JPH0150892B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0150892B2 JPH0150892B2 JP57169930A JP16993082A JPH0150892B2 JP H0150892 B2 JPH0150892 B2 JP H0150892B2 JP 57169930 A JP57169930 A JP 57169930A JP 16993082 A JP16993082 A JP 16993082A JP H0150892 B2 JPH0150892 B2 JP H0150892B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- photopolymerizable
- photopolymer element
- gelatin
- photopolymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 31
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 30
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 21
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 19
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 19
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 19
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 19
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 13
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 13
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 8
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 8
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 claims description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000008107 starch Substances 0.000 claims description 2
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 claims description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Polymers C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Polymers OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 claims 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 claims 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 claims 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 claims 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 claims 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 26
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 10
- QPQKUYVSJWQSDY-UHFFFAOYSA-N 4-phenyldiazenylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 QPQKUYVSJWQSDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 7
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 4
- BXUKAXFDABMVND-UHFFFAOYSA-L disodium;1,2-dihydroxyethane-1,2-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C(O)C(O)S([O-])(=O)=O BXUKAXFDABMVND-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- YGZZDQOCTFVBFC-UHFFFAOYSA-L disodium;1,5-dihydroxypentane-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C(O)CCCC(O)S([O-])(=O)=O YGZZDQOCTFVBFC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 4
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 3
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- KMQKYDWPAZMUDX-UHFFFAOYSA-M sodium;hydrogen sulfite;pentanedial Chemical compound [Na+].OS([O-])=O.O=CCCCC=O KMQKYDWPAZMUDX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDKSQNHUHMMKPP-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(4-methoxyphenyl)-4-phenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC(OC)=CC=2)N1 MDKSQNHUHMMKPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTWRMVAKUSJNBK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class COC1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 CTWRMVAKUSJNBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-fluorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class FC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZYZPHPDKCTFFH-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylsulfanylphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(SC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 GZYZPHPDKCTFFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWOWPGPERBCNJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-4-(2-hydroxyethoxy)-4-oxobutanoic acid Chemical compound OCCOC(=O)CC(O)C(O)=O FWWOWPGPERBCNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCMLQMDWSXFTIF-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzenesulfonimidic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O YCMLQMDWSXFTIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCYPECIVGRXBMO-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)azobenzene Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 JCYPECIVGRXBMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDSBZMRLPLPFLQ-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol alginate Chemical compound OC1C(O)C(OC)OC(C(O)=O)C1OC1C(O)C(O)C(C)C(C(=O)OCC(C)O)O1 HDSBZMRLPLPFLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MRQIXHXHHPWVIL-ISLYRVAYSA-N Sudan I Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1\N=N\C1=CC=CC=C1 MRQIXHXHHPWVIL-ISLYRVAYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUNAPVYQLLNFOI-UHFFFAOYSA-L [Pb++].[Pb++].[Pb++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Mo]([O-])(=O)=O Chemical compound [Pb++].[Pb++].