JPH01500503A - 真空ポンプコントロールシステム - Google Patents
真空ポンプコントロールシステムInfo
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- JPH01500503A JPH01500503A JP50401687A JP50401687A JPH01500503A JP H01500503 A JPH01500503 A JP H01500503A JP 50401687 A JP50401687 A JP 50401687A JP 50401687 A JP50401687 A JP 50401687A JP H01500503 A JPH01500503 A JP H01500503A
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- B27K—PROCESSES, APPARATUS OR SELECTION OF SUBSTANCES FOR IMPREGNATING, STAINING, DYEING, BLEACHING OF WOOD OR SIMILAR MATERIALS, OR TREATING OF WOOD OR SIMILAR MATERIALS WITH PERMEANT LIQUIDS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CHEMICAL OR PHYSICAL TREATMENT OF CORK, CANE, REED, STRAW OR SIMILAR MATERIALS
- B27K3/00—Impregnating wood, e.g. impregnation pretreatment, for example puncturing; Wood impregnation aids not directly involved in the impregnation process
- B27K3/02—Processes; Apparatus
- B27K3/08—Impregnating by pressure, e.g. vacuum impregnation
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- Forests & Forestry (AREA)
- Chemical And Physical Treatments For Wood And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
真空ポンプコントロールシステム
11立豆見
この発明は、例えば、木材もしくは木材混合物のようなセルロースの処理に特に
役立つ、材料含浸システムに関するものである。
これについては、難燃剤および/または防燃剤を木材に含浸させ、それによって
材料の本来の特性を改良することが知られている。典型的なものとしては、これ
までカフパークロムアルセニフク(copper chromears、eni
c ) (C,C,A)が化学処理剤として使用されてきたが、しかしながらこ
れは有毒化学物質で取り扱いがむずかしく、しかも処理後の浸出物のために環境
を汚染する危険性を持っている。 C,C,A は防燃剤として広く使用されて
いる。水溶性のリン酸塩および微殺生物剤も耐食性および防黴性をもつものとし
て知られている。
処理剤の含浸性を向上させ、上記の問題を最小にするために、真空圧状態下でそ
の加工を行うことが従業されている。これは非常に有効であることが分っている
が、化学処理剤の量、圧力の条件を経験的に確定していかなければならない。こ
れらの結果は、処理すべき木材の含水率は多様であり、適切な含浸の条件が変る
ために、華におおまかな目安にしかならないものである。従って、仮に真空−圧
含浸を採用しても、化学処理剤を多口にし、処理時間も長くするというのが通常
である。
もっと効果的で処理時間をより短くする含浸を可能にする真空−圧含浸システム
を提供することがこの発明の目的である。
また、含浸のプロセスをもっと効果的に実施する装置を提供することもこの発明
の目的である。
主亙皇翌ユ
従って、この発明の第1の実施B様においては、以下のものより構成される真空
−圧材籾含浸用装置が備えられている。
(al 化学処理剤を含浸する材料を受入れるメイン処理室と、このメイン処理
室と連絡している上方の室を有するオートクレーブ。
fbl 化学処理剤をメイン処理室に推し進めるポンプ装し
くC1化学処理剤がメイン処理室を前もって設定したレベルまで満たしたことを
