JPH01282712A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、高品位ＶＴＲ，ディジタルＶＴＲなどの高
密度、広帯域周波数記録に用いられる薄膜磁気ヘッドの
製造方法に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、高密度で広帯域記録用ヘッドとして合金磁性材の
高い飽和磁束密度を利用し、その欠点である渦電流損対
策としてＣｏ　−Ｚｒ　−Ｎｂなどのアモルファスやセ
ンダストなどの合金磁性膜とＳｉＯ□などの絶縁体膜を
交互に積層し、これを非磁性基板で挟持した構造（積層
膜ヘッド）が提案されている。

例えば文献「電子通信学会研究会報告ＭＲ８６−２８〜
３１　（１９８６）　Ｊで提案されているヘッドを第１
１図に示す、５は合金磁性膜と絶縁体膜の積層膜、１０
は巻線窓、２１は動作ギャップ、２２は低融点ガラス、
２３は結晶化ガラス層、２４は非磁性基板である。

上記のように構成された薄膜６Ｒ気ヘツドは、積Ｎ膜５
の膜厚がトランク幅となるため、トラック幅の制御が容
易で、しかもフェライトヘッドやＭＩＧヘッドのように
機械加工を用いてトランク幅を規制するわけではないの
で１０／１１以下の極めてトラック幅の狭いものでも容
易に形成できる。

また、膜の成膜方向がトランク幅方向にほぼ一致するた
め、使用する金属磁性膜の最適膜厚で絶縁層と交互に何
層か積層することができるので、渦電流が十分押えられ
た広帯域用のヘッドとして使用できる。さらに、磁路を
形成する磁性体がコア全体にわたってトランク幅の膜厚
しかないので、コイル巻数当りのヘッドインダクタンス
はコア全体がほぼ磁性体であるフェライトヘッドやＭＩ
Ｇヘッドに比べかなり小さ（なり、電磁変換特性上かな
り有利である。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法は以上のように構成さ
れているので、非磁性基板上に積層膜を形成し、その上
にガラス層を形成し、このガラスを用いて他の非磁性基
板と溶着することでコア半休を得るため、技術適に困難
でありかつ、量産性も低いためフェライトヘッドやＭＩ
Ｇヘッドに比べて高コストとなっていた。

この発明は上記のような課題を解消するためになされた
もので、技術的にも容易に製作でき、しかもＭＩＧヘッ
ドと同程度のコストで製造することのできる薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法を得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法番よ、非磁性
ブロックに溝を複数加工し、この溝の側面にトランク幅
相当の膜厚の積層膜を形成してのち、溝に非磁性体を充
填してブロック半休を造る。その後は、Ｓ線窓用溝を加
工しギャップ面を研磨し、この面にＳｉＯ□などの非磁
性材を形成後、１対のフ゛口７り半休を突合せる。その
後、合体したブロックを切断して複数の磁気コアを造る
ものである。

〔作　用〕

この発明においては、非磁性ブロックの面Ｇこ溝を加工
して積層膜を形成するため、そのままで１対のブロック
半休から複数のヘッドコアが得られる。

〔実施例〕

以下、この発明の一実施例による薄膜磁気ヘッドの製造
方法を第１図〜第６図の工程図について説明する。

第１図はチタン酸カルシウムフォルステライトなどのセ
ラミックの非磁性ブロック１に回転ホイールなどを用い
た機械加工で複数の所定間隔の溝２を並設した斜視図で
ある。ただし、溝２は非磁性ブロックｌの端面３に直角
に形成する。次に第２図に示すようにスパンクリングや
蒸着あるいはＭＯ−ＣＶＤなど真空薄膜形成技術により
、Ｃｏ−Ｚｒ　−Ｎｂなどのアモルファスやセンダスト
、パーマロイなどの合金磁性膜とＳｉＯ□やＡ　ｌ　１
０３などの絶縁膜を交互に積んだ積層膜５を溝２の側面
４の膜厚がトランク幅６になるまで積層する０次に第３
図に示すようにガラス（非磁性材）７を溝２にモールド
し、記録媒体対向面を切断あるいは研磨して、該対向面
に露出していた余剰の積層膜を除去する。