[Pb++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Mo]([O-])(=O)=O AUNAPVYQLLNFOI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanedioic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)CCC(O)=O IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003738 black carbon Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- MRQIXHXHHPWVIL-UHFFFAOYSA-N chembl1397023 Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC1=CC=CC=C1 MRQIXHXHHPWVIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- SEACYXSIPDVVMV-UHFFFAOYSA-L eosin Y Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C([O-])=C(Br)C=C21 SEACYXSIPDVVMV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- SAMYCKUDTNLASP-UHFFFAOYSA-N hexane-2,2-diol Chemical compound CCCCC(C)(O)O SAMYCKUDTNLASP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- FMJSMJQBSVNSBF-UHFFFAOYSA-N octocrylene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC(CC)CCCC)C1=CC=CC=C1 FMJSMJQBSVNSBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical class OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000000770 propane-1,2-diol alginate Substances 0.000 description 1
- 235000010409 propane-1,2-diol alginate Nutrition 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- GDESWOTWNNGOMW-UHFFFAOYSA-N resorcinol monobenzoate Chemical compound OC1=CC=CC(OC(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 GDESWOTWNNGOMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940080313 sodium starch Drugs 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADGGJQPKBDIZMT-UHFFFAOYSA-K trisodium;4-[(4-anilino-5-sulfonatonaphthalen-1-yl)diazenyl]-5-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].C=12C(O)=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S([O-])(=O)=O)=CC=1N=NC(C1=CC=CC(=C11)S([O-])(=O)=O)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ADGGJQPKBDIZMT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920001959 vinylidene polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
本発明は、例えば電子画像形成法において適当
な優れた画像品質を有する低コストで単一露光、
水性処理可能なポジとして働く光重合体エレメン
トおよび新規な画像形成法に関する。 電子画像形成の分野においては、便利かつ安価
な画像形成系に対する需要が存在している。通常
はこれらの需要は光感受性エレメントとしてハロ
ゲン化銀を使用する写真系により満足されてい
る。銀の価格が上昇するにつれて、より低いコス
トの系に対する要求が存在するようになつた。光
重合体エレメントは現在この分野で評価されてい
る。光重合体を使用して満足すべき画像を生成さ
せることができるけれども、それらは代表的なハ
ロゲン化銀エレメントよりも通常数百倍以上もよ
り遅く、そしてこれは通常ネガとして働くもので
ある。ポジとして働かせる場合にはそれは往々に
して2回の露光を必要とする。例えば電子画像形
成分野の要求を満足させるための水性溶液中で処
理できる安価な単一露光のポジとして働く光重合
体エレメントに対しては切実な需要が存在してい
る。 本発明の目的はその一方の側に順次に1)放出
可能な硬化剤を混合しめられた硬化性結合剤を包
含する非光感受性(すなわち非感光性)層および
2)透過性光重合性層をコーテイングした支持体
より本質的になる、ポジとして働く光重合体エレ
メントを提供することにより充足されうる。 例示的具体例において、本発明は本質的に支持
体、前記支持体上のカーボンブラツク、ゼラチン
およびグルタルアルデヒドビサルフアイト
(GDA−HSO3)を包含する不透明な非光活性層
およびそれに隣接してコーテイングされた光重合
性層よりなる。単一露光のポジとして働く二重層
光重合体エレメントに関する。光重合性層の像様
露光の後、光重合体エレメントをK2CC3/
KHCC3含有水性現像溶液で処理する。この溶液
は優先的に光重合性層の未露光部分を通つて不透
明層まで拡散していき、グルタルアルデヒドを放
出させる。これは迅速にまわりのゼラチンを硬化
させる。次いで光重合性層全体および不透明層の
未硬化部分を洗浄により除去して原画の直接陽画
像を残す。 グルタルアルデヒドは特に高いPHにおいては非
常に急速にゼラチンを硬化させることが知られて
いるが、しかしグルタルアルデヒド自体はその揮
発性、易動性および反応性の故に写真系中では望
ましくないものである。しかしながらそれは重亜
硫酸ナトリウムと反応して安定な結晶性水溶性付
加物を生成する。炭酸塩の存在下にこの反応は逆
行して遊離のグルタルアルデヒドを放出する。 着色剤例えばカーボンブラツクと共にグルタル
アルデヒド重亜硫酸ナトリウムを含有するゼラチ
ン層の上に光重合性層をコーテイングした本発明
の二層構造体はこの反応機構に基づくものであ
る。しかしながら同一の原則は以下に更に説明さ
れるように同様の反応に適用することができる。 添付図面について述べるに、第1図は露光前の
本発明のポジとして働く光重合体エレメントを示
している。ここに支持体1は放出性硬化剤を含有
する硬化性結合剤を包含する非光感受性層2およ
び透過性光重合性層すなわち像形成性層である上
側層3でコーテイングされている。 第2図においてエレメントは画像5を通して活
性線放射4および4aにより露光されている。光
線4は光重合性層3にぶつかることにより阻止さ
れ、一方光線4aは前記層にぶつかり露光部分7
に光重合を生ぜしめる。部分6は未露光そして未
重合であり、そして従つて透過性に留まる。 第3図は露光エレメントを現像液9に接触させ
ることによる現像を示す。この液は未露光部分6
を透過しそして層2の下にある部分の硬化剤を放
出させ、これら部分の結合剤を硬化せしめる。 第4図は層2の未硬化部分を洗去させ、所望に
より層3のすべてを同時に除去させた後に得られ
る最終陽画像を示す。 好ましい具体例においては、支持体1はこの場
合には適当に下塗り(サブコーテイング)された
「クロナール(Cronar)」ポリエステル(デユポ
ン社製品、可撓性透明ポリエチレンテレフタレー
トフイルムに対する商品名)であり、非光感受性
層2は可視像を生成させるための着色剤としての
カーボンブラツクおよび放出性硬化剤としてのグ
ルタルアルデヒド重亜硫酸ナトリウムを含有する
ゼラチンであり、そして透過性光重合性層3は米
国特許第4229517号明細書例1記載のネガとして
働く系である。任意のカバーシートを光重合性層
3にコーテイングまたは積層させてそれを保護
し、そして酸素阻害を阻止することができる。こ
の層3の紫外線放射に富んだ露光光源への像様露
光はこの放射により衝突された部分に重合物質の
像部分7を生成させる。現像液9(例えば水性
NaCO3)に接触させた場合、これらの部分は拡
散レジストとして働く。すなわちこれは現像剤9
の拡散を遅らせる。しかしながら未露光および未
重合部分6は速やかに現像液をその下にある層2
の部分に拡散させ、これら部分で硬化剤を放出さ
せそしてゼラチンの交叉結合を生成させる。次い
で非交叉結合部分を像形成層3と共に温水で洗去
して着色陽画像を支持体上に残留させることがで
きる。 適当な支持体は高分子重合体例えば種々の厚さ
を有するポリアミド、ポリオレフイン、ポリエス
テル、ビニル重合体およびセルロースエステルよ
りなる広範囲の種々のフイルムから選ぶことがで
きる。また金属箔、紙その他もまた有用である。
支持体の選択は本発明に本質的ではないがしかし
光感受性層を受容すべく適当に下塗りしたポリエ
チレンテレフタレートが好ましい。 非光感受性層はゼラチン(好ましい)またはそ
の他の物質例えばポリビニルアルコール
(PVA)、カルバミル化PVA、ポリアクリルアミ
ド、ポリエチレンイミン、カルボキシメチルセル
ロース(CMC)、ヒドロキシエチルセルロース
(HEC)またはCMCとの混合物でありうる硬化
性結合剤よりなる。硬化性結合剤と相容しうる放
出性硬化剤が選ばれなくてはならない。例えばグ
ルタルアルデヒド重亜硫酸ナトリウムはゼラチン
およびPVAならびにポリアクリルアミドおよび
ポリエチレンイミンに関しては特に有効である。 その他のゼラチン硬化剤としては例えばグリオ
キザール―重亜硫酸ナトリウム、ホルムアルデヒ
ド―重亜硫酸ナトリウムおよび殿粉ジアルデヒド
―重亜硫酸ナトリウム(または前記のその他のア
ルカリ金属塩)があげられる。 例えば「TYZOR」としてデユポン社から発売
されている有機チタネートをCr+3の塩と同様に
CMCに対する放出性硬化剤として使用しうる。
また、放出現像剤溶液を使用される放出性硬化剤
とバランスさせて本発明の完全な効果を得るよう
にしなくてはならない。これら溶液のほとんどは
水性アルカリ例えばNa2CO3(炭酸ナトリウム)、
KOH,NaOHその他である。その他の添加剤を
存在させてこの層の未硬化部分の洗去を助け、そ
して所望によりすべての像形成性光重合性層の除
去を助けることができる。 種々の着色剤すなわち顔料および染料を非光感
受性層に加えて所望により像の着色をなすことが
できる。カーボンブラツク(コロイドカーボン)
が好ましい。しかしながらその他の物質例えば酸
化鉄もまた有効に使用しうる。それらはまた、硬
化性結合剤と相容性でなくてはならない。 本発明に使用しうる紫外線染料、紫外線吸収剤
およびその他の染料の例は以下に列記されてい
る。 2,2′―ジヒドロキシ―4―メトキシベンゾフ
エノン、 4―ドデシルオキシ―2―ヒドロキシベンゾフ
エノン、 2,4―ジヒドロキシベンゾフエノン、 ヒドロキシエニルベンゾトリアゾール、 2(2′―ヒドロキシ―5′―メトキシフエニル)
ベンゾトリアゾール、 レゾルシノールモノベンゾエート、 2―ヒドロキシ―4―メトキシベンゾフエノ
ン、 2,2′―ジヒドロキシ―4,4′―ジメトキシベ