感知し、出力信号を出すメイン処理室の上部に配置された検知装置。
fdl メイン処理室が一杯になり、上方の室が前もって設定されたレベルまで
満たされるまで、ポンプ装置がメイン処理室に化学処理剤を推し進めた後に、メ
イン処理室に残っているエアーを排出するための出力信号に応答する排出装置。
(e) メイン処理室と上方の室をエアーが侵入しないようにシールする上方の
室のバルブ装置。
仔) メイン処理室に圧力をかけ、化学処理剤を材料に含浸させる圧力装置。
(a 排出装置と圧力装置の稼動を制御するタイマー装し
く!〕) メイン処理室より化学処理剤を除去するための回収装置。
この発明の第2の実施態様では次のステップより成る真空−圧材料含浸の方法が
講じられている。
[a) オートクレーブのメイン処理室の材料の位置を定める。このオートクレ
ーブはメイン処理室と連絡している上方の室を含んでいる。
fbl 材料を浸す最初のレベルまで化学処理剤をメイン処理室に満たす。
(C1メイン処理室、上方の室、および材料よりエアーを除去するために、最初
の前もって設定した時間オートクレーブを真空にする。
(di メイン処理室を完全に、および、上方の室を第2のレベルまで化学処理
剤で満たす。
(8+ 第2の前もって設定された時間メイン処理室に圧力をかけ、材料に化学
処理剤を含浸させる。
(fl メイン処理室の圧力をゆるめ、メイン処理室から化学処理剤を抜く。
典型的な例は、メイン処理室は端部が半球状になった球形で、上方の室は底の開
いた円錐形もしくは截頭円錐形をしている。これらの室は、メイン処理室の開口
部の回りで完全に密閉されて接続されている。
この発明の特徴は、化学処理剤がメイン処理室に導き入れられるその速度にある
。1つの好ましい形においては、このことはメイン処理室の出口を開ける装置を
含む回収装置と、メイン処理室にエアーを入れ、出口を介して化学処理剤を取り
出すためのエアー投入装置により達成される。
エアー投入の最も好ましい形は、排出の2つの役目もまた成し遂げることのでき
る真空ポンプである。真空ポンプの難点は、信輔でき、しかも藺草な方法でいか
にしてこれらの稼動を制御するかということである。
従うて、この発明を別の面から見れば、真空ポンプ用のコントロールシステムを
提供することである。明らかに、このコントロールシステムは、上記の含浸シス
テムと共に使用するものが主に開発されているが、それはその用途に限られるも
のではない。
より詳細には、真空ポンプ用のコントロールシステムを構成するコントロールシ
ステムは、次のものを含む。
(a)1つの入口と第1、第2各々1つずつの出口を有する正圧をかけられる第
1の室。
(bl 第1、第2各々1つずつの入口と1つの出口を有する負圧がかけられる
第2の室。
fcl 次のものを含む調整装置。
(1)第1の出口もしくは第1の入口のいずれかを閉じ、残りのもう一方を開け
るための、第1の室の第1出口と第2の室の第1人口と関連した第1バルブ装闇
。
(11)第1の室の第2出口を開閉する第2バルブ装置。
(iii >第2の室の第2人口を開閉する第3バルブ装置。
(d) 以下のことを行うパルプ装置を操作するためのコントロール装置。
(i)(81第1の室の第1人口を開く。
(ホ)) 第1の室の第2出口を閉しる。
tel 第2の室の第1人口を閉しる。
fdl 第2の室の第2人口を開く。
(ii ) fat 第2の室の第1人口を開く。
偽) 第2の室の第2人口を閉じる。
fcl 第1の室の第1出口を閉じる。
((11第1の室の第2出口を開く。
このコントロールシステムの特徴は、遠隔室を空にする、もしくは加圧するよう
に作動させられているだけであるにもかかわらず、各室を、正圧もしくは負圧の
かかった状態に保つということである。更に、このことは真空ポンプをいずれか
の状態より、容易に変えることができることを意味している。
製造を容易にするために、2つの室の内の一方を他方の上に1き、バルブを室内
に配置することが好ましい。
バルブ装置は、バタフライ弁、もしくは入口や出口を開閉できるその他のものに
することができる。一般には、これらの弁は適切な連動機構により制御すること
のできるレバーを用いることによって制御することができる。この連動機構とバ
ルブはオートクレーブの希望の状態に応じて遠隔操作される。レバーに連結した
ピストンは、バルブ装置を作動させる特に藺草で効果的な方法であることが分っ
ている。
また、正圧および負圧のかけられる室に隣接して勺イレンサー室を配置し、この
室を全ての導管が通るようにすることが望ましいことも分っている。こうするこ
