JPH0157629B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は移送されている長尺可撓性支持体（以
下「ウエブ」という）に液状塗布組成物を塗布す
るための装置に関する。 液状塗布組成物（以下「塗布液」という）をウ
エブに塗布するための装置として広く利用されて
いる装置の一つにRussell等により米国特許第
2761791号に提案された多層スライドビード塗布
装置がある。この装置は傾斜面（スライド面）を
流れ下る複数の塗布液を、スライド面の下端にお
いてそれが移送されているウエブと出会う点にビ
ードを形成させるようにし、このビードを介して
塗布を行なうものである。従つてこの種の装置に
おいてはビードを安定に維持することが、塗布を
成功させるために必要である。 米国特許2681294号は、ビード部分が懸垂して
いる表面に真空を生じさせる等して、ビード部分
上下の露出表面間に圧力差を生じさせる技術を開
示している。又、特公昭58−907号公報では、「走
行する被塗布基体に１つ以上の塗液を塗布するホ
ツパー装置において、前記ホツパー装置の被塗布
基体侵入側の被塗布基体に対向する面に塗液架橋
（ビード）の接触後端部を保持する液端保持部を
設けたことを特徴とするホツパー装置。」が提案
されている。すなわち、前述の米国特許2681294
号では、高速薄層塗布時に過度な真空度が必要と
し、この過度な真空度の増大はビードに撹乱や破
裂を生じさせるとして、高速薄層時にスジ故障の
発生を押えるためになされたものが特公昭58−
907号特許発明である。 しかしながら、特に液接触角の低い液体或は低
粘度の液体を塗布液として用いる場合には、依然
として問題は解決されない。また、液端保持部に
汚れ等が発生したり、ウエブの巾方向端部に液の
浸み出したりして、実用的な塗布を行なうことが
できない。 本発明は、かかる従来技術の欠点を補い、液接
触角の低い液体或は低粘度の液体を塗布液として
用いる場合でもスジ故障等を発生することなく、
実用的なホツパー型塗布装置を提供することを目
的とする。 本発明のかかる目的は、先端の塗液架橋部に撥
水性樹脂を施したことを特徴とするスライドホツ
パー型又はエクストルージヨンホツパー型塗布装
置により達成される。 以下、添付図面に従つて本発明の内容を更に詳
細に説明する。 第１図において、塗布バツクアツプローラ１に
巻き掛けられて移送されるウエブ２に近接して塗
布ヘツド３が設置されている。塗布ヘツド３には
計量ポンプ１１，１２により塗布液４，５が供給
される。各塗布液は塗布ヘツド３の上部スリツト
状開口から押し出され、スライド面上をそれぞれ
層状になつて流れ下る。二つの塗布液層は互に接
して混り合うことなく、スライド面を流れ下り、
ビード部に達する。減圧室７は真空ポンプ８と結
合されたビード安定用背圧供給手段である。 第２図は本発明の一実施態様を示す塗布装置の
要部側面図で、スライド面下端部６の詳細図であ
る。すなわち、本発明装置は塗布ヘツド３の先端
の塗液架橋部（「リツプ」とも称する）に撥水性
樹脂９を施したものである。本発明装置を作成す
るには、第３図に示す如く、先端の塗液架橋部に
凹部１０を設け、ここに撥水性樹脂を吹き付けた
後研磨仕上げを行なう。本発明において、ヘツド
３の先端の塗液架橋部に撥水性樹脂９を施す形態
は第４図に示す如き形態でも良い。 本発明において、撥水性樹脂とは、たとえば、
フツ素樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレン
樹脂、ポリスチレン樹脂等を挙げることが出来、
これらのうちでもテフロン（米国Dupont社商品
名）の名で知られるポリテトラフルオルエチレ
ン、デルリン（米国Dupont社商品名）の名で知
られるポリアセタール樹脂の如き塗布液に対し撥
水性を有する樹脂を総称する。本発明装置におい
ては、かかる撥水性樹脂９が塗布巾全巾に亘り、
塗布ヘツド３の先端の塗液架橋部に施される。本
発明装置に於て塗布ヘツド３の先端の塗液架橋部
に施される撥水性樹脂の厚みは0.1mmないし1.0
mm、ウエブ進行方向の長さは５mmないし20mm程度
が望ましい。これらの値以下では、撥水性樹脂の