ンゾフエノン、 2,2′,4,4′―テトラヒドロキシベンゾフエ
ノン、 2―ヒドロキシ―4―メトキシ―ベンゾフエノ
ン―5―スルホン酸(および前記のもののナトリ
ウム塩)、 エチル―2―シアノ―3,3―ジフエニルアク
レート、 2―エチルヘキシル―2―シアノ―3,3―ジ
フエニルアクリレート、 LUXOL ORANGE GRL
C.I.#25(ソルベントオレンジ) LUXOL ORANGE GS
C.I.#24(ソルベントオレンジ) LUXOL ORANGE R
C.I.#20(ソルベントオレンジ) PLASTO ORANGE M
C.I.#21(ソルベントオレンジ) PLASTO ORANGE RS
C.I.#22(ソルベントオレンジ) GRASOLフアストオレンジ 2RN
C.I.#33(ソルベントオレンジ) オイルオレンジ
C.I.#12055(ソルベントイエロー#14) スーダンオレンジ RA
C.I.#12055(ソルベントイエロー#14) LUXOL YELLOW G
C.I.#45(ソルベントイエロー) LUXOL YELLOW T
C.I.#47(ソルベントイエロー) PLASTO YELLOW GR
C.I.#39(ソルベントイエロー) PLASTO YELLOW MGS
C.I.#40(ソルベントイエロー) OLL YELLOW 3G
C.I.#29(ソルベントイエロー) SUDAN YELLOW
C.I.#30(ソルベントイエロー) LUXOL FAST BLUE AR
C.I.#37(ソルベントブルー) LUXOL FAST BLACK L
C.I.#17(ソルベントブラツク) プリムローズイエロー C.I.#77603(顔料) クロムイエローライト C.I.#77603(顔料) クロムイエローメデアム C.I.77600(顔料) 分散二酸化マンガン トルイジンイエローGW C.I.#71680(顔料) モリブデートオレンジ C.I.#77605(顔料) ダラマルイエロー C.I.#11741(顔料) グリーンゴールド C.I.#12775(顔料) グラフトールイエロー
C.I.ピグメントイエロー#61 グラフトールオレンジ
C.I.ピグメントオレンジ#13 350〜400nm域全体にわたつて薄層中に少くと
も3.0の光学濃度を得るためには、往々にして通
常硬化性の結合剤層の15〜40重量%程度の高パー
セントの染料および/または顔料が要求される。 光重合性組成物中では、その組成物の少くとも
1種の成分の分子量が活性線放射への露光により
増大して露光部分のレオロジー性および熱的性質
に変化を生ぜしめ、そして露光部分を未露光部分
に比べて相対的に溶媒溶解性のより少いものとし
それによつて溶媒現像可能な像を生成せしめる。
本発明に使用するための光重合性組成物は更に以
下に記載されているように通常光開始剤、スペク
トルの活性領域中で層2を不透明化させる活性線
放射吸収剤、光重合性単量体および重合体状結合
剤を包含する。 この光重合性組成物は活性線放射すなわち
5300nmおよびそれ以上のものにより活性化可能
なエチレン性不飽和化合物の重合を開始させそし
て反応を続いて停止させない有機遊離ラジカル生
成系を含有している。この遊離ラジカル生成系は
約300〜500nmの範囲内に少くとも約50の分子吸
光係数をもつ活性線放射吸収バンドを有する少く
とも1種の成分を含有している。「活性線放射吸
収バンド」とは重合を開始させるに必要なラジカ
ルを生成させるに活性な放射バンドを意味してい
る。 遊離ラジカル生成系は放射により活性化された
場合直接遊離ラジカルを生成する1種またはそれ
以上の化合物を包含しうる。それはまたその1種
が放射により活性化された増感剤によりそうする
ようにされた後では遊離ラジカルを生成するよう
な複数種の化合物を包含しうる。 本発明の実施において使用することができる光
開始剤としては、芳香族ケトン例えばベンゾフエ
ノン、ミヒラーのケトン〔4,4′―ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフエノン〕、4,4―ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフエノン、4―アクリルオ
キシ―4′―ジメチルアミノベンゾフエノン、2―
エチルアントラキノン、フエナントラキノンおよ
びその他の芳香族ケトン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンエーテル例えばベンゾインメチルエーテルおよ
びベンゾインフエニルエーテル、メチルベンゾイ
ン、エチルベンゾインおよびその他のベンゾイ
ン、および4,4,5―トリアリールイミダゾー
ル二量体例えば2―(o―クロロフエニル)―
4,5―ジフエニルイミダゾール二量体、2―
(o―クロロフエニル)―4,5―(m―メトキ
シフエニル)イミダゾール二量体、2―(o―フ
ルオロフエニル)―4,5―ジフエニルイミダゾ
ール二量体、2―(o―メトキシフエニル)―
4,5―ジフエニルイミダゾール二量体、2―
(p―メトキシフエニル)―4,5―ジフエニル
イミダゾール二量体、2,4―ジ(p―メトキシ
フエニル)―5―フエニルイミダゾール二量体、
2―(2,4―ジメトキシフエニル)―4,5―
ジフエニルイミダゾール二量体、2―(p―メチ
ルメルカプトフエニル)―4,5―ジフエニルイ
ミダゾール二量体、およびその他例えば米国特許
第3479185号、英国特許第997396号および米国特
許第3784557号各明細書に開始のものがあげられ
る。 特に有用な開始剤は、2,4,5―トリアリー
ルイミダゾール二量体である(ヘキサアリルイミ
ダゾール二量体としても知られている)。これら
は遊離ラジカル生成性電子ドナー剤例えば2―メ
ルカプトベンゾキサゾール、ロイコクリスタルバ
イオレツトまたはトリ(4―ジエチルアミノ―2
―メチルフエニル)メタンと共に使用される。ミ
ヒラーのケトンのような増感剤を加えることがで
きる。種々のエネルギー伝達染料例えばローズベ
ンガルおよびエオジンYも使用できる。適当な開
始剤のその他の例は米国特許第2760863号明細書
に開示されている。その他の有用な系はトリアリ
ールイミダゾール二量体および遊離ラジカル生成
性電子ドナー剤を米国特許第3479185号明細書に
教示のような増感作用化合物と共にか、またはそ
れなしで使用している。その他の有用な開始剤群
は米国特許第3427161号明細書記載の混合物であ
る。 遊離ラジカル生成系は全組成物基準で通常は約
0.1〜25重量%そして好ましくは約2〜20重量%
である重合を開始させるに充分な濃度で使用され
る。 本発明はいずれかの特定の重合性単量体の使用
に限定されるものではない。単量体がエチレン性
不飽和でありそして付加重合しうるをいうこをの
みが要求されている。1種またはそれ以上の末端
エチレン基により特性づけされた多数の有用な単
量体が入手可能である。適当な単量体の中には
種々のビニルおよびビニリデン単量体例えばビニ
ルカルボキシレート、α―アルキルアクリレー
ト、α―置換アクリル酸およびそのエステル、ビ
ニルエステル、ビニル炭化水素、ポリメチレング
リコールおよびエーテルアルコールのアクリル酸
およびα―置換アクリル酸エステル(すべて米国
特許第2760863号および同第2971504号明細書に開
示)、米国特許第2927022号明細書に開示の種々の
化合物そして特に末端結合として存在している場
合の複数個の付加重合性エチレン結合を有するも
の、そしてより特別にはそのような結合の少くと
も1個そして好ましくはほとんどが炭素―炭素二
重結合または炭素―ヘテロ原子(例えば窒素、酸
素および硫黄)二重結合を含む二重結合炭素に共
役しているもの、米国特許第3261686号明細書に
開示の種類のペンタエリスリトール化合物のエス
テルおよび米国特許第3380831号明細書に記載の
種類の化合物例えばトリメチロールプロパン、エ
チレンオキシドおよびアクリルおよびメタクリル
酸との反応生成物をあげることができる。 使用される単量体濃度は通常組成物の全固体分
基準で約7.5〜35重量%そして好ましくは15〜25
%である。 光重合体層中に使用される結合剤は好ましくは
50℃において固体状の有機重合体物質である。こ
の結合剤は重合性単量体および重合開始剤系と相
容性であることが必要である。往々にして結合剤
は熱可塑性であることが望ましいがしかしそれは
必要ではない。この結合剤は使用される重合性単
量体と同一の一般タイプのものでありうるしまた
はその中に可溶性でありかつそれにより可塑化さ
れるものでありうる。 熱可塑性および非熱可塑性である広範囲の種種
の適当な結合剤例えばセルロースエーテルまたは
エステル、ポリアルキレンエーテル、グリコール
と二塩基性酸との縮合重合体、ビニルエステルの
重合体および共重合体を、アクリル酸およびエス
テル、ポリビニルアルコール、セルロース、フエ
ノール樹脂その他が米国特許第3060023号明細書
に開示されている。多数のビニリデン重合体を含
むその他の結合剤が米国特許第2760863号および
同第2791504号各明細書に開示されている。更に
その他の有用な結合剤は英国特許第826272号明細
書のN―メトキシメチルポリヘキサンメチレンア
ジパミド混合物、米国特許第2892716号明細書の
ポリエステル、ポリアセタールまたは混合ポリエ
ステルアセタール混合物、米国特許第2902365号
明細書の溶融性ポリビニルアルコール誘導体、米
国特許第2902365号明細書の選ばれた有機可溶性
セルロース誘導体の溶融性ブレンド、米国特許第
2927022号明細書の選ばれた有機可溶性塩基可溶
性セルロース誘導体の溶融ブレンド、米国特許第
2902710号明細書の線外ビニリデン基含有ポリビ
ニルアセタール、米国特許第2972540号明細書の
線外N―アクリルオキシメチル基含有線状ポリア
ミド、および米国特許第3024180号明細書の1,
3―ブタジエンである。 結合剤または結合剤混合物は通常全固体分の10
〜75重量%を構成する。 結合剤として特に好ましいのは、酸性重合体状
有機化合物である。その理由は得られる光重合性
組成物が有機溶媒のない水性アルカリ性溶媒中で
現像可能となるからである。このことは有利であ
り、何となれば、有機溶媒は費用がかかり、毒性
および/または可燃焼性に関して危険でありうる
し、石油化学的不足の故に希少となりうるし、そ
して大気および河川を汚染させうるからである。 水性アルカリ性媒体に可溶性でそして本発明の
組成物中に有用なフイルム形成性結合剤の一つの
群は遊離カルボン酸基を含有するビニル付加重合
体より構成されている。これは30〜94モル%の1
種またはそれ以上のアルキルアクリレートと70〜
6モル%の1種またはそれ以上のα,β―エチレ
ン性不飽和カルボン酸、そしてより好ましくは61
〜94モル%の2種のアルキルアクリレートと39〜
6モル%のα,β―エチレン性不飽和カルボン酸
から製造される。これら重合体結合剤の製造に使
用するに適当なアルキルアクリレートとしてはメ
チルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、ブチルメタクリレートその他が
あげられる。適当なα,β―エチレン性不飽和カ
ルボン酸としてはアクリル酸、メタクリル酸その
他があげられる。それらの製造を含むこのタイプ
の結合剤は西ドイツ特許出願公開第2320849号明