とにより、著しく騒音を低下させることができ、騒音調整レベルの達成が容易と
なる。
また、このような配置は、コンパクトな製造にも役立ち、従来のようにかさ高な
コントロールシステムを回避することができる。
含浸法の中で既に示したように、含浸される材料は、化学処理剤の中に浸される
が、その材料全部でないとしても、大半がそれに包まれることが望ましい。この
ようにすることにより、相当量の化学処理剤にメイン処理室の大半を占めさせる
ことができ、次の排出、充填ステップを行うために要する時間を最小にする。
オートクレーブは通常化学処理剤に利用されるポンプを使って加圧される。一般
に、圧力含浸ば1..200kpaと1,500kpaの間で、2〜3時間にわ
たり実施されるが、1 、380kpa程度がより好ましい。
含浸後の化学処理剤の除去は、オートクレーブへの圧力を保持し、メイン処理室
の出口を開くことにより促進することができる。次に、メイン処理室より、材料
から余分の化学処理剤を回収するエアーをもう一度排出することが好ましい。ま
た更に、メイン処理室は、そこより残りの化学処理剤を除去する次の排出の前お
よび/または後に、加圧することができる。
既述のように、このコントロールシステムは、メイン処理室より残りの化学処理
剤を除去するために排出モードより加圧モードに容易に変えることができるので
、この方法での使用に特に適している。
本発明の種々の態様については、ここでは次の様な添付の図面により示されてい
る。
第1図は排出位置にある真空ポンプ用のコントロールシステムである。
第2図は、加圧位置にある真空ポンプ用のコントロールシステムである。
第3図は化学剤適用チャー1・である。
第4図は本発明の1つの他様による含浸システムの一部の流れ図である。
第5図は第4図に使用されている含浸システムの更にまた一部の流れ図である。
第6図は第4図に使用されている化学剤供給の一部の流れ図である。
第7図は本発明による方法を逐次示したものである。
第1図と第2図に示したように、このコントロールシステムは升イレンサー室1
1と正圧室12、負圧室13という3つの室を有するハウジング10を構成して
いる。
この正圧室には、以下に述べるバルブシステムの点検とメンテナンスを容易にす
ることのできる検査ハツチが備えられている。
バイブ14はハウジング10の外部では負圧#1(−)まで延びており、サイレ
ンサー室11と正圧室12を通り、負圧室13の中にまで延びている。バイブ1
5はハウジング10の外部ではサイレンサー室11の中に延びている。
バイブ16はハウジング10の外部で正圧#(+)に接続しており、サイレンサ
ー室11を通り、正圧室12の中にまで延びている。バイブ17は、排出される
か、もしくは正圧がかけられるかいずれかの室(図示しない)にその外部で接続
されている。これはサイレンサー室11を通り正圧室j2の中にまで延びており
、バルブ20に密閉して接続されている。バイブ18はサイレンサー室11より
正圧室12の中に延び、バルブ22に密閉して接続されており、このバルブ22
はまたバルブ20にも密閉して接続されている。バイブ28は負圧室13より正
圧室12に延び、バルブ20とも接続されている。バイブ19はサイレンサー室
11と負圧室】3の間に延びている。バルブ21はバイブ19の中に置かれてい
る。
バルブ20.2]、、22には各々アーム2,1,26.25がついている。連
動機構27がアーム24,26.25を連結している。アーム25にはバルブ2
2の両側に延びており、一端で作動ピストン23に連結されている。そして、こ
の端とはバルブ22に対して連動機構27とアーム25とが接続されているのと
は反対側である。
正圧室12はドレンパイプ31を有しており、これは正圧室12より負圧室13
を通り、ハウジング10より外に排出する。
このコントロールシステムは次のように稼動する。
図示されているように、第1図は、排出室(図示しない)からのエアーの流れを
示したものである。特にバイブ14はハウジング10の外で負圧源に接続されて
いるので、負圧室13よりエアーを引き出す。負圧室13の圧力の低下はバイブ
28と19への吸引を引き起こす。バルブ21は閉しており、サイ!/ンサー室
】1からエアーが引き出されるのを防止する。バルブ20は開いており、バイブ
17よりバルブ20を通り、バイブ28の中にエアーを入れることになる。バル
ブ22は閉した位置にあり、正圧室12もしくはバイブ18のいずれかよりバル
ブ22を介してエアーが引き出されるのを防止している。従って、エアーは、排
出室(図示しない)よりバルブ20を弁してパイプ17を通り、パイプ28の中
に引き出される。
