、ガスクロマトグラフィーで測定した。
実施例4゜
光学ガラスファイバ用母材を約2000℃に加熱し、5
m/秒の速度で外径125ミクロンの光学ガラスファイ
バを紡糸した。連続する次の工程で、ダイスコーティン
グ法により実施例1、3の樹脂組成物をそれぞれ被覆し
、紫外線を照射して硬化した。次いで実施例2の樹脂組
成物を被覆し、紫外線を照射して硬化した。得られた被
覆光学ガラスファイバは、いづれも、40℃まで伝送損
失の変化は認められなかった。
m/秒の速度で外径125ミクロンの光学ガラスファイ
バを紡糸した。連続する次の工程で、ダイスコーティン
グ法により実施例1、3の樹脂組成物をそれぞれ被覆し
、紫外線を照射して硬化した。次いで実施例2の樹脂組
成物を被覆し、紫外線を照射して硬化した。得られた被
覆光学ガラスファイバは、いづれも、40℃まで伝送損
失の変化は認められなかった。
(発明の効果)
本発明の樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料
は、硬化速度が速く、螢光打丁に放置しても水素の発生
量が小さく、光ファイバの長期信頼性の向上に有用であ
る。
は、硬化速度が速く、螢光打丁に放置しても水素の発生
量が小さく、光ファイバの長期信頼性の向上に有用であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エチレン性不飽和基を有する化合物(A)と一般式
〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R_1はH又はCH_3を、R_2はH又は低
級アルキル基を、R_3、R_4、R_5、R_6はそ
れぞれ低級アルキル基を示す。) を有する化合物(B)と酸化防止剤(C)を含むことを
特徴とする樹脂組成物。 2、エチレン性不飽和基を有する化合物(A)と第1項
記載の一般式〔 I 〕を有する化合物(B)と酸化防止
剤(C)を含むことを特徴とする光学ガラスファイバ用
被覆材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63159380A JP2579531B2 (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63159380A JP2579531B2 (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0211611A true JPH0211611A (ja) | 1990-01-16 |
JP2579531B2 JP2579531B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=15692549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63159380A Expired - Lifetime JP2579531B2 (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2579531B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6075065A (en) * | 1996-12-20 | 2000-06-13 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Photocurable resin composition and a method for producing the same |
JP2007167894A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Showa Denko Kk | 押出製品の先端誘導方法及び先端誘導装置 |
WO2019138968A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 住友電気工業株式会社 | 紫外線硬化型樹脂組成物及び光ファイバ |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP63159380A patent/JP2579531B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6075065A (en) * | 1996-12-20 | 2000-06-13 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Photocurable resin composition and a method for producing the same |
JP2007167894A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Showa Denko Kk | 押出製品の先端誘導方法及び先端誘導装置 |
WO2019138968A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 住友電気工業株式会社 | 紫外線硬化型樹脂組成物及び光ファイバ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2579531B2 (ja) | 1997-02-05 |
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