細書に記載されている。 酸性結合剤を使用することの利点はまた英国特
許第1361298号明細書に詳細に記載されているよ
うな、(1)スチレンタイプビニル単量体および(2)不
飽和カルボキシ含有単量体の共重合体である予生
成された相容性高分子重合体状結合剤を選ぶこと
によつても得られる。 その他の好ましい光重合性組成物はその成分が
特定の二つの群からとられたものである予生成さ
れた相容性高分子重合体状結合剤の使用により得
られる。英国特許第1507704号明細書記載のよう
な混合物の使用は現像における有機溶媒の必要を
除外させる。これらは2種のタイプの結合剤の混
合物である。第1のタイプは好ましくはビニルア
セテートとクロトン酸との共重合体、エチルアク
リレート、メチルメタクリレートおよびアクリル
酸のターポリマー、およびセルロースアセテート
サクシネートより選ばれる。第2のタイプは好ま
しくはトルエンスルホンアミドホルムアルデヒ
ド、メチルメタクリレートとメタクリル酸の共重
合体、メチルメタクリレート、エチルアクリレー
トおよびハイドロジエンマレアートのターポリマ
ー、塩化ビニル、ビニルアセテートおよびマレイ
ン酸のターポリマー、スチレンとマレイン無水物
との共重合体、およびメチルメタクリレート、エ
チルアクリレートおよびメタクリル酸のターポリ
マーから選ばれる。 非光感受性層を適当な溶媒(例えば水)から支
持体上のコーテイングすることができる。乾燥
後、光重合性層を適当な溶媒から適用する。カバ
ーシート例えばマイラーポリエステル(デユポン
社製品)として入手できる薄いポリエチレンテレ
フタレートシートを通常この光重合性層上に積層
せしめる。これらの段階はすべて当技術分野では
一般的である。 本発明は以下に次の実施例により説明されるが
この中で例1が最良の様式と考えられる。 例 1 次の溶液を製造して図面中に本発明の層2とし
て同定されているのを形成させる。 成 分 量(g) 蒸 留 水 130 ゼラチン 2.5 グルタルアルデヒド― 重亜硫酸ナトリウム 0.55 カーボンブラツク (ヘリオエヒトシユバルルVM) 12.2 上記で使用されたカーボンブラツクはピグメン
トフアストブラツク・カーボンブラツク(35%)、
ポリオキシエチレンステアリルエーテル非イオン
性表面活性剤(14%)、ナリウムアルキルアリー
ルスルホネート表面活性剤(10%)、メチルペン
タンジオール(25%)および水(25%)よりなる
ものでモーベイ社より入手できる。 得られた溶液を通常の方法で標準ビニリデンク
ロリド、エチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート下塗りでコーテイングしそしてこの上に薄い
ゼラチン基層をもコーテイングしてある4.2ミル
透明ポリエチレンテレフタレートフイルムベース
(1)上にコーテイングする。このコーテイングには
2ミルのドクターナイフが使用される。 次の溶液を製造して本発明の光重合性層3とし
て図面に同定されているものを製造する。
な優れた画像品質を有する低コストで単一露光、
水性処理可能なポジとして働く光重合体エレメン
トおよび新規な画像形成法に関する。 電子画像形成の分野においては、便利かつ安価
な画像形成系に対する需要が存在している。通常
はこれらの需要は光感受性エレメントとしてハロ
ゲン化銀を使用する写真系により満足されてい
る。銀の価格が上昇するにつれて、より低いコス
トの系に対する要求が存在するようになつた。光
重合体エレメントは現在この分野で評価されてい
る。光重合体を使用して満足すべき画像を生成さ
せることができるけれども、それらは代表的なハ
ロゲン化銀エレメントよりも通常数百倍以上もよ
り遅く、そしてこれは通常ネガとして働くもので
ある。ポジとして働かせる場合にはそれは往々に
して2回の露光を必要とする。例えば電子画像形
成分野の要求を満足させるための水性溶液中で処
理できる安価な単一露光のポジとして働く光重合
体エレメントに対しては切実な需要が存在してい
る。 本発明の目的はその一方の側に順次に1)放出
可能な硬化剤を混合しめられた硬化性結合剤を包
含する非光感受性(すなわち非感光性)層および
2)透過性光重合性層をコーテイングした支持体
より本質的になる、ポジとして働く光重合体エレ
メントを提供することにより充足されうる。 例示的具体例において、本発明は本質的に支持
体、前記支持体上のカーボンブラツク、ゼラチン
およびグルタルアルデヒドビサルフアイト
(GDA−HSO3)を包含する不透明な非光活性層
およびそれに隣接してコーテイングされた光重合
性層よりなる。単一露光のポジとして働く二重層
光重合体エレメントに関する。光重合性層の像様
露光の後、光重合体エレメントをK2CC3/
KHCC3含有水性現像溶液で処理する。この溶液
は優先的に光重合性層の未露光部分を通つて不透
明層まで拡散していき、グルタルアルデヒドを放
出させる。これは迅速にまわりのゼラチンを硬化
させる。次いで光重合性層全体および不透明層の
未硬化部分を洗浄により除去して原画の直接陽画
像を残す。 グルタルアルデヒドは特に高いPHにおいては非
常に急速にゼラチンを硬化させることが知られて
いるが、しかしグルタルアルデヒド自体はその揮
発性、易動性および反応性の故に写真系中では望
ましくないものである。しかしながらそれは重亜
硫酸ナトリウムと反応して安定な結晶性水溶性付
加物を生成する。炭酸塩の存在下にこの反応は逆
行して遊離のグルタルアルデヒドを放出する。 着色剤例えばカーボンブラツクと共にグルタル
アルデヒド重亜硫酸ナトリウムを含有するゼラチ
ン層の上に光重合性層をコーテイングした本発明
の二層構造体はこの反応機構に基づくものであ
る。しかしながら同一の原則は以下に更に説明さ
れるように同様の反応に適用することができる。 添付図面について述べるに、第1図は露光前の
本発明のポジとして働く光重合体エレメントを示
している。ここに支持体1は放出性硬化剤を含有
する硬化性結合剤を包含する非光感受性層2およ
び透過性光重合性層すなわち像形成性層である上
側層3でコーテイングされている。 第2図においてエレメントは画像5を通して活
性線放射4および4aにより露光されている。光
線4は光重合性層3にぶつかることにより阻止さ
れ、一方光線4aは前記層にぶつかり露光部分7
に光重合を生ぜしめる。部分6は未露光そして未
重合であり、そして従つて透過性に留まる。 第3図は露光エレメントを現像液9に接触させ
ることによる現像を示す。この液は未露光部分6
を透過しそして層2の下にある部分の硬化剤を放
出させ、これら部分の結合剤を硬化せしめる。 第4図は層2の未硬化部分を洗去させ、所望に
より層3のすべてを同時に除去させた後に得られ
る最終陽画像を示す。 好ましい具体例においては、支持体1はこの場
合には適当に下塗り(サブコーテイング)された
「クロナール(Cronar)」ポリエステル(デユポ
ン社製品、可撓性透明ポリエチレンテレフタレー
トフイルムに対する商品名)であり、非光感受性
層2は可視像を生成させるための着色剤としての
カーボンブラツクおよび放出性硬化剤としてのグ
ルタルアルデヒド重亜硫酸ナトリウムを含有する
ゼラチンであり、そして透過性光重合性層3は米
国特許第4229517号明細書例1記載のネガとして
働く系である。任意のカバーシートを光重合性層
3にコーテイングまたは積層させてそれを保護
し、そして酸素阻害を阻止することができる。こ
の層3の紫外線放射に富んだ露光光源への像様露
光はこの放射により衝突された部分に重合物質の
像部分7を生成させる。現像液9(例えば水性
NaCO3)に接触させた場合、これらの部分は拡
散レジストとして働く。すなわちこれは現像剤9
の拡散を遅らせる。しかしながら未露光および未
重合部分6は速やかに現像液をその下にある層2
の部分に拡散させ、これら部分で硬化剤を放出さ
せそしてゼラチンの交叉結合を生成させる。次い
で非交叉結合部分を像形成層3と共に温水で洗去
して着色陽画像を支持体上に残留させることがで
きる。 適当な支持体は高分子重合体例えば種々の厚さ
を有するポリアミド、ポリオレフイン、ポリエス
テル、ビニル重合体およびセルロースエステルよ
りなる広範囲の種々のフイルムから選ぶことがで
きる。また金属箔、紙その他もまた有用である。
支持体の選択は本発明に本質的ではないがしかし
光感受性層を受容すべく適当に下塗りしたポリエ
チレンテレフタレートが好ましい。 非光感受性層はゼラチン(好ましい)またはそ
の他の物質例えばポリビニルアルコール
(PVA)、カルバミル化PVA、ポリアクリルアミ
ド、ポリエチレンイミン、カルボキシメチルセル
ロース(CMC)、ヒドロキシエチルセルロース
(HEC)またはCMCとの混合物でありうる硬化
性結合剤よりなる。硬化性結合剤と相容しうる放
出性硬化剤が選ばれなくてはならない。例えばグ
ルタルアルデヒド重亜硫酸ナトリウムはゼラチン
およびPVAならびにポリアクリルアミドおよび
ポリエチレンイミンに関しては特に有効である。 その他のゼラチン硬化剤としては例えばグリオ
キザール―重亜硫酸ナトリウム、ホルムアルデヒ
ド―重亜硫酸ナトリウムおよび殿粉ジアルデヒド
―重亜硫酸ナトリウム(または前記のその他のア
ルカリ金属塩)があげられる。 例えば「TYZOR」としてデユポン社から発売
されている有機チタネートをCr+3の塩と同様に
CMCに対する放出性硬化剤として使用しうる。
また、放出現像剤溶液を使用される放出性硬化剤
とバランスさせて本発明の完全な効果を得るよう
にしなくてはならない。これら溶液のほとんどは
水性アルカリ例えばNa2CO3(炭酸ナトリウム)、
KOH,NaOHその他である。その他の添加剤を
存在させてこの層の未硬化部分の洗去を助け、そ
して所望によりすべての像形成性光重合性層の除
去を助けることができる。 種々の着色剤すなわち顔料および染料を非光感
受性層に加えて所望により像の着色をなすことが
できる。カーボンブラツク(コロイドカーボン)
が好ましい。しかしながらその他の物質例えば酸
化鉄もまた有効に使用しうる。それらはまた、硬
化性結合剤と相容性でなくてはならない。 本発明に使用しうる紫外線染料、紫外線吸収剤
およびその他の染料の例は以下に列記されてい
る。 2,2′―ジヒドロキシ―4―メトキシベンゾフ
エノン、 4―ドデシルオキシ―2―ヒドロキシベンゾフ
エノン、 2,4―ジヒドロキシベンゾフエノン、 ヒドロキシエニルベンゾトリアゾール、 2(2′―ヒドロキシ―5′―メトキシフエニル)
ベンゾトリアゾール、 レゾルシノールモノベンゾエート、 2―ヒドロキシ―4―メトキシベンゾフエノ
ン、 2,2′―ジヒドロキシ―4,4′―ジメトキシベ
ンゾフエノン、 2,2′,4,4′―テトラヒドロキシベンゾフエ
ノン、 2―ヒドロキシ―4―メトキシ―ベンゾフエノ
ン―5―スルホン酸(および前記のもののナトリ
ウム塩)、 エチル―2―シアノ―3,3―ジフエニルアク
レート、 2―エチルヘキシル―2―シアノ―3,3―ジ
フエニルアクリレート、 LUXOL ORANGE GRL
C.I.#25(ソルベントオレンジ) LUXOL ORANGE GS
C.I.#24(ソルベントオレンジ) LUXOL ORANGE R
C.I.#20(ソルベントオレンジ) PLASTO ORANGE M
C.I.#21(ソルベントオレンジ) PLASTO ORANGE RS
C.I.#22(ソルベントオレンジ) GRASOLフアストオレンジ 2RN
C.I.#33(ソルベントオレンジ) オイルオレンジ