効果が現れず、これらの値以上では塗布ヘツドの
精度の維持が困難になる。 本発明装置によれば、高速薄層塗布時に減圧室
７の真空度を高めても撥水性樹脂９の撥水効果に
より、スライド面下端部において塗布液の落ち込
みを防ぐことができ、同時にウエブの外側への液
の回り込みも防止することができる。 本明細書において「液接触角の低い液体」と
は、表面張力30dyne／cm以下の物性の液体を指
し、「低粘度の液体」とは粘度10CPS以下の物性
の液体を云う。本発明装置により塗布する塗布液
は例えば、アセトン、メタノール、エタノール、
塩化メチル、ブタノール、メチルグリコール、メ
チルエチルケトン、メチルプロピルケトン、エチ
ルセロソルブ、エチルアセテート、フエノールレ
ジン及びこれらと水との組合わせ又はこれらの１
部の組合わせ等写真材料、記録材料に用いる溶剤
塗布液を云う。 本発明に使用されるウエブとしては、紙、プラ
スチツクフイルム、金属、レジンコーテイツド
紙、合成紙等が包含される。プラスチツクフイル
ムの材質は、たとえば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等のポリオレフイン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合体、
６，６−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミ
ド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
−２，６−ナフタレート等のポリエステル、ポリ
カーボネート、セルローストリアセテート、セル
ロースダイアセテール等のセルロースアセテート
等が使用される。またレジンコーテイツド紙に用
いる樹脂としては、ポリエチレンをはじめとする
ポリオレフインが代表的であるが、必ずしもこれ
に限定されない。又、金属ウエブとしては、例え
ばアルミニウムウエブがある。 以下、本発明の効果を一層明瞭ならしめるた
め、実施例をあげる。 実施例 １ 第３図において先端凹部１０の寸法が以下の値
の塗布ブロツク３を機械加工により作成した： ａ＝0.1mm；ｂ＝2.0mm；ｃ＝0.5mm；ｄ＝15.0mm 先端凹部１０の表面を洗浄した後、エア・ガン
によりテフロン液を吹きつけ約0.1mmの厚さとし
た。その後該先端部を研磨仕上げして第１図、第
２図に示す如き塗布装置とした。 上記の塗布装置を用いて、厚さ100μｍ、幅
1000mmのポリエチレンテレフタレートウエブの表
面に第１表に示す組成及び物性を有する塗布液を
塗布した。

【表】 毎分50ｍの塗布速度で、減圧室７の真空度を−
30mmH₂Oとして20c.c.／m²の薄層塗布を行なつて
も、ビードの落ち込みによるスジ等の故障あるい
は塗布量の異常は発生しなかつた。又、ウエブ側
端部にうす塗りスジも発生せず、長時間安定な塗
布が可能であつた。 これと比較して、先端の塗液架橋部に撥水性樹
脂を施さない場合には塗布量を50c.c.／m²に上げな
いと、ビードの落ち込みやウエブ側端部のうす塗
りスジが発生して安定な塗布を行なうことができ
なかつた。 実施例 ２ 実施例１と同寸法の第３図塗布ブロツク３を機
械加工により作成し、先端凹部１０の表面を洗浄
した後、エア・ガンによりテフロン液を吹きつけ
約0.1mmの厚さとした。その後スライド面１３を
約0.5mm厚削り落とし、先端部を研磨仕上げして
第１図、第４図に示す如き塗布装置とした。 上記の塗布装置を用いて、厚さ200μｍ、幅500
mmのアルミニウムウエブの表面に第２表に示す組
成及び物性を有する塗布液を塗布した。

【表】 毎分70ｍの塗布速度で、減圧室７の真空度を−
45mmH₂Oとして25c.c.／m²の薄層塗布を行なつて
も、ビードの落ち込みによるスジ等の故障あるい
は塗布量の異常は発生しなかつた。又、ウエブ側
端部にうす塗りスジも発生せず、長時間安定な塗
布が可能であつた。 これと比較して、先端の塗液架橋部に撥水性樹
脂を施さない場合には塗布量を80c.c.／m²に上げな
いと、ビードの落ち込みやウエブ側端部のウス塗
りスジが発生して安定な塗布を行なうことができ
なかつた。 本発明は写真感光フイルムの下塗液を塗布する
場合にも有効である。これらは例えば、アルコー