パイプ28はエアーを負圧室13の中に導き、このエアーは続いて負圧室13よ
り、負圧源(=)へのパイプ14を介し除去される。
正圧源(+)はこの排出作用のときに中断しない。
エアーはパイプ16を介して圧力下で推し進められ、正圧室12の中に排出され
る。バルブ22は正圧室12によりバルブ20の中にエアーが吸い込まれるのを
防止するために閉しているが、にもかかわらず、正圧室12がらのエアーがバル
ブ22に入り、パイプ18の中を通過させてしまう、パイプ18のエアーはサイ
レンサー室11の中に排出され、パイプ15を介して大気に吐き出される。既述
のように、パイプ19のバルブ22は従って、エアーが負圧室13の中をその結
果通過することがないように閉じている。
第2図は排出室(図示しない)への加圧に影響するコントロールシステムを描い
たものである。加圧されたエアー(+)はパイプ16に入り、正圧室12に放出
される。バルブ22は、バルブ20にエアーが流れるよう開いており、このバル
ブ20もパイプ17の中にエアーを迂回させるために開かれている。バルブ22
はパイプ18にエアーが入るのを防止している。バルブ20はパイプ28にエア
ーが入るのを防止している。バイブ17内の加圧されたエアーは、排出室(図示
しない)の中に放出される。
この作動中は、負圧源はまだバルブ21を開けることにより使用できるようにな
っている。大気がサイレンサー室11の中へとパイプ15に引き出され、パイプ
19を通り、バルブ21を介して、負圧室13の中に引き出される。このエアー
は順に負圧源に向かうパイプ14に引き寄せられる。
バルブ20.21.22の位置決めは、アーム24,25.26と連動機構27
を介してそれらのバルブを作動させるピストン23を作動させることによって達
成される。
加圧モードでは、エアーの含水量が高く、これがバルブ22に入る前に正圧室1
2にたまることが分っている。
余分の液が正圧室12に蓄積するとしても、フロート29がドレンバイブ31の
一端より取りはずしプラグ30を持ち上げることになる。この液は、フロート2
90レベルがドレンパイプ31のプラグ30を再配置するまでドレンパイプブ3
1の下をン素れる。
このコントロールシステムでは、エアーはすべて、必然的にサイレンサー室11
を通過するか、もしくはその中に入る。このサイレンサー室は、普通この様な稼
動につきものの騒音を減らし、規定の騒音制限に合致したものにすることができ
る。
ここに述べたコントロールシステムは、真空ポンプを藺草なやり方で稼動させる
ことを可能にするものである。このシステムは非常にコンパクトで、操作の簡易
性を保っている上に、従来のシステムに比べて資本支出も低くて済むものである
。
第4図、第5図、第6図は、この発明の一態様による装置も同時に示す一部の流
れ図である。
この装置を利用する場合には、処理を行う木材に、最初の含水率テストを実施す
ることが必要である。第3図には、!用量のチャートを示したが、これより化学
側の濃度を選択することもできる。
この図は、化学処理剤の濃度<1/g> と木材のタイプに対する含水率の割合
を描いたものである。これA、B、C−高密度
り、E、F、G、H−普通の密度
!、J、に、L、M、N −中密度
0、P、Q、R−低密
第4図、第5図、第6図に示したように、オートクレーブ32は処理室33と上
方の室34を構成している。化学処理剤35は、供給タンクA、B、Cより処理
室33に送られる。供給タンクAは加工槽で、この中にリサイクルされた使用済
みの化学処理剤36が、処理フィルター43を通って入ってくる。タンクBは、
多量の濃縮化学処理剤の供給槽で、タンクCは多量の水の供給槽である。
化学処理剤35の濃度を第3図に示された図より最初に選択すれば、タンクA、
、B、Cの出口は、正しい配合をするように設定される。導管37に放出される
ta I化学処理剤の量は、センサー55による化学処理剤配合のモニタリング
に関連してコントロールバルブ38を制御する導管37の中に配置されているセ
ンサー55により綿密にコントロールされる。揺動チェックバルブ40゜41は
タンクAとCに関連しており、各々化学処理剤の逆流を防止している。
導管37を選択的に閉じることのできる空圧バルブ42が導管37の中に挿入さ
れている。同様に、チェ、クハルブ44と45が導管46と37の中に配置され
ており、使用された化学処理剤36の再利用を可能にしている。センサー39及
び47が化学処理剤の存在を検知する。
図示されている上方の室34は、処理室33に密閉して取り付けられている。レ
ベルセンサー50は、処理される材料の上面をオーバーするレベルのところで、