C.I.#12055(ソルベントイエロー#14) スーダンオレンジ RA
C.I.#12055(ソルベントイエロー#14) LUXOL YELLOW G
C.I.#45(ソルベントイエロー) LUXOL YELLOW T
C.I.#47(ソルベントイエロー) PLASTO YELLOW GR
C.I.#39(ソルベントイエロー) PLASTO YELLOW MGS
C.I.#40(ソルベントイエロー) OLL YELLOW 3G
C.I.#29(ソルベントイエロー) SUDAN YELLOW
C.I.#30(ソルベントイエロー) LUXOL FAST BLUE AR
C.I.#37(ソルベントブルー) LUXOL FAST BLACK L
C.I.#17(ソルベントブラツク) プリムローズイエロー C.I.#77603(顔料) クロムイエローライト C.I.#77603(顔料) クロムイエローメデアム C.I.77600(顔料) 分散二酸化マンガン トルイジンイエローGW C.I.#71680(顔料) モリブデートオレンジ C.I.#77605(顔料) ダラマルイエロー C.I.#11741(顔料) グリーンゴールド C.I.#12775(顔料) グラフトールイエロー
C.I.ピグメントイエロー#61 グラフトールオレンジ
C.I.ピグメントオレンジ#13 350〜400nm域全体にわたつて薄層中に少くと
も3.0の光学濃度を得るためには、往々にして通
常硬化性の結合剤層の15〜40重量%程度の高パー
セントの染料および/または顔料が要求される。 光重合性組成物中では、その組成物の少くとも
1種の成分の分子量が活性線放射への露光により
増大して露光部分のレオロジー性および熱的性質
に変化を生ぜしめ、そして露光部分を未露光部分
に比べて相対的に溶媒溶解性のより少いものとし
それによつて溶媒現像可能な像を生成せしめる。
本発明に使用するための光重合性組成物は更に以
下に記載されているように通常光開始剤、スペク
トルの活性領域中で層2を不透明化させる活性線
放射吸収剤、光重合性単量体および重合体状結合
剤を包含する。 この光重合性組成物は活性線放射すなわち
5300nmおよびそれ以上のものにより活性化可能
なエチレン性不飽和化合物の重合を開始させそし
て反応を続いて停止させない有機遊離ラジカル生
成系を含有している。この遊離ラジカル生成系は
約300〜500nmの範囲内に少くとも約50の分子吸
光係数をもつ活性線放射吸収バンドを有する少く
とも1種の成分を含有している。「活性線放射吸
収バンド」とは重合を開始させるに必要なラジカ
ルを生成させるに活性な放射バンドを意味してい
る。 遊離ラジカル生成系は放射により活性化された
場合直接遊離ラジカルを生成する1種またはそれ
以上の化合物を包含しうる。それはまたその1種
が放射により活性化された増感剤によりそうする
ようにされた後では遊離ラジカルを生成するよう
な複数種の化合物を包含しうる。 本発明の実施において使用することができる光
開始剤としては、芳香族ケトン例えばベンゾフエ
ノン、ミヒラーのケトン〔4,4′―ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフエノン〕、4,4―ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフエノン、4―アクリルオ
キシ―4′―ジメチルアミノベンゾフエノン、2―
エチルアントラキノン、フエナントラキノンおよ
びその他の芳香族ケトン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンエーテル例えばベンゾインメチルエーテルおよ
びベンゾインフエニルエーテル、メチルベンゾイ
ン、エチルベンゾインおよびその他のベンゾイ
ン、および4,4,5―トリアリールイミダゾー
ル二量体例えば2―(o―クロロフエニル)―
4,5―ジフエニルイミダゾール二量体、2―
(o―クロロフエニル)―4,5―(m―メトキ
シフエニル)イミダゾール二量体、2―(o―フ
ルオロフエニル)―4,5―ジフエニルイミダゾ
ール二量体、2―(o―メトキシフエニル)―
4,5―ジフエニルイミダゾール二量体、2―
(p―メトキシフエニル)―4,5―ジフエニル
イミダゾール二量体、2,4―ジ(p―メトキシ
フエニル)―5―フエニルイミダゾール二量体、
2―(2,4―ジメトキシフエニル)―4,5―
ジフエニルイミダゾール二量体、2―(p―メチ
ルメルカプトフエニル)―4,5―ジフエニルイ
ミダゾール二量体、およびその他例えば米国特許
第3479185号、英国特許第997396号および米国特
許第3784557号各明細書に開始のものがあげられ
る。 特に有用な開始剤は、2,4,5―トリアリー
ルイミダゾール二量体である(ヘキサアリルイミ
ダゾール二量体としても知られている)。これら
は遊離ラジカル生成性電子ドナー剤例えば2―メ
ルカプトベンゾキサゾール、ロイコクリスタルバ
イオレツトまたはトリ(4―ジエチルアミノ―2
―メチルフエニル)メタンと共に使用される。ミ
ヒラーのケトンのような増感剤を加えることがで
きる。種々のエネルギー伝達染料例えばローズベ
ンガルおよびエオジンYも使用できる。適当な開
始剤のその他の例は米国特許第2760863号明細書
に開示されている。その他の有用な系はトリアリ
ールイミダゾール二量体および遊離ラジカル生成
性電子ドナー剤を米国特許第3479185号明細書に
教示のような増感作用化合物と共にか、またはそ
れなしで使用している。その他の有用な開始剤群
は米国特許第3427161号明細書記載の混合物であ
る。 遊離ラジカル生成系は全組成物基準で通常は約
0.1〜25重量%そして好ましくは約2〜20重量%
である重合を開始させるに充分な濃度で使用され
る。 本発明はいずれかの特定の重合性単量体の使用
に限定されるものではない。単量体がエチレン性
不飽和でありそして付加重合しうるをいうこをの
みが要求されている。1種またはそれ以上の末端
エチレン基により特性づけされた多数の有用な単
量体が入手可能である。適当な単量体の中には
種々のビニルおよびビニリデン単量体例えばビニ
ルカルボキシレート、α―アルキルアクリレー
ト、α―置換アクリル酸およびそのエステル、ビ
ニルエステル、ビニル炭化水素、ポリメチレング
リコールおよびエーテルアルコールのアクリル酸
およびα―置換アクリル酸エステル(すべて米国
特許第2760863号および同第2971504号明細書に開
示)、米国特許第2927022号明細書に開示の種々の
化合物そして特に末端結合として存在している場
合の複数個の付加重合性エチレン結合を有するも
の、そしてより特別にはそのような結合の少くと
も1個そして好ましくはほとんどが炭素―炭素二
重結合または炭素―ヘテロ原子(例えば窒素、酸
素および硫黄)二重結合を含む二重結合炭素に共
役しているもの、米国特許第3261686号明細書に
開示の種類のペンタエリスリトール化合物のエス
テルおよび米国特許第3380831号明細書に記載の
種類の化合物例えばトリメチロールプロパン、エ
チレンオキシドおよびアクリルおよびメタクリル
酸との反応生成物をあげることができる。 使用される単量体濃度は通常組成物の全固体分
基準で約7.5〜35重量%そして好ましくは15〜25
%である。 光重合体層中に使用される結合剤は好ましくは
50℃において固体状の有機重合体物質である。こ
の結合剤は重合性単量体および重合開始剤系と相
容性であることが必要である。往々にして結合剤
は熱可塑性であることが望ましいがしかしそれは
必要ではない。この結合剤は使用される重合性単
量体と同一の一般タイプのものでありうるしまた
はその中に可溶性でありかつそれにより可塑化さ
れるものでありうる。 熱可塑性および非熱可塑性である広範囲の種種
の適当な結合剤例えばセルロースエーテルまたは
エステル、ポリアルキレンエーテル、グリコール
と二塩基性酸との縮合重合体、ビニルエステルの
重合体および共重合体を、アクリル酸およびエス
テル、ポリビニルアルコール、セルロース、フエ
ノール樹脂その他が米国特許第3060023号明細書
に開示されている。多数のビニリデン重合体を含
むその他の結合剤が米国特許第2760863号および
同第2791504号各明細書に開示されている。更に
その他の有用な結合剤は英国特許第826272号明細
書のN―メトキシメチルポリヘキサンメチレンア
ジパミド混合物、米国特許第2892716号明細書の
ポリエステル、ポリアセタールまたは混合ポリエ
ステルアセタール混合物、米国特許第2902365号
明細書の溶融性ポリビニルアルコール誘導体、米
国特許第2902365号明細書の選ばれた有機可溶性
セルロース誘導体の溶融性ブレンド、米国特許第
2927022号明細書の選ばれた有機可溶性塩基可溶
性セルロース誘導体の溶融ブレンド、米国特許第
2902710号明細書の線外ビニリデン基含有ポリビ
ニルアセタール、米国特許第2972540号明細書の
線外N―アクリルオキシメチル基含有線状ポリア
ミド、および米国特許第3024180号明細書の1,
3―ブタジエンである。 結合剤または結合剤混合物は通常全固体分の10
〜75重量%を構成する。 結合剤として特に好ましいのは、酸性重合体状
有機化合物である。その理由は得られる光重合性
組成物が有機溶媒のない水性アルカリ性溶媒中で
現像可能となるからである。このことは有利であ
り、何となれば、有機溶媒は費用がかかり、毒性
および/または可燃焼性に関して危険でありうる
し、石油化学的不足の故に希少となりうるし、そ
して大気および河川を汚染させうるからである。 水性アルカリ性媒体に可溶性でそして本発明の
組成物中に有用なフイルム形成性結合剤の一つの
群は遊離カルボン酸基を含有するビニル付加重合
体より構成されている。これは30〜94モル%の1
種またはそれ以上のアルキルアクリレートと70〜
6モル%の1種またはそれ以上のα,β―エチレ
ン性不飽和カルボン酸、そしてより好ましくは61
〜94モル%の2種のアルキルアクリレートと39〜
6モル%のα,β―エチレン性不飽和カルボン酸
から製造される。これら重合体結合剤の製造に使
用するに適当なアルキルアクリレートとしてはメ
チルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、ブチルメタクリレートその他が
あげられる。適当なα,β―エチレン性不飽和カ
ルボン酸としてはアクリル酸、メタクリル酸その
他があげられる。それらの製造を含むこのタイプ
の結合剤は西ドイツ特許出願公開第2320849号明
細書に記載されている。 酸性結合剤を使用することの利点はまた英国特
許第1361298号明細書に詳細に記載されているよ
うな、(1)スチレンタイプビニル単量体および(2)不
飽和カルボキシ含有単量体の共重合体である予生
成された相容性高分子重合体状結合剤を選ぶこと
によつても得られる。 その他の好ましい光重合性組成物はその成分が
特定の二つの群からとられたものである予生成さ
れた相容性高分子重合体状結合剤の使用により得
られる。英国特許第1507704号明細書記載のよう
な混合物の使用は現像における有機溶媒の必要を
除外させる。これらは2種のタイプの結合剤の混
合物である。第1のタイプは好ましくはビニルア
セテートとクロトン酸との共重合体、エチルアク
リレート、メチルメタクリレートおよびアクリル
酸のターポリマー、およびセルロースアセテート
サクシネートより選ばれる。第2のタイプは好ま