その後、破線８で示すように非磁性ブロックを切断し、
ブロック半体９を造る。

その後は、第４図に示すようにブロック半体９にＬ！５
１窓用溝１０を機械加工などの方法で形成し、ギャップ
突合せ面１１を、研磨し、この研磨面に所定の膜厚の５
ｉｆｔなどのギャップ材を形成する。続いて第５図に示
すようにブロック半休９同士を突合せ溶着してのち、破
線１２ａの位置で合体物を切断する。最後に破線１２の
ように所定間隔で切断し第６図に示すヘッドコアが得ら
れる。このように、この発明ではトラック幅方向に見て
、非磁性材と積層膜との交互の積層構造のブロック半休
が技術的に容易な溝加工とガラスモールドのみで得られ
るので製造工程が極めて簡単となる。

なお、実施例ではアジマス角０°用の磁気ヘッドを示し
たが、アジマス角θの磁気ヘッドでは第７図に示すよう
に溝２をθ°斜めに加工し、また、ヘッドコアを複数個
得る切断では第８図の一点破線に示すように溝２と平行
にすれば第９図に示すへソドコアが得られる。

また、１対のブロック半休の接合は溝２にモールドされ
たガラスで行なっていたが、他のガラスを例えば巻線窓
に置き、それにより溶着してもよい、さらに、ガラス用
の溝を別に設け、その部分にガラスを充填して溶着して
もよい。

また、実施例では磁性膜に対して同じ側に非磁性ブロッ
クが配されているが、ギャップ突合せ時に各々溝の反対
側の磁性膜が突合わさるようにすれば、第１Ｏ図に示す
へ７ドコアが得られる。このようにすれば、磁性膜の両
側の材料がどちら共非磁性ブロックと溶着ガラスの構造
となるので、磁性膜の両側で溶着されてより一層強固に
接着されると共に、記録媒体摺動時に機械強度の差で片
べりする恐れがないなどの長所を有する。

〔発明の効果〕

以上説明したようにこの発明によれば、非磁性ブロック
に複数の溝を並設し、磁性膜をその溝の側面に形成し、
さらに溝に非磁性材を充填する方法としたので、非磁性
材と磁性膜の交互に積層した構造のブロック半休が技術
的にも容易にしかも安価に製作できるので、薄膜磁気ヘ
ッドのコストダウンを図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第６図はこの発明の一実施例による薄膜磁気ヘ
ッドの製造工程０図とへソドコアの完成図、第７図〜第
９図は他の実施例による磁気ヘッドの製造工程図とへフ
ドコアの完成図、第１０図はその他の実施例によるヘッ
ドコアの完成図、第１１図は従来のへソドコアの斜視図
である。 ｌ・・・非磁性ブロック、２・・・溝、４・・・溝の側
面、５・・・積層膜、６・・・トランク幅、７・・・ガ
ラス、９・・・ブロック半休、１０・・・巻線窓用溝、
１１・・・ギャップ突合せ面。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人　　　　大　　岩　　増　　雄 第１図 第２図 ア 第３図 乙がラス ９ブｏ−，７半休 第７図 ／′ 第８図 第９図 第１Ｏ図 第１１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ａ）非磁性ブロックにほぼ直線状の溝を複数個加工する
   工程と、 ｂ）上記溝の加工面に磁性膜を形成する工程と、 ｃ）溝に非磁性材を充填する工程と、 ｄ）１対のブロックの少なくとも一方にコイル巻線窓用
   溝を加工し、ギャップ突合せ面となる面を研磨する工程
   と、 ｅ）ギャップ長に対応した厚さの非磁性対層を介して上
   記工程ｂ）で形成された磁性膜のうち、溝側面に形成さ
   れた磁性膜の端面が一致するように上記１対のブロック
   を突合せ一体化する工程と、 ｆ）工程ｅ）で一体化したブロックを工程ａ）で加工し
   た溝に平行かつ所定の寸法で切断し複数個の磁気ヘッド
   コアを得る工程とを有し、 工程ｂ）で形成された磁性膜のうち溝側面に形成された
   磁性膜の膜厚がトラック幅に相当し、さらに磁路を磁性
   膜のみで形成されることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの
   製造方法。