処理室33に配置されている (図示しない)、導管48と49は上方の室に接
続している。導管48は、上方の室34と処理室33を選択的に加圧することが
できる。この加圧は、真空ポンプ装置51の使用により達成される。導管49は
これも真空ポンプ装置51を使用して、上方の室34と処理室33を選択的に排
出することができる。真空にしたり、加圧する際に騒音が発生するので、サイレ
ンサーとフィルター52とを利用する。
安全上の理由により圧力安全弁53を導管48と真空ポンプ51の間に設置する
。
圧力ボンブ54が導管37の中に配置されており、処理室33への中に流れる化
学処理剤35を加圧し、オートクレーブ32を加圧する操作が行える。
この装置の操作方法は、下記の通りであるが、これも第7Rと関連させて説明さ
れている。
オートクレーブ32は最初は空の状態AAである。木材56の水分テストを行い
、濃縮化学処理剤の適量を選択する。次に木材56を処理室33の中に配置し、
密閉する (状態B B )。センサー55が、タンクAとCがらの量と組み合
わせて前もって決められた量の濃縮化学処理剤が導管37に流入し、それが保持
されるように調整する。化学処理剤35は、処理室33の中にポンプ注入され、
チェックバルブ44により導管46に流入することを防止している。
化学処理剤35は、処理室33のバルブ42が閉じていることをレベルセンサー
50が検知するまで、処理室33を満たす (状態CC)。導管48は閉じてお
り、導管49はオートクレーブからエアーを排出する (状態E E >。
圧力ボンブ54は、前もって決めた時間、オー[クレープ32を加圧するように
働く (状P、E F F >。ポンプ54は稼動停止となり、バルブ45は導
管37を閉じ、使用された化学処理剤36は、処理室から送り出され(状、G
GG)、フィルター43においての処理と、タンク八への再循環のために、導管
46に入る。
導管48は閉し、導管49が開いて、真空を利用して、余分の化学処理剤を、メ
イン処理室33の低部に蓄積している材料の面より回収する (状態HH)。導
管49は閉じ、導管4日が開き、エアーを中に入れ、上方の室34と処理室33
を加圧する (状BHH)。バルブ42が開いて、余分の使用済化学処理剤36
を処理室33より吹き出させることができる(状Nu I 1 >。
この後、オートクレーブ32が開き、処理された木材が取り出される。
この発明のシステムとW 置により、含浸プラントの稼動をほぼ理忠状態に近い
ものにすることができる。
改良されたこのオートクレーブは、メイン処理室の排出を効果的に行うため、材
料の含浸を改良することができる。従って、この発明は、短い処理時間でこれま
で以上の含浸を達成するものである。従って、処理コストも安くなる。
また、このシステムは、±0.1%の精度まで処理溶液の1度を監視する。これ
は現在の比重メーターをはるかにオーバーするもので、従って、この化学mWを
連続的、自動的にサンプリングテストするために、化学処理剤をより正確に保持
し、大幅なコスト節減につながる。これがオートクレーブに入ると、流量制御バ
ルブがこの精度を維持するように液体の濃度を変えるので、化学処理剤がオート
クレーブに入った後に手で混合、調整する必要がない。
木材のクイプ/濃度C1/扉)
含水率
FKy、3
閑際謝査報告
1−・・1ieI・ムIs・ill IH%・ PCT/AU [171001
92ANNEX TCI TFE ’rNITRMknαOX、 5EAROI
圧フコσGJ]nス9ホKtQL APPIJCAffTCN NO,KT/
AU 8700四2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 この発明を定義する特許請求の範囲は以下の通りである。 1次のものより構成される材料に其空−圧含浸を行うための装置 (a)化学処理剤を含浸する材料を受け入れるメイン処理室と、このメイン処理 室と連絡している上方の室を有するオートクレーブ。 (b)化学処理剤をメイン処理室に推し進めるポンプ装置。 (c)化学処理剤がメイン処理室を前もって設定したレベルまで満たしたことを 感知し、出力信号を出すメイン処理室の上部に配置された検知装置。 (d)メイン処理室が一杯になり、上方の室が前もって設定されたレベルに満た されるまでポンプ装置がメイン処理室に化学処理剤を推し進めた後、メイン処理 室に残っているエアーを排出するための出力信号に応答する排出装置。 (e)メイン処理室と上方の室にエアーが侵入しないようにシールする上方の室 のバルブ装置。 (f)メイン処理室に圧力をかけ、化学処理剤を材料に含浸させる圧力装置。 (g)排出装置と圧力装置を制御するタイマー装置。 (h)メイン処理室より化学処理剤を除去するための回収装置。 2メイン処理室が半球状の端部を持つ一般にシリンダー状である特許請求の範囲 第1項記載の装置。 3上方の室が底の開いた円錐形、もしくは截頭円錦形である特許請求の範囲第1 項もしくは第2項のいずれかに記載の装置。 4上方の室がメイン処理室の開口部の回りで密閉して接続されている特許請求の 範囲第1項から第3項のいずれかに記載の装置。 5ポンプ装置が、排出装置が使用可能のときには使用不可となる特許請求の範囲 第1項から第4項のいずれかに記載の装置。 6回収装置が、化学処理剤を逃がすことができるように、メイン処理室の出口 を開く装置を有している特許請求の範囲第1項から第5項のいずれかに記載の装 置。 7回収装置が、処理室からエアーを排出し、材料から余分の化学処理剤を回収す る装置をも有する特許請求の範囲第6項記載の装置。 8回収装置が、化学処理剤をメイン処理室の出口に導き入れるために、メイン処 理室にエアーを導くエアー投入装置をも有する特許請求の範囲第6項または第7 項のいずれかに記載の装置。 9エアー投入装置と排出装置は真空ポンプである特許請求の範囲第8項記載の装 置。 10真空ポンプは次のものを含んだコントロールシステムにより制御される特許 請求の範囲第9項記載の装置。 (a)1つの入口と第1、第2各々1つずつの出口を有する正圧をかけられる第 1の室。 (b)第1、第2各々1つずつの入口と1つの出口を有する負圧がかけられる第 2の室。 (c)次のものを含む調整装置。 (i)第1の出口もしくは第1の入口のいずれかを閉じ、残りのもう一方を開け るための、第1の室の第1出口と第2の室の第1入口と関連した第1バルブ装置 。 (ii)第1の室の第2出口を開閉する第2バルブ装置。 (iii)第2の室の第2入口を開閉する第3バルブ装置。 (d)以下のことを行うバルブ装置を操作するためのコントロール装置。 (i)(a)第1の室の第1入口を開く。 (b)第1の室の第2出口を閉じる。 (c)第2の室の第1入口を閉じる。 (d)第2の室の第2入口を開く。 (ii)(a)第2の室の第1入口を開く。 (b)第2の室の第2入口を閉じる。 (c)第1の室の第1出口を閉じる。 (d)第1の室の第2出口を開く。 11第1の室が第2の室の上に配置されている特許請求の範囲第10項記載の装 置。 12第2の室が第1の室の上に配置された特許請求の範囲第10項記載の装置。 13サイレンサー室を更に有する特許請求の範囲第10項から第12項のいずれ かに記載の装置。 14調整装置が、第1の室、第2の室のいずれかに、もしくは双方に配置されて いる特許請求の範囲第10項から第13項のいずれかに記載の装置。 15第1バルブ装置が、第1レバーにより作動される第1バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第10項から第14項のいずれかに記載の装置。 16第2バルブ装置が、第2レバーにより作動される第2バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第10項から第15項のいずれかに記載の装置。 17第3バルブ装置が、第3レバーにより作動される第3バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第10項から第16項のいずれかに記載の装置。 18コントロール装置が連動機構により互いに連結されている第1、第2、第3 レバーを有する特許請求の範囲第15項から第17項のいずれかに記載の装置。 19コントロールシステムが更にまた、第1、第2、第3レバーのいずれか1つ に接続されている遠隔作動されるピストンを有する特許請求の範囲第18項記載 の装置。 20第1の室がその中に蓄積している液体を除去する装置を含む特許請求の範囲 第10項から第19項のいずれかに記載の装置。 21次のものを含む真空ポンプ用のコントロールシステム。 (a)1つの入口と第1、第2各々1つずつの出口を有する正圧をかけられる第 1の室。 (b)第1、第2各々1つずつの入口と1つの出口を有する負圧がかけられる第 2の室。 (c)次のものを含む調整装置。 (i)第1出口もしくは第1入口のいずれかを閉じ、残りのもう一方を開けるた めの第1の室の第1出口と第2の室の第1人目と関連した第1バルブ装置。 (ii)第1の室の第2出口を開閉する第2バルブ装置。 (iii)第2の室の第2入口を開閉する第3バルブ装置。 (d)以下のことを行うバルブ装置を操作するためのコントロールシステム。 (i)(a)第1の室の第1入口を開く。 (b)第1の室の第2出口を閉じる。 (c)第2の室の第1人目を閉じる。 (d)第2の室の第2入口を開く。 (ii)(a)第2の室の第1入口を開く。 (b)第2の室の第2人口を閉じる。 (c)第1の室の第1出口を閉じる。 (d)第1の室の第2出口を開く。 22第1の室が第2の室の上に配置されている特許請求の範囲第21項記載のコ ントロールシステム。 23第2の室が第1の室の上に配置されている特許請求の範囲第21項記載のコ ントロールシステム。 24更に、サイレンサー室を有する特許請求の範囲第21項から第23項のいず れかに記載のコントロールシステム。 25調整装置が、第1の室もしくは第2の室のいずれかに、もしくは双方に配置 されている特許請求の範囲第21項から第24項のいずれかに記載のコントロー ルシステム。 26第1バルブ装置が、第1レバーにより作動される第1バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第21項から第25項のいずれかに記載のコントロールシステム 。 27第2バルブ装置が、第2レバーにより作動される第2バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第21項から第26項のいずれかに記載のコントロールシステム 。 28第3バルブ装置が、第3レバーにより作動される第3バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第21項から第27項のいずれかに記載のコントロールシステム 。 29コントロールシステムが、連動機構により互いに連結されている第1、第2 、第3レバーを有する特許請求の範囲第26項から第28項のいずれかに記載の コントロールシステム。 30コントロールシステムがさらにまた、第1、第2、第3レバーの1つに接続 されている遠隔作動されるピストンを有する特許請求の範囲第29項記載のコン トロールシステム。 31第1の室がその中に蓄積している液体を除去する装置を含んでいる特許請求 の範囲第21項から第30項のいずれかに記載のコントロールシステム。 32次のステップより構成される、真空−圧材料含浸法。 (a)メイン処理室と連絡している上方の室も含んでいるオートクレーブのメイ ン処理室の材料の位置を定める。 (b)材料を浸す最初のレベルまで化学処理剤をメイン処理室に満たす。 (c)メイン処理室、上方の室、および材料よりエアーを除去するために最初の 前もって設定した時間オートクレーブを真空にする。 (d)メイン処理室を完全に、および上方の室を第2のレベルまで化学処理剤で 満たす。 (e)第2の前もって設定された時間、メイン処理室に圧力をかけ材料に化学処 理剤を含浸させる。 (f)メイン処理室の圧力をゆるめ、メイン処理室より化学処理剤を抜く。 33材料から余分の化学処理剤を除去するために、第3段階の間オートクレーブ を真空にする付加ステップ(g)を含む特許請求の範囲第32項記載の方法。 34材料がセルロースである特許請求の範囲第32項もしくは第33項のいずれ かに記載の方法。 35材料が木材もしくはチップボード、排紙を含む木材混合物である特許請求の 範囲第32項もしくは第33項のいずれかに記載の方法。 36材料の大半が真空にする前に化学処理剤の中に浸される特許請求の範囲第3 2項から第35項のいずれかに記載の方法。 37材料全体が真空にする前に化学処理剤の中に浸される特許請求の範囲第32 項から第35項のいずれかに記載の方法。 38適用圧が1,200kpaより1,500kpaまでの特許請求の範囲第3 2項から第37項のいずれかに記載の方法。 39適用圧がほぼ1,380kpaの特許請求の範囲第38項記載の方法。 40圧力が2〜3時間かけられる特許請求の範囲第38項及び第39項のいずれ かに記載の方法。 41圧力を化学処理剤の回収によりメイン処理室より軽減する特許請求の範囲第 32項から第40項のいずれかに記載の方法。 42メイン処理室への加圧下でエアーを導き、メイン処理室の出口を介して化学 処理剤を排出し、メイン処理室を空にする特許請求の範囲第32項から第40項 のいずれかに記載の方法。 43化学処理剤がオートクレーブでの使用のために、処理、再利用される特許請 求の範囲第41項もしくは第42項記載の方法。 44特許請求の範囲第32項から第43項のいずれかに記載の方法を実施するた めに使用される時には、特許請求の範囲第1項から第31項のいずれかに記載の 装置。
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