しくはトルエンスルホンアミドホルムアルデヒ
ド、メチルメタクリレートとメタクリル酸の共重
合体、メチルメタクリレート、エチルアクリレー
トおよびハイドロジエンマレアートのターポリマ
ー、塩化ビニル、ビニルアセテートおよびマレイ
ン酸のターポリマー、スチレンとマレイン無水物
との共重合体、およびメチルメタクリレート、エ
チルアクリレートおよびメタクリル酸のターポリ
マーから選ばれる。 非光感受性層を適当な溶媒(例えば水)から支
持体上のコーテイングすることができる。乾燥
後、光重合性層を適当な溶媒から適用する。カバ
ーシート例えばマイラーポリエステル(デユポン
社製品)として入手できる薄いポリエチレンテレ
フタレートシートを通常この光重合性層上に積層
せしめる。これらの段階はすべて当技術分野では
一般的である。 本発明は以下に次の実施例により説明されるが
この中で例1が最良の様式と考えられる。 例 1 次の溶液を製造して図面中に本発明の層2とし
て同定されているのを形成させる。 成 分 量(g) 蒸 留 水 130 ゼラチン 2.5 グルタルアルデヒド― 重亜硫酸ナトリウム 0.55 カーボンブラツク (ヘリオエヒトシユバルルVM) 12.2 上記で使用されたカーボンブラツクはピグメン
トフアストブラツク・カーボンブラツク(35%)、
ポリオキシエチレンステアリルエーテル非イオン
性表面活性剤(14%)、ナリウムアルキルアリー
ルスルホネート表面活性剤(10%)、メチルペン
タンジオール(25%)および水(25%)よりなる
ものでモーベイ社より入手できる。 得られた溶液を通常の方法で標準ビニリデンク
ロリド、エチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート下塗りでコーテイングしそしてこの上に薄い
ゼラチン基層をもコーテイングしてある4.2ミル
透明ポリエチレンテレフタレートフイルムベース
(1)上にコーテイングする。このコーテイングには
2ミルのドクターナイフが使用される。 次の溶液を製造して本発明の光重合性層3とし
て図面に同定されているものを製造する。
【表】
これを2ミルのドクターナイフを使用して前記
で製造された層2の上にコーテイングする。その
上に薄い(約0.0005インチ)マイラーポリエステ
ルカバーシートを積層させてこのエレメントを保
護しそして酸素阻害を防止する。 この複合生成物をカバーシートおよび陰画試験
画像を通して約10秒間4kwキセノン光源に60イン
チの距離で露光させる。次いで露光エレメントか
らカバーシートを剥離し、そして16の蒸留水中
に840gのK2CO3および50gのKHCO3を包含する
溶液中で処理する。この現像溶液は速やかに光重
合体フイルム3の非画像部分を経てその下の黒色
の非光感受性層2の相当する部分に拡散する。こ
れらの部分でグルタルアルデヒドが放出されてゼ
ラチンに交叉結合および硬化を生ぜしめる。温水
中で洗うことによりそして柔らかい材料またはガ
ーゼでしずかにすることによつて、光重合性層3
は黒色非光感受性層2未硬化部分と共に全部除去
される。試験画像の高品質の陽画(ポジ)像が残
る。この最終画像は3.0以上の濃度および優れた
5〜95%ドツト忠実性を有している。 例 2 光重合性組成物の製造のために次の溶液を製造
する。
で製造された層2の上にコーテイングする。その
上に薄い(約0.0005インチ)マイラーポリエステ
ルカバーシートを積層させてこのエレメントを保
護しそして酸素阻害を防止する。 この複合生成物をカバーシートおよび陰画試験
画像を通して約10秒間4kwキセノン光源に60イン
チの距離で露光させる。次いで露光エレメントか
らカバーシートを剥離し、そして16の蒸留水中
に840gのK2CO3および50gのKHCO3を包含する
溶液中で処理する。この現像溶液は速やかに光重
合体フイルム3の非画像部分を経てその下の黒色
の非光感受性層2の相当する部分に拡散する。こ
れらの部分でグルタルアルデヒドが放出されてゼ
ラチンに交叉結合および硬化を生ぜしめる。温水
中で洗うことによりそして柔らかい材料またはガ
ーゼでしずかにすることによつて、光重合性層3
は黒色非光感受性層2未硬化部分と共に全部除去
される。試験画像の高品質の陽画(ポジ)像が残
る。この最終画像は3.0以上の濃度および優れた
5〜95%ドツト忠実性を有している。 例 2 光重合性組成物の製造のために次の溶液を製造
する。
【表】
例1の指示に従つて製造されそしてそこに教示
のようにポリエチレンテレフタレートフイルム支
持体上にコーテイングされた試料層2の上にこの
組成物をコーテイングする。マイラーポリエステ
ルカバーシートを次いでこの光重合性層上に積層
させそしてこのエレメントに例1記載のものと同
様の露光を与える。次いでこのカバーを除去し、
そして例1記載のようにして現像させる。優れた
濃度およびドツト品質の高品質の直接陽画像が得
られる。本例は本発明の非光感受性硬化性層と組
合せた更に別の光重合性層の使用を説明してい
る。 例 3 次の溶液を製造して本発明の層2として図面に
同定されているものを生成させる。 成 分 量(g) 蒸 留 水 65 ゼラチン 1.25 NaHSO3 0.1 グリオキザール― 重亜硫酸ナトリウム 0.275 ヘリオエヒトシユバルツカ ーボンブラツク(例1参照) 6 この組成物をフイルム支持体上にコーテイング
させ、そして例1の光重合性組成物でオーバーコ
ーテイングする。例1記載のようにカバー層を適
用しそしてエレメントを露光させそして現像す
る。優れた陽画像が得られる。このことはグリオ
キザール―重亜硫酸ナトリウムを本発明の放出性
硬化剤として使用しうるということを示してい
る。 例 4 次の溶液を製造して本発明の層2を生成させ
る。
のようにポリエチレンテレフタレートフイルム支
持体上にコーテイングされた試料層2の上にこの
組成物をコーテイングする。マイラーポリエステ
ルカバーシートを次いでこの光重合性層上に積層
させそしてこのエレメントに例1記載のものと同
様の露光を与える。次いでこのカバーを除去し、
そして例1記載のようにして現像させる。優れた
濃度およびドツト品質の高品質の直接陽画像が得
られる。本例は本発明の非光感受性硬化性層と組
合せた更に別の光重合性層の使用を説明してい
る。 例 3 次の溶液を製造して本発明の層2として図面に
同定されているものを生成させる。 成 分 量(g) 蒸 留 水 65 ゼラチン 1.25 NaHSO3 0.1 グリオキザール― 重亜硫酸ナトリウム 0.275 ヘリオエヒトシユバルツカ ーボンブラツク(例1参照) 6 この組成物をフイルム支持体上にコーテイング
させ、そして例1の光重合性組成物でオーバーコ
ーテイングする。例1記載のようにカバー層を適
用しそしてエレメントを露光させそして現像す
る。優れた陽画像が得られる。このことはグリオ
キザール―重亜硫酸ナトリウムを本発明の放出性
硬化剤として使用しうるということを示してい
る。 例 4 次の溶液を製造して本発明の層2を生成させ
る。
【表】
これを例1記載のようにして支持体上にコーテ
イングし、光重合性層でオーバーコーテイング
し、カバーシートを積層させ、露光させそして現
像する。素晴らしい高品質の直接陽画像が得られ
る。これはポリビニルアルコール結合剤と放出性
硬化剤としての硼酸とを本発明の限界内で使用す
ることがきるということを示している。 例 5 次の溶液を製造して本発明の別の態様の層2を
生成させる。
イングし、光重合性層でオーバーコーテイング
し、カバーシートを積層させ、露光させそして現
像する。素晴らしい高品質の直接陽画像が得られ
る。これはポリビニルアルコール結合剤と放出性
硬化剤としての硼酸とを本発明の限界内で使用す
ることがきるということを示している。 例 5 次の溶液を製造して本発明の別の態様の層2を
生成させる。
【表】
品)
この物質を例1記載のポリエチレンテレフタレ
ートフイルム支持体上にコーテイングする。 次の溶液を製造して光重合性組成物を生成させ
る。
この物質を例1記載のポリエチレンテレフタレ
ートフイルム支持体上にコーテイングする。 次の溶液を製造して光重合性組成物を生成させ
る。
【表】
【表】
2ミルのドクターナイフを使用してこの組成物
を前記で製造された層2上にオーバーコーテイン
グしそして乾燥させる。ポリエチレンテレフタレ
ートカバーシートをこの構造体上に積層させる。
この光重合体エレメントを例1記載のようにして
露光させそして現像する。高品質で暗紫色の直接
陽画像が得られる。 例 6 次の溶液を製造して図面中に本発明の層2とし
て同定されているものを生成させる。
を前記で製造された層2上にオーバーコーテイン
グしそして乾燥させる。ポリエチレンテレフタレ
ートカバーシートをこの構造体上に積層させる。
この光重合体エレメントを例1記載のようにして
露光させそして現像する。高品質で暗紫色の直接
陽画像が得られる。 例 6 次の溶液を製造して図面中に本発明の層2とし
て同定されているものを生成させる。
【表】
この組成物を銅/エポキシ積層板の銅表面にコ
ーテイングしそして乾燥させる。列例5からの光
重合性組成物をこの層上に適用し、乾燥させそし
て通常のカバーシートをその上に適用する。この
複合エレメントを例1記載のようにして露光させ
そして現像する。銅層上に黄色陽画像が得られ
る。次いでこの画像を39゜ボーメの塩化第2鉄中
で130〓でエツチングして非画像部分の銅を除去
する。適正に使用された場合にはこのエレメント
はホトレジストとして機能する。 例 7 次の溶液を製造して本発明のその他の層2を生
成させる。 成 分 量(g) 蒸 留 水 65 ゼラチン 1.25 プロピレングリコールアルギネート 放出性硬化剤 0.3 ヘリオエヒトシユバルツ・カーボンブラツク
(例1参照) 6 ここで使用されたアルギン酸のプロピレングリ
コールエステルは次の構造 (式中nは1〜300である)を有し、ケルコ社
から「KELCOLOID―O」として発売されてい
る。この物質をPH7またはそれ以上で加水分解す
るとその生成物は急速にゼラチンを硬化させる
(米国特許第3378373号明細書参照)。 例1に記載のようにしてこの物質を支持体にコ
ーテイングさせそして乾燥させる。例1記載のよ
うにして製造された重合性層をこの層上にコーテ
イングし、乾燥させそしてその上に通常のカバー
シートを適用する。この複合構造物を例1記載の
ようにして露光および現像させる。良好な濃度お
よびドツト品質を有する優れた高品質直接陽画像
が達成される。それに代る現像法においては本例
記載の複合体の別の試料を露光させそして単に75
〓の1%KOH溶液に25秒間浸すことにより処理
しそして100〓の水で洗う。得られる生成物は高
い濃度および優れたドツト性を有する優れた陽画
像であつた。 例 8 次の溶液を製造して本発明の層2を形成させ
る。 ブレンダー中で40分間、400gのH2O中で10gの
ヒドロキシエチルセルロース(セロサイズWP―
09―H、ユニオン・カーバイド社製品)を混合す
る。 成 分 量(g) 前記からの溶液 20 グルタルアルデヒド― 重亜硫酸ナトリウム 0.2 ヘリオエヒトシユバルツ・ カーボンブラツク(例1参照) 5 この物質を例1記載のようにして適当な支持体
上にコーテイングする。例1に従つて製造された
光重合性層をこの乾燥層上に適用し、そして通常
のカバーシートをその上に積層させる。この複合
生成物を例1に記載のようにして露光させそして
75〓での5%アルコール性KOH洗浄および100〓