ル（メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、メトキシエタノール、アセトキシエタノー
ル、エトキシエタノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、
メトキシプロパノール、フエノキシエタノール、
フエニルプロパノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、フエノール、ｔ−ブチルフエ
ノール、フリフリルアルコール、トリプロピレン
グリコールなど）、炭化水素（ヘキサン、リグロ
イン、シクロヘキサン、デリカン、オクタンな
ど）、ハロゲン化炭化水素（ジクロルメタン、ク
ロロホルム、メチルクロロホルム、四塩化炭素、
ジクロルエタン、トリクロルエタン、クロルベン
ゼン、ジクロルベンゼンなど）、エーテル（エチ
ルエーテル、ジメトキシエタン、ジイソプロピル
エーテル、エチルフエニルエタノール、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、アニソール、プロピレ
ンオキサイド、モルホリンなど）、芳香族炭化水
素（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、シメン、キユメン、スチレンなど）、ラク
トン、ラクタム（ブチロラクトン、アセチルブチ
ロラクトン、ピロリドン、Ｎ−メチルチロリド
ン、ビニルピロリドンなど）、アミド（ジメチル
ホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ホルムア
ミド、ジエチルアセトアミド、ホルミルモルホリ
ン、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
ルアミド、テトラメチル尿素など）、ケトン（ア
セトン、メチルエチルケトン、メシチルオキシ
ド、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコ
ール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノ
ン、アセトフエノンなど）、アセトニトリル、ニ
トロプロパン、ジメチルシアナミド、二硫化炭
素、ジメチルスルホキサイド、メチルエチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド、スルホラン、
エステル（蟻酸メチル、フタル酸ジメチル、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸
アミル、酢酸ブチル、β−メトキシエチルアセテ
ート、β−ブトキシエチルアセテート、プロピオ
ン酸プロピル、シユウ酸ジメチル、マレイン酸ジ
メチルなど）、酸（蟻酸、酢酸、酪酸、アクリル
酸、メタクリル酸など）、アミン（ピリジン）、の
中から、当業者が溶解性、乾燥しやすさ、反応
性、臭気、水との相溶性、価格などを参考にし
て、容易に一種もしくはそれ以上を選ぶことがで
きる。 然しながら、本発明は実施例もしくは上記有機
溶剤に限らず、低粘度で濡れの良い、水系の塗布
液にも、本発明の技術的範囲内で適用可能であ
る。 又、撥水性樹脂はホツパースライド塗布装置に
限らず、第５図に示す如くエクストル−ジヨンホ
ツパー型塗布装置の先端の塗液架橋部にも施すと
同様の効果を期待できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る塗布装置を示す断面図、
第２図、第４図はその要部断面図、第３図は装置
の製作過程を示す図である。又、第５図は本発明
に係る装置の他の実施態様を示す要部断面図であ
る。 １……塗布バツクアツプロール、２……ウエ
ブ、３……塗布ヘツド、４，５……塗布液、９…
…撥水性樹脂。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 走行する支持体に１種以上の塗布液を塗布す
   るホツパー型塗布装置において、先端の塗液架橋
   部に撥水性樹脂を施したことを特徴とするスライ
   ドホツパー型又はエクストルージヨンホツパー型
   塗布装置。