水洗により現像させる。適当な直接陽画像が得ら
れる。 例 9 次の溶液を製造して本発明の層2を形成させ
る。 ブレンダー中で40分間100gのH2O中で2.5gのカ
ルボキシメチルヒドロキシエチルセルロース(ハ
ーキユルス・ケミカル・コーポレーシヨン製品、
37M)を混合する。 成 分 量(g) 前記からの溶液 20 グリオキザール― 重亜硫酸ナトリウム 0.2 ヘリオエヒトシユバルツ・ カーボンブラツク(例1参照) 5 すべて例1記載のようにしてその物質を支持体
上にコーテイングし、乾燥させ、光重合性層をこ
の上に適用し、そしてカバーシートを積層させ
る。この複合生成物を例1記載のようにして露光
させそして100〓で5%アルコール性KOH洗浄お
よび水洗により現像させる。適当な直接陽画像が
得られる。 例 10 次の溶液を製造して本発明の層2を形成させ
る。 200gのH2O,PH6.4中で2.5gのカルボキシメチ
ルセルロース(デユポン社製品、グレードR―
755―H)を混合する。 成 分 量(g) 前記からの溶液 20 N,N′―メチレンビスアクリルアミド 放出性硬化剤 0.1 ヘリオエヒトシユバルツ・ カーボンブラツク(例1参照) 4 これをすべて例1記載のようにして支持体上に
コーテイングし、乾燥させ、光重合性組成物をオ
ーバーコーテイングし、乾燥させそしてカバーシ
ートをそれに積層させる。この複合生成物を例1
記載のようにして露光させそして5%アルコール
性KOH(75〓で2分間)および100〓水洗により
現像させる。適当な直接陽画像が得られる。 例 11 次の溶液を製造して本発明の層2を製造する。 成 分 量(g) 例10からの溶液 20 0.1gのCRK(SO4)2・12H2O および0.1gの0.2NH2SO4を 含有する水性溶液 10 ヘリオエヒトシユバルツ・カーボンブラツク 4 これを例1記載のようにして支持体上にコーテ
イングし、乾燥させ、光重合性溶液でオーバーコ
ーテイングし、乾燥させそしてカバーシートをそ
れに積層させる。この複合生成物を例1記載のよ
うにして露光させそして75〓での5%アルコール
性KOHそれに続く100〓水洗により現像させる。
適当な直接陽画像が得られる。
ーテイングしそして乾燥させる。列例5からの光
重合性組成物をこの層上に適用し、乾燥させそし
て通常のカバーシートをその上に適用する。この
複合エレメントを例1記載のようにして露光させ
そして現像する。銅層上に黄色陽画像が得られ
る。次いでこの画像を39゜ボーメの塩化第2鉄中
で130〓でエツチングして非画像部分の銅を除去
する。適正に使用された場合にはこのエレメント
はホトレジストとして機能する。 例 7 次の溶液を製造して本発明のその他の層2を生
成させる。 成 分 量(g) 蒸 留 水 65 ゼラチン 1.25 プロピレングリコールアルギネート 放出性硬化剤 0.3 ヘリオエヒトシユバルツ・カーボンブラツク
(例1参照) 6 ここで使用されたアルギン酸のプロピレングリ
コールエステルは次の構造 (式中nは1〜300である)を有し、ケルコ社
から「KELCOLOID―O」として発売されてい
る。この物質をPH7またはそれ以上で加水分解す
るとその生成物は急速にゼラチンを硬化させる
(米国特許第3378373号明細書参照)。 例1に記載のようにしてこの物質を支持体にコ
ーテイングさせそして乾燥させる。例1記載のよ
うにして製造された重合性層をこの層上にコーテ
イングし、乾燥させそしてその上に通常のカバー
シートを適用する。この複合構造物を例1記載の
ようにして露光および現像させる。良好な濃度お
よびドツト品質を有する優れた高品質直接陽画像
が達成される。それに代る現像法においては本例
記載の複合体の別の試料を露光させそして単に75
〓の1%KOH溶液に25秒間浸すことにより処理
しそして100〓の水で洗う。得られる生成物は高
い濃度および優れたドツト性を有する優れた陽画
像であつた。 例 8 次の溶液を製造して本発明の層2を形成させ
る。 ブレンダー中で40分間、400gのH2O中で10gの
ヒドロキシエチルセルロース(セロサイズWP―
09―H、ユニオン・カーバイド社製品)を混合す
る。 成 分 量(g) 前記からの溶液 20 グルタルアルデヒド― 重亜硫酸ナトリウム 0.2 ヘリオエヒトシユバルツ・ カーボンブラツク(例1参照) 5 この物質を例1記載のようにして適当な支持体
上にコーテイングする。例1に従つて製造された
光重合性層をこの乾燥層上に適用し、そして通常
のカバーシートをその上に積層させる。この複合
生成物を例1に記載のようにして露光させそして
75〓での5%アルコール性KOH洗浄および100〓
水洗により現像させる。適当な直接陽画像が得ら
れる。 例 9 次の溶液を製造して本発明の層2を形成させ
る。 ブレンダー中で40分間100gのH2O中で2.5gのカ
ルボキシメチルヒドロキシエチルセルロース(ハ
ーキユルス・ケミカル・コーポレーシヨン製品、
37M)を混合する。 成 分 量(g) 前記からの溶液 20 グリオキザール― 重亜硫酸ナトリウム 0.2 ヘリオエヒトシユバルツ・ カーボンブラツク(例1参照) 5 すべて例1記載のようにしてその物質を支持体
上にコーテイングし、乾燥させ、光重合性層をこ
の上に適用し、そしてカバーシートを積層させ
る。この複合生成物を例1記載のようにして露光
させそして100〓で5%アルコール性KOH洗浄お
よび水洗により現像させる。適当な直接陽画像が
得られる。 例 10 次の溶液を製造して本発明の層2を形成させ
る。 200gのH2O,PH6.4中で2.5gのカルボキシメチ
ルセルロース(デユポン社製品、グレードR―
755―H)を混合する。 成 分 量(g) 前記からの溶液 20 N,N′―メチレンビスアクリルアミド 放出性硬化剤 0.1 ヘリオエヒトシユバルツ・ カーボンブラツク(例1参照) 4 これをすべて例1記載のようにして支持体上に
コーテイングし、乾燥させ、光重合性組成物をオ
ーバーコーテイングし、乾燥させそしてカバーシ
ートをそれに積層させる。この複合生成物を例1
記載のようにして露光させそして5%アルコール
性KOH(75〓で2分間)および100〓水洗により
現像させる。適当な直接陽画像が得られる。 例 11 次の溶液を製造して本発明の層2を製造する。 成 分 量(g) 例10からの溶液 20 0.1gのCRK(SO4)2・12H2O および0.1gの0.2NH2SO4を 含有する水性溶液 10 ヘリオエヒトシユバルツ・カーボンブラツク 4 これを例1記載のようにして支持体上にコーテ
イングし、乾燥させ、光重合性溶液でオーバーコ
ーテイングし、乾燥させそしてカバーシートをそ
れに積層させる。この複合生成物を例1記載のよ
うにして露光させそして75〓での5%アルコール
性KOHそれに続く100〓水洗により現像させる。
適当な直接陽画像が得られる。
添付図面において、第1図は本発明の単一露光
のポジとして働く光重合体エレメントの模式的断
面図である。第2図および第3図は第1図の光重
合体エレメントの露光および現像を説明する模式
的断面図である。第4図は第2〜3図の一連の露
光/現像により製造された仕上り直接陽画像の模
式的断面図である。 1…支持体、2…放出性硬化剤を含有する硬化
性結合剤からなる非光感受性層、3…透過性光感
受性層。
のポジとして働く光重合体エレメントの模式的断
面図である。第2図および第3図は第1図の光重
合体エレメントの露光および現像を説明する模式
的断面図である。第4図は第2〜3図の一連の露
光/現像により製造された仕上り直接陽画像の模
式的断面図である。 1…支持体、2…放出性硬化剤を含有する硬化
性結合剤からなる非光感受性層、3…透過性光感
受性層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 その一方の側に順に(1)放出性硬化剤を混合せ
しめられた硬化性結合剤を包含する非光感受性層
および(2)透過性光重合性層をコーテイングされた
支持体より本質的になる、ポジとして働く光重合
体エレメント。 2 非光感受性層(1)がゼラチン結合剤、顔料およ
び染料よりなる群から選ばれた着色剤およびグル
タルアルデヒド、グリオキザール、ホルムアルデ
ヒドおよび殿粉ジアルデヒドよりなる群から選ば
れたゼラチン硬化剤の重亜硫酸ナトリウムアダク
トを包含している、前記特許請求の範囲第1項記
載の光重合体エレメント。 3 (1)の非光感受性層が不透明でありそしてその
着色剤がカーボンブラツクである、前記特許請求
の範囲第2項記載の光重合体エレメント。 4 支持体がポリエチレンテレフタレートフイル
ムである、前記特許請求の範囲第1項記載の光重
合体エレメント。 5 光重合性層が光開始剤、活性線放射吸収剤、
光重合性単量体および重合体結合剤を包含してい
る、前記特許請求の範囲第1項記載の光重合体エ
レメント。 6 光重合性単量体がスチレンとマレイン酸無水
物との共重合体(SMA)、トリエチレングリコー
ルジメタクリレート、(TDMA)およびポリオキ
シエチル化トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(TEOTA)よりなる群から選ばれたもので
ある、前記特許請求の範囲第5項記載の光重合体
エレメント。 7 その一方の側に順に(1)放出性硬化剤を混合せ
しめられた硬化性結合剤を包含する非光感受性層
および(2)透過性光重合性層をコーテイングされた
支持体より本質的になる、ポジとして働く光重合
体エレメント中に直接陽画像を生成させるにあた
り a 光重合性層を像様露光させること、 b 前記層を光重合性層の未露光部分を経て優先
的に拡散しそして不透明な非光感受性層の相当
する部分に到達しそしてそこでグルタルアルデ
ヒドを遊離させそれによつて未露光部分のゼラ
チンを硬化せしめるような水性現像溶液に接触
させること、そして c 光重合性上層を、不透明層の未硬化部分と共
に洗去して原画の直接陽画像を残すこと を包含する方法。 8 現像剤がK2CO3/KHCO3の水性溶液であ
る、前記特許請求の範囲第7項記載の方法。 9 段階cで使用される洗去溶媒が温水である、
前記特許請求の範囲第7項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/307,648 US4427758A (en) | 1981-10-01 | 1981-10-01 | Single exposure positive-working photopolymer element |
US307648 | 1981-10-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5868741A JPS5868741A (ja) | 1983-04-23 |
JPH0150892B2 true JPH0150892B2 (ja) | 1989-11-01 |
Family
ID=23190629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57169930A Granted JPS5868741A (ja) | 1981-10-01 | 1982-09-30 | 光重合体エレメント |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4427758A (ja) |
EP (1) | EP0076565B1 (ja) |
JP (1) | JPS5868741A (ja) |
DE (1) | DE3271152D1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3340154A1 (de) * | 1983-11-07 | 1985-05-15 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von bildmaessig strukturierten resistschichten und fuer dieses verfahren geeigneter trockenfilmresist |
EP0169492B1 (de) * | 1984-07-25 | 1991-02-06 | Hoechst Japan Kabushiki Kaisha | Verfahren und Material zur Herstellung mehrfarbiger Reproduktionen |
JPS63133153A (ja) * | 1986-11-26 | 1988-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
JPH0782234B2 (ja) * | 1988-05-09 | 1995-09-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
JPH0782235B2 (ja) * | 1988-05-09 | 1995-09-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
JPH02960A (ja) * | 1988-05-31 | 1990-01-05 | Somar Corp | 遮光性マスキングフィルム |
JPH0675372A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター |
JPH0675373A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター |
US5599616A (en) * | 1994-11-30 | 1997-02-04 | Polaroid Corporation | Laminar imaging medium utilizing cross-linked borated polymeric binder |
EP1398381A1 (en) * | 2002-09-06 | 2004-03-17 | The Procter & Gamble Company | A microbial oxidoreductase |
US7700258B2 (en) * | 2003-01-24 | 2010-04-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Color forming compositions with improved marking sensitivity and image contrast and associated methods |
US7462443B2 (en) * | 2003-09-05 | 2008-12-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Leuco dye-containing coating compositions |
US7022461B2 (en) * | 2003-09-22 | 2006-04-04 | Eastman Kodak Company | Thermal imaging composition and member and methods of imaging and printing |
US20060093958A1 (en) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Vladek Kasperchik | Color forming compositions and associated methods |
US8283100B2 (en) * | 2006-05-16 | 2012-10-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Color forming compositions and associated methods |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1312451A (en) * | 1969-07-21 | 1973-04-04 | Agfa Gevaert | Production of coloured colloid patterns |
GB1358259A (en) * | 1970-09-18 | 1974-07-03 | Agfa Gevaert | Formation of relief images |
US4229517A (en) | 1976-11-13 | 1980-10-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dot-etchable photopolymerizable elements |
JPS5420719A (en) | 1977-07-15 | 1979-02-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive material for image formation and image formation method |
DE3162554D1 (en) * | 1980-02-20 | 1984-04-19 | Agfa Gevaert Nv | Photosensitive material and a process for reproducing photo-information |
-
1981
- 1981-10-01 US US06/307,648 patent/US4427758A/en not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-08-12 DE DE8282304264T patent/DE3271152D1/de not_active Expired
- 1982-08-12 EP EP82304264A patent/EP0076565B1/en not_active Expired
- 1982-09-30 JP JP57169930A patent/JPS5868741A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4427758A (en) | 1984-01-24 |
DE3271152D1 (en) | 1986-06-19 |
EP0076565A1 (en) | 1983-04-13 |
JPS5868741A (ja) | 1983-04-23 |
EP0076565B1 (en) | 1986-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4268601A (en) | Photosensitive image forming material and an image forming method using same | |
JPH0150892B2 (ja) | ||
US5635333A (en) | Antireflective coating process | |
US4264708A (en) | Radiation sensitive element having a thin photopolymerizable layer | |
US20060160025A1 (en) | Process for preparing a flexographic printing plate from a photopolymerizable element | |
US4123272A (en) | Double-negative positive-working photohardenable elements | |
US6864039B2 (en) | Photobleachable compounds for use in flexographic printing plates | |
US4311784A (en) | Multilayer photosensitive solvent-processable litho element | |
US4173673A (en) | Dot-etchable masks from photopolymerizable elements | |
US4357416A (en) | Process for preparation of multilayer photosensitive solvent-processable litho element | |
US4229517A (en) | Dot-etchable photopolymerizable elements | |
US4229520A (en) | Photo-polymerization and development process which produces dot-etchable material | |
JPS6132661B2 (ja) | ||
US4308338A (en) | Methods of imaging photopolymerizable materials containing diester polyether | |
US4310615A (en) | Image transfer element having release layer | |
GB2049210A (en) | Photographic formation of visible images | |
US4339525A (en) | Color proofing system using dot-etchable photopolymerizable elements | |
US4262079A (en) | Image transfer element | |
JPS6060640A (ja) | 画像複製材料およびその製造法 | |
JPS63228143A (ja) | 層表面に集中したマイクロカプセルを含む感光性組成物 | |
GB1587476A (en) | Photopolymerizable compositions and elements and methods of imaging | |
US4369239A (en) | Process for preparation of photopolymerized dot-etchable masks using staging solution | |
JPS5860745A (ja) | スクリ−ン版用感光性フイルム | |
JPH0339299B2 (ja) | ||
US4699859A (en) | Dot-etchable image-containing element useful in lithographic mask formation